CN111962031A - 一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法 - Google Patents

一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111962031A
CN111962031A CN202010736499.8A CN202010736499A CN111962031A CN 111962031 A CN111962031 A CN 111962031A CN 202010736499 A CN202010736499 A CN 202010736499A CN 111962031 A CN111962031 A CN 111962031A
Authority
CN
China
Prior art keywords
indium gallium
copper indium
backing tube
target
residual
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202010736499.8A
Other languages
English (en)
Inventor
蒋明伟
徐晓华
张蛟
徐国军
兰邦银
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xuancheng Kaisheng New Energy Technology Co Ltd
Original Assignee
Xuancheng Kaisheng New Energy Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xuancheng Kaisheng New Energy Technology Co Ltd filed Critical Xuancheng Kaisheng New Energy Technology Co Ltd
Priority to CN202010736499.8A priority Critical patent/CN111962031A/zh
Publication of CN111962031A publication Critical patent/CN111962031A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/44—Compositions for etching metallic material from a metallic material substrate of different composition

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Abstract

本发明公开了一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法包括铜铟镓涂层剥离、酸洗、清洗、表面粗化、冲洗及包装等步骤。本发明专利通过提供一种铜铟镓靶材背衬管回收利用的方法，解决了通常残靶只能进行报废处理的方式，该方法依靠稀硝酸与铜铟镓涂层反应而不与不锈钢管反应的方法进行去除残靶上的铜铟镓涂层，并对背衬管进行清洗、粗化，达到背衬管的回收利用，该方法有效地提高材料利用率，降低了成本。

Description

一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法
技术领域
本发明涉及铜铟镓靶材背衬管回收利用技术领域，尤其涉及一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法。
背景技术
背衬管是靶材的载体。对于铜铟镓靶材，在溅射后，靶材背衬管上常残留着铜铟镓涂层。由于该残留涂层的存在，对应的残靶及背衬管通常报废掉处理。残靶上背衬管直接报废掉一方面造成较大的浪费，另一方面也提高了生产成本。基于此，如何设计一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法是本发明所要解决的技术问题。
发明内容
本发明针对现有技术的不足，提供一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法。
本发明通过以下技术手段实现解决上述技术问题的：
一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法，包括以下步骤：
a通过机加工的方式将残靶上的铜铟镓涂层进行剥离，使得残靶上余留的铜铟镓涂层的厚度＜0.2mm；
b将机加工后的背衬管进行酸洗，直到残靶上余留的铜铟镓全部溶解；
c对酸洗完后的背衬管用去离子水进行清洗，以去除表面残留的酸溶液，然后干燥；
d对清洗及干燥完的背衬管进行粗化，粗化后背衬管表面的粗糙度≥7μm；
e对粗化完后的背衬管用高压水枪进行清洗，以去除背衬管上残留的砂粒；
f对清洗完的背衬管进行塑料膜抽真空包装。
优选的，所述的一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法，步骤a中，通过车床将残靶上的铜铟镓涂层进行剥离。
优选的，所述的一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法，步骤b中，采用浓度为50％-70％的硝酸溶液对背衬管进行酸洗。
优选的，所述的一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法，步骤d中，采用喷砂的方式对背衬管进行粗化处理，喷砂材料采用氧化铝和碳化硅中的一种。
本发明的优点在于：本发明专利通过提供一种铜铟镓靶材背衬管回收利用的方法，解决了通常残靶只能进行报废处理的方式，该方法依靠稀硝酸与铜铟镓涂层反应而不与不锈钢管反应的方法进行去除残靶上的铜铟镓涂层，并对背衬管进行清洗、粗化，达到背衬管的回收利用，该方法有效地提高材料利用率，降低了成本。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法，包括以下步骤：
a用车床将残靶上的铜铟镓涂层进行剥离，使得铜铟镓涂层的厚度＜0.2mm。加工时，需要特别注意，不可破坏背衬管表面，若加工到背衬管不锈钢，将造成该背衬管的报废；
b将铜铟镓涂层剥离后的背衬管进行酸洗，酸洗液为浓度50％-70％的硝酸；浸泡酸洗直到残靶上的铜铟镓全部溶解，酸洗时间的长短取决于所用硝酸的溶度，推荐的酸洗时间一般为4小时；该酸洗的方法利用铜铟镓涂层溶解于硝酸中，而不锈钢管本身与硝酸发生钝化的原理来实现残靶上残留的涂层的清理；
c对酸洗完后的背衬管用去离子水进行清洗以去除表面残留的硝酸；
d对清洗及干燥完的背衬管进行粗化，粗化材料为氧化铝或者碳化硅，粗化后背衬管表面的粗糙度需达到≥7μm，通过该粗化后，后续喷涂的涂层可以更好地粘结在背衬管上；
e对粗化完后的背衬管用高压水枪进行清洗，以去除背衬管上残留的砂粒；
f对清洗完的背衬管进行塑料膜抽真空包装。
本发明专利通过提供一种铜铟镓靶材背衬管回收利用的方法，解决了通常残靶只能进行报废处理的方式。该方法依靠稀硝酸与铜铟镓涂层反应而不与不锈钢管反应的方法进行去除残靶上的铜铟镓涂层，并对背衬管进行清洗、粗化，达到背衬管的回收利用。该方法有效地提高材料利用率，降低了成本；采用此方案除了可回收旋转靶材用背衬管，还可以回收平面靶材用背板。
需要说明的是，在本文中，如若存在第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (4)

1.一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法，其特征在于，包括以下步骤：
a通过机加工的方式将残靶上的铜铟镓涂层进行剥离，使得残靶上余留的铜铟镓涂层的厚度＜0.2mm；
b将机加工后的背衬管进行酸洗，直到残靶上余留的铜铟镓全部溶解；
c对酸洗完后的背衬管用去离子水进行清洗，以去除表面残留的酸溶液，然后干燥；
d对清洗及干燥完的背衬管进行粗化，粗化后背衬管表面的粗糙度≥7μm；
e对粗化完后的背衬管用高压水枪进行清洗，以去除背衬管上残留的砂粒；
f对清洗完的背衬管进行塑料膜抽真空包装。
2.根据权利要求1所述的一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法，其特征在于：步骤a中，通过车床将残靶上的铜铟镓涂层进行剥离。
3.根据权利要求1所述的一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法，其特征在于：步骤b中，采用浓度为50％-70％的硝酸溶液对背衬管进行酸洗。
4.根据权利要求1所述的一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法，其特征在于：步骤d中，采用喷砂的方式对背衬管进行粗化处理，喷砂材料采用氧化铝和碳化硅中的一种。
CN202010736499.8A 2020-07-28 2020-07-28 一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法 Pending CN111962031A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010736499.8A CN111962031A (zh) 2020-07-28 2020-07-28 一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010736499.8A CN111962031A (zh) 2020-07-28 2020-07-28 一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111962031A true CN111962031A (zh) 2020-11-20

Family

ID=73362902

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010736499.8A Pending CN111962031A (zh) 2020-07-28 2020-07-28 一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111962031A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113533493A (zh) * 2021-05-11 2021-10-22 宣城开盛新能源科技有限公司 一种辉光放电质谱高纯镓测试方法
CN114686839A (zh) * 2022-03-29 2022-07-01 广东江丰电子材料有限公司 一种溅射后lcd靶材的处理方法
CN115196637A (zh) * 2022-08-11 2022-10-18 福建阿石创新材料股份有限公司 一种从硅残靶中回收得到热喷涂硅靶用硅粉的方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005023350A (ja) * 2003-06-30 2005-01-27 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 再生ターゲット材およびターゲット材の再生方法
CN107557737A (zh) * 2017-08-04 2018-01-09 米亚索乐装备集成（福建）有限公司 一种制备管状靶材的方法
WO2018084723A2 (en) * 2016-11-03 2018-05-11 Mint Innovation Limited Process for recovering metal
CN109207729A (zh) * 2018-09-03 2019-01-15 宁波创润新材料有限公司 一种溅射靶材回收方法
CN210711681U (zh) * 2019-06-11 2020-06-09 汉能新材料科技有限公司 一种清除回收设备

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005023350A (ja) * 2003-06-30 2005-01-27 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 再生ターゲット材およびターゲット材の再生方法
WO2018084723A2 (en) * 2016-11-03 2018-05-11 Mint Innovation Limited Process for recovering metal
CN107557737A (zh) * 2017-08-04 2018-01-09 米亚索乐装备集成（福建）有限公司 一种制备管状靶材的方法
CN109207729A (zh) * 2018-09-03 2019-01-15 宁波创润新材料有限公司 一种溅射靶材回收方法
CN210711681U (zh) * 2019-06-11 2020-06-09 汉能新材料科技有限公司 一种清除回收设备

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113533493A (zh) * 2021-05-11 2021-10-22 宣城开盛新能源科技有限公司 一种辉光放电质谱高纯镓测试方法
CN114686839A (zh) * 2022-03-29 2022-07-01 广东江丰电子材料有限公司 一种溅射后lcd靶材的处理方法
CN115196637A (zh) * 2022-08-11 2022-10-18 福建阿石创新材料股份有限公司 一种从硅残靶中回收得到热喷涂硅靶用硅粉的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111962031A (zh) 一种铜铟镓靶材背衬管回收利用方法
CN100471989C (zh) 塑料基材上镀覆高遮蔽防电磁干扰薄膜的溅镀方法
CN1823178A (zh) 溅射靶以及该溅射靶的表面精加工方法
JP2720966B2 (ja) 薄膜を付着した部品の再生利用方法
CN1939666A (zh) 镁合金表面前处理方法
MX2012008661A (es) Metodo de limpieza para sistemas de recubrimiento.
CN101494165A (zh) 溅镀用晶圆夹表面处理工艺
CN116695130A (zh) 一种船体外板涂装前处理工艺
CN113355675A (zh) 一种钛合金表面化学粗化方法
KR100936141B1 (ko) 인라인 방식의 자동차용알루미늄휠 도금방법
JP2008150676A (ja) 硬質皮膜コーティング金属部材の再生方法
RU2510664C2 (ru) Способ очистки для установок для нанесения покрытий
CN110952067A (zh) 一种直流磁控溅射制备耐腐蚀纯钛薄膜的方法
JP2005054238A (ja) マグネシウム材またはマグネシウム合金材の表面処理方法
JP2000246198A (ja) 治具表面の付着物剥離除去および洗浄方法
JP2007191753A (ja) アンダコート用および蒸着用マスク治具と、これを用いた電磁波シールド膜の成膜方法
CN103730348A (zh) 一种降低背孔工艺中对等离子体刻蚀机腔体污染的方法
CN103898468A (zh) 一种零件表面金属镀层缺陷的修复方法
JP3244804B2 (ja) 樹脂被覆鋼管の前処理方法
CN112126930A (zh) 表面处理方法
CN112831793A (zh) 气体喷淋头的清洗方法
KR102095101B1 (ko) 유가금속 회수용 패치
JP6300282B2 (ja) 除錆防錆剤および除錆防錆方法
KR100989748B1 (ko) 인라인 방식의 자동차용알루미늄휠 프라즈마 코팅방법
CN112752866B (zh) 含铝涂层的涂层剥离

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20201120