CN111890218B - 一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩，上支撑架的上端面低于研磨平台的上端面；上支撑架的底面上成型有同轴设置的圆环状的挡水环；上支撑架的内圆柱面上成型有内螺纹；旋转支撑座的外圆柱面上成型有与上支撑架的内螺纹配合的外螺纹；旋转支撑座的内圆柱面下端成型有同轴设置的圆环状的下支撑环；下支撑环上固定有防溅罩；防溅罩由上部的缩口部和下部的上窄下宽的漏斗状的下阻挡部组成；下阻挡部的上端开口的内径与缩口部的内径相同；缩口部的内径大于研磨平台的直径。

Description

一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩
技术领域
本发明涉及化学机械研磨的技术领域，具体涉及一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩。
背景技术
化学机械抛光(CMP)工艺又称化学机械平坦化工艺或化学机械研磨工艺，是目前主流的抛光工艺，用于降低晶圆表面粗糙度或对晶圆进行减薄。化学机械抛光机台在进行研磨作业的过程中，旋转的研磨平台会将废液从研磨平台的表面甩向研磨平台的四周，这些废液中含有大量的研磨液成分，因此，当废液挥发后会析出大量结晶物，这些结晶物不仅对化学抛光机台上的各运动部件造成阻碍，还会对金属部件造成腐蚀，影响到机台的使用寿命。
在现有技术中，通过在研磨平台的四周增设一防溅罩来阻挡废液甩溅到平台周围的部件上，防溅罩环绕在研磨平台的四周设置，且罩体采用塑料材质，防溅罩与三个位于不同方位的气缸固定连接，且连接方式采用气缸与防溅罩点接触的方式，当研磨头与研磨平台配合进行研磨作业时，防溅罩需要在气缸的带动下升起，从而罩住研磨平台，研磨平台进行研磨作业过程中甩出的废液便会被防溅罩承接，然后顺着防溅罩流向排水口排走；当研磨作业完成后，研磨头需要转动至下一止点，此时，气缸带动防溅罩下降至研磨平台以下，以避免妨碍到研磨头的转动。在这个过程中，由于防溅罩是一个整体，因此对带动防溅罩的3个气缸驱动的同步性要求很高，如果任意1个气缸因故障导致上下运动速度和其他气缸不一致，就会导致防溅罩受到扯拽，导致罩体扭曲变形，甚至损坏。变形的防溅罩又会反过来对气缸进行挤压拉扯，降低气缸的使用寿命。
本发明提供一种防溅罩，可以在有效阻挡各种工作机台甩溅出来的液体的同时，防止防溅罩变形，提高机台的使用寿命，并节约了更换成本。
发明内容
本发明的目的是现在的防溅罩容易变形，寿命短的技术问题，提供了一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩。
本发明解决上述技术问题的技术方案如下：一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩，包括防溅罩本体；防溅罩本体包括圆环柱体状的旋转支撑座和上端开口设置的圆筒状的上支撑架；研磨平台位于上支撑架的开口内；上支撑架和研磨平台两者的旋转中心轴共线；上支撑架的上端面低于研磨平台的上端面；上支撑架的底面中心成型有供研磨平台的旋转轴穿过的避让孔；上支撑架的底面上成型有同轴设置的圆环状的挡水环；上支撑架的内圆柱面上成型有内螺纹；旋转支撑座的外圆柱面上成型有与上支撑架的内螺纹配合的外螺纹；旋转支撑座的内圆柱面下端成型有同轴设置的圆环状的下支撑环；下支撑环上固定有防溅罩；防溅罩由上部的圆环柱体状的缩口部和下部的上窄下宽的漏斗状的下阻挡部组成；下阻挡部的上端开口的内径与缩口部的内径相同；缩口部的内径大于研磨平台的直径；当旋转支撑座处于最下端时，旋转支撑座的上端面与研磨平台的上端面平齐。
作为上述技术方案的优选，旋转支撑座的外圆柱面上端成型有圆环状的驱动环；驱动环的上端面与旋转支撑座的上端面平齐；驱动环的厚度与旋转支撑座的上端面和上支撑架的上端面之间的高度差相同。
作为上述技术方案的优选，驱动环的直径大于上支撑架的外径。
作为上述技术方案的优选，挡水环的横截面呈倒置的L型。
作为上述技术方案的优选，上支撑架的底面上成型有同轴设置的圆环柱体状的下盛水部；下盛水部内成型有同轴设置的圆环柱体槽状的盛水槽；盛水槽的顶部成型有若干向上贯穿的圆周均匀分布的落水孔；落水孔位于挡水环与上支撑架的侧壁之间；盛水槽的底部设置有若干圆周均匀分布的排水管。
作为上述技术方案的优选，下支撑环的底部设置有封闭单元；封闭单元包括圆环状的旋转连接环；旋转连接环同轴旋转设置在下支撑环的底面上；旋转连接环的底面上成型有若干圆周均匀分布的竖直连杆；竖直连杆竖直穿过上支撑架的底部并且下端位于盛水槽内；竖直连杆上固定有水平连接板；水平连接板的上端面内侧端成型有与落水孔配合的竖直堵杆；当旋转支撑座处于最下端时，竖直堵杆脱离落水孔并且落水孔处于打开状态；当缩口部高于研磨平台时，竖直堵杆位于相应侧的落水孔内并且落水孔处于关闭状态。
本发明的有益效果在于：结构简单，防溅罩不易损坏，寿命长；防溅罩与研磨平台的上边线之间的间隙可以根据研磨平台的转速进行调节，使得防溅效果最好。
附图说明
图1为本发明的正常工作时的剖面的结构示意图；
图2为本发明的未工作时的剖面的结构示意图。
图中，10、研磨平台；20、研磨头；30、防溅罩本体；31、上支撑架；310、避让孔；311、挡水环；32、下盛水部；320、盛水槽；321、落水孔；322、排水管；33、旋转支撑座；331、下支撑环；332、驱动环；34、防溅罩；341、缩口部；342、下阻挡部；35、封闭单元；351、竖直连杆；352、水平连接板；353、竖直堵杆；354、旋转连接环。
具体实施方式
如图1～图2所示，一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩，包括防溅罩本体30；防溅罩本体30包括圆环柱体状的旋转支撑座33和上端开口设置的圆筒状的上支撑架31；研磨平台10位于上支撑架31的开口内；上支撑架31和研磨平台10两者的旋转中心轴共线；上支撑架31的上端面低于研磨平台10的上端面；上支撑架31的底面中心成型有供研磨平台10的旋转轴穿过的避让孔310；上支撑架31的底面上成型有同轴设置的圆环状的挡水环311；上支撑架31的内圆柱面上成型有内螺纹；旋转支撑座33的外圆柱面上成型有与上支撑架31的内螺纹配合的外螺纹；旋转支撑座33的内圆柱面下端成型有同轴设置的圆环状的下支撑环331；下支撑环331上固定有防溅罩34；防溅罩34由上部的圆环柱体状的缩口部341和下部的上窄下宽的漏斗状的下阻挡部342组成；下阻挡部342的上端开口的内径与缩口部341的内径相同；缩口部341的内径大于研磨平台10的直径；当旋转支撑座33处于最下端时，旋转支撑座33的上端面与研磨平台10的上端面平齐。
作为上述技术方案的优选，旋转支撑座33的外圆柱面上端成型有圆环状的驱动环332；驱动环332的上端面与旋转支撑座33的上端面平齐；驱动环332的厚度与旋转支撑座33的上端面和上支撑架31的上端面之间的高度差相同。
作为上述技术方案的优选，驱动环332的直径大于上支撑架31的外径。
作为上述技术方案的优选，挡水环311的横截面呈倒置的L型。
作为上述技术方案的优选，上支撑架31的底面上成型有同轴设置的圆环柱体状的下盛水部32；下盛水部32内成型有同轴设置的圆环柱体槽状的盛水槽320；盛水槽320的顶部成型有若干向上贯穿的圆周均匀分布的落水孔321；落水孔321位于挡水环311与上支撑架31的侧壁之间；盛水槽320的底部设置有若干圆周均匀分布的排水管322。
作为上述技术方案的优选，下支撑环331的底部设置有封闭单元35；封闭单元35包括圆环状的旋转连接环354；旋转连接环354同轴旋转设置在下支撑环331的底面上；旋转连接环354的底面上成型有若干圆周均匀分布的竖直连杆351；竖直连杆351竖直穿过上支撑架31的底部并且下端位于盛水槽320内；竖直连杆351上固定有水平连接板352；水平连接板352的上端面内侧端成型有与落水孔321配合的竖直堵杆353；当旋转支撑座33处于最下端时，竖直堵杆353脱离落水孔321并且落水孔321处于打开状态；当缩口部341高于研磨平台10时，竖直堵杆353位于相应侧的落水孔321内并且落水孔321处于关闭状态。
旋转升降的化学机械研磨防溅罩的工作原理；
正常工作时如图1所示，竖直堵杆353堵住落水孔321；下阻挡部342的上端面高于研磨平台10的上端面，此时被旋转的研磨平台10抛出的研磨液被下阻挡部342的内表面阻挡，最后沿着下阻挡部342的内表面低落到上支撑架31和挡水环311之间，由于研磨平台10的转速会根据实际情况进行调整，这样可以调节旋转支撑座33的上下位置以使得下阻挡部342的内表面和研磨平台10的上端面边线之间的间距来进行适应；研磨头20位于研磨平台10的上端面上；
研磨头20需要移出时，旋转支撑座33下降到最下端，此时旋转支撑座33的上端面与研磨平台10的上端面平齐，方便研磨头20水平移出；竖直堵杆353脱离落水孔321，使得落水孔321处于打开状态，使得工作时积攒的研磨液从落水孔321流下进入到盛水槽320，这样方便后续研磨液的回收利用。
以上内容仅为本发明的较佳实施方式，对于本领域的普通技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (4)

1.一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩，其特征在于：包括防溅罩本体(30)；防溅罩本体(30)包括圆环柱体状的旋转支撑座(33)和上端开口设置的圆筒状的上支撑架(31)；研磨平台(10)位于上支撑架(31)的开口内；上支撑架(31)和研磨平台(10)两者的旋转中心轴共线；上支撑架(31)的上端面低于研磨平台(10)的上端面；上支撑架(31)的底面中心成型有供研磨平台(10)的旋转轴穿过的避让孔(310)；上支撑架(31)的底面上成型有同轴设置的圆环状的挡水环(311)；上支撑架(31)的内圆柱面上成型有内螺纹；旋转支撑座(33)的外圆柱面上成型有与上支撑架(31)的内螺纹配合的外螺纹；旋转支撑座(33)的内圆柱面下端成型有同轴设置的圆环状的下支撑环(331)；下支撑环(331)上固定有防溅罩(34)；防溅罩(34)由上部的圆环柱体状的缩口部(341)和下部的上窄下宽的漏斗状的下阻挡部(342)组成；下阻挡部(342)的上端开口的内径与缩口部(341)的内径相同；缩口部(341)的内径大于研磨平台(10)的直径；当旋转支撑座(33)处于最下端时，旋转支撑座(33)的上端面与研磨平台(10)的上端面平齐；
上支撑架(31)的底面上成型有同轴设置的圆环柱体状的下盛水部(32)；下盛水部(32)内成型有同轴设置的圆环柱体槽状的盛水槽(320)；盛水槽(320)的顶部成型有若干向上贯穿的圆周均匀分布的落水孔(321)；落水孔(321)位于挡水环(311)与上支撑架(31)的侧壁之间；盛水槽(320)的底部设置有若干圆周均匀分布的排水管(322)；
下支撑环(331)的底部设置有封闭单元(35)；封闭单元(35)包括圆环状的旋转连接环(354)；旋转连接环(354)同轴旋转设置在下支撑环(331)的底面上；旋转连接环(354)的底面上成型有若干圆周均匀分布的竖直连杆(351)；竖直连杆(351)竖直穿过上支撑架(31)的底部并且下端位于盛水槽(320)内；竖直连杆(351)上固定有水平连接板(352)；水平连接板(352)的上端面内侧端成型有与落水孔(321)配合的竖直堵杆(353)；当旋转支撑座(33)处于最下端时，竖直堵杆(353)脱离落水孔(321)并且落水孔(321)处于打开状态；当缩口部(341)高于研磨平台(10)时，竖直堵杆(353)位于相应侧的落水孔(321)内并且落水孔(321)处于关闭状态。
2.根据权利要求1所述的一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩，其特征在于：旋转支撑座(33)的外圆柱面上端成型有圆环状的驱动环(332)；驱动环(332)的上端面与旋转支撑座(33)的上端面平齐；驱动环(332)的厚度与旋转支撑座(33)的上端面和上支撑架(31)的上端面之间的高度差相同。
3.根据权利要求2所述的一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩，其特征在于：驱动环(332)的直径大于上支撑架(31)的外径。
4.根据权利要求1所述的一种旋转升降的化学机械研磨防溅罩，其特征在于：挡水环(311)的横截面呈倒置的L型。
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