CN111880346B - 阵列基板、显示面板及配线断线的修复方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种阵列基板、显示面板及配线断线的修复方法。本发明提供的阵列基板,在数据线或扫描线存在缺陷断裂时,利用修补线将数据线或扫描线的断裂区域的两端连通,进行修复,同时通过在像素电极的各个侧边设置缺口的方式,使得分割线的两端与缺口连通,从而在分割线将修补线与像素电极分割开来的同时,避免了在分割线的两端存在像素电极的残留,消除了因像素电极残留而导致的辉点,提高了显示面板的显示质量。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板、显示面板及配线断线的修复方法。
背景技术
随着显示技术的发展,液晶显示器等平面显示装置因具有体积薄、重量轻、画面质量优异、功耗低、寿命长、数字化和无辐射等优点在各种大、中、小的产品上得到广泛应用几乎涵盖了当今信息社会的主要电子产品。液晶显示面板的结构是由彩色滤光片基板、薄膜晶体管阵列基板以及配置于两基板间的液晶层所构成。目前在阵列基板的制作过程当中,由于生产工序复杂,受生产工艺及厂房环境因素的影响,阵列基板的中的配线,例如数据线、扫描线等经常会发生断线缺陷,导致在显示画面中产生黑线,严重影响画面显示质量,此时需要对阵列基板中发生断线的配线进行修复,配线断线修复方法主要是在断线处的两侧形成金属修补线将断线的配线连接起来。
现有技术中,通过在修补线外围形成一个剥除区域,将金属修补线和像素电极断开,而由于像素电极的边缘存在凸起结构,因此在剥除区域两端边缘会有像素电极残留,同时由于修补线产生的电容效应,使得修补线对应的像素电极的局部出现辉点,其后,现有技术主要通过存储电容线和漏极短接的方式来消除辉点。
然而,现有技术的辉点修复方式直接将像素电极拉低,使得修补线对应的像素电极局部黑点化,影响了显示器的显示质量。
发明内容
本发明提供了一种阵列基板、显示面板及配线断线的修复方法,解决了剥离区域两端像素电极残留的问题,消除了辉点的现象,同时保证了显示面板的显示质量。
第一方面,本发明提供了一种阵列基板,包括数据线、扫描线和存储电容线,数据线和扫描线纵横交错排布并限定出多个像素区域,每个像素区域内均设有像素电极,像素电极和存储电容线在阵列基板的厚度方向具有重叠部分,数据线或扫描线设置有修补线,修补线的两端连接在数据线或扫描线上的断裂区域的两侧,以使断裂区域两侧的数据线或扫描线通过修补线连接;像素电极的边缘设置有多个缺口,缺口沿存储电容线向像素区域凹陷;像素电极包括切割形成的保留区域,保留区域和修补线互不重叠,且保留区域的分割线边缘的两端分别和两个缺口连通,使得保留区域的分割线的两端不需要跨越像素电极边缘的凸起结构,解决了剥离区域两端像素电极残留的问题,消除了辉点的现象。
作为一种可选的方式,本发明提供的阵列基板,缺口的深度大于存储电容线的宽度,以使缺口沿存储电容线的宽度方向往像素区域凹陷,这样缺口在向像素电极内部延伸时,便会跨过像素电极边缘凸起结构,从而分割线的两端与缺口连通时,不会在凸起结构的边缘存在像素电极残留。
作为一种可选的方式,本发明提供的阵列基板,多个缺口分布在像素电极的周侧,这样不同位置的断线可以与不同侧的缺口连通,从而避免了保留区域分割线所分割的区域尽量贴合修补线及像素电极的边缘,从而保证了开口率。
作为一种可选的方式,本发明提供的阵列基板,修补线的两端均连接在同一像素区域内,保留区域的分隔边缘两端分别和两个位于像素区域同一侧的缺口连通;或者,
修补线跨越相邻两个像素区域,保留区域的分隔边缘的两端分别和两个位于像素区域的不同侧的缺口连通。
作为一种可选的方式,本发明提供的阵列基板,多个缺口包括第一缺口、第二缺口、第三缺口和第四缺口;第一缺口设置在像素电极的背离薄膜晶体管的一侧的侧边上,第二缺口设置在像素电极的朝向薄膜晶体管的一侧的侧边上,第三缺口设置在像素电极的朝向修补线端部的一侧的侧边上,第四缺口设置在像素电极的背离修补线端部的一侧的侧边上。
作为一种可选的方式,本发明提供的阵列基板,第一缺口为两个,且两个第一缺口分别设置在像素电极在扫描线长度方向的中点的两侧;第二缺口为一个,且设置在像素电极在扫描线长度方向的中点的一侧;第三缺口为三个,分别相对于像素电极在数据线长度方向的中点对称设置;第四缺口为一个,且设置在像素电极在数据线长度方向的中点。
作为一种可选的方式,本发明提供的阵列基板,修补线的两端均连接在同一像素区域内;
修补线的两端与数据线连接,保留区域的分隔边缘的两端分别和两个第三缺口连通,其中,第三缺口位于像素电极的朝向修补线端部的一侧的侧边上。
作为一种可选的方式,本发明提供的阵列基板,修补线跨越相邻两个像素区域,修补线的两端与扫描线连接;
保留区域的分隔边缘包括分别对应于两个相邻像素区域的第一间隔区域和第二间隔区域,第一间隔区域的两端分别和第三缺口以及第二缺口连通,第二间隔区域的两端分别和第三缺口以及第一缺口连通。
作为一种可选的方式,本发明提供的阵列基板,修补线跨越相邻两个像素区域,修补线的两端与数据线连接;
保留区域的分隔边缘包括分别对应于两个相邻像素区域的第三间隔区域和第四间隔区域,第三间隔区域和第四间隔区域的两端分别和第一缺口以及第三缺口连通,第三间隔区域和第四间隔区域所连通的第三缺口不同。
第二方面,本发明提供了一种显示面板,包括上述的阵列基板。
第三方面,本发明提供了一种配线断线的修复方法,包括:当配线发生断线时,在配线的断线区域的两侧连接修补线,以使配线的断线区域连通,其中,修补线经过像素电极,像素电极的边缘具有多个缺口,缺口沿存储电容线的宽度方向覆盖存储电容线;以像素电极的两个不同缺口为分割线边缘的端点,切割像素电极,以使像素电极的保留区域和修补线之间互不重叠。
本发明提供的阵列基板、显示面板及配线断线的修复方法,在数据线或扫描线存在缺陷断裂时,利用修补线将数据线或扫描线的断裂区域的两端连通,进行修复,同时通过在像素电极的各个侧边设置缺口的方式,使得分割线的两端与缺口连通,形成保留区域,缺口沿存储电容线的宽度方向覆盖存储电容线,保留区域和修补线互不重叠,且保留区域的分割线边缘的两端分别和两个缺口连通,使得保留区域的分割线的两端不需要跨越像素电极边缘的凸起结构,从而在分割线将修补线与像素电极分割开来的同时,避免了在分割线的两端存在像素电极的残留,消除了因像素电极残留而导致的辉点,提高了显示面板的显示质量。
附图说明
为了更清楚地说明本发明或现有技术的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中的阵列基板的配线断线修复后的结构示意图;
图2为现有技术中的阵列基板的配线断线修复后的剖视图;
图3为本发明实施例一提供的阵列基板的单个像素区域的结构示意图;
图4为本发明实施例一提供的阵列基板的第一种断线状态的修复结构示意图;
图5为本发明实施例一提供的阵列基板的第二种断线状态的修复结构示意图;
图6为本发明实施例一提供的阵列基板的第三种断线状态的修复结构示意图;
图7为本发明实施例一提供的阵列基板的第四种断线状态的修复结构示意图;
图8为本发明实施例一提供的阵列基板的第五种断线状态的修复结构示意图;
图9为本发明实施例三提供的配线断线的修复方法的流程图;
图10为本发明实施例三提供的配线断线的修复方法中配线的断线区域的两侧连接修补线的流程图。
附图标记说明:
1-玻璃基板;2、12-数据线;3、13-扫描线;4、14-存储电容线;5、15-像素电极;6a-第一绝缘层;6b-第二绝缘层;7-像素电极残留;8、16-薄膜晶体管;9、17-修补线;10、18-分割线;18a-第一分割段;18b-第二分割段;11a-第一缺口;11b-第二缺口;11c-第三缺口;11d-第四缺口。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。
首先,本领域技术人员应当理解的是,这些实施方式仅仅用于解释本发明的技术原理,并非旨在限制本发明的保护范围。本领域技术人员可以根据需要对其作出调整,以便适应具体的应用场合。
其次,需要说明的是,在本发明的描述中,术语“内”、“外”等指示的方向或位置关系的术语是基于附图所示的方向或位置关系,这仅仅是为了便于描述,而不是指示或暗示装置或构件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,还需要说明的是,在本发明的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个构件内部的连通。对于本领域技术人员而言,可根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本公开的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
随着显示技术的发展,液晶显示器等平面显示装置因具有体积薄、重量轻、画面质量优异、功耗低、寿命长、数字化和无辐射等优点在各种大、中、小的产品上得到广泛应用几乎涵盖了当今信息社会的主要电子产品。液晶显示面板的结构是由彩色滤光片基板、薄膜晶体管阵列基板以及配置于两基板间的液晶层所构成。目前在阵列基板的制作过程当中,由于生产工序复杂,受生产工艺及厂房环境因素的影响,阵列基板的中的配线,例如数据线、扫描线等经常会发生断线缺陷,导致在显示画面中产生黑线,严重影响画面显示质量,此时需要对阵列基板中发生断线的配线进行修复。
现有技术中,配线断线修复方法主要是在断线处的两侧形成金属线将断线的配线连接起来,如图1所示,图1为现有技术中的阵列基板的配线断线修复后的结构示意图,待修复的配线可以是数据线2或扫描线3,且数据线2、扫描线3、存储电容线4以及薄膜晶体管8分别位于阵列基板的不同层,呈层叠设置。在修复配线断线时,首先在缺陷两侧的配线上方使用激光打出修复通孔,使待修复的配线暴露在表面;然后,利用激光化学沉积方式进行修复,形成金属修补线9,金属修补线9的两端分别与两个修复通孔内的配线电性连接,使缺陷两侧的配线导通;使用激光在金属修补线9的外围剥除像素电极5,形成分割线10,使得分割线10一侧的金属修补线9与分割线10另一侧的像素电极5断开,避免被修复的配线与像素电极5电连接。
然而,现有技术中,由于像素电极5的边缘与储存电容线4在阵列基板的厚度方向的投影存在重叠区域,存储电容线4自身会有一定的厚度,在储存电容线4所在的位置会存在凸起结构,即像素电极5的边缘会覆盖此凸起结构,因而在分割线10两端经过此凸起结构时,其两端边缘在凸起结构所形成的台阶底部会存在像素电极残留7,而像素电极残留7会使得整个像素电极5与修补线9电连接,从而会存在辉点,影响了显示面板的显示质量。
如图2所示,图2为现有技术中的阵列基板的配线断线修复后的剖视图,即图1中A方向上的剖视图,待修复的配线、存储电容线4、第一绝缘层6a、第二绝缘层6b、像素电极5层叠设置在玻璃基板1上,像素电极5位于最上层,因为像素电极5的边缘与存储电容线4在阵列基板的厚度方向上投影具有重叠区域,即像素电极5的边缘会覆盖因存储电容线4而形成的凸起结构,因此在分割线10剥离其所经过区域的像素电极5时,分割线10两端的会存在像素电极残留7,使得分割线10两侧的区域仍然处于电连接状态,相应的,使得修补线9与像素电极5处于电连接状态,从而导致在显示面板上出现辉点,影响了显示面板的质量。
此外,现有技术主要通过存储电容线和漏极短接的方式来消除辉点,然而这样的辉点修复方式直接将像素电极拉低,使得修补线对应的像素电极局部黑点化,同样影响了显示器的显示质量
为了解决上述问题,本发明实施例提供了一种阵列基板、显示面板及配线断线的修复方法,解决了分割线两端像素电极残留的问题,消除了辉点的现象,同时保证了显示面板的显示质量。
实施例一
本发明实施例提供的阵列基板包括数据线12、扫描线13和存储电容线14,数据线12和扫描线13纵横交错排布并限定出多个像素区域,每个像素区域内均设有像素电极15,像素电极15和存储电容线14在阵列基板的厚度方向具有重叠部分,如图3所示,图3为本发明实施例提供的阵列基板的单个像素区域的结构示意图,存储电容线14沿像素电极15的边缘延伸,并且具有一个开口,即存储电容线14围设了以非封闭的区域,在阵列基板的厚度方向上于像素电极15相对应。
其中,像素电极15的边缘设置有多个缺口,从对阵列基板的俯视的角度,以使部分存储电容线14由缺口露出,像素电极15的部分区域可沿分割线18被去除,以使像素电极15的剩余部分区域和修补线17的修补区域断开,分割线18的两端分别和两个缺口连通,缺口沿存储电容线14的宽度方向覆盖存储电容线14,即缺口沿储电容线14的宽度方向往像素区域凹陷;像素电极15包括切割形成的保留区域,保留区域和修补线17互不重叠,且保留区域的分割线18边缘的两端分别和两个缺口连通,使得保留区域的分割线18的两端不需要跨越像素电极15边缘的凸起结构,从而避免了在分割线18的两端存在残留像素电极,消除了因像素电极残留而导致的辉点。
具体的,在阵列基板的生产过程中,数据线12或扫描线13可以会存在断线的情况,因此需要对数据线12或扫描线13存在断线的区域进行修复,通过修补线17将断线的两端连接起来,从而实现断线两端配线的连通,因而修补线17为金属线。此外由于修补线17会经过像素电极15所在的区域,因此修补线17在连通断线两端的时候,必然也会导致被修复的数据线12或扫描线13与像素电极15电连接,因此需要对修补线17外侧的像素电极15进行剥离,形成分割线18,即分割线18为一段绝缘区域,将像素电极15的主要显示区域与修补线17分隔开,从而避免被修复的数据线12或扫描线13不会与像素电极15的电连接。
作为一种可选的方式,本发明实施例提供的阵列基板,缺口的深度大于存储电容线14的宽度,以使缺口沿存储电容线14的宽度方向覆盖存储电容线14,这样缺口在向像素电极15内部延伸时,便会跨过像素电极15边缘的凸起结构,从而分割线18的两端与缺口连通时,不会在凸起结构的边缘存在像素电极残留。
具体的,多个缺口分布在像素电极15的周侧,这样不同位置的断线可以与不同侧的缺口连通,从而避免了保留区域分割线18所分割的区域尽量贴合修补线17及像素电极15的边缘,保证了开口率。
可选的,在形成分割线18时,分割线18的两端与像素电极15边缘的缺口中的两个分别连接,即通过分割线18连接在两个缺口之间,将修补线17所经过的像素电极15的部分分离出去,通过缺口的设置,由缺口位置并没有像素电极15,保证了分割线18两端的像素电极15可以被充分的剥离,避免了在分割线18的两端产生像素电极15的残留,从而避免了辉点的产生。
需要说明的是,本实施例中,在形成修补线17时,阵列基板的阵列排布的工艺已经完成,即此时需要修补的配线,包括数据线12和扫描线13,并不位于阵列基板的表层,并且数据线12、扫描线13也并在同一层,在数据线12和扫描线13于阵列基板的表层之间隔有绝缘层或保护层,因此修补线17需要通过在待修补配线上方的连通孔与断线区域两端的配线连接,同时,由于像素电极15位于阵列基板的表层,因此在形成修补线17时,修补线17必然会经过像素电极15所在的区域,关于阵列基板的层结构及形成工艺均为现有技术,此处不再赘述。
作为一种可选的方式,本发明实施例提供的阵列基板,多个缺口分布在像素电极15的周侧,这样,当不同位置的数据线12或扫描线13存在缺陷需要修复时,分割线18可以与靠近的缺口连接,从而减短分割线18的长度。
具体的,像素电极15为矩形,且多个缺口间隔分布在像素电极15的四条侧边上,从而在数据线12或扫描线13需要修复时,在形成了修补线17后,可以选择其靠近或相邻的像素电极15的侧边上的缺口连接设置分割线18,如此可以让分割线18尽量靠近修补线17,避免了像素电极15被分割线18分割出去的区域面积过大,从而保证了像素区域的开口率。
可选的,多个缺口在像素电极15各个侧边上的数量不相等,各个侧边上的缺口的设置可以根据修复策略的不同进行设置,在便于修补线17形成和分割线18连接的情况下,尽量减少缺口的数量,从而保证了像素区域的开口率不受影响。
示例性的,本发明实施例提供的阵列基板,多个缺口包括第一缺口11a、第二缺口11b、第三缺口11c和第四缺口11d,其中,第一缺口11a设置在像素电极15的背离薄膜晶体管16的一侧的侧边上,第二缺口11b设置在像素电极15的朝向薄膜晶体管16的一侧的侧边上,第三缺口11c设置在像素电极15的朝向修补线17端部的一侧的侧边上,第四缺口11d设置在像素电极15的背离修补线17端部的一侧的侧边上。
具体的,第一缺口11a为两个,且两个第一缺口11a分别设置在像素电极15在扫描线13长度方向的中点的两侧;第二缺口11b为一个,且设置在像素电极15在扫描线13长度方向的中点的一侧;第三缺口11c为三个,分别相对于像素电极15在数据线12长度方向的中点对称设置,或者第三缺口11c也可以为两个,分别设置于像素电极15在数据线12长度方向的中点以及中点背离薄膜晶体管16的一侧;第四缺口11d为一个,且设置在像素电极15在数据线12长度方向的中点,这样,可以使得像素电极15各个侧边上的缺口充分利用。
需要说明的是,在本发明实施例中,在像素电极15的不同侧边设置不同缺口的数量是根据修补线17的形成位置而确定的,即修补线17的形成策略需要有一个确定的方式,例如,在修补数据线12时,不论断线区域位于任意一个数据线12的任意位置,修补线17会朝向一个固定的方向,相应的,在修补扫描线13时,不论断线区域位于任意一个扫描线13的任意位置,修补线17也会朝向一个固定的方向,这样,像素电极15可以有针对性的设置缺口,在保证分割线18可以与距离较近的缺口连接的同时,尽量减少了缺口的数量,保证了像素区域的开口率。
作为一种可选的方式,本发明实施例提供的阵列基板,分割线18包括第一分割段18a和第二分割段18b,第一分割段18a和第二分割段18b依次连接,第一分割段18a与像素电极15对应侧边之间的距离小于第二分割段18b与像素电极15对应侧边之间的距离,这样可以尽量减少分割线18分割出去的像素电极15的区域,保证了像素区域的开口率以及显示质量。
具体的,第一分割段18a一端连接缺口,另一端连接第二分割段18b,且第一分割段18a沿着像素区域15的边缘延伸,而第二分割段18b沿着修补线17的外侧延伸,从而将修补线17包围在分割线18从像素电极15上分割出去的区域内。
以下将通过数据线12或扫描线13的不同位置的断线修复的示例,说明在不同位置的断线修复中修补线17和分割线18的形成及连接方式。
图4为本发明实施例提供的阵列基板的第一种断线状态的修复结构示意图,如图4所示,数据线12在位于两个相邻像素区域之间的位置具有断线的缺陷,此时修补线17朝上设置并将数据线12断线的两端连接,分割线18位于修补17的外侧,且将修补线17与像素电极15分隔。
具体的,分割线18分成两段,分别位于左右相邻的两个像素区域内,左侧像素区域内的分割线18的两端分别与第二缺口11b和第三缺口11c连接,其中第二缺口11b位于像素电极15沿扫描线13延伸的侧边上靠近上侧数据线12的一边,第三缺口11c位于像素电极15下侧的边缘的中点位置;右侧像素区域内的分割线18的两端均分别与第一缺口11a和第三缺口11c连接,其中第一缺口11a位于像素电极15沿扫描线13延伸的侧边上靠近上侧数据线12的一边,第三缺口11c位于像素电极15下侧的边缘的中点位置。
图5为本发明实施例提供的阵列基板的第二种断线状态的修复结构示意图,如图5所示,数据线12在位于与一个像素区域侧边右侧对应的位置具有断线的缺陷,此时修补线17朝上设置并将数据线12断线的两端连接,分割线18位于修补17的外侧,且将修补线17与像素电极15分隔。
具体的,分割线18两端分别与两个第三缺口11c连接,其中两个第三缺口11c分别位于像素电极15下侧的边缘的中点及中点右侧的位置,而断线区域位于两个第三缺口11c之间。
图6为本发明实施例提供的阵列基板的第三种断线状态的修复结构示意图,如图6所示,数据线12在位于与一个像素区域侧边中点对应的位置具有断线的缺陷,此时修补线17朝上设置并将数据线12断线的两端连接,分割线18位于修补17的外侧,且将修补线17与像素电极15分隔。
具体的,分割线18两端分别两个第三缺口11c连接,其中第三缺口11c位于像素电极15下侧的边缘的中点的左右两侧的位置,而断线区域位于两个第三缺口11c之间。
图7为本发明实施例提供的阵列基板的第四种断线状态的修复结构示意图,如图7所示,数据线12在位于与一个像素区域侧边左侧对应的位置具有断线的缺陷,此时修补线17朝上设置并将数据线12断线的两端连接,分割线18位于修补17的外侧,且将修补线17与像素电极15分隔。
具体的,分割线18两端分别与两个第三缺口11c连接,其中两个第三缺口11c分别位于像素电极15下侧的边缘的中点及中点左侧的位置,而断线区域位于两个第三缺口11c之间。
图8为本发明实施例提供的阵列基板的第五种断线状态的修复结构示意图,如图8所示,扫描线13在位于两个相邻像素区域之间的位置具有断线的缺陷,此时修补线17朝右设置并将扫描线13断线的两端连接,分割线18位于修补线17的外侧,且将修补线17与像素电极15分隔。
具体的,分割线18分为两段,分别位于上下相邻的像素区域内,上侧像素区域内的分割线18的两端分别与第一缺口11a和第三缺口11c连接,其中第一缺口11a位于像素电极15沿扫描线13延伸的侧边上靠近上侧数据线12的一边,第三缺口11c位于像素电极15下侧的边缘的中点位置;下侧像素区域内的分割线18的两端均分别与第一缺口11a和第四缺口11d连接,其中第一缺口11a位于像素电极15沿扫描线13延伸的侧边上靠近下侧数据线12的一边,第四缺口11d位于像素电极15上侧的边缘的中点位置。
本发明实施例提供的阵列基板、显示面板及配线断线的修复方法,在数据线或扫描线存在缺陷断裂时,利用修补线将数据线或扫描线的断裂区域的两端连通,进行修复,同时通过在像素电极的各个侧边设置缺口的方式,使得分割线的两端与缺口连通,形成保留区域,缺口沿存储电容线的宽度方向覆盖存储电容线,保留区域和修补线互不重叠,且保留区域的分割线边缘的两端分别和两个缺口连通,使得保留区域的分割线的两端不需要跨越像素电极边缘的凸起结构,从而在分割线将修补线与像素电极分割开来的同时,避免了在分割线的两端存在像素电极的残留,消除了因像素电极残留而导致的辉点,提高了显示面板的显示质量。
实施例二
本实施例提供了一种显示面板,包括上述的阵列基板,其中,阵列基板的具体结构以及功能均已在前述实施例一中进行了详细说明,因而此处不再赘述。
显示面板可以为液晶显示面板,此时,显示面板包括彩膜基板、液晶层和实施例一中的阵列基板,液晶层夹设在彩膜基板和阵列基板之间。
显示面板也可以为有机发光二极管显示面板,此时,显示面板包括实施例一中的阵列基板、封装层和有机层,其中有机层夹设在阵列基板和封装层之间。
本实施例提供的显示面板,在数据线或扫描线存在缺陷断裂时,利用修补线将数据线或扫描线的断裂区域的两端连通,进行修复,同时通过在像素电极的各个侧边设置缺口的方式,使得分割线的两端与缺口连通,形成保留区域,缺口沿存储电容线的宽度方向覆盖存储电容线,保留区域和修补线互不重叠,且保留区域的分割线边缘的两端分别和两个缺口连通,使得保留区域的分割线的两端不需要跨越像素电极边缘的凸起结构,从而在分割线将修补线与像素电极分割开来的同时,避免了在分割线的两端存在像素电极的残留,消除了因像素电极残留而导致的辉点,提高了显示面板的显示质量。
实施例三
本发明提供了一种配线断线的修复方法,可以用于在实施例一中的阵列基板的制造过程中进行配线的断线修复。
图9为本发明实施例三提供的配线断线的修复方法的流程图,如图9所示,本实施例的配线断线的修复方法,包括:
S101、当配线发生断线时,在配线的断线区域的两侧连接修补线,以使配线的断线区域连通,其中,修补线经过像素电极,像素电极的边缘具有多个缺口,缺口沿存储电容线的宽度方向覆盖存储电容线。
具体的,配线断线可能发生在任意一个数据线或扫描线的任意位置,修补线的两端分别连接在被修补配线的断裂缺陷的两端,从而将配线的断线重新连通,同时由于存储电容线自身存在一定厚度,因此存储电容线所在位置会存在凸起结构,像素电极的边缘会覆盖并跨过该凸起结构,而像素电极边缘的缺口在向像素电极内部延伸时会覆盖此凸起结构,即在缺口所在位置的凸起结构上没有像素电极覆盖。
S102、以像素电极的两个不同缺口为分割线边缘的端点,切割像素电极,以使像素电极的保留区域和修补线之间互不重叠。
具体的,分割线的两端分别与两个不同的缺口连通,而缺口跨过了存储电容线对应的凸起结构,因此在形成分割线时,分割线的两端不需要经过凸起结构去剥离像素电极,从而避免了在凸起结构的底部边缘存在像素电极残留,避免了像素电极与修补线电连接,消除了辉点的现象。
图10为本发明实施例三提供的配线断线的修复方法中配线的断线区域的两侧连接修补线的流程图,如图10所示,配线的断线区域的两侧连接修补线,具体包括:
S201、在配线的断线区域的两侧的上方位置,通过激光形成两个连通孔,使得断线区域两侧的配线露出。
S202、在配线的断线区域的两侧利用激光化学气相沉积形成可导电的金属线。
具体的,所形成的金属线穿过连通孔与断线区域两侧的配线分别连接,从而将断线区域两侧的配线重新连通,金属线位于阵列基板的表面,即在形成金属线的过程中,金属线会经过像素电极所在的区域。
本实施例提供的配线断线的修复方法,在数据线或扫描线存在缺陷断裂时,利用修补线将数据线或扫描线的断裂区域的两端连通,进行修复,同时通过在像素电极的各个侧边设置缺口的方式,使得分割线的两端与缺口连通,从而在分割线将修补线与像素电极分割开来的同时,避免了在分割线的两端存在像素电极的残留,消除了因像素电极残留而导致的辉点,提高了显示面板的显示质量。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种阵列基板,其特征在于,包括数据线、扫描线和存储电容线,所述数据线和所述扫描线纵横交错排布并限定出多个像素区域,每个所述像素区域内均设有像素电极,所述像素电极和所述存储电容线在所述阵列基板的厚度方向具有重叠部分,所述数据线或所述扫描线设置有修补线,所述修补线的两端连接在所述数据线或所述扫描线上的断裂区域的两侧,以使所述断裂区域两侧的所述数据线或所述扫描线通过所述修补线连接;所述像素电极的边缘设置有多个缺口,所述缺口沿所述存储电容线的宽度方向覆盖所述存储电容线,所述缺口沿所述存储电容线向所述像素区域凹陷;所述像素电极包括切割形成的保留区域,所述保留区域和所述修补线互不重叠,所述保留区域的分割线边缘的两端分别和两个所述缺口连通;
所述缺口的深度大于所述存储电容线的宽度,以使所述缺口沿所述存储电容线向所述像素区域凹陷;多个所述缺口分布在所述像素电极的周侧。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述修补线的两端均连接在同一所述像素区域内,所述保留区域的分隔边缘两端分别和两个位于所述像素区域同一侧的所述缺口连通;或者,
所述修补线跨越相邻两个所述像素区域,所述保留区域的分隔边缘的两端分别和两个位于所述像素区域的不同侧的所述缺口连通。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,多个所述缺口包括第一缺口、第二缺口、第三缺口和第四缺口;所述第一缺口设置在所述像素电极的背离薄膜晶体管的一侧的侧边上,所述第二缺口设置在所述像素电极的朝向所述薄膜晶体管的一侧的侧边上,所述第三缺口设置在所述像素电极的朝向所述修补线端部的一侧的侧边上,所述第四缺口设置在所述像素电极的背离所述修补线端部的一侧的侧边上。
4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述第一缺口为两个,且两个所述第一缺口分别设置在所述像素电极在所述扫描线长度方向的中点的两侧;所述第二缺口为一个,且设置在所述像素电极在所述扫描线长度方向的中点的一侧;所述第三缺口为三个,分别相对于所述像素电极在所述数据线长度方向的中点对称设置;所述第四缺口为一个,且设置在所述像素电极在所述数据线长度方向的中点。
5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述修补线的两端均连接在同一所述像素区域内;
所述修补线的两端与所述数据线连接,所述保留区域的分隔边缘的两端分别和两个所述第三缺口连通,其中,所述第三缺口位于所述像素电极的朝向所述修补线端部的一侧的侧边上。
6.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述修补线跨越相邻两个所述像素区域,所述修补线的两端与所述扫描线连接;
所述保留区域的分隔边缘包括分别对应于两个相邻所述像素区域的第一间隔区域和第二间隔区域,所述第一间隔区域的两端分别和所述第三缺口以及所述第二缺口连通,所述第二间隔区域的两端分别和所述第三缺口以及所述第一缺口连通。
7.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述修补线跨越相邻两个所述像素区域,所述修补线的两端与所述数据线连接;
所述保留区域的分隔边缘包括分别对应于两个相邻所述像素区域的第三间隔区域和第四间隔区域,所述第三间隔区域和所述第四间隔区域的两端分别和所述第一缺口以及所述第三缺口连通,所述第三间隔区域和第四间隔区域所连通的所述第三缺口不同。
8.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述保留区域的分割线边缘轮廓与所述修补线构成的修复区域形状相互匹配。
9.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1-8任一项所述的阵列基板。
10.一种配线断线的修复方法,其特征在于,包括:
当配线发生断线时,在所述配线的断线区域的两侧连接修补线,以使所述配线的断线区域连通,其中,所述修补线经过像素电极,所述像素电极的边缘具有多个缺口,所述缺口沿存储电容线的宽度方向覆盖所述存储电容线;
以所述像素电极的两个不同所述缺口为分割线边缘的端点,切割所述像素电极,以使所述像素电极的保留区域和所述修补线之间互不重叠;
所述缺口的深度大于所述存储电容线的宽度,以使所述缺口沿所述存储电容线向像素区域凹陷;多个所述缺口分布在所述像素电极的周侧;
其中,所述配线包括数据线和扫描线,所述数据线和所述扫描线纵横交错排布并限定出多个所述像素区域。
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