CN111850640A - 一种电镀暗铬层表面结构化的金属压制板及制备方法 - Google Patents

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Abstract

一种电镀暗铬层表面结构化的金属压制板，包括不锈钢基板和镀铬层，镀铬层为暗铬层；所述不锈钢基板或暗铬层表面包括制备的花纹或图案，暗铬层的表面为喷丸或喷砂得到的能调光泽度的硬化层。铬层的厚度为0.2‑500微米；尤其是0.5‑15微米。所述的电镀暗铬层表面结构化的金属压制板的制备方法，在镀铬层上喷丸或喷砂得到的能调光泽度的硬化层。反光面光泽度为1一100度；在不锈钢基板表面花纹或图案表面上的暗铬层设有保护掩膜层，在全基板或未保护掩膜处表面进行圆形珠喷丸或喷砂产生反光面，达到反光面光泽度的要求。

Description

一种电镀暗铬层表面结构化的金属压制板及制备方法
技术领域
本发明涉及一种金属压制板亦称压制模板及制备方法。尤其是模板电镀层表面结构化新型处理工艺及得到的金属压制板。
背景技术
大尺幅的不锈钢压合模板主要用于人造板领域：包装装饰和功能性板材，如高压防火板、家具板、强化地板等方面。高压防火板、家具板、强化地板等量大面广的板是用于装饰的人造板，一般采用大型金属压制板和热压机制备，由于人造板成品板的表面亮度(光泽度)对应于金属压制板的关系，金属压制板表面光泽度与人造板制成品的光泽度有一定的对应关系，如何处理金属压制板表面的要求不同的光泽度(尤其是低光泽度或暗光、亚光的要求)是行业内未能解决好的问题。
CN2019106759403是本发明人提出的一种电镀层蚀刻再镀的表面结构化的金属压制板及制备方法，在镀暗铬或亮铬层上再制备或镀一层光亮铬或暗铬，形成明暗交替交叉花纹或纹路或图案的表面镀铬结构，以保证模板的装饰效果与耐久、耐磨性能兼得，尤其是解决金属压制板表面光泽度和花纹对应着制成品人造板的表面的光泽度与花纹，使得本发明得到的金属压制板具有更好装饰性的制成品，解决行业内未能解决好的问题。但相对而言处理的工艺较复杂，会增加成本。
目前不锈钢压合模板在花纹制备时只采用一次镀铬层，模板的装饰效果与耐久、耐磨性难以兼得。光泽度控制很难。尤其是要求金属压制板(模板)的表面但要满足花纹和平面或凹凸面光泽度的要求，还要求耐磨和硬度的要求，使用寿命的耐久。暗铬镀不锈钢压合模板是客户需要有一大类品种，能生产亚光型或质感强的人造板，暗铬一般被认为具有更低的光泽度，但存在生产中粘性强、易粘胶，耐磨性也会差一点。影响到制造商的使用寿命，表面如果有凹凸结构并具有表面硬化层则会具有更好的效果；本发明就是瞄准着此问题而进行的。
发明内容
本发明目的是，提出一种电镀暗铬层表面结构化的金属压制板及制备方法：不锈钢压合模板在花纹制备时采用一次镀暗铬，附加低成本的工艺，使大尺幅模板的装饰效果(光泽度的控制)与耐久、耐磨性得以兼顾。
本发明的技术方案是，提出一种电镀暗铬层表面结构化的金属压制板及制备方法：尤其是模板电镀暗铬层表面进行喷丸喷砂的表面结构化的金属压制板。本发明使用的设备为喷丸喷砂设备，喷丸喷砂设备也指抛丸抛砂和喷丸喷砂设备，以下均称喷丸喷砂。
本发明技术方案尤其是，一种电镀暗铬层表面结构化的金属压制板，电镀蚀刻再镀的表面结构化的金属压制板，包括不锈钢基板和镀铬层，镀铬层为暗铬层；所述不锈钢基板或暗铬层表面包括制备的花纹或图案，其特征是，暗铬层的表面为喷丸或喷砂得到的能调光泽度的硬化层。
暗铬层的厚度为0.2-500微米；尤其是0.5-35微米。但更厚的暗铬层亦没有超出本发明的范围。
所述的电镀暗铬层表面结构化的金属压制板的制备方法，在暗铬层上喷丸或喷砂得到的能调光泽度的硬化层。
所述的电镀暗铬层表面结构化的金属压制板的制备方法，在不锈钢基板表面花纹或图案表面上的暗铬层设有保护掩膜层，在全基板或未保护掩膜处表面进行圆形珠喷丸或喷砂产生反光面，达到反光面光泽度的要求。
是暗铬层的表面为喷丸或喷砂调光硬化层。喷丸或喷砂可以择一，或交替进行。能为了满足光泽度的要求进行调节。一般而言，喷丸会提高光泽度，喷砂会降低光泽度。喷丸或喷砂的目的不但增加硬化层，主要是得到需求的光泽度。光泽度是本发明主要控制的标准。
电镀蚀刻再镀的表面结构化的金属压制板，包括不锈钢基板和镀铬层，不锈钢基板表面制备带花纹或图案，在暗铬层上制备花纹或图案，暗铬层的表面为喷丸或喷砂得到的能调光泽度的硬化层。
不锈钢基板表面可以制备带花纹或图案，再镀暗铬层。也可以暗铬层上制备花纹或图案，在暗铬层表面制备保护或涂敷花纹或图案的保护掩膜层，一般是对未掩膜处进行圆形珠喷丸(玻璃微珠，陶瓷微珠、合金微珠粒径最可几分布在30-300微米等，或金刚砂等喷砂，喷砂也根据光泽度要求，或喷丸用玻璃微珠，陶瓷微珠、合金微珠等，；表面产生反光面的光泽度(1一100度，科仕佳测光仪)，也根据光泽度要求先用圆形珠进行表面喷丸，再金刚砂进行喷砂(也可以先喷丸喷砂交替进行)。金刚砂即刚玉(或碳化硅、氮化硅、氮化硼等)粒径最可几分布在25-250微米；主要在未掩膜处表面进行圆形珠喷丸或喷砂产生反光面，达到反光面光泽度的要求。
如花纹或图案要求有光泽度控制要求，也可以在未掩膜或施加保护掩膜层后进行喷丸或喷砂或交替，施加保护掩膜层进行喷丸或喷砂会有保护图案作用，否则对图案清晰度会有更大影响。
根据光泽度要求分别用圆形珠或金刚砂进行喷丸、喷砂。喷丸与喷砂交替进行。
保护掩膜采用打印、菲林或丝网印刷光刻胶曝光掩膜工艺制备在金属压制板上。丙烯酸酯的光刻胶虽然是高聚物，即使不是喷丸区域仍然会被喷砂或喷丸涉及，但能抵抗喷砂喷珠对图案的冲蚀，应该说可以抵抗数分钟。如丝网印刷光刻胶可以多次涂布、胶的配方等方式来控制保护胶面保护掩膜层的厚度。
微米级被喷或抛的丸或砂进行喷出的动能采用现有喷出(压缩气流为主)或抛出(机械旋转的动能)的设备，可调节到的喷丸、喷砂对表面硬度的要求和调节光泽度的要求(如喷圆形珠、喷砂的速度、密度调节)；大面积时可以设置多个喷头(或多个抛丸器)以及行进式结构进行板面喷丸喷砂工艺。
有益效果：本发明尤其提出一种电镀暗铬层表面结构化的金属压制板，金属压制板的尺寸或以达到2米乘4米或更大尺寸，从未有过类似方法在先出现，在有花纹的暗铬层上仍能进行喷丸喷砂，并通过保护花纹表面，本发明能取得意想不到的效果，使用丸粒轰击工件表面并植入残余压应力，提高了暗铬层表面的耐磨性及抗沾性能。本发明解决金属压制板表面光泽度和花纹对应着制成品人造板的表面的光泽度与耐磨和寿命方面的多方面的问题，喷砂、喷丸处理方式可以提高现有产品三倍的寿命。解决压制板表面的反光面低光泽度能控制光泽度时的提高耐磨度。金属压制板基材表面可以为经过加工的3D花纹或暗光、镜面等任意表面状态，暗铬镀为现有工艺，本发明的还有一意外好处是有效解决了暗铬镀层极易粘连胶板的问题，这是本行业很难解决的问题，本发明因喷丸喷砂等产生的微小凹凸结构使的抗粘性明显提高，甚至可以达到或优于光亮型压制板的抗粘性能。因此本发明工艺减少了劳动强度，提高了生产效率。也大大降低了成本。总之，本发明通过喷丸喷砂能调节控制镀铬层的光泽度，在过程中提高表面硬度，制备的压制板能够在控制低光泽度的标准下更具有很好的耐磨性及抗粘性。
附图说明
图1为基板截面图；
图2为基板镀暗铬层截面图；
图3为基板镀暗铬层局部加保护掩膜层的截面图。
具体实施方式
如图所示，所述基板指不锈钢基板1，尤其是指表面经平整和具有精加工表面的(凹凸图案、3D花纹或暗光、镜面、光面)304、410不锈钢基板等或其它基板。
本发明的结构：图1基板1截面图(可以制备有图案)，基板(可以制备有图案)镀暗铬层2(暗铬层可以制备有图案)截面图如图2，图3为基板镀暗铬层局部加保护掩膜层截面图；(暗)铬层的厚度均为0.2-500微米或更厚；尤其是0.5-35微米，更好的0.5-10微米。基板以及可以制备有图案的制备均为现有工艺；镀暗铬层2(暗铬层可以制备有图案)亦为现有工艺。
保护掩膜层3为光固化材料，可以通过现有技术制备，如打印、菲林或丝网印刷的方式制备保护花纹的保护掩膜，用于保护花纹或图案。经有图案区域的UV胶覆盖后经紫外照射光固化层则形成指定区域的保护掩膜层3。
CN2019106759403的一些方法用于电镀铬层在金属压制板表面加工，包括需要加工蚀刻花纹，镀层均可控，(腐)蚀刻层通过镀铬制备在基板上或再制备在暗(或亮)铬层上，暗(或亮)铬层的厚度可控，光亮(或暗)铬层的厚度为可控。一般而言，本发明制备的方法中亮铬与暗铬可以互相替代。喷丸用玻璃微珠，陶瓷微珠、合金微珠等，粒径最可几分布在30-300微米；金刚砂(或碳化硅、氮化硅、氮化硼等)粒径最可几分布在25-250微米。
本发明的制备方法一，基板上镀暗铬层，暗铬层上无图案或制备有图案后，用玻璃微珠陶瓷微珠喷丸或喷砂，或喷丸喷砂交替，使反光面光泽度为1一100度，科仕佳测光仪测量。
本发明的制备方法二，基板上已经刻蚀好花纹与图案，根据反光面光泽度的要求，再满镀暗铬层，用玻璃微珠、陶瓷微珠喷丸或喷砂，或喷丸喷砂交替，使反光面光泽度为1一100度，科仕佳测光仪测量。
本发明的制备方法三，1)基板有花纹图案后满镀暗铬层，2)暗铬层局部加保护掩膜层3；3)用玻璃微珠，陶瓷微珠喷丸或根据反光面光泽度喷砂；使反光面光泽度为1一100度，科仕佳测光仪测量；4)去除掩膜；5)形成明暗铬层交错或交叉的表面镀铬结构。暗铬层上再制备有图案后上述方法局部保护亦可。
采用玻璃微珠，陶瓷微珠、合金微珠，粒径最可几(80％以上的重量份)粒径分布在50-200微米；金刚砂(或碳化硅、氮化硅、氮化硼等)粒径最可几分布在40-180微米更好。便于反光面光泽度的控制为1一100度，科仕佳测光仪测量。
暗铬层有关制备与检测指标如下：其中电镀暗铬层的测量值0-10度,用科仕佳测光仪即光泽度仪检测)，而亮铬的光泽度测量值10-600度,科仕佳测光仪；所述的暗铬层的光泽度与现有技术加工成的镀层是一样的，统称零度工艺。本发明在暗铬层之上能进行光泽度的控制。
以上所述包括本发明的实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均以包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种电镀暗铬层表面结构化的金属压制板，包括不锈钢基板和镀铬层，镀铬层为暗铬层；所述不锈钢基板或暗铬层表面包括制备的花纹或图案，其特征是，暗铬层的表面为喷丸或喷砂得到的能调光泽度的硬化层。
2.根据权利要求1所述的电镀暗铬层表面结构化的金属压制板，其特征是，暗铬层的厚度为0.2-500微米；尤其是0.5-35微米。
3.根据权利要求1或2所述的电镀暗铬层表面结构化的金属压制板的制备方法，其特征是，在镀铬层上喷丸或喷砂得到的能调光泽度的硬化层。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征是，反光面光泽度为1一100度；在不锈钢基板表面花纹或图案表面上的暗铬层设有保护掩膜层，在全基板或未保护掩膜处表面进行圆形珠喷丸或喷砂产生反光面，达到反光面光泽度的要求。
5.根据权利要求3或4所述的制备方法，其特征是，根据光泽度要求分别用圆形珠或金刚砂进行喷丸、喷砂。
6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征是，喷丸与喷砂交替进行。
7.根据权利要求3-5之一所述的制备方法，其特征是，喷丸用玻璃微珠，陶瓷微珠、合金微珠等，粒径最可几分布在30-300微米；金刚砂或碳化硅、氮化硅、氮化硼粒径最可几分布在25-250微米。
8.根据权利要求3-7之一所述的制备方法，其特征是，保护掩膜采用打印、菲林或丝网印刷光刻胶曝光掩膜工艺制备在金属压制板上。
9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征是，玻璃微珠等，陶瓷微珠、合金微珠，粒径最可几粒径分布在50-200微米；金刚砂或碳化硅、氮化硅、氮化硼粒径最可几分布在40-180微米。
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