CN111850636A - 一种工具的化学抛光方法 - Google Patents
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Abstract
一种工具的化学抛光方法。提供了一种不留抛光丝纹的一种工具的化学抛光方法。包括以下步骤：1）放工件、2）第一次清洗、3）制备酸性化合物、4）研磨抛光、5）第二次清洗、6）制备碱性化合物、7）中和反应；8）第三次清洗。本发明利用铁和酸的化学反应的原理，将经过机械抛光的铁基工件放入特制的振动研磨机器的容器中，容器中另加入一种具有较好切削性能的高铝瓷磨料，同时加入适量的弱性酸性化合物，酸性化合物与工件铁产生化学反应，振动研磨机在不间断的有规律的振动，导致工件不断与磨料产生摩擦，使高铝瓷磨料持续对工件进行研磨，去除工件由于机械抛光而形成的丝纹。本发明具有一种不留抛光丝纹等特点。
Description
技术领域
本发明涉及工具的加工方法，尤其涉及一种工具的化学抛光方法。
背景技术
一般钢铁零件或工具的表面装饰和防锈采用的方法是电镀，而电镀前要对其进行机械抛光，其方法主要是采用砂带抛光机或布轮抛光机对工件表面进行砂磨，使工件达到较高的表面粗糙度，由于机械抛光是将布带或布轮粘上金刚砂，利用金刚砂切削工件表面，这样，工件表面必然存在抛光丝纹。
发明内容
本发明针对以上问题，提供了一种不留抛光丝纹的一种工具的化学抛光方法。
本发明的技术方案是：包括以下步骤：
1）放工件：将工件放入盛有磨料的振动研磨机内；
2）第一次清洗：启动振动研磨机，边加水边排水；
3）制备酸性化合物；
4）研磨抛光：将步骤3）制备的酸性化合物加入振动研磨机内，对工件进行研磨抛光；
5）第二次清洗；是在含有酸性化合物的研磨腔内继续加入清水，边加水边排水；
6）制备碱性化合物：
7）将步骤6）制备完成的碱性化合物倒入振动研磨机内，与步骤3）制备的酸性化合物进行中和反应；
8）第三次清洗：将步骤7）中和反应后的液体排出，并加入水对工件和磨料进行清洗。
步骤3）所述的酸性化合物包含如下按质量份计的组分：
草酸（H2C2O4） 10份，
次氮基三乙酸钠盐(C6H6NNa3O6) 15份，
磷酸二氢钾（KH2PO4 ） 12份，
柠檬酸（C6H8O7） 10份，
水（H2O） 53份。
步骤6）所述的碱性化合物包含如下按质量份计的组分：
过氧化氢（H2O2 ） 15份，
水（H2O） 85份。
所述步骤2)中第一次清洗时间为十分钟。
所述步骤4）中研磨抛光时间为五小时。
本发明利用铁和酸的化学反应的原理，将经过机械抛光的铁基工件放入特制的振动研磨机器的容器中，容器中另加入一种具有较好切削性能的高铝瓷磨料，同时加入适量的弱性酸性化合物，酸性化合物与工件铁产生化学反应，腐蚀软化工件表面，而振动研磨机在不间断的有规律的振动，导致工件不断与磨料产生摩擦，使高铝瓷磨料持续对工件进行研磨，不断将工件表面的软化层去除，经数小时的化学反应和振动研磨，最终将去除工件由于机械抛光而形成的丝纹。经过上述过程后，工件表面残留一层酸性盐，将影响后面的电镀工艺，为了去除这一层酸性盐，再加入适量的碱性化合物进行中和反应。本发明具有操作简便、不留抛光丝纹等特点。
具体实施方式
本发明包括以下步骤：
1）放工件：将工件放入盛有磨料的振动研磨机内；
2）第一次清洗：启动振动研磨机，边加水边排水；对振动研磨机内的工件和磨料进行冲洗10分钟；
3）制备酸性化合物；
4）研磨抛光：将步骤3）制备的酸性化合物加入振动研磨机内，对工件进行研磨抛光；
5）第二次清洗；是在含有酸性化合物的研磨腔内继续加入清水，边加水边排水；冲洗20分钟；
6）制备碱性化合物：
7）将步骤6）制备完成的碱性化合物倒入振动研磨机内，与步骤3）制备的酸性化合物进行中和反应；
8）第三次清洗：将步骤7）中和反应后的液体排出，并加入水对工件和磨料进行清洗。边加水边排水，时长20分钟。
步骤3）所述的酸性化合物包含如下按质量份计的组分：
草酸（H2C2O4） 10份，
次氮基三乙酸钠盐(C6H6NNa3O6) 15份，
磷酸二氢钾（KH2PO4 ） 12份，
柠檬酸（C6H8O7） 10份，
水（H2O） 53份。
步骤6）所述的碱性化合物包含如下按质量份计的组分：
过氧化氢（H2O2 ） 15份，
水（H2O） 85份。
所述步骤2)中第一次清洗时间为十分钟。
所述步骤4）中研磨抛光时间为五小时。
本案利用铁和酸的化学反应的原理，将经过机械抛光的铁基工件放入特制的振动研磨机器的容器中，容器中另加入一种具有较好切削性能的高铝瓷磨料，同时加入适量的弱性酸性化合物，酸性化合物与工件铁产生化学反应，腐蚀软化工件表面，而振动研磨机在不间断的有规律的振动，导致工件不断与磨料产生摩擦，使高铝瓷磨料持续对工件进行研磨，不断将工件表面的软化层去除，经数小时的化学反应和振动研磨，最终将去除工件由于机械抛光而形成的丝纹。经过上述过程后，工件表面残留一层酸性盐，将影响后面的电镀工艺，为了去除这一层酸性盐，再加入适量的碱性化合物进行中和反应。
对于本案所公开的内容，还有以下几点需要说明：
（1）、本案所公开的实施例只涉及到与本案所公开实施例所涉及到的结构，其他结构可参考通常设计；
（2）、在不冲突的情况下，本案所公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例；
以上，仅为本案所公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，本案所公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (5)
1.一种工具的化学抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：
1）放工件：将工件放入盛有磨料的振动研磨机内；
2）第一次清洗：启动振动研磨机，边加水边排水；
3）制备酸性化合物；
4）研磨抛光：将步骤3）制备的酸性化合物加入振动研磨机内，对工件进行研磨抛光；
5）第二次清洗；是在含有酸性化合物的研磨腔内继续加入清水，边加水边排水；
6）制备碱性化合物：
7）将步骤6）制备完成的碱性化合物倒入振动研磨机内，与步骤3）制备的酸性化合物进行中和反应；
8）第三次清洗：将步骤7）中和反应后的液体排出，并加入水对工件和磨料进行清洗。
2.根据权利要求1所述的一种工具的化学抛光方法，其特征在于，步骤3）所述的酸性化合物包含如下按质量份计的组分：
草酸（H2C2O4） 10份，
次氮基三乙酸钠盐(C6H6NNa3O6) 15份，
磷酸二氢钾（KH2PO4 ） 12份，
柠檬酸（C6H8O7） 10份，
水（H2O） 53份。
3.根据权利要求1所述的一种工具的化学抛光方法，其特征在于，步骤6）所述的碱性化合物包含如下按质量份计的组分：
过氧化氢（H2O2 ） 15份，
水（H2O） 85份。
4.根据权利要求1所述的一种工具的化学抛光方法，其特征在于，所述步骤2)中第一次清洗时间为十分钟。
5.根据权利要求1所述的一种工具的化学抛光方法，其特征在于，所述步骤4）中研磨抛光时间为五小时。
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| CN201910344939.2A CN111850636A (zh) | 2019-04-26 | 2019-04-26 | 一种工具的化学抛光方法 |
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2019
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| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20201030 |
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| WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |