CN110091219A

CN110091219A - 一种银或银合金的表面抛光处理工艺

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Publication number: CN110091219A
Application number: CN201910190387.4A
Authority: CN
Inventors: 林德谊; 林明璟; 林芯睿
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2019-03-13
Filing date: 2019-03-13
Publication date: 2019-08-06

Abstract

本发明公开了一种银或银合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：6.5%～10.5%的硝酸铁、0.9%～1.6%的硝酸溶液、13～21%的硫酸溶液和66.9%～79.6%的水，将硝酸铁用硝酸溶液稀按照上述重量比稀释后，再与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；第二步，将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机后，再放入将待抛光的银或银合金；第三步，银或银合金的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下，再经过研磨辅料的摩擦作用，对银或银合金的表面进行抛光。采用本发明的抛光处理剂和处理工艺，银或银合金的表面抛光过程不需要人工干预，30分钟即完成表面抛光，具有省时省力的优点，抛光效率高，抛光成本低。

Description

一种银或银合金的表面抛光处理工艺

技术领域

本发明涉及银或银合金加工技术领域，尤其指一种银或银合金的表面抛光处理工艺。

背景技术

在银首饰制作过程中，银饰倒模出来后都要进行打磨和抛光处理，这样使得银饰表面具有光泽度，显得更加美观。传统的银饰抛光方法主要为机械抛光法，机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用锉刀、砂纸、海绵轮、布轮、麻轮和羊毛轮等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008 m 的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。采用机械抛光法可以达到很好的抛光效果，但是需要耗费大量的人力和工时，抛光效率比较低。

发明内容

本发明的主要目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种银或银合金的表面抛光处理工艺，其利用本发明的抛光处理剂，利用抛光处理剂对银或银合金表面的腐蚀，结合简单的研磨机和研磨辅料，不用人为干预，即可实现自动抛光。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种银或银合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：

第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：6.5%～10.5%的硝酸铁、0.9%～1.6%的硝酸溶液、13～21%的硫酸溶液和66.9%～79.6%的水，上述组成成份的重量比以克为单位，将硝酸铁用硝酸溶液稀按照上述重量比稀释后，再与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；

第二步，将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机后，再放入将待抛光的银或银合金；

第三步，银或银合金的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下，再经过研磨辅料的摩擦作用，对银或银合金的表面进行抛光。

所述抛光处理剂的组成成份重量比为：6.5%的硝酸铁、0.9%的硝酸溶液、13%的硫酸溶液和79.6%的水。

所述抛光处理剂的组成成份重量比为：8%的硝酸铁、1%的硝酸溶液、15%的硫酸溶液和76%的水。

所述抛光处理剂的组成成份重量比为：9%的硝酸铁、1.2%的硝酸、18%的硫酸和71.8%的水。

所述抛光处理剂的组成成份重量比为：10.5%的硝酸铁、1.6%的硝酸、21%的硫酸和66.9%的水。

所述研磨机为带振动筒的振动抛光机、涡流研磨机、槽式振动机、滚筒抛光机或高速离心机。

所述研磨辅料为树脂胶粒、高铝瓷、高频瓷、陶瓷、氧化锆或棕刚玉。

所述硝酸溶液在20℃下的浓度为10%。

所述硫酸溶液在20℃下的浓度为98%。

与现有技术相比，本发明有益效果：

利用本发明的抛光处理剂对银或银合金表面的腐蚀，有软化切削的作用，再加上光滑研磨辅料的磨擦使产品表面达到平整光滑的效果。采用本发明的抛光处理剂和处理工艺，银或银合金的表面抛光过程不需要人工干预，30分钟即完成表面抛光，具有省时省力的优点，抛光效率高，抛光成本低。

具体实施方式

实施例1

一种银或银合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：

第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：6.5%的硝酸铁、0.9%的硝酸溶液、13%的硫酸溶液和79.6%的水，上述组成成份的重量比以克为单位，将硝酸铁用硝酸溶液稀按照上述重量比稀释后，再与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；

上述硝酸铁也可以预先用硝酸和三价铁盐配制而成，上述硝酸溶液在20℃下的浓度为10%，上述硫酸溶液在20℃下的浓度为98%

制作过程中，根据需要，研磨机可以采用带振动筒的振动抛光机，利用树脂胶粒、高铝瓷、高频瓷、陶瓷、氧化锆或棕刚玉等研磨辅料在振动抛光机的作用下对银或银合金进行摩擦，使用银或银合金的表面达到光滑；研磨机也可以采用涡流研磨机、槽式振动机、滚筒抛光机或高速离心机，其抛光原理与振动抛光机相似。

也可利用水流冲击、喷射的方式对产品进行抛光，比如花朵的结构是传统抛光方式处理不了的，利用本发明的抛光处理剂加微细沙粒冲击达到镜面效果。

当研磨辅料为表面光滑时，银或银合金的表面抛光后可达到镜面效果，如果银或银合金的表面不需要镜面效果，研磨辅料可以采用研磨砂等研磨料，其抛光效率更高。

实施例2

一种银或银合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：

第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为（以克为单位）：8%的硝酸铁、1%的硝酸溶液、15%的硫酸溶液和76%的水，上述组成成份的重量比以克为单位，将硝酸铁用硝酸溶液稀按照上述重量比稀释后，再与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；

上述硝酸铁也可以预先用硝酸和三价铁盐配制而成，上述硝酸溶液在20℃下的浓度为10%，上述硫酸溶液在20℃下的浓度为98%。

实施例3

一种银或银合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：

第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：9%的硝酸铁、1.2%的硝酸、18%的硫酸和71.8%的水，上述组成成份的重量比以克为单位，将硝酸铁用硝酸溶液稀按照上述重量比稀释后，再与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；

实施例4

一种银或银合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：

第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：10.5%的硝酸铁、1.6%的硝酸、21%的硫酸和66.9%的水，上述组成成份的重量比以克为单位，将硝酸铁用硝酸溶液稀按照上述重量比稀释后，再与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；

以上详细说明针对本发明的可行实施例之具体说明，惟实施例并非用以限制本发明的专利范围，凡未脱离本发明技艺精神所为之等效实施或变更，均应包含于本发明的保护范围中。

Claims

1.一种银或银合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：6.5%的硝酸铁、0.9%的硝酸溶液、13%的硫酸溶液和79.6%的水。

3.根据权利要求1所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：8%的硝酸铁、1%的硝酸溶液、15%的硫酸溶液和76%的水。

4.根据权利要求1所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：9%的硝酸铁、1.2%的硝酸、18%的硫酸和71.8%的水。

5.根据权利要求1所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：10.5%的硝酸铁、1.6%的硝酸、21%的硫酸和66.9%的水。

6.根据权利要求1所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺，其特征在于：所述研磨机为带振动筒的振动抛光机、涡流研磨机、槽式振动机、滚筒抛光机或高速离心机。

7.根据权利要求1至6任意一项所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述研磨辅料为树脂胶粒、高铝瓷、高频瓷、陶瓷、氧化锆或棕刚玉。

8.根据权利要求1至6任意一项所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述硝酸溶液在20℃下的浓度为10%。

9.根据权利要求1至6任意一项所述的一种银或银合金的表面抛光处理工艺其特征在于：所述硫酸溶液在20℃下的浓度为98%。