CN111834405A - 制造显示装置的方法 - Google Patents

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CN111834405A CN202010267677.7A CN202010267677A CN111834405A CN 111834405 A CN111834405 A CN 111834405A CN 202010267677 A CN202010267677 A CN 202010267677A CN 111834405 A CN111834405 A CN 111834405A
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counter electrodes
area
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金相烈
鲁硕原
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Abstract

本申请涉及制造显示装置的方法。该制造显示装置的方法，包括：准备衬底，衬底包括显示区域和布置在显示区域中的传感器区域；在衬底上形成第一反电极，使得第一反电极在传感器区域中彼此间隔开以具有第一图案；在传感器区域中将第二反电极沉积为彼此间隔开，第二反电极具有不同于第一图案的第二图案；以及将部件布置成与传感器区域对应。

Description

制造显示装置的方法
相关申请的交叉引用
本申请要求于2019年4月16日在韩国知识产权局提交的第10-2019-0044477号韩国专利申请的优先权和权益，所述韩国专利申请的公开内容通过引用整体并入本文。
技术领域
一个或多个实施方式涉及一种方法，并且更具体地，涉及一种制造显示装置的方法。
背景技术
显示装置可以通过使用像素来显示图像。显示装置可以包括位于显示装置的前表面(例如，在其上显示图像的表面)的边框(或边缘部分)上的红外传感器，并且可以通过使用红外传感器来识别对象。
随着显示装置的边框的尺寸减小，用户的眼睛可以被定点或聚焦在图像(或显示装置的屏幕)上。近来，已经对全屏显示技术进行了研究，其用于从显示装置的前表面去除边框，重新布置布置于显示装置的前表面(或边框)上的红外传感器，并且在显示装置的整个前表面上显示图像。
发明内容
本公开的一个或多个实施方式的方面涉及一种制造显示装置的方法，该显示装置包括位于显示区域内的光透射部分。然而，上述方面是示例，并且不限制本公开的范围，并且本领域普通技术人员可以从本公开的描述中清楚地理解未提及的其他方面。
附加的方面将部分地在随后的描述中阐述，并且部分地将从描述中显而易见，或者可以通过所呈现的实施方式的实践来习得。
根据一个或多个实施方式，一种制造显示装置的方法包括：准备包括显示区域和布置在显示区域中的传感器区域的衬底；在衬底上形成具有第一图案的第一反电极，其中第一反电极在传感器区域中彼此间隔开；在传感器区域中将第二反电极沉积为彼此间隔开，第二反电极具有不同于第一图案的第二图案；以及将部件布置成与传感器区域对应。
第一反电极和第二反电极中的每一个在平面图中可以具有四边形形状。
第一反电极和第二反电极的拐角部分可以彼此重叠。
显示区域可以围绕传感器区域的至少一部分。
该方法还可以包括：当在衬底上形成第一反电极时，在显示区域中形成彼此间隔开的多个第三反电极。
该方法还可以包括：当在衬底上形成第二反电极时，在显示区域中形成彼此间隔开的多个第四反电极。
该方法还可以包括：当在衬底上形成第一反电极时，在显示区域中形成彼此间隔开的多个第三反电极；以及当在衬底上形成第二反电极时，在衬底上，在显示区域中形成彼此间隔开的多个第四反电极，其中，多个第四反电极中的每一个布置在多个第三反电极中的相邻的第三反电极之间。
在平面图中，第三反电极和第四反电极可以至少部分地彼此重叠。
多个第三反电极可以形成为邻近传感器区域。
多个第三反电极中的一些可以具有条纹形状。
该方法还可以包括：当在衬底上形成第一反电极时，在显示区域中形成彼此间隔开的多个第三反电极，其中多个第三反电极中的一些具有条纹形状；以及当在衬底上形成第二反电极时，在衬底上，在显示区域的一部分中形成彼此间隔开的多个第四反电极，其中多个第四反电极中的每一个布置在多个第三反电极中的相邻的第三反电极之间。
第三反电极中的一个和第四反电极中的相应的一个可以在平面图中至少部分地彼此重叠。
多个第三反电极可形成为邻近传感器区域，其中显示区域中的第四反电极中的一个的一侧部分的平面面积和第四反电极中的所述一个的另一侧部分的平面面积彼此不同。
根据一个或多个实施方式，一种制造显示装置的方法包括：在包括显示区域和传感器区域的衬底上形成反电极；在反电极上形成封装部；以及布置用于通过包括在传感器区域中的透射部分施加信号的部件，其中，在包括显示区域和传感器区域的衬底上形成反电极包括：通过使用在对应于传感器区域的第一遮蔽部分中具有多个第一开口部分的第一掩模在传感器区域中形成第一反电极，多个第一开口部分以第一图案布置；以及通过使用在对应于传感器区域的第二遮蔽部分中具有多个第二开口部分的第二掩模形成第二反电极，多个第二开口部分以不同于第一图案的第二图案布置。
多个第一开口部分和多个第二开口部分中的每一个在平面图中可以具有四边形形状。
第一反电极和第二反电极可以彼此相邻并且可以至少部分地彼此重叠。
第一掩模可以包括多个第三开口部分，多个第三开口部分布置成以第三图案彼此间隔开以在显示区域中形成第三反电极，其中多个第三开口部分中的至少一个由第一遮蔽部分划分成两个部分。
第一掩模可以具有长边和短边，其中多个第三开口部分形成为平行于第一掩模的长边或第一掩模的短边。
第一掩模可以具有多个第三开口部分，多个第三开口部分布置成以第三图案彼此间隔开以在显示区域中形成第三反电极，并且第二掩模可以具有多个第四开口部分，多个第四开口部分布置成以第四图案彼此间隔开以在显示区域中形成第四反电极，其中第四反电极布置在相邻的第三反电极之间。
多个第三开口部分中的每一个可以被第一遮蔽部分划分成两个部分。
第二掩模可以具有多个第四开口部分，多个第四开口部分布置成彼此间隔开以在显示区域中形成第四反电极，其中多个第四开口部分中的一个的面积不同于多个第四开口部分中的另一个的面积，其中第二掩模包括长边和短边，其中还在与第二掩模的长边或第二掩模的短边相邻的部分中设置用于形成第五反电极的相邻开口部分。
根据一个或多个实施方式，一种制造显示装置的方法包括：在包括开口区域和围绕开口区域的显示区域的衬底上，通过使用第一掩模在显示区域中形成第一反电极；以及通过使用第二掩模在显示区域中形成第二反电极，其中第一掩模和第二掩模中的每一个包括：掩模主体部分，具有与显示区域相对应的开口部分；遮蔽部分，在开口部分内布置成具有与开口区域相对应的形状，并且配置为遮蔽沉积材料；第一肋，连接到遮蔽部分并连接到掩模主体部分别以在第一方向上横跨开口部分；以及第二肋，与第一肋间隔开，连接到遮蔽部分，并连接到掩模主体部分，以在第一方向上横跨开口部分。
第一掩模的遮蔽部分还可以包括：第三肋，连接到掩模主体部分以在第一方向上横跨开口部分；以及第四肋，与第三肋间隔开，连接到遮蔽部分，并连接到掩模主体部分，以在第一方向上横跨开口部分。
第一掩模的遮蔽部分可以与掩模主体部分相邻。
第一掩模的开口部分可以具有多个开口，其中多个开口中的一个开口的面积不同于多个开口中的另一个开口的面积。
第二掩模的开口部分与掩模主体部分、第一肋和第二肋相邻。
附图说明
根据结合附图的实施方式的以下描述，这些和/或其他方面将变得显而易见并且更容易理解，在附图中：
图1是通过使用根据本公开的实施方式的制造方法制造的显示装置的立体图；
图2是通过使用根据本公开的实施方式的制造方法制造的显示装置的剖视图；
图3是通过使用根据本公开的实施方式的制造方法制造的显示装置的平面图；
图4是示出图3的传感器区域的一部分的平面图；
图5是沿图3的线I-I'和图4的线II-II'截取的剖视图；
图6是根据本公开的实施方式的用于制造显示装置的装置的剖视图；
图7A是示出根据本公开的实施方式的用于制造显示装置的装置的第一掩模的平面图；
图7B是示出在根据本公开的实施方式的制造方法中的通过将第一掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的一部分的平面图；
图7C是示出在根据本公开的实施方式的制造方法中的通过将第一掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的一部分的剖视图；
图8A是示出根据本公开的实施方式的用于制造显示装置的装置的第二掩模的平面图；
图8B是示出在根据本公开的实施方式的制造方法中的通过将第二掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的平面图；
图8C是示出在根据本公开的实施方式的制造方法中的通过将第二掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的剖视图；
图9A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第一掩模的平面图；
图9B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的一部分的平面图；
图10A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第二掩模的平面图；
图10B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的平面图；
图11A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第一掩模的平面图；
图11B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的一部分的平面图；
图12A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第二掩模的平面图；
图12B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的平面图；
图13A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第一掩模的平面图；
图13B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的一部分的平面图；
图14A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第二掩模的平面图；
图14B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的平面图；
图15是通过使用根据本公开的另一实施方式的制造方法制造的显示装置的立体图；
图16是沿图15的线B-B'和线C-C'截取的剖视图；
图17A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第一掩模的平面图；
图17B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的一部分的平面图；
图18A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第二掩模的平面图；
图18B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的平面图；
图19A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第一掩模的平面图；
图19B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的一部分的平面图；
图20A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第二掩模的平面图；
图20B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的平面图；
图21A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第一掩模的平面图；
图21B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的一部分的平面图；
图22A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第二掩模的平面图；
图22B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的平面图；
图23A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第一掩模的平面图；
图23B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的一部分的平面图；
图24A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置的装置的第二掩模的平面图；以及
图24B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模放置在第二支承部分上并且然后沉积沉积材料而在衬底上形成的反电极的平面图。
具体实施方式
现在将详细参考实施方式，附图中示出了实施方式的示例，其中相同的附图标记始终表示相同的元件。在这一点上，本实施方式可以具有不同的形式，并且不应被解释为限于这里所记载的描述。因此，下面仅通过参考附图来描述实施方式，以解释本说明书的各方面。如本文中所用，术语“和/或”包括相关联的所列项目中的一个或多个的任何和所有组合。当诸如“…中的至少一个”的表述在元素列表之后时，其修饰整个元素列表，而不修饰列表中的单独的元素。
应当理解，尽管术语“第一”、“第二”等在本文中可用于描述各种元件，但是这些元件不应受到这些术语的限制，并且这些元件仅用于将一个元件与另一元件区分开。
如本文中所用，单数形式“一”、“一个”和“该”旨在也包括复数形式，除非上下文另外清楚地指示。
将进一步理解，如本文中所使用的，术语“包括”和/或“包含”指定所陈述的特征或组件的存在，但不排除一个或多个其他特征或组件的存在或添加。
应当理解，当层、区域或元件被称为“形成在”另一层、区域或元件“上”时，其可以直接形成在另一层、区域或元件上，或者可以其之间具有介于中间的层、区域或元件而间接形成在另一层、区域或元件上。
为了便于解释，可以夸大元件的尺寸。换句话说，由于为了便于解释而任意地示出了附图中的元件的尺寸和厚度，因此本公开不限于此。
在以下实施方式中，x轴、y轴和z轴不限于直角坐标系的三个轴，并且可以在更广泛的意义上解释。例如，x轴、y轴和z轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。
当某一实施方式可以不同地实现时，特定的工艺顺序可以不同于所描述的顺序。例如，两个连续描述的工艺可以基本上同时执行，或者以与所描述的顺序相反的顺序执行。
应当理解，当层、区域或元件被称为“连接”时，该层、区域或元件可以直接连接或者可以中间插置着介于中间的层、区域或元件而间接连接。例如，当层、区域或元件电连接时，所述层、区域或元件可以直接电连接或可以中间插置着介于中间的层、区域或元件而间接电连接。
当描述本发明构思的实施方式时，“可以”的使用是指“本发明构思的一个或多个实施方式”。
如本文中所用，术语“使用(use)”、“使用(using)”和“使用(used)”可分别被认为与术语“利用(utilize)”、“利用(utilizing)”和“利用(utilized)”同义。
图1是通过使用根据本公开的实施方式的制造方法制造的显示装置1的立体图。
参照图1，显示装置1包括形成图像的显示区域DA和不形成图像的非显示区域NDA。显示装置1可以通过使用由布置在显示区域DA中的多个主像素Pm发射的光来提供主图像。
显示装置1包括传感器区域SA。如以下参考图2所描述的，传感器区域SA可以是在其下布置有诸如使用红外辐射、可见光和/或声音的传感器的部件的区域。传感器区域SA可以包括透射部分TA，从部件输出到外部或从外部向部件传播的光和/或声音可以通过透射部分TA透射。在本公开的实施方式中，当红外辐射透射通过传感器区域SA时，传感器区域SA的红外透射率可以等于或大于约15％，并且更优选地，等于或大于20％、等于或大于25％、等于或大于85％、或等于或大于90％。
在通过使用本实施方式的制造方法制造的显示装置1中，多个辅助像素Pa可以布置在传感器区域SA中，并且可以通过使用由多个辅助像素Pa发射的光来提供设定图像或预定图像。由传感器区域SA提供的作为辅助图像的图像的分辨率可以低于由显示区域DA提供的图像的分辨率。也就是说，传感器区域SA可以包括光和/或声音可以透射的透射部分TA，且因此，每单位区域可以布置的辅助像素Pa的数量可以小于显示区域DA中每单位区域布置的主像素Pm的数量。
传感器区域SA可以至少部分地被显示区域DA围绕(即，显示区域DA至少部分地围绕传感器区域SA)，并且在示出通过使用根据实施方式的制造方法制造的显示装置1的图1中，传感器区域SA被显示区域DA完全地围绕(即，显示区域DA完全围绕传感器区域SA)。
尽管有机发光显示装置被描述为通过使用根据本公开的实施方式的制造方法制造的显示装置1，但是通过使用本公开的制造方法制造的显示装置1不限于此。在另一实施方式中，显示装置1可以是各种合适的显示装置中的任何一种，诸如无机发光显示装置或量子点发光显示装置。
尽管传感器区域SA布置在图1中具有四边形形状的显示区域DA的一侧(顶部或右上侧)上，但是本公开不限于此。显示区域DA可以布置为围绕(即，包围)传感器区域SA的至少一部分。显示区域DA的形状可以是圆形形状、椭圆形形状或诸如三角形形状或五边形形状的多边形形状，并且传感器区域SA的位置和数量可以以各种合适的方式修改。
图2是沿着图1的线A-A'截取的通过使用根据本实施方式的制造方法制造的显示装置1的剖视图。
参照图2，显示装置1可以包括显示面板10，该显示面板10包括显示元件和与传感器区域SA相对应的部件20。
显示面板10可以包括衬底100、布置在衬底100上的显示元件层200以及薄膜封装层300，薄膜封装层300是用于密封显示元件层200的密封构件。此外，显示面板10还可以包括布置在衬底100下方的下部保护膜175。
衬底100可以包括玻璃和/或聚合物树脂。当衬底100包括聚合物树脂时，衬底100可以是柔性的、可卷曲的和/或可弯曲的。衬底100可以具有多层结构，其包括含有聚合物树脂的层和无机层。
显示元件层200可以包括：包括薄膜晶体管(TFT)TFT和辅助TFT TFT'的电路层、作为显示元件的有机发光二极管(OLED)以及在电路层和OLED之间的绝缘层IL或IL'。
此外，可以在传感器区域SA中布置未布置有辅助TFT TFT'和显示元件的透射部分TA。透射部分TA可以是从部件20发射的光或信号或入射到部件20上的光和/或信号通过其透射的区域。
部件20可以布置在传感器区域SA中。部件20可以包括使用光和/或声音的电子元件。部件20的非限制性示例可以包括用于接收和使用光的诸如红外传感器的传感器、用于输出和检测光和/或声音以测量距离和/或识别指纹的传感器、用于输出光的小灯、以及用于输出声音的扬声器。当部件20是使用光的电子元件时，部件20可以使用各种波长带的光，诸如可见光、红外光和/或紫外光。可以在传感器区域SA中设置多个部件20。例如，可以在一个传感器区域SA中设置光发射器件和光接收器件作为部件20。替代地，可以在一个部件20中设置光透射部分和光接收部分。
下部电极层BSM可以在传感器区域SA中布置成对应于辅助像素Pa。也就是说，下部电极层BSM可以布置在辅助TFT TFT'下方以对应于辅助TFT TFT'。也就是说，下部电极层BSM可以防止或使外部光免于到达包括辅助TFT TFT'的辅助像素Pa。例如，下部电极层BSM可以防止或使从部件20发射的光免于到达辅助像素Pa。可以将恒定电压或信号施加到下部电极层BSM，从而防止或保护以避免像素电路被静电放电损坏。
薄膜封装层300可以包括至少一个无机封装层和至少一个有机封装层。在这点上，图2示出了第一无机封装层310和第二无机封装层330以及在第一无机封装层310和第二无机封装层330之间的有机封装层320。
有机封装层320可以包括基于聚合物的材料。例如，有机封装层320可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚酰亚胺(PI)、聚乙烯磺酸盐、聚甲醛、聚芳酯、六甲基二硅氧烷(HMDSO)或丙烯酸树脂(例如，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚丙烯酸)，或者其组合。
第一无机封装层310和第二无机封装层330中的每一个可以包括选自氧化铝、氧化钛、氧化钽、氧化铪、氧化锌、氧化硅、氮化硅和氮氧化硅中的至少一种无机绝缘材料。第二无机封装层330可以覆盖有机封装层320，并且可以包括氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅。第二无机封装层330可以沉积成在显示装置1的边缘部分上接触第一无机封装层310，从而防止或保护以避免有机封装层320暴露于显示装置1的外部。
下部保护膜175可以附着到衬底100的底部并且可以支承和保护衬底100。下部保护膜175可具有对应于传感器区域SA的开口175OP。由于下部保护膜175具有开口175OP，因此可以提高传感器区域SA的透光率。下部保护膜175可包括PET或PI。
当衬底100包括玻璃时，可以省略下部保护膜175。
传感器区域SA的面积可以大于布置有(即，其中容纳有)部件20的部分的面积。因此，下部保护膜175的开口175OP的面积可以与传感器区域SA的面积不同。例如，开口175OP的面积可以小于传感器区域SA的面积。
在一个实施方式中，还可以在显示面板10上布置诸如用于感测触摸输入的输入感测构件、诸如偏振器和延迟器的抗反射构件和/或滤色器和黑矩阵以及透明窗的元件。
尽管在本实施方式中使用薄膜封装层300作为用于密封显示元件层200的密封构件，但是本公开不限于此。例如，可以使用通过使用密封剂或玻璃料粘附到衬底100的密封衬底作为用于密封显示元件层200的构件。
图3是通过使用根据本公开的实施方式的制造方法制造的显示装置1的平面图。
参照图3，显示面板10布置在显示区域DA中，并且包括多个主像素Pm。主像素Pm中的每个可以包括诸如OLED的显示元件。每个主像素Pm可以通过OLED发射例如红光、绿光、蓝光或白光。这里使用的术语“主像素Pm”可以指发射红光、绿光、蓝光和白光中的任何一种的像素。显示区域DA可以由参考图2描述的封装构件覆盖，并且可以被保护以免受外部空气、湿气等的影响。
传感器区域SA可以布置在显示区域DA内，并且多个辅助像素Pa布置在传感器区域SA中。辅助像素Pa中的每个可以包括诸如OLED的显示元件。每个辅助像素Pa可以通过OLED发射例如红光、绿光、蓝光或白光。这里使用的术语“辅助像素Pa”可以指发射红光、绿光、蓝光和白光中的任何一种的像素。可以在传感器区域SA中设置布置在辅助像素Pa之间的透射部分TA。
在实施方式中，一个主像素Pm和一个辅助像素Pa可以包括相同的像素电路。然而，本公开不限于此。包括在主像素Pm中的像素电路可以不同于包括在辅助像素Pa中的像素电路。
传感器区域SA可以包括透射部分TA，并且传感器区域SA的分辨率可以小于显示区域DA的分辨率。例如，传感器区域SA的分辨率可以是显示区域DA的分辨率的约1/2。在一些实施方式中，显示区域DA的分辨率可以等于或大于400ppi，并且传感器区域SA的分辨率可以是约200ppi。
主像素Pm和辅助像素Pa中的每一个可以电连接到布置在非显示区域NDA中的外围区域。可以在非显示区域NDA中布置第一扫描驱动电路110、第二扫描驱动电路120、端子140、数据驱动电路150、第一电源布线160和第二电源布线170。
第一扫描驱动电路110可以通过扫描线SL将扫描信号施加到主像素Pm和辅助像素Pa中的每一个。第一扫描驱动电路110可以通过发射控制线EL将发射控制信号施加到每个像素。第二扫描驱动电路120可以布置成与第一扫描驱动电路110平行，且其间具有显示区域DA。布置在显示区域DA中的主像素Pm和辅助像素Pa中的一些可以电连接到第一扫描驱动电路110，而其余可以连接到第二扫描驱动电路120。在另一实施方式中，可以省略第二扫描驱动电路120。
端子140可以布置在衬底100的一侧上。端子140可以通过不被绝缘层覆盖而暴露，并且可以电连接到印刷电路板PCB。
印刷电路板PCB的端子PCB-P可以电连接到显示面板10的端子140。印刷电路板PCB将控制器的信号和/或电力施加到显示面板10。由控制器产生的控制信号可以通过印刷电路板PCB传输到第一扫描驱动电路110和第二扫描驱动电路120。控制器可以通过第一连接布线161和第二连接布线171分别将第一电源电压和第二电源电压施加到第一电源布线160和第二电源布线170。可以通过连接到第一电源布线160的驱动电压线PL将第一电源电压施加到主像素Pm和辅助像素Pa中的每一个，并且可以将第二电源电压施加到连接到第二电源布线170的主像素Pm和辅助像素Pa中的每一个的反电极。
数据驱动电路150电连接到数据线DL。数据驱动电路150的数据信号可以通过连接到端子140的连接布线151和连接到连接布线151的数据线DL施加到主像素Pm和辅助像素Pa中的每一个。尽管在图3中数据驱动电路150布置在印刷电路板PCB上，但是在另一实施方式中，数据驱动电路150可以布置在衬底100上。例如，数据驱动电路150可以布置在端子140和第一电源布线160之间。
第一电源布线160可以包括第一子布线162和第二子布线163，二者在x方向上平行延伸，且显示区域DA在二者之间。第二电源布线170可以以具有一侧打开的环形形状部分地围绕显示区域DA。
图4是示出图3的传感器区域SA的一部分的平面图，并且图5是沿着图3的线I-I'和图4的线II-II'截取的剖视图。
参照图4，根据本公开的实施方式，辅助像素Pa和透射部分TA布置在显示装置1的传感器区域SA中。某些辅助像素Pa可以被连续地布置以形成一个像素组Pg。
像素组Pg中可以包括至少一个辅助像素Pa。在图4中，布置在两行中的四个辅助像素Pa被包括在一个像素组Pg中。然而，本公开不限于此。包括在一个像素组Pg中的辅助像素Pa的数量和布置可以以各种合适的方式修改。
可以在传感器区域SA中设置不包括显示元件并且具有高透光率的多个透射部分TA。透射部分TA和像素组Pg可以在第一方向(例如，x方向)和/或第二方向(例如，y方向)上交替排列。替代地，透射部分TA可以围绕像素组Pg。替代地，辅助像素Pa可以围绕透射部分TA。
参照图5，通过使用根据本公开的实施方式的制造方法制造的显示装置1包括显示区域DA和传感器区域SA。在显示区域DA中布置有第一主像素Pm1和第二主像素Pm2，并且在传感器区域SA中布置有第一辅助像素Pa1、第二辅助像素Pa2和透射部分TA。
第一主像素Pm1可以包括第一主TFT TFT1、第一主存储电容器Cst1和第一主OLEDOLED1。第一辅助像素Pa1可包括第一辅助TFT TFT'1、第一辅助存储电容器Cst'1和第一辅助OLED OLED'1。
第二主像素Pm2可以包括第二主TFT TFT2、第二主存储电容器Cst2和第二主OLEDOLED2。第二辅助像素Pa2可以包括第二辅助TFT TFT'2、第二辅助存储电容器Cst'2和第二辅助OLED OLED'2。
部件20可以布置在传感器区域SA下方。部件20可以是发射/接收红外辐射的红外(IR)传感器。透射部分TA可以布置在传感器区域SA中，并且可以通过透射部分TA来透射向部件20发射/从部件20接收的红外信号。例如，由部件20发射的光可以通过透射部分TA在z方向上行进，并且在显示装置1外部产生并且入射到部件20上的光可以通过透射部分TA在与z方向相反的方向上行进。
现在将描述包括在通过使用根据本公开的实施方式的制造方法制造的显示装置1中的元件的堆叠结构。
衬底100可以包括玻璃和/或聚合物树脂。聚合物树脂可以包括聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、PEN、PET、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯、PI、PC和/或乙酸丙酸纤维素(CAP)。包括聚合物树脂的衬底100可以是柔性的、可卷曲的和/或可弯曲的。包括聚合物树脂的衬底100可以具有多层结构，该多层结构包括含有聚合物树脂的层和无机层。
缓冲层111可以布置在衬底100上，并且可以减少或防止外来材料、湿气和/或外部空气从衬底100的底部的渗透，并且可以使衬底100的表面变平。缓冲层111可以包括无机材料(诸如氧化物或氮化物)、有机材料或有机/无机复合材料，并且可以具有包括无机材料和有机材料的单层或多层结构。可以在衬底100和缓冲层111之间进一步设置用于防止或减少外部空气渗透的阻挡层。在一些实施方式中，缓冲层111可以包括氧化硅(SiO2)和/或氮化硅(SiNx)。缓冲层111可以设置成使得第一缓冲层111a和第二缓冲层111b堆叠。
在传感器区域SA中，可以在第一缓冲层111a和第二缓冲层111b之间布置下部电极层(也称为第一下部电极层)BSM和第二下部电极层BSM'。在另一实施方式中，第一下部电极层BSM和第二下部电极层BSM'可以布置在衬底100和第一缓冲层111a之间。第一下部电极层BSM可以布置在第一辅助TFT TFT'1下方，并且第二下部电极层BSM'可以布置在第二辅助TFT TFT'2下方，从而防止或保护以避免第一辅助TFT TFT'1和第二辅助TFT TFT'2的特性由于从部件20发射的光而劣化。
此外，第一下部电极层BSM和第二下部电极层BSM'可以分别从布置在不同层上的第一布线GCL和第二布线GCL'接收恒定电压和/或信号。例如，第一下部电极层BSM和第二下部电极层BSM'可以接收驱动电压(例如，第一电源电压)和/或扫描信号。当第一下部电极层BSM和第二下部电极层BSM'接收恒定电压和/或信号时，静电放电发生的概率可以大大降低。第一下部电极层BSM和第二下部电极层BSM'中的每个可包括铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、钙(Ca)、钼(Mo)、钛(Ti)、钨(W)和/或铜(Cu)。第一下部电极层BSM和第二下部电极层BSM'中的每个可以具有包括上述材料的单层或多层结构。
第一主TFT TFT1、第二主TFT TFT2、第一辅助TFT TFT'1和第二辅助TFT TFT'2可以布置在缓冲层111上。第一主TFT TFT1包括第一半导体层A1、第一栅电极G1、第一源电极S1和第一漏电极D1，并且第二主TFT TFT2包括第二半导体层A2、第二栅电极G2、第二源电极S2和第二漏电极D2。第一辅助TFT TFT'1包括第三半导体层A3、第三栅电极G3、第三源电极S3和第三漏电极D3，并且第二辅助TFT TFT'2包括第四半导体层A4、第四栅电极G4、第四源电极S4和第四漏电极D4。第一主TFT TFT1可以连接到显示区域DA的第一主OLED OLED1，并且可以驱动第一主OLED OLED1。第一辅助TFT TFT'1可以连接到传感器区域SA的第一辅助OLED OLED'1并且可以驱动第一辅助OLED OLED'1。同样，第二主TFT TFT2可以连接到显示区域DA的第二主OLED OLED2，并且可以驱动第二主OLED OLED2。第二辅助TFT TFT'2可以连接到传感器区域SA的第二辅助OLED OLED'2并且可以驱动第二辅助OLED OLED'2。
第一半导体层A1至第四半导体层A4中的至少一个可以布置在缓冲层111上并且可以包括多晶硅。在另一实施方式中，第一半导体层A1至第四半导体层A4中的至少一个可以包括非晶硅。在另一实施方式中，第一半导体层A1至第四半导体层A4中的至少一个可以包括选自由铟(In)、镓(Ga)、锡(Sn)、锆(Zr)、钒(V)、铪(Hf)、镉(Cd)、锗(Ge)、铬(Cr)、钛(Ti)和锌(Zn)组成的组合中的至少一种氧化物。第一半导体层A1至第四半导体层A4中的至少一个可以包括沟道区，并且还可以包括掺杂有杂质的源区和漏区。
第三半导体层A3和第四半导体层A4可以分别与第一下部电极层BSM和第二下部电极层BSM'重叠，且其之间具有第二缓冲层111b。在实施方式中，第三半导体层A3和第四半导体层A4的宽度可以小于第一下部电极层BSM和第二下部电极层BSM'的宽度，并且当在垂直于或正交于衬底100的方向上投影时，第三半导体层A3和第四半导体层A4可以分别与第一下部电极层BSM和第二下部电极层BSM'重叠。
第一栅极绝缘层112可设置成覆盖第一半导体层A1至第四半导体层A4。第一栅极绝缘层112可以包括无机绝缘材料，诸如氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)和/或氧化锌(ZnO2)。第一栅极绝缘层112可以具有包括上述无机材料的单层或多层结构。
第一栅电极G1至第四栅电极G4在第一栅极绝缘层112上布置成分别与第一半导体层A1至第四半导体层A4重叠。第一栅电极G1至第四栅电极G4中的每一个可以包括Mo、Al、Cu和/或Ti，并且可以具有单层或多层结构。例如，第一栅电极G1至第四栅电极G4中的每一个可以具有包括Mo的单层结构。
第二栅极绝缘层113可设置成覆盖第一栅电极G1至第四栅电极G4。第二栅极绝缘层113可以包括无机绝缘材料，诸如SiO2、SiNx、SiON、Al2O3、TiO2、Ta2O5、HfO2和/或ZnO2。第二栅极绝缘层113可以具有包括上述无机绝缘材料的单层或多层结构。
第一主存储电容器Cst1的第一上部电极CE2、第二主存储电容器Cst2的第二上部电极CE4、第一辅助存储电容器Cst'1的第三上部电极CE2'和第二辅助存储电容器Cst'2的第四上部电极CE4'可以布置在第二栅极绝缘层113上。
在显示区域DA中，第一上部电极CE2和第二上部电极CE4可以分别与布置在第一上部电极CE2和第二上部电极CE4下方的第一栅电极G1和第二栅电极G2重叠。其间具有第二栅极绝缘层113而彼此重叠的第一栅电极G1和第一上部电极CE2可以构成第一主存储电容器Cst1。第一栅电极G1可以是第一主存储电容器Cst1的第一下部电极CE1。此外，其间具有第二栅极绝缘层113而彼此重叠的第二栅电极G2和第二上部电极CE4可以构成第二主存储电容器Cst2。第二栅电极G2可以是第二主存储电容器Cst2的第二下部电极CE3。
在传感器区域SA中，第三上部电极CE2'可以与布置在第三上部电极CE2'下方的第三栅电极G3重叠。其间具有第二栅极绝缘层113而彼此重叠的第三栅电极G3和第三上部电极CE2'可以构成第一辅助存储电容器Cst'1。第三栅电极G3可以是第一辅助存储电容器Cst'1的第三下部电极CE1'。此外，其间具有第二栅极绝缘层113而彼此重叠的第四栅电极G4和第四上部电极CE4'可以构成第二辅助存储电容器Cst'2。第四栅电极G4可以是第二辅助存储电容器Cst'2的第四下部电极CE3'。
第一上部电极CE2至第四上部电极CE4'中的每一个可以包括Al、Pt、Pd、Ag、Mg、Au、Nd、Ir、Cr、Ni、Ca、Mo、Ti、W和/或Cu，并且可以具有包括上述材料的单层或多层结构。
层间绝缘层115可以形成为覆盖第一上部电极CE2至第四上部电极CE4'。层间绝缘层115可以包括SiO2、SiNx、SiON、Al2O3、TiO2、Ta2O5、HfO2和/或ZnO2。
第一源电极S1、第二源电极S2、第三源电极S3和第四源电极S4以及第一漏电极D1、第二漏电极D2、第三漏电极D3和第四漏电极D4布置在层间绝缘层115上。源电极S1、S2、S3和S4以及漏电极D1、D2、D3和D4中的每一个可以包括导电材料，包括Mo、Al、Cu和/或Ti，并且可以具有包括上述材料的单层或多层结构。例如，源电极S1、S2、S3和S4以及漏电极D1、D2、D3和D4中的每一个可以具有由Ti/Al/Ti形成的多层结构。
平坦化层117可以布置在层间绝缘层115上。平坦化层117可以具有平坦的顶表面，使得布置在平坦化层117上的第一像素电极221和第二像素电极221'是平坦的。
平坦化层117可以具有由有机材料和/或无机材料形成的单层或多层结构。平坦化层117可以包括通用聚合物(例如，苯并环丁烯(BCB)、PI、HMDSO、PMMA和/或聚苯乙烯(PS))、具有基于苯酚的基团的聚合物衍生物、基于丙烯酰的聚合物、基于酰亚胺的聚合物、基于芳基醚的聚合物、基于酰胺的聚合物、基于氟的聚合物、基于对二甲苯的聚合物、基于乙烯醇的聚合物或其混合物。平坦化层117可以包括SiO2、SiNx、SiON、Al2O3、TiO2、Ta2O5、HfO2和/或ZnO2。在形成平坦化层117之后，可以进行化学机械抛光以提供平坦的顶表面。
可以在平坦化层117中形成通过其暴露第一主TFT TFT1和第二主TFT TFT2的开口部分，并且第一像素电极221可以通过该开口部分电连接到第一主TFT TFT1和第二主TFTTFT2。
此外，可以在平坦化层117中形成通过其暴露第一辅助TFT TFT'1和第二辅助TFTTFT'2的开口部分，并且第二像素电极221'可以通过该开口部分电连接到第一辅助TFTTFT'1和第二辅助TFT TFT'2。
第一像素电极221和第二像素电极221'中的每一个可以包括导电氧化物，诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In2O3)、氧化铟镓(IGO)和/或氧化锌铝(AZO)。在另一实施方式中，第一像素电极221和第二像素电极221'中的每一个可以包括反射膜，该反射膜包括Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr或其合金或化合物。在另一实施方式中，第一像素电极221和第二像素电极221'中的每一个还可以包括在反射膜上方/下方由ITO、IZO、ZnO和/或In2O3形成的膜。在一些实施方式中，第一像素电极221和第二像素电极221'中的每一个可以具有由ITO/Ag/ITO形成的堆叠结构。
像素限定膜119可以覆盖第一像素电极221和第二像素电极221'中的每一个的边缘。像素限定膜119与第一像素电极221和第二像素电极221'中的每一个重叠。像素限定膜119可以增加布置在第一像素电极221和第二像素电极221'上方的反电极223与第一像素电极221和第二像素电极221'的边缘之间的距离，从而防止或保护以避免在第一像素电极221和第二像素电极221'的边缘处发生电弧等。像素限定膜119可以通过使用旋涂等由诸如PI、聚酰胺、丙烯酸树脂、BCB、HMDSO和/或酚醛树脂的有机绝缘材料形成。
第一功能层222a布置成覆盖像素限定膜119。第一功能层222a可以具有单层或多层结构。第一功能层222a可以是具有单层结构的空穴传输层(HTL)。此外，第一功能层222a可以包括空穴注入层(HIL)和/或HTL。第一功能层222a可以一体地形成为对应于显示区域DA和传感器区域SA中包括的第一主像素Pm1和第二主像素Pm2以及第一辅助像素Pa1和第二辅助像素Pa2。
分别与第一像素电极221和第二像素电极221'对应的第一发射层222b和第二发射层222b'布置在第一功能层222a上。第一发射层222b和第二发射层222b'中的每一个可以包括高分子量材料或低分子量材料，并且可以发射红光、绿光、蓝光或白光。
第二功能层222c可以形成在第一发射层222b和第二发射层222b'上。第二功能层222c可以具有单层或多层结构。第二功能层222c可以包括电子传输层(ETL)和/或电子注入层(EIL)。第二功能层222c可以一体地形成为对应于显示区域DA和传感器区域SA中包括的主像素Pm和辅助像素Pa。第一功能层222a和/或第二功能层222c可以被省略。
反电极223布置在第二功能层222c上。反电极223可以包括具有低功函数的导电材料。例如，反电极223可以包括(半)透明层，该(半)透明层包括Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、锂(Li)或Ca、或其合金或化合物。替代地，反电极223还可包括在包括上述材料的(半)透明层上由ITO、IZO、ZnO和/或In2O3形成的层。
反电极223可以包括与显示区域DA的第一主像素Pm1相对应的第一主反电极223a和与显示区域DA的第二主像素Pm2相对应的第二主反电极223b。此外，反电极223可以包括与传感器区域SA的第一辅助像素Pa1相对应的第二辅助反电极223d和与传感器区域SA的第二辅助像素Pa2相对应的第一辅助反电极223c。
在显示区域DA中形成的从第一像素电极221到反电极223的层可以构成第一主OLED OLED1和第二主OLED OLED2。在传感器区域SA中形成的从第二像素电极221'到反电极223的层可以构成第一辅助OLED OLED'1和第二辅助OLED OLED'2。
由反电极223限定并对应于反电极223的开口224可以形成在传感器区域SA的透射部分TA中，以提高由部件20发射的信号的透射率。
薄膜封装层300布置在反电极223和开口224上。薄膜封装层300可以包括至少一个无机封装层和/或至少一个有机封装层，并且在这一点上，图5示出了其中堆叠有第一无机封装层310、有机封装层320和第二无机封装层330的薄膜封装层300的结构。有机封装层的数量、无机封装层的数量以及堆叠有机封装层和无机封装层的顺序可以适当地改变。
第一无机封装层310和第二无机封装层330中的每一个可包括至少一种无机绝缘材料(诸如氧化铝、氧化钛、氧化钽、氧化铪、氧化锌、氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅)，并且可通过使用化学气相沉积(CVD)来形成。有机封装层320可以包括基于聚合物的材料。基于聚合物的材料的示例可以包括硅基树脂、丙烯酸树脂、环氧基树脂、PI和聚乙烯。
第一无机封装层310、有机封装层320和第二无机封装层330可以一体地形成以覆盖显示区域DA和传感器区域SA。
如上所述，显示装置1可以通过在透射部分TA中形成与反电极223相对应的开口224来改善从部件20发射的信号的透射率。下面将详细描述制造具有开口224的显示装置1的方法，该开口224形成在透射部分TA中以对应于反电极223(并且由反电极223限定)。
图6是根据本公开的实施方式的用于制造显示装置1的装置400的剖视图。
参照图6，用于制造显示装置1的装置400可以包括腔室410、第一支承部分420、第二支承部分430、视觉单元440、掩模500、沉积源460和压力调节器470。
在腔室410内可以形成有内部空间，使得腔室410的一部分敞开。闸阀410A可以设置在腔室410的开口部分处，并且可以选择性地打开/关闭腔室410的开口部分。
第一支承部分420可以支承衬底100。在这种情况下，第一支承部分420可以以各种合适的方式支承衬底100。例如，第一支承部分420可以包括静电卡盘或粘合卡盘。在另一实施方式中，第一支承部分420可以包括其上放置有衬底100的一部分并且支承衬底100的框架、以及保持和固定衬底100的一部分的卡盘。第一支承部分420不限于此，并且可以包括用于支承衬底100的任何设备。然而，为了便于解释，下面将基于第一支承部分420包括静电卡盘或粘性卡盘的假设来进行更详细地描述。
在这种情况下，第一支承部分420可以包括永磁体和电磁体中的至少一种，以将掩模500紧密地附接到衬底100。在另一实施方式中，当第一支承部分420包括框架或卡盘时，可以进一步设置类似于图6的第一支承部分420的磁体和电磁体中的至少一种，以将衬底100紧密附接到掩模500。
掩模500可以被放置和支承在第二支承部分430上。在这种情况下，在第二支承部分430上的掩模500可以在至少两个不同的方向上被精细地调节。
视觉单元440可以捕获衬底100和掩模500的位置的图像。在这种情况下，可以通过基于由视觉单元440捕获的图像移动衬底100和掩模500中的至少一个来对齐衬底100和掩模500。
掩模500可以包括多个开口部分。多个开口部分可以限定供沉积材料穿过的区域。
掩模500可以包括彼此可互换的第一掩模500a和第二掩模500b。第一掩模500a可以遮蔽衬底100的显示区域DA的一部分。此外，第二掩模500b可以遮蔽衬底100的显示区域DA的一部分，这与第一掩模500a遮蔽的显示区域DA的一部分不同。在这种情况下，下面将更详细地描述通过使用第一掩模500a和第二掩模500b在衬底100的显示区域DA中沉积沉积材料的方法。
沉积材料可以被供应到沉积源460中并且可以在沉积源460中蒸发。在这种情况下，沉积源460可以包括加热器460A，并且沉积材料可以由于加热器460A施加的热量而蒸发。沉积材料可以是用于在衬底100上形成反电极223的材料，并且可以是用于形成第一功能层222a或第二功能层222c的材料。然而，为了便于解释，以下将基于沉积材料是用于在衬底100上形成反电极223的材料的假设来进行更详细地描述。
沉积源460可以以各种合适的方式形成。例如，沉积源460可以是点沉积源，其中通过其喷射沉积材料的入口部分具有圆形形状。此外，沉积源460可以是长线性沉积源，其中形成有多个入口部分，或者入口部分具有长孔形状。为了便于说明，以下将基于沉积源460面对掩模500的一点并且沉积源460是点沉积源的假设进行更详细地描述。
压力调节器470可以连接到腔室410，并且可以将腔室410内的压力调节到类似于大气压或真空的水平。在这种情况下，压力调节器470可以包括连接到腔室410的连接管471和布置在连接管471中的压力调节泵472。
参考通过使用装置400来制造显示装置1的方法，可以制造和准备包括显示区域DA和传感器区域SA的衬底100。
此外，可以制造和准备掩模500。掩模500可以包括第一掩模500a和第二掩模500b。在将第一掩模500a放置在第二支承部分430上之后，衬底100和第一掩模500a可以彼此对齐。可以将沉积材料供应到沉积源460中，沉积材料可以蒸发，并且可以通过第一掩模500a的开口沉积在衬底100上。
在沉积材料沉积在衬底100上之后，可以用第二掩模500b替换第一掩模500a。在将第二掩模500b放置在第二支承部分430上之后，衬底100和第二掩模500b可以彼此对齐。可以将沉积材料供应到沉积源460中，沉积材料可以蒸发，并且可以通过第二掩模500b的开口沉积在衬底100上。
然而，可首先将第二掩模500b放置在第二支承部分430上，并且接着可将沉积材料沉积在衬底100上。此外，可以用第一掩模500a替换第二掩模500b，并且可以将沉积材料沉积在衬底100上。然而，为了便于说明，下面将基于第一掩模500a放置在第二支承部分430上，沉积材料沉积在衬底100上，并且用第二掩模500b替换第一掩模500a的假设来进行更详细地描述。
此外，可以形成薄膜封装层300，并且可以布置用于通过包括在传感器区域SA中的透射部分TA施加信号的部件。
图7A是示出根据本公开的实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第一掩模500a的平面图。图7B是示出在根据本公开的实施方式的制造方法中的通过将第一掩模500a放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的一部分的平面图。图7C是示出在根据本公开的实施方式的制造方法中的通过将第一掩模500a放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的一部分的剖视图。在图7C中，与图5中的构件相同的构件可以用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不提供重复的说明。
参照图7A至图7C，第一掩模500a可以包括第一掩模主体部分501a、第一肋部分510a、第一肋连接器511a、第二肋连接器512a、第一掩模开口部分520a和第一遮蔽部分540a。
第一掩模主体部分501a在平面图中可以具有四边形形状。在这种情况下，第一掩模主体部分501a可以具有长边和短边。例如，第一掩模主体部分501a的长边可以在图7A的y方向上延伸，并且第一掩模主体部分501a的短边可以在图7A的x方向上延伸。为了便于解释，下面将基于第一掩模主体部分501a在平面图中具有四边形形状的假设来进行更详细地描述。
第一肋部分510a可包括在第一掩模500a内布置成彼此间隔开的多个第一肋。例如，第一肋可以布置成在图7A的y方向上彼此间隔开。在这种情况下，每个第一肋可以连接到第一掩模主体部分501a。例如，每个第一肋可以与第一掩模主体部分501a一体地形成，或者可以与第一掩模主体部分501a分开制造，并且然后可以通过使用焊接等固定到第一掩模主体部分501a。
第一掩模500a可以包括布置成彼此间隔开的多个第一掩模开口部分520a。例如，第一掩模开口部分520a可以布置成在图7A的y方向上彼此间隔开。也就是说，第一掩模开口部分520a可以形成为平行于第一掩模500a的短边。第一掩模开口部分520a中的每一个可以具有矩形形状或正方形形状。然而，本公开不限于此。可以进行各种适当的修改，包括其中每个第一掩模开口部分520a的拐角部分具有曲率的情况。第一掩模开口部分520a可以布置在相邻的第一肋之间。
第一遮蔽部分540a可以在第一掩模500a中设置成对应于传感器区域SA。第一遮蔽部分540a遮蔽沉积材料。此外，第一遮蔽部分540a的边缘部分具有各种合适的形状中的任一种，诸如多边形形状(例如，三角形形状或矩形形状)或圆形形状。然而，为了便于解释，下面将基于第一遮蔽部分540a的边缘部分具有圆形形状的假设来进行更详细地描述。
第一遮蔽部分540a可以包括以与第二辅助像素Pa2相对应的图案形成在透射部分TA中的第一开口部分541a。此外，第一开口部分541a可以彼此间隔开，以具有设定或预定的图案。可以进行各种适当的修改，包括其中每个第一开口部分541a在平面图中具有多边形形状或圆形形状的情况。然而，为了便于解释，下面将基于第一开口部分541a在平面图中具有四边形形状的假设来进行更详细地描述。
第一遮蔽部分540a可以以各种合适的方式固定。例如，第一遮蔽部分540a可以连接到并支承在一个第一肋上。在另一实施方式中，第一遮蔽部分540a可以连接到并支承在至少两个第一肋上。例如，第一遮蔽部分540a可以通过第一肋连接器511a和第二肋连接器512a连接到第一掩模主体部分501a以横跨在x方向上。
第一掩模开口部分520a中的一个可以由第一遮蔽部分540a划分成两个部分。例如，基于第一遮蔽部分540a，布置在第一肋连接器511a和第二肋连接器512a之间的第一掩模开口部分520a可以被划分成两个部分。
沉积材料可以在沉积源460中蒸发并且可以穿过第一掩模500a的第一开口部分541a。第一辅助反电极223c可以在衬底100上形成为对应于传感器区域SA的第二辅助像素Pa2。
第一辅助反电极223c可以在传感器区域SA中形成为彼此间隔开。例如，第一辅助反电极223c中的每一个在平面图中可以具有四边形形状。然而，本公开不限于此。可以进行各种适当的修改，包括其中第一辅助反电极223c在平面图中具有圆形形状的情况。然而，为了便于解释，下面将基于第一辅助反电极223c在平面图中具有四边形形状的假设来进行更详细地描述。具体地，第一辅助反电极223c在平面图中的形状可以与第一遮蔽部分540a的第一开口部分541a的形状相同或相似。
当在衬底100上形成第一辅助反电极223c时，多个第一主反电极223a可以在显示区域DA中形成为彼此间隔开(参见图7C)。例如，第一主反电极223a可以以与第一掩模500a的第一掩模开口部分520a相对应的图案彼此间隔开。
第一主反电极223a中的与第一遮蔽部分540a对应的一些可以被划分成一侧部分(即，左侧部分)531c和另一侧部分(即，右侧部分)532c。也就是说，第一主反电极223a可以基于传感器区域SA划分成两个部分。
第一主反电极223a中的一些可以具有条纹形状。例如，第一主反电极223a可以布置成在图7B的y方向上彼此间隔开。
图8A是示出根据本公开的实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第二掩模500b的平面图。图8B是示出在根据本公开的实施方式的制造方法中的通过将第二掩模500b放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的平面图。图8C是示出在根据本公开的实施方式的制造方法中的通过将第二掩模500b放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的剖视图。在图8C中，与图5中的构件相同的构件可以用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复说明。
参照图8A至图8C，第二掩模500b可以包括第二掩模主体部分501b、第二肋部分510b、第三肋连接器511b、第四肋连接器512b、第二掩模开口部分520b和第二遮蔽部分540b。
第二掩模主体部分501b在平面图中可以具有四边形形状。在这种情况下，第二掩模主体部分501b可以具有长边和短边。例如，第二掩模主体部分501b的长边可在图8A的y方向上延伸，并且第二掩模主体部分501b的短边可在图8A的x方向上延伸。然而，为了便于解释，下面将基于第二掩模主体部分501b在平面图中具有四边形形状的假设来进行更详细地描述。
第二肋部分510b可包括在第二掩模500b内布置成彼此间隔开的多个第二肋。例如，第二肋可以布置成在图8A的y方向上彼此间隔开。第二肋可以接触第二掩模500b内部(即，接触第二掩模主体部分501b的内部)。此外，当通过将第一掩模500a的第一掩模主体部分501a和第二掩模500b的第二掩模主体部分501b的两个顶点匹配而垂直地或正交地投影时，第二肋可以布置在第一肋之间。在这种情况下，第一肋和第二肋可以交替布置。
第二掩模500b可包括布置成彼此间隔开的多个第二掩模开口部分520b。例如，第二掩模开口部分520b可以布置成在图8A的y方向上彼此间隔开。也就是说，第二掩模开口部分520b可以形成为平行于第二掩模500b的短边。第二掩模开口部分520b中的每一个可以具有矩形形状或正方形形状。然而，本公开不限于此。可以进行各种适当的修改，包括其中每个第二掩模开口部分520b的拐角部分具有曲率的情况。当通过将第一掩模500a的第一掩模主体部分501a和第二掩模500b的第二掩模主体部分501b的两个顶点匹配而垂直地或正交地投影时，第二掩模开口部分520b可以布置在第一掩模开口部分520a之间。
第二遮蔽部分540b可以在第二掩模500b中设置成对应于传感器区域SA。第二遮蔽部分540b可以遮蔽沉积材料，并且可以将第二掩模开口部分520b中的至少一个划分成两个部分。此外，第二遮蔽部分540b可以具有各种合适的形状中的任一种，以与第一遮蔽部分540a相对应。然而，为了便于解释，下面将基于第二遮蔽部分540b具有圆形形状的假设来进行更详细地描述。
第二遮蔽部分540b可以包括以与第一辅助像素Pa1相对应的图案设置在透射部分TA中的第二开口部分541b。此外，第二开口部分541b可以彼此间隔开以具有图案。第二开口部分541b的图案可以不同于第一开口部分541a的图案。例如，第二开口部分541b的中心可以不与第一开口部分541a的中心重叠。可以进行各种适当的修改，包括其中第二开口部分541b在平面图中具有四边形形状或圆形形状的情况。然而，为了便于解释，下面将基于第二开口部分541b在平面图中具有四边形形状的假设来进行更详细地描述。
第二遮蔽部分540b可以连接到并支承在至少一个第二肋上。例如，在实施方式中，第二遮蔽部分540b可以连接到并支承在一个第二肋上。在另一实施方式中，第二遮蔽部分540b可以连接到至少两个第二肋。更详细地，由于第三肋连接器511b和第四肋连接器512b，第二遮蔽部分540b可以连接到第二掩模主体部分501b以横跨在x方向上。第三肋连接器511b和第四肋连接器512b可以与第二掩模主体部分501b的短边间隔开相同的距离。第二遮蔽部分540b可以由第三肋连接器511b和第四肋连接器512b支承。在这种情况下，第二遮蔽部分540b可以将位于两个相邻的第二肋之间的第二开口部分541b划分。也就是说，第二遮蔽部分540b可以将第二开口部分541b划分成位于第三肋连接器511b和第五肋连接器513b之间的部分以及位于第四肋连接器512b和第六肋连接器514b之间的部分。
第二掩模500b还可以包括第五肋连接器513b和第六肋连接器514b。由于第五肋连接器513b和第六肋连接器514b，第二遮蔽部分540b可以连接到第二掩模主体部分501b以横跨在x方向上。第五肋连接器513b和第六肋连接器514b可以与第二掩模主体部分501b的短边间隔开相同的距离。
第二遮蔽部分540b可以由第三肋连接器511b和第四肋连接器512b支承，并且还可以由第五肋连接器513b和第六肋连接器514b支承。
因此，可以减小或防止连接到第二遮蔽部分540b的第三肋连接器511b至第六肋连接器514b中的至少一个的变形。此外，可以保持第二掩模500b的初始或基本初始形状。
如图8B和图8C中所示，可以将沉积材料沉积在显示区域DA和传感器区域SA中，可以从腔室410中取出第一掩模500a，可以将第二掩模500b插入到腔室410中，并且可以从沉积源460供应沉积材料，以通过第二掩模500b的第二开口部分541b和第二掩模开口部分520b沉积在衬底100的传感器区域SA和显示区域DA中。在这种情况下，第二辅助反电极223d可以在衬底100上形成为对应于传感器区域SA的第一辅助像素Pa1。
第二辅助反电极223d可以在传感器区域SA中彼此间隔开，以具有与第一辅助反电极223c的图案不同的图案。例如，第二辅助反电极223d和第一辅助反电极223c可以交替布置。在这种情况下，在实施方式中，第二辅助反电极223d可以不与第一辅助反电极223c重叠。在另一实施方式中，彼此相邻的第一辅助反电极223c和第二辅助反电极223d可以至少部分地彼此重叠。在这种情况下，第一辅助反电极223c和第二辅助反电极223d(各自在平面图中具有四边形形状)可以在拐角部分处重叠。因此，可以在第一辅助反电极223c和第二辅助反电极223d中形成均匀的电压。为了便于解释，下面将基于第一辅助反电极223c和第二辅助反电极223d彼此部分地重叠的假设来进行更详细地描述。
当在衬底100上形成第二辅助反电极223d时，多个第二主反电极223b可以在显示区域DA中形成为彼此间隔开(参见图8C)。例如，第二主反电极223b可以以与第二掩模500b的第二掩模开口部分520b相对应的图案彼此间隔开。
第二主反电极223b可以布置在第一主反电极223a中的相邻第一主反电极223a之间。在这种情况下，第一主反电极223a和第二主反电极223b在平面图中可以至少部分地彼此重叠。
第二主反电极223b中的一些可以具有条纹形状。例如，第二主反电极223b可以布置成在图8B的y方向上彼此间隔开。
第一辅助反电极223c和第二辅助反电极223d可以彼此间隔开，并且对应于反电极223的开口224可以形成在传感器区域SA的透射部分TA中。因此，可以改善传感器区域SA的透射部分TA中的透射率。
图9A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第一掩模500a的平面图。
第一掩模500a可以包括第一掩模主体部分501a、第一肋部分510a、第一肋连接器511a、第二肋连接器512a、第一掩模开口部分520a和第一遮蔽部分540a。在这种情况下，第一掩模主体部分501a、第一肋部分510a、第一肋连接器511a、第二肋连接器512a、第一掩模开口部分520a和第一遮蔽部分540a与图7A的那些相同或相似，并且因此将不提供其详细说明。下面将集中于与参考图7A所描述的内容不同之处。
第一肋部分510a可以布置成在图9A的x方向上彼此间隔开。此外，第一掩模开口部分520a可以布置成在图9A的x方向上彼此间隔开。也就是说，每个第一掩模开口部分520a可以形成为平行于第一掩模主体部分501a的长边。
图9B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模500a放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的一部分的平面图。
参照图9B，第一辅助反电极223c和第一主反电极223a与图7B的那些相同或相似，并且因此将不提供其详细说明。此外，形成在衬底100上的第一辅助反电极223c和第一主反电极223a的剖视图与图7C中的那些相同或相似，并且因此将不给出其说明。
第一主反电极223a可以布置成在图9B的x方向上彼此间隔开。
图10A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第二掩模500b的平面图。
参照图10A，第二掩模500b可以包括第二掩模主体部分501b、第二肋部分510b、第三肋连接器511b、第四肋连接器512b、第二掩模开口部分520b和第二遮蔽部分540b。然而，第二掩模主体部分501b、第二肋部分510b、第三肋连接器511b、第四肋连接器512b、第二掩模开口部分520b和第二遮蔽部分540b与图8A中的那些相同或相似，并且因此将不给出其详细说明。
第二肋部分510b可以布置成在图10A的x方向上彼此间隔开。此外，第二掩模开口部分520b可以布置成在图10A的x方向上彼此间隔开。也就是说，每个第二掩模开口部分520b可以形成为平行于第二掩模主体部分501b的长边。
由于第三肋连接器511b和第四肋连接器512b，第二遮蔽部分540b可以连接到第二掩模主体部分501b以横跨在y方向上。此外，第二掩模500b还可以包括第五肋连接器513b和第六肋连接器514b。由于第五肋连接器513b和第六肋连接器514b，第二遮蔽部分540b可以进一步连接到第二掩模主体部分501b以横跨在y方向上。
图10B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模500b放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的平面图。
第二辅助反电极223d和第二主反电极223b与图8B的那些相同或相似，并且因此将不给出其详细说明。此外，形成在衬底100上的第二辅助反电极223d和第二主反电极223b的剖视图与图8C中的那些相同或相似，并且因此将不给出其说明。
第一主反电极223a和第二主反电极223b可以布置成在图10B的x方向上彼此间隔开。
图11A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第一掩模500a的平面图。与图7A的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
参照图11A，第一掩模500a还可以包括第三肋部分513a。第三肋部分513a可以连接到第一掩模主体部分501a的长边。此外，第三肋部分513a可以连接到第一遮蔽部分540a以及第一掩模主体部分501a的短边。因此，第三肋部分513a可以形成在第一掩模开口部分520a的实质(大)部分上。例如，第一掩模开口部分520a可以布置成仅邻近第一遮蔽部分540a。
第三肋部分513a可防止或减少连接到第一遮蔽部分540a的第一肋连接器511a或第二肋连接器512a的变形。此外，可以保持第一掩模500a的初始或基本初始形状。
图11B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模500a放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的一部分的平面图。与图7B的构件相同的构件可以用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
第一主反电极223a可以形成为邻近传感器区域SA。此外，多个第一主反电极223a中的一些可以具有条纹形状。
第一主反电极223a的一侧部分(即，左侧部分)531c的平面面积可以不同于第一主反电极223a的另一侧部分(即，右侧部分)532c的平面面积。然而，本公开不限于此。可以进行各种适当的修改，包括其中第一主反电极223a的两侧部分的平面面积相同的情况。然而，为了便于解释，下面将基于第一主反电极223a的一侧部分531c的平面面积和第一主反电极223a的另一侧部分532c的平面面积彼此不同的假设来进行更详细地描述。
图12A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第二掩模500b的平面图。与图8A的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
参照图12A，多个第二掩模开口部分520b中的一个的面积可以与多个第二掩模开口部分520b中的另一个的面积不同。例如，第二掩模开口部分520b可以进一步包括相邻开口部分530b，其面积与其他第二掩模开口部分520b的面积不同。在这种情况下，除了相邻开口部分530b之外，第二掩模开口部分520b与图8A中的第二掩模开口部分520b相同或相似，并且因此将不给出其详细说明。
相邻开口部分530b可以布置成邻近第二掩模主体部分501b的短边，并且可以邻近第二掩模主体部分501b的长边的至少一部分。此外，相邻开口部分530b可以布置成与第五肋连接器513b或第六肋连接器514b相邻。
相邻开口部分530b在平面图中可以具有四边形形状，并且可以形成在第二掩模500b的实质(大)部分上。
图12B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模500b放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的平面图。与图8B的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
当第二掩模500b在衬底100上对齐时，第二主反电极223b中的一些可以形成为与相邻开口部分530b相对应。因为沉积材料穿过相邻开口部分530b并沉积在衬底100上，所以第二主反电极223b中的一些可以均匀地形成。因此，可以减少第一主反电极223a和第二主反电极223b彼此重叠的次数，并且因此反电极223的厚度可为大致均匀的。
图13A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第一掩模500a的平面图。与图11A的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
第一肋部分(即，第一肋)510a可以布置成在图13A的x方向上与第一掩模主体部分501a间隔开。此外，第一掩模开口部分520a可以布置成在图13A的x方向上彼此间隔开。也就是说，每个第一掩模开口部分520a可以形成为平行于第一掩模主体部分501a的长边。
图13B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模500a放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的一部分的平面图。
第一辅助反电极223c和第一主反电极223a与图11B的那些相同或相似，并且因此将不给出其详细说明。
第一主反电极223a可以布置成在图13B的x方向上彼此间隔开。
图14A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第二掩模500b的平面图。与图12A的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
第二肋部分510b可以布置成在图14A的x方向上与第四肋连接器512b间隔开。此外，第二掩模开口部分520b可以布置成在图14A的x方向上与相邻开口部分530b间隔开。也就是说，第二掩模开口部分520b可以形成为平行于第二掩模主体部分501b的长边。
图14B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模500b放置于第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的平面图。与图12B的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
第一主反电极223a和第二主反电极223b可以布置成在图14B的x方向上彼此间隔开。
图15是通过使用根据本公开的另一实施方式的制造方法制造的显示装置1的立体图。与图1中的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
显示装置1可以包括贯穿部分OA。贯穿部分OA可以是其下方布置有部件30(参见图16)的区域。贯穿部分OA可以是透射区域，其中从部件30输出到外部或从外部朝向部件30传播的光和/或声音可以透射。在通过使用根据本公开的实施方式的制造方法制造的显示装置1中，当光透射通过贯穿部分OA时，透光率可以等于或大于约50％，并且更优选地，等于或大于70％、等于或大于75％、等于或大于80％、等于或大于85％或等于或大于90％。贯穿部分OA可以是不布置显示元件并且可以不提供图像的区域。在本实施方式中，贯穿部分OA可以布置在显示区域DA内，并且主像素可以布置成围绕贯穿部分OA。
图16是沿图15的线B-B'和线C-C'截取的剖视图。在图16中，与图5的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且将不给出其重复的说明。
参照图16，显示装置1可以包括贯穿部分OA。贯穿部分OA可以具有与贯穿部分OA相对应的开口孔OAH。
贯穿部分OA可以具有穿过衬底100的衬底孔100H。由于贯穿部分OA具有衬底孔100H，所以可以提高贯穿部分OA的透光率。因此，需要高透光率的部件30可以布置在贯穿部分OA之下。
当第一栅极绝缘层112、第二栅极绝缘层113和层间绝缘层115被统称为无机绝缘层IL时，无机绝缘层IL可以具有对应于透射部分TA的第一孔H1。可以形成第一孔H1以暴露缓冲层111或衬底100的顶表面。第一孔H1可以通过与第一栅极绝缘层112的第一开口、第二栅极绝缘层113的第二开口和层间绝缘层115的第三开口重叠来形成，其中第一开口、第二开口和第三开口形成为与贯穿部分OA相对应。第一开口至第三开口可以通过使用分开的工艺单独形成，或者可以通过使用相同的工艺同时形成。替代地，可以进行各种适当的修改，包括其中并行地或同时形成第一开口和第二开口以及单独形成第三开口的情况。当通过使用分开的工艺形成第一开口至第三开口时，可能在第一孔H1的侧表面处形成台阶部分。
平坦化层117可具有对应于贯穿部分OA的第二孔H2。第二孔H2可以与第一孔H1重叠。
像素限定膜119可以具有形成在贯穿部分OA中的第三孔H3。第三孔H3可以与第一孔H1和第二孔H2重叠。反电极223可以布置在限定第一孔H1、第二孔H2和第三孔H3的内侧壁上。在一些实施方式中，第一功能层222a、第二功能层222c和反电极223可以布置在限定第一孔H1、第二孔H2和第三孔H3的侧壁上。
由于形成第一孔H1、第二孔H2和第三孔H3，所以可以提高贯穿部分OA的透光率。
图17A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第一掩模500a的平面图。
第一掩模500a可以包括第一掩模主体部分501a、第一肋部分510a、第一肋连接器511a、第二肋连接器512a、第一掩模开口部分520a和第一遮蔽部分540a。在这种情况下，第一掩模主体部分501a、第一肋部分510a、第一肋连接器511a、第二肋连接器512a和第一掩模开口部分520a与图7A中的那些相同，并且因此将不给出其详细说明。
第一遮蔽部分540a可以在第一掩模500a上设置成对应于贯穿部分OA。第一遮蔽部分540a遮蔽沉积材料。此外，可以实施各种合适的实施方式，包括其中第一遮蔽部分540a具有矩形形状或圆形形状的情况。
图17B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模500a放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的一部分的平面图。
反电极223可以包括第一主反电极223a。在这种情况下，第一主反电极223a与图7B的第一主反电极223a相同，并且因此将不给出对其的详细说明。
图18A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第二掩模500b的平面图。
第二掩模500b可以包括第二掩模主体部分501b、第二肋部分510b、第三肋连接器511b、第四肋连接器512b、第二掩模开口部分520b和第二遮蔽部分540b。在这种情况下，第二掩模主体部分501b、第二肋部分510b、第三肋连接器511b、第四肋连接器512b和第二掩模开口部分520b与图8A中的那些相同，并且因此将不给出其详细说明。
第二遮蔽部分540b可以在第二掩模500b上设置成对应于贯穿部分OA。第二遮蔽部分540b遮蔽沉积材料。此外，可以进行各种适当的修改，包括其中第二遮蔽部分540b具有矩形形状或圆形形状的情况。
第二遮蔽部分540b可以连接到并支承在至少四个肋上。因此，第二掩模500b还可以包括第五肋连接器513b和第六肋连接器514b。由于第五肋连接器513b和第六肋连接器514b，第二遮蔽部分540b可以连接到第二掩模主体部分501b以横跨在x方向上。第五肋连接器513b和第六肋连接器514b可以与第二掩模主体部分501b的短边间隔开相同的距离。第五肋连接器513b和第六肋连接器514b可以将布置在相邻的第二肋部分510b之间的第二掩模开口部分520b划分。
因此，可以减小或防止连接到第二遮蔽部分540b的第三肋连接器511b或第四肋连接器512b的变形。此外，可以保持第二掩模500b的初始或基本初始形状。
图18B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模500b放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的平面图。
反电极223可以包括第一主反电极223a和第二主反电极223b。在这种情况下，第一主反电极223a和第二主反电极223b与图8B的那些相同或相似，并且因此将不给出其详细说明。
图19A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第一掩模500a的平面图。
第一掩模500a可以包括第一掩模主体部分501a、第一肋部分510a、第一肋连接器511a、第二肋连接器512a、第一掩模开口部分520a和第一遮蔽部分540a。在这种情况下，第一掩模主体部分501a、第一肋部分510a，第一肋连接器511a、第二肋连接器512a、第一掩模开口部分520a和第一遮蔽部分540a与图17A的那些相同或相似，并且因此将不给出其详细说明。
第一肋部分510a可以布置成在图19A的x方向上彼此间隔开。此外，第一掩模开口部分520a可以布置成在图19A的x方向上彼此间隔开。也就是说，每个第一掩模开口部分520a可以形成为平行于第一掩模主体部分501a的长边。
图19B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模500a放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的一部分的平面图。
第一主反电极223a与图17B中的第一主反电极223a相同，并且因此将不给出其详细说明。
第一主反电极223a可以布置成在图19B的x方向上彼此间隔开。
图20A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第二掩模500b的平面图。
参照图20A，第二掩模500b可以包括第二掩模主体部分501b、第二肋部分510b、第三肋连接器511b、第四肋连接器512b、第二掩模开口部分520b和第二遮蔽部分540b。然而，第二掩模主体部分501b、第二肋部分510b、第三肋连接器511b、第四肋连接器512b、第二掩模开口部分520b和第二遮蔽部分540b与图18A中的那些相同或类似，并且因此将不给出其详细说明。
第二肋部分510b可以布置成在图20A的x方向上彼此间隔开。此外，第二掩模开口部分520b可以布置成在图20A的x方向上彼此间隔开。也就是说，每个第二掩模开口部分520b可以形成为平行于第二掩模主体部分501b的长边。
由于第三肋连接器511b和第四肋连接器512b，第二遮蔽部分540b可以连接到第二掩模主体部分501b以横跨在y方向上。此外，第二掩模500b还可以包括第五肋连接器513b和第六肋连接器514b。由于第五肋连接器513b和第六肋连接器514b，第二遮蔽部分540b可以进一步连接到第二掩模主体部分501b以横跨在y方向上。
图20B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模500b放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的平面图。
参照图20B，第一主反电极223a和第二主反电极223b与图19B的那些相同或相似，并且因此将不给出其详细说明。
第一主反电极223a和第二主反电极223b可以布置成在图20B的x方向上彼此间隔开。
图21A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第一掩模500a的平面图。与图11A的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
参照图21A，第一遮蔽部分540a可以在第一掩模500a上设置成对应于贯穿部分OA。第一遮蔽部分540a遮蔽沉积材料。此外，可以进行各种适当的修改，包括其中第一遮蔽部分540a具有矩形形状或圆形形状的情况。
因此，可以减小或防止包括第一遮蔽部分540a的第一掩模500a的变形，并且可以保持第一掩模500a的初始或基本初始形状。
图21B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模500a放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的一部分的平面图。与图11B的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
参照图21B，第一主反电极223a可以邻近贯穿部分OA形成。此外，多个第一主反电极223a中的一些可以具有条纹形状。
图22A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第二掩模500b的平面图。与图12A的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
参照图22A，第二遮蔽部分540b可以连接到并支承在至少四个肋或肋连接器上。例如，由于第三肋连接器511b和第四肋连接器512b，第二遮蔽部分540b可以连接到第二掩模主体部分501b以横跨在x方向上。此外，由于第五肋连接器513b和第六肋连接器514b，第二遮蔽部分540b可以连接到第二掩模主体部分501b以横跨在x方向上。
第二遮蔽部分540b可以由第三肋连接器511b至第六肋连接器514b支承。因此，可以减小或防止连接到第二遮蔽部分540b的第三肋连接器511b至第六肋连接器514b中的至少一个的变形。此外，可以保持第二掩模500b的初始或基本初始形状。
图22B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模500b放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的平面图。与图12B的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
参考图22B，当在衬底100上对齐第二掩模500b时，第二主反电极223b中的一些可以形成为与相邻开口部分530b相对应。因为沉积材料穿过相邻开口部分530b并沉积在衬底100上，所以第二主反电极223b中的一些可以均匀地形成。因此，可以减少第一主反电极223a和第二主反电极223b彼此重叠的次数，并且因此反电极223的厚度可以大致上是均匀的。
图23A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第一掩模500a的平面图。与图21A的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
参照图23A，第一肋部分510a可布置成在图23A的x方向上与第三肋部分513a间隔开。此外，第一掩模开口部分520a可以布置成在图23A的x方向上彼此间隔开。也就是说，每个第一掩模开口部分520a可以形成为平行于第一掩模主体部分501a的长边。
图23B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第一掩模500a放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的一部分的平面图。
参照图23B，可以形成第一主反电极223a。第一主反电极223a与图21B中的第一主反电极223a相同或相似，并且因此将不给出其详细说明。
第一主反电极223a可以布置成在图23B的x方向上彼此间隔开。
图24A是示出根据本公开的另一实施方式的用于制造显示装置1的装置400的第二掩模500b的平面图。与图22A的构件相同的构件用相同的附图标记表示，并且为了简洁起见，将不给出其重复的说明。
参照图24A，第二肋部分510b可以布置成在图24A的x方向上彼此间隔开。此外，第二掩模开口部分520b可以布置成在图24A的x方向上彼此间隔开。也就是说，每个第二掩模开口部分520b可以形成为平行于第二掩模主体部分501b的长边。
图24B是示出在根据本公开的另一实施方式的制造方法中的通过将第二掩模500b放置在第二支承部分430上并且然后沉积沉积材料而在衬底100上形成的反电极223的平面图。
参照图24B，第一主反电极223a和第二主反电极223b与图22B的那些相同或相似，并且因此将不给出其详细说明。
第一主反电极223a和第二主反电极223b可以布置成在图24B的x方向上彼此间隔开。
基于根据本公开的一个或多个实施方式的制造显示装置的方法，可以制造包括像素部分和透射部分的显示装置，所述透射部分在与诸如传感器的部件对应的传感器区域中具有改善的透光率，并且因此，可以操作所述部件，并且可以在与所述部件重叠的区域中形成图像。
因此，可以提供一种制造具有各种合适的功能和改善的质量的显示装置的方法。然而，上述效果仅仅是示例，并且在整个说明书中更详细地描述了根据实施方式的效果。
应该理解，本文中描述的实施方式应该被认为仅仅是描述性的，而不是为了限制的目的。每个实施方式内的特征或方面的描述通常应被认为可用于其他实施方式中的其他类似特征或方面。虽然已经参考附图描述了一个或多个实施方式，但是本领域的普通技术人员将理解，在不脱离如由所附权利要求及其等同限定的精神和范围的情况下，可以在本文中进行形式和细节上的各种改变。

Claims (26)

1.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：
准备衬底，所述衬底包括显示区域和布置在所述显示区域中的传感器区域；
在所述衬底上形成具有第一图案的第一反电极，其中所述第一反电极在所述传感器区域中彼此间隔开；
在所述传感器区域中将第二反电极形成为彼此间隔开，所述第二反电极具有不同于所述第一图案的第二图案；以及
将部件布置成与所述传感器区域对应。
2.根据权利要求1所述的方法，其中：
所述第一反电极和所述第二反电极中的每一个在平面图中具有四边形形状。
3.根据权利要求2所述的方法，其中：
所述第一反电极和所述第二反电极的拐角部分彼此重叠。
4.根据权利要求1所述的方法，其中：
所述显示区域围绕所述传感器区域的至少一部分。
5.根据权利要求1所述的方法，还包括：
当在所述衬底上形成所述第一反电极时，在所述显示区域中形成彼此间隔开的多个第三反电极。
6.根据权利要求1所述的方法，还包括：
当在所述衬底上形成所述第二反电极时，在所述显示区域中形成彼此间隔开的多个第四反电极。
7.根据权利要求1所述的方法，还包括：
当在所述衬底上形成所述第一反电极时，在所述显示区域中形成彼此间隔开的多个第三反电极；以及
当在所述衬底上形成所述第二反电极时，在所述衬底上，在所述显示区域中形成彼此间隔开的多个第四反电极，
其中，所述多个第四反电极中的每一个布置在所述多个第三反电极中的相邻的第三反电极之间。
8.根据权利要求7所述的方法，其中：
所述第三反电极中的一个和所述第四反电极中的相应的一个在平面图中至少部分地彼此重叠。
9.根据权利要求5所述的方法，其中：
所述多个第三反电极形成为邻近所述传感器区域。
10.根据权利要求9所述的方法，其中：
所述多个第三反电极中的一些具有条纹形状。
11.根据权利要求1所述的方法，还包括：
当在所述衬底上形成所述第一反电极时，在所述显示区域中形成彼此间隔开的多个第三反电极，其中所述多个第三反电极中的一些具有条纹形状；以及
当在所述衬底上形成所述第二反电极时，在所述衬底上，在所述显示区域的一部分中形成彼此间隔开的多个第四反电极，
其中，所述多个第四反电极中的每一个布置在所述多个第三反电极中的相邻的第三反电极之间。
12.根据权利要求11所述的方法，其中：
所述第三反电极中的一个和所述第四反电极中的相应的一个在平面图中至少部分地彼此重叠。
13.根据权利要求11所述的方法，其中：
所述多个第三反电极形成为邻近所述传感器区域，
其中，所述显示区域中的所述第四反电极中的一个第四反电极的一侧部分的平面面积和所述第四反电极中的所述一个第四反电极的另一侧部分的平面面积彼此不同。
14.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：
在包括显示区域和传感器区域的衬底上形成反电极；
在所述反电极上形成封装部；以及
布置用于通过包括在所述传感器区域中的透射部分施加信号的部件，
其中，在包括所述显示区域和所述传感器区域的所述衬底上形成所述反电极包括：
通过使用在对应于所述传感器区域的第一遮蔽部分中具有多个第一开口部分的第一掩模在所述传感器区域中形成第一反电极，所述多个第一开口部分以第一图案布置；以及
通过使用在对应于所述传感器区域的第二遮蔽部分中具有多个第二开口部分的第二掩模形成第二反电极，所述多个第二开口部分以不同于所述第一图案的第二图案布置。
15.根据权利要求14所述的方法，其中：
所述多个第一开口部分和所述多个第二开口部分中的每一个在平面图中具有四边形形状。
16.根据权利要求14所述的方法，其中：
所述第一反电极和所述第二反电极彼此相邻并且至少部分地彼此重叠。
17.根据权利要求14所述的方法，其中：
所述第一掩模具有以第三图案彼此间隔开以在所述显示区域中形成第三反电极的多个第三开口部分，
其中，所述多个第三开口部分中的至少一个由所述第一遮蔽部分划分成两个侧部分。
18.根据权利要求17所述的方法，其中：
所述第一掩模具有长边和短边，
其中，所述多个第三开口部分形成为平行于所述第一掩模的所述长边或所述第一掩模的所述短边。
19.根据权利要求14所述的方法，其中：
所述第一掩模具有以第三图案彼此间隔开以在所述显示区域中形成多个第三反电极的多个第三开口部分，以及
所述第二掩模具有以第四图案彼此间隔开以在所述显示区域中形成第四反电极的多个第四开口部分，
其中，所述第四反电极布置在所述多个第三反电极中的相邻的第三反电极之间。
20.根据权利要求17所述的方法，其中：
所述多个第三开口部分中的每一个由所述第一遮蔽部分划分成两个部分。
21.根据权利要求14所述的方法，其中：
所述第二掩模具有彼此间隔开以在所述显示区域中形成第四反电极的多个第四开口部分，
其中，所述多个第四开口部分中的一个第四开口部分的面积不同于所述多个第四开口部分中的另一个第四开口部分的面积，
其中，所述第二掩模包括长边和短边，
其中，还在与所述第二掩模的所述长边或所述第二掩模的所述短边相邻的部分中设置用于形成第五反电极的相邻开口部分。
22.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：
在包括开口区域和围绕所述开口区域的显示区域的衬底上，通过使用第一掩模在所述显示区域中形成第一反电极；以及
通过使用第二掩模在所述显示区域中形成第二反电极；
其中，所述第一掩模和所述第二掩模中的每一个包括：
掩模主体部分，具有与所述显示区域相对应的开口部分；
遮蔽部分，在所述开口部分内布置成具有与所述开口区域相对应的形状，并且配置为遮蔽沉积材料；
第一肋，连接到所述遮蔽部分并且连接到所述掩模主体部分，以在第一方向上横跨所述开口部分；以及
第二肋，与所述第一肋间隔开，连接到所述遮蔽部分并且连接到所述掩模主体部分，以在所述第一方向上横跨所述开口部分。
23.根据权利要求22所述的方法，其中：
所述第一掩模的所述遮蔽部分还包括：
第三肋，连接到所述掩模主体部分以在所述第一方向上横跨所述开口部分；以及
第四肋，与所述第三肋间隔开，连接到所述遮蔽部分，并且连接到所述掩模主体部分，以在所述第一方向上横跨所述开口部分。
24.根据权利要求22所述的方法，其中：
所述第一掩模的所述遮蔽部分与所述掩模主体部分相邻。
25.根据权利要求22所述的方法，其中：
所述第一掩模的所述开口部分具有多个开口，
其中，所述多个开口中的一个开口的面积不同于所述多个开口中的另一个开口的面积。
26.根据权利要求22所述的方法，其中：
所述第二掩模的所述开口部分与所述掩模主体部分、所述第一肋和所述第二肋相邻。
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