CN111755624A - 显示面板和显示装置 - Google Patents

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CN111755624A
CN111755624A CN202010591377.4A CN202010591377A CN111755624A CN 111755624 A CN111755624 A CN 111755624A CN 202010591377 A CN202010591377 A CN 202010591377A CN 111755624 A CN111755624 A CN 111755624A
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CN
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disposed
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CN202010591377.4A
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陈建锋
张淑媛
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Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
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Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
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Abstract

本申请实施例提供一种显示面板和显示装置，该显示面板通过将阻挡层和缓冲层设置为氧化硅和氮化硅的叠层，并控制氧化硅和氮化硅的比例，从而使得显示面板的透水率降低，从而提高显示面板的阻隔水氧的能力，同时，通过在显示区设置第一过孔，在绑定区设置第二过孔，在第一过孔和第二过孔内填充第三柔性层，从而提高了显示面板的显示区和绑定区的弯折性能，避免显示区出现断裂，缓解了现有柔性显示器件存在阻隔水氧较差，且容易产生断裂的技术问题。

Description

显示面板和显示装置
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其是涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
现有显示器件为了实现柔性显示，例如为了实现可折叠显示会对显示面板进行改进，如图1所示，现有显示器件中，会在显示区设置挖孔，然后在挖孔内填充有机材料，但在实验中发现，如图1至图6所示，现有具有挖孔结构的显示器件和不具有挖孔结构的显示器件的透水率均处于10-3g/m2.day的水准，使得显示器件容易被水氧入侵，同时，在将显示母板切割形成显示面板时，会导致裂痕内延，导致显示面板出现断裂。
所以，现有柔性显示器件存在阻隔水氧较差，且容易产生断裂的技术问题。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板，用以缓解现有柔性显示器件存在阻隔水氧较差，且容易产生断裂的技术问题。
本申请实施例提供一种显示面板，该显示面板包括：
衬底，包括第一柔性层、阻挡层、第二柔性层，所述阻挡层设置于所述第一柔性层上，所述第二柔性层设置于所述阻挡层上；
缓冲层，设置于所述衬底上；
有源层，设置于所述缓冲层上；
第一栅极绝缘层，设置于所述有源层上；
第一金属层，设置于所述第一栅极绝缘层上；
第二栅极绝缘层，设置于所述第一金属层上；
第二金属层，设置于所述第二栅极绝缘层上；
层间绝缘层，设置于所述第二金属层上；
第三柔性层，设置于所述层间绝缘层上；
源漏极层，设置于所述第三柔性层上；
平坦化层，设置于所述第三柔性层上；
发光层，设置于所述平坦化层上；
其中，所述阻挡层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅和氮化硅的比例为第一预设值，所述缓冲层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅与所述氮化硅的比例为第二预设值；所述显示面板包括显示区和绑定区，所述显示面板在显示区形成有第一过孔，所述第一过孔贯穿有源层至层间绝缘层，所述显示面板在绑定区形成有第二过孔，所述第二过孔贯穿第一栅极绝缘层至层间绝缘层，所述第三柔性层填充至所述第一过孔和第二过孔。
在一些实施例中，所述第一预设值与所述第二预设值相等。
在一些实施例中，所述第二过孔包括阵列排布的子过孔，相邻两行子过孔交叉设置。
在一些实施例中，相邻列的子过孔之间的间距等于子过孔的宽度，且相邻列的子过孔之间的间距等于第二过孔与平坦化层的最小间距。
在一些实施例中，同一列的子过孔的间距大大于子过孔的宽度，且同一列的子过孔的间距为子过孔的长度的四分之一。
在一些实施例中，所述显示面板包括栅极驱动电路，所述第一过孔设置于所述栅极驱动电路两侧。
在一些实施例中，所述栅极驱动电路两侧设有电源线、复位信号线，所述第一过孔在对应电源线的区域阵列设置。
在一些实施例中，所述第一过孔的各个过孔之间的间距，等于所述第二过孔的各个过孔之间的间距。
在一些实施例中，所述第三柔性层的材料包括聚酰亚胺。
同时，本申请实施例提供一种显示装置，该显示装置包括显示面板和盖板，所述显示面板包括：
衬底，包括第一柔性层、阻挡层、第二柔性层，所述阻挡层设置于所述第一柔性层上，所述第二柔性层设置于所述阻挡层上；
缓冲层，设置于所述衬底上；
有源层，设置于所述缓冲层上；
第一栅极绝缘层，设置于所述有源层上；
第一金属层，设置于所述第一栅极绝缘层上；
第二栅极绝缘层，设置于所述第一金属层上；
第二金属层，设置于所述第二栅极绝缘层上；
层间绝缘层，设置于所述第二金属层上；
第三柔性层，设置于所述层间绝缘层上；
源漏极层，设置于所述第三柔性层上；
平坦化层，设置于所述第三柔性层上；
发光层，设置于所述平坦化层上；
其中，所述阻挡层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅和氮化硅的比例为第一预设值，所述缓冲层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅与所述氮化硅的比例为第二预设值；所述显示面板包括显示区和绑定区，所述显示面板在显示区形成有第一过孔，所述第一过孔贯穿有源层至层间绝缘层，所述显示面板在绑定区形成有第二过孔，所述第二过孔贯穿第一栅极绝缘层至层间绝缘层，所述第三柔性层填充至所述第一过孔和第二过孔。
有益效果：本申请实施例提供一种显示面板和显示装置，该显示面板包括衬底、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、第一金属层、第二栅极绝缘层、第二金属层、层间绝缘层、平坦化层、发光层，所述衬底包括第一柔性层、阻挡层、第二柔性层、所述阻挡层设置于所述第一柔性层上，所述第二柔性层设置于所述阻挡层上，所述缓冲层设置于所述衬底上，所述有源层设置于所述缓冲层上，所述第一栅极绝缘层设置于所述有源层上，所述第一金属层设置于所述第一栅极绝缘层上，所述第二栅极绝缘层设置于所述第一金属层上，所述第二金属层设置于所述第二栅极绝缘层上，所述层间绝缘层设置于所述第二金属层上，所述第三柔性层设置于所述层间绝缘层上，所述源漏极层设置于所述第三柔性层上，所述平坦化层设置于所述第三柔性层上，所述发光层设置于所述平坦化层上，其中，所述阻挡层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅和氮化硅的比例为预设值，所述缓冲层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅与所述氮化硅的比例为预设值；所述显示面板包括显示区和绑定区，所述显示面板在显示区形成有第一过孔，所述第一过孔贯穿有源层至层间绝缘层，所述显示面板在绑定区形成有第二过孔，所述第二过孔贯穿第一栅极绝缘层至层间绝缘层，所述第三柔性层填充至所述第一过孔和第二过孔；通过将阻挡层和缓冲层设置为氧化硅和氮化硅的叠层，并控制氧化硅和氮化硅的比例，从而使得显示面板的透水率降低，从而提高显示面板的阻隔水氧的能力，同时，通过在显示区设置第一过孔，在绑定区设置第二过孔，在第一过孔和第二过孔内填充第三柔性层，从而提高了显示面板的显示区和绑定区的弯折性能，避免显示区出现断裂，缓解了现有柔性显示器件存在阻隔水氧较差，且容易产生断裂的技术问题。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为现有技术中第一种显示面板的示意图。
图2为现有技术中第二种显示面板的示意图。
图3为现有技术中第一种显示面板的透水率的第一示意图。
图4为现有技术中第一种显示面板的透水率的第二示意图。
图5为现有技术中第二种显示面板的透水率的第一示意图。
图6为现有技术中第二种显示面板的透水率的第二示意图。
图7为现有显示面板出现断裂的示意图。
图8为本申请实施例提供的显示面板的第一示意图。
图9为本申请实施例提供的显示面板弯折前的透水率的示意图。
图10为本申请实施例提供的显示面板弯折后的透水率的示意图。
图11为本申请实施例提供的显示面板的第二示意图。
图12为本申请实施例提供的显示面板的第三示意图。
图13为本申请实施例提供的显示面板的第四示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
如图1所示，现有技术中，具有挖孔结构的显示面板包括衬底11、缓冲层12、无机层13、有源层141、第一栅极绝缘层142、第一金属层143、第二栅极绝缘层144、第二金属层145、层间绝缘层146、有机层15、源漏极层147、平坦化层148、像素电极层16、像素定义层17，如图2所示，不具有挖孔结构的显示面板包括衬底21、缓冲层22、无机层23、有源层241、第一栅极绝缘层242、第一金属层243、第二栅极绝缘层244、第二金属层245、层间绝缘层246、源漏极层247、平坦化层248、像素电极层26、像素定义层27，在随机选择两片具有挖孔结构的显示面板和两片不具有挖孔结构的显示面板，对其透水率进行测试，在弯折10万次左右，如图3至图6，横坐标为Time(时间)，单位为小时，纵坐标为WVTR(透水率)，单位为10-3g/m2.day，即10-3克/平方米.天，其中，图3、图4为具有挖孔结构的显示面板的折线图，图5、图6为不具有挖孔结构的显示面板的折线图，图3中透水率的平均值WVTR为0.76*10-3g/m2.day，图4中透水率的平均值WVTR为0.96*10-3g/m2.day，图5中的透水率的平均值WVTR为0.4*10-3g/m2.day，图6中透水率的平均值WVTR为1.3*10-3g/m2.day，从实验中可以看到，现有技术中，具有挖孔结构和不具有挖孔结构的显示面板的透水率均处于10-3g/m2.day的数量级，导致水氧容易入侵，显示面板的阻隔水氧较差，同时，如图7所示，在对外弯折半径为5微米的显示面板进行弯折20万次后，显示面板3在弯折区311容易出现断裂，形成裂纹313，且弯折区311的裂纹会延伸至显示区312，导致显示面板功能失效，所以，现有柔性显示器件存在阻隔水氧较差，且容易产生断裂的技术问题。
如图8所示，本申请实施例提供一种显示面板，该显示面板包括：
衬底41，包括第一柔性层411、阻挡层412、第二柔性层413，所述阻挡层412设置于所述第一柔性层411上，所述第二柔性层413设置于所述阻挡层412上；
缓冲层42，设置于所述衬底41上；
有源层441，设置于所述缓冲层42上；
第一栅极绝缘层442，设置于所述有源层441上；
第一金属层443，设置于所述第一栅极绝缘层442上；
第二栅极绝缘层444，设置于所述第一金属层443上；
第二金属层445，设置于所述第二栅极绝缘层444上；
层间绝缘层446，设置于所述第二金属层445上；
第三柔性层45，设置于所述层间绝缘层446上；
源漏极层447，设置于所述第三柔性层45上；
平坦化层448，设置于所述第三柔性层45上；
发光层46，设置于所述平坦化层448上；
其中，所述阻挡层412的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅和氮化硅的比例为第一预设值，所述缓冲层42的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅与所述氮化硅的比例为第二预设值；所述显示面板包括显示区471和绑定区472，所述显示面板在显示区471形成有第一过孔481，所述第一过孔481贯穿有源层441至层间绝缘层446，所述显示面板在绑定区472形成有第二过孔482，所述第二过孔482贯穿第一栅极绝缘层442至层间绝缘层446，所述第三柔性层45填充至所述第一过孔481和第二过孔482。
本申请实施例提供一种显示面板，该显示面板包括衬底、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、第一金属层、第二栅极绝缘层、第二金属层、层间绝缘层、平坦化层、发光层，所述衬底包括第一柔性层、阻挡层、第二柔性层、所述阻挡层设置于所述第一柔性层上，所述第二柔性层设置于所述阻挡层上，所述缓冲层设置于所述衬底上，所述有源层设置于所述缓冲层上，所述第一栅极绝缘层设置于所述有源层上，所述第一金属层设置于所述第一栅极绝缘层上，所述第二栅极绝缘层设置于所述第一金属层上，所述第二金属层设置于所述第二栅极绝缘层上，所述层间绝缘层设置于所述第二金属层上，所述第三柔性层设置于所述层间绝缘层上，所述源漏极层设置于所述第三柔性层上，所述平坦化层设置于所述第三柔性层上，所述发光层设置于所述平坦化层上，其中，所述阻挡层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅和氮化硅的比例为预设值，所述缓冲层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅与所述氮化硅的比例为预设值；所述显示面板包括显示区和绑定区，所述显示面板在显示区形成有第一过孔，所述第一过孔贯穿有源层至层间绝缘层，所述显示面板在绑定区形成有第二过孔，所述第二过孔贯穿第一栅极绝缘层至层间绝缘层，所述第三柔性层填充至所述第一过孔和第二过孔；通过将阻挡层和缓冲层设置为氧化硅和氮化硅的叠层，并控制氧化硅和氮化硅的比例，从而使得显示面板的透水率降低，从而提高显示面板的阻隔水氧的能力，同时，通过在显示区设置第一过孔，在绑定区设置第二过孔，在第一过孔和第二过孔内填充第三柔性层，从而提高了显示面板的显示区和绑定区的弯折性能，避免显示区出现断裂，缓解了现有柔性显示器件存在阻隔水氧较差，且容易产生断裂的技术问题。
在一种实施例中，如图4所示，所述有源层441还包括无机层43，所述无机层包括氮化硅层和氧化硅层。
在一种实施例中，如图4所示，所述发光层46包括像素电极层461、像素定义层462、发光材料层463和公共电极层464。
在对显示面板的透水率进行改善的过程中，通过对阻挡层和缓冲层的材料和材料的比例进行改进，数据如下表一：
Figure BDA0002555669280000081
Figure BDA0002555669280000091
表一
其中，上表一中的SiO2，5000埃指采用氧化硅制备阻挡层和缓冲层，厚度为5000埃，上表中的SiO2/SiN，2000/3000A指阻挡层和缓冲层采用氧化硅和氮化硅的叠层设置，且厚度控制为氧化硅的厚度为2000埃，氮化硅的厚度为3000埃，在采用上表一中的缓冲层和阻挡层制备7.2寸的显示产品时，第5项和第6项的弯折前后的透水率与时间的折线图如图9、图10所示，在弯折前，显示面板的透水率如图9所示，显示面板的透水率WVTR的平均值为1.0*10-4g/m2.day，在内弯折半径为3微米的显示面板弯折10万次后，显示面板的透水率WVTR的平均值为3.27*10-4g/m2.day，从上述数据可以看出，显示面板的透水率从10-3g/m2.day的数量级变为10-4g/m2.day，显示面板的透水率降低，表示显示面板的阻隔水氧的能力提升，即采用氧化硅和氮化硅的叠层形成阻挡层和缓冲层，并具体控制氧化硅和氮化硅的比例，提高了显示面板的阻隔水氧的能力。
在一种实施例中，所述第一预设值与所述第二预设值相等，由上述测试数据可知，在阻挡层和缓冲层的氧化硅与氮化硅的比例相同时，显示面板的阻隔水氧的能力得到较大的提升。
在一种实施例中，所述第一预设值为三分之二，即采用氧化硅与氮化硅为二比三的比例，可以较大的提升显示面板阻隔水氧的能力。
如图11、12所示，本申请实施例提供一种显示面板，该显示面板5包括显示区471、非显示区51、在非显示区51内有绑定区472，通过在绑定区472内设置过孔53，并在过孔内分别设置不同膜层，方案一为在过孔内设置第三柔性层，方案二为在过孔内填充第一金属层和第二金属层，方案三为在过孔内填充第一金属层、第二金属层和第三柔性层，方案四为在右侧过孔内填充金属层、在左侧过孔内填充第三柔性层，方案五为在将过孔连接成槽，在槽内填充金属层和第三柔性层，方案六为在左侧过孔内填充金属层、在右侧过孔内填充第三柔性层，经过测试，可以知道在采用方案一的结构时，在内弯折半径为3微米的显示面板中，从弯折0次到弯折20万次，显示面板均无断裂现象，在外弯折半径为5微米的显示面板中，从弯折0次到弯折20万次，显示面板均无断裂现象，在采用方案一的结构时，在内弯折半径为3微米的显示面板中，从弯折0次到弯折20万次，显示面板均无断裂现象，在外弯折半径为5微米的显示面板中，从弯折0次到弯折10万次，显示面板无断裂现象，但从弯折10万次至20万次，显示面板出现断裂，在采用现有技术时，在内弯折半径为3微米的显示面板中，从弯折0次到弯折10万次，显示面板无断裂现象，但从弯折10万次至20万次，显示面板出现断裂，在外弯折半径为5微米的显示面板中，从弯折0次到弯折10万次，显示面板无断裂现象，但从弯折10万次至20万次，显示面板出现断裂，即采用方案一的结构，可以提高显示面板的弯折性能，在内弯折半径为3微米、外弯折半径为5微米的显示面板中，弯折20万次均无断裂现象产生。
在一种实施例中，如图13所示，本申请实施例提供一种显示面板，图13为显示面板的俯视图与正视图的对应图，显示面板包括复位信号线611、GOA(Gate On Array，栅极驱动电路)电路612、电源线613、低点位电源端614、第一封装层615和第二封装层616。
需要说明的是，在图13中，在第一过孔481和第二过孔482对应的区域，填充有第三柔性层，即第一过孔和第二过孔对应的区域也是第三柔性层，图13中未示出。
在一种实施例中，如图13所示，所述第二过孔482包括阵列排布的子过孔，相邻两行子过孔交叉设置，通过将子过孔交叉设置，使得在保证膜层较为完整时，能够使每一行至少有一个过孔，从而使得显示面板的弯折区域的每一行均有过孔，提高显示面板的弯折性能。
在一种实施例中，如图13所示，相邻列的子过孔之间的间距L1等于子过孔的宽度L1，且相邻列的子过孔之间的间距L1等于第二过孔482与平坦化层448的最小间距L1，控制相邻列的子过孔的间距，且使得第二过孔与平坦化层具有一定的距离，从而避免影响显示面板的封装性，且第二过孔的数量不会过多，从而使工艺较为简单，且显示面板的膜层的完整性较好，避免膜层受到较大的损失，出现断裂或者无法绝缘、无法阻隔水氧等问题。
在一种实施例中，如图13所示，同一列的子过孔的间距L3大大于子过孔的宽度L1，且同一列的子过孔的间距L3为子过孔的长度L2的四分之一，使得第二过孔的长度较大，第二过孔的间距较小，增大第二过孔的数量，在第二过孔内填充第三柔性层，使得显示面板的柔性增大，从而提高显示面板的弯折性能。
在一种实施例中，如图13所示，所述显示面板包括栅极驱动电路612，所述第一过孔481设置于所述栅极驱动电路612两侧，在显示区内，在不影响栅极驱动电路的工作，在各个走线之间的绝缘层上形成过孔，然后在过孔内填充第三柔性层，使得显示面板在显示区和绑定区的柔性增加，提高显示面板的弯折性能。
在一种实施例中，所述栅极驱动电路两侧设有电源线、复位信号线，所述第一过孔在对应电源线的区域阵列设置，在栅极驱动电路两侧设有各个走线，在走线之间的绝缘层上形成第一过孔，在第一过孔内填充第三柔性层，从而提高了显示区的弯折性能，在可折叠显示面板中，可以增加可折叠显示面板的弯折性能，提高可折叠显示面板的弯折寿命。
在一种实施例中，所述第一过孔的各个过孔之间的间距，等于所述第二过孔的各个过孔之间的间距，即在设置第一过孔时，可以将第一过孔与第二过孔设置为相同，从而进一步提高显示区的弯折性能。
在一种实施例中，所述第一柔性层的材料包括聚酰亚胺，所述第一柔性层的厚度为10微米。
在一种实施例中，所述第二柔性层的材料包括聚酰亚胺，所述第二柔性层的厚度为10微米。
在一种实施例中，所述无机层包括氮化硅层和氧化硅层，所述氮化硅层的厚度为50纳米，所述氧化硅层的厚度为300纳米。
在一种实施例中，所述有源层的材料包括多晶硅，所述多晶硅的厚度为50纳米。
在一种实施例中，所述第一栅极绝缘层的材料包括氧化硅，所述第一栅极绝缘层的厚度为130纳米。
在一种实施例中，所述第一金属层的材料包括钼，所述第一金属层的厚度为300纳米。
在一种实施例中，所述第二栅极绝缘层的材料包括氮化硅，所述第二栅极绝缘层的厚度为120纳米。
在一种实施例中，所述第二金属层的材料包括钼，所述第二金属层的厚度为200纳米。
在一种实施例中，所述层间绝缘层包括第一层间绝缘层和第二层间绝缘层，所述第一层间绝缘层的材料包括氧化硅，所述第一层间绝缘层的厚度为300纳米，所述第二层间绝缘层的材料包括氮化硅，所述第二层间绝缘层的厚度为200纳米。
在一种实施例中，所述第三柔性层的材料包括聚酰亚胺，所述第三柔性层的厚度为1,5微米。
在一种实施例中，所述源漏极层的材料包括钛/铝/钛叠层，所述源漏极层的厚度依次为80/600/50纳米。
在一种实施例中，所述平坦化层的材料包括聚酰亚胺，所述平坦化层的厚度为1.5微米。
在一种实施例中，所述像素电极层的材料包括氧化铟锡/银/氧化铟锡，所述像素电极层的材料依次为15/110/15纳米。
在一种实施例中，所述像素定义层的材料包括聚酰亚胺，所述像素定义层的厚度包括2.6微米。
在一种实施例中，本申请实施例提供一种显示装置，该显示装置包括显示面板和盖板，所述显示面板包括：
衬底，包括第一柔性层、阻挡层、第二柔性层，所述阻挡层设置于所述第一柔性层上，所述第二柔性层设置于所述阻挡层上；
缓冲层，设置于所述衬底上；
有源层，设置于所述缓冲层上；
第一栅极绝缘层，设置于所述有源层上；
第一金属层，设置于所述第一栅极绝缘层上；
第二栅极绝缘层，设置于所述第一金属层上；
第二金属层，设置于所述第二栅极绝缘层上；
层间绝缘层，设置于所述第二金属层上；
第三柔性层，设置于所述层间绝缘层上；
源漏极层，设置于所述第三柔性层上；
平坦化层，设置于所述第三柔性层上；
发光层，设置于所述平坦化层上；
其中，所述阻挡层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅和氮化硅的比例为第一预设值，所述缓冲层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅与所述氮化硅的比例为第二预设值；所述显示面板包括显示区和绑定区，所述显示面板在显示区形成有第一过孔，所述第一过孔贯穿有源层至层间绝缘层，所述显示面板在绑定区形成有第二过孔，所述第二过孔贯穿第一栅极绝缘层至层间绝缘层，所述第三柔性层填充至所述第一过孔和第二过孔。
根据以上实施例可知：
本申请实施例提供一种显示面板和显示装置，该显示面板包括衬底、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、第一金属层、第二栅极绝缘层、第二金属层、层间绝缘层、平坦化层、发光层，所述衬底包括第一柔性层、阻挡层、第二柔性层、所述阻挡层设置于所述第一柔性层上，所述第二柔性层设置于所述阻挡层上，所述缓冲层设置于所述衬底上，所述有源层设置于所述缓冲层上，所述第一栅极绝缘层设置于所述有源层上，所述第一金属层设置于所述第一栅极绝缘层上，所述第二栅极绝缘层设置于所述第一金属层上，所述第二金属层设置于所述第二栅极绝缘层上，所述层间绝缘层设置于所述第二金属层上，所述第三柔性层设置于所述层间绝缘层上，所述源漏极层设置于所述第三柔性层上，所述平坦化层设置于所述第三柔性层上，所述发光层设置于所述平坦化层上，其中，所述阻挡层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅和氮化硅的比例为预设值，所述缓冲层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅与所述氮化硅的比例为预设值；所述显示面板包括显示区和绑定区，所述显示面板在显示区形成有第一过孔，所述第一过孔贯穿有源层至层间绝缘层，所述显示面板在绑定区形成有第二过孔，所述第二过孔贯穿第一栅极绝缘层至层间绝缘层，所述第三柔性层填充至所述第一过孔和第二过孔；通过将阻挡层和缓冲层设置为氧化硅和氮化硅的叠层，并控制氧化硅和氮化硅的比例，从而使得显示面板的透水率降低，从而提高显示面板的阻隔水氧的能力，同时，通过在显示区设置第一过孔，在绑定区设置第二过孔，在第一过孔和第二过孔内填充第三柔性层，从而提高了显示面板的显示区和绑定区的弯折性能，避免显示区出现断裂，缓解了现有柔性显示器件存在阻隔水氧较差，且容易产生断裂的技术问题。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板和显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
衬底，包括第一柔性层、阻挡层、第二柔性层，所述阻挡层设置于所述第一柔性层上，所述第二柔性层设置于所述阻挡层上；
缓冲层，设置于所述衬底上；
有源层，设置于所述缓冲层上；
第一栅极绝缘层，设置于所述有源层上；
第一金属层，设置于所述第一栅极绝缘层上；
第二栅极绝缘层，设置于所述第一金属层上；
第二金属层，设置于所述第二栅极绝缘层上；
层间绝缘层，设置于所述第二金属层上；
第三柔性层，设置于所述层间绝缘层上；
源漏极层，设置于所述第三柔性层上；
平坦化层，设置于所述第三柔性层上；
发光层，设置于所述平坦化层上；
其中，所述阻挡层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅和氮化硅的比例为第一预设值，所述缓冲层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅与所述氮化硅的比例为第二预设值；所述显示面板包括显示区和绑定区，所述显示面板在显示区形成有第一过孔，所述第一过孔贯穿有源层至层间绝缘层，所述显示面板在绑定区形成有第二过孔，所述第二过孔贯穿第一栅极绝缘层至层间绝缘层，所述第三柔性层填充至所述第一过孔和第二过孔。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一预设值与所述第二预设值相等。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二过孔包括阵列排布的子过孔，相邻两行子过孔交叉设置。
4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，相邻列的子过孔之间的间距等于子过孔的宽度，且相邻列的子过孔之间的间距等于第二过孔与平坦化层的最小间距。
5.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，同一列的子过孔的间距大大于子过孔的宽度，且同一列的子过孔的间距为子过孔的长度的四分之一。
6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括栅极驱动电路，所述第一过孔设置于所述栅极驱动电路两侧。
7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述栅极驱动电路两侧设有电源线、复位信号线，所述第一过孔在对应电源线的区域阵列设置。
8.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一过孔的各个过孔之间的间距，等于所述第二过孔的各个过孔之间的间距。
9.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第三柔性层的材料包括聚酰亚胺。
10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括显示面板和盖板，所述显示面板包括：
衬底，包括第一柔性层、阻挡层、第二柔性层，所述阻挡层设置于所述第一柔性层上，所述第二柔性层设置于所述阻挡层上；
缓冲层，设置于所述衬底上；
有源层，设置于所述缓冲层上；
第一栅极绝缘层，设置于所述有源层上；
第一金属层，设置于所述第一栅极绝缘层上；
第二栅极绝缘层，设置于所述第一金属层上；
第二金属层，设置于所述第二栅极绝缘层上；
层间绝缘层，设置于所述第二金属层上；
第三柔性层，设置于所述层间绝缘层上；
源漏极层，设置于所述第三柔性层上；
平坦化层，设置于所述第三柔性层上；
发光层，设置于所述平坦化层上；
其中，所述阻挡层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅和氮化硅的比例为第一预设值，所述缓冲层的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅与所述氮化硅的比例为第二预设值；所述显示面板包括显示区和绑定区，所述显示面板在显示区形成有第一过孔，所述第一过孔贯穿有源层至层间绝缘层，所述显示面板在绑定区形成有第二过孔，所述第二过孔贯穿第一栅极绝缘层至层间绝缘层，所述第三柔性层填充至所述第一过孔和第二过孔。
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