CN111690900A - 一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层及其制备方法 - Google Patents

一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111690900A
CN111690900A CN202010713456.8A CN202010713456A CN111690900A CN 111690900 A CN111690900 A CN 111690900A CN 202010713456 A CN202010713456 A CN 202010713456A CN 111690900 A CN111690900 A CN 111690900A
Authority
CN
China
Prior art keywords
tialsin
layer
targets
arc current
depositing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202010713456.8A
Other languages
English (en)
Inventor
兰睿
卢国英
石昌仑
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Changzhou Kuake Coating Technology Co ltd
Original Assignee
Changzhou Kuake Coating Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Changzhou Kuake Coating Technology Co ltd filed Critical Changzhou Kuake Coating Technology Co ltd
Priority to CN202010713456.8A priority Critical patent/CN111690900A/zh
Publication of CN111690900A publication Critical patent/CN111690900A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325—Electric arc evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
    • C23C14/025—Metallic sublayers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层，包括基体，基体的顶部附着有Cr打底层，Cr打底层的顶部附着有成分梯度变化的TiAlSiN层,TiAlSiN梯度层的顶部附着有TiSiN层,TiSiN层的顶部附着有成分与下层梯度层的TiAlSiN梯度层呈镜面对称变化的TiAlSiN层。本发明具有增加涂层与基体的结合力、减少表面摩擦系数和增加刀具的使用寿命的优点。

Description

一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层及其制备方法
技术领域
本发明涉及硬质镀膜领域，特别涉及一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层及其制备方法。
背景技术
TiAlSiN涂层是一种硬度高，耐磨性好，抗高温氧化性好的硬质合金涂层，广泛应用于切削刀具和机械零件的表面改性。在涂层过程中，TiAlSiN涂层是通过TiSiN和AlTiN的共同沉积而制备的。其中TiSiN具有更高的硬度，而AlTiN具有更低的摩擦系数。高的涂层硬度有利于刀具加工过程，但是也导致了基体和涂层之间的界面具有很大的应力集中，容易造成膜基结合失效，而低的摩擦系数有利于刀具加工过程中的排屑过程，能极大的提高刀具使用寿命。
发明内容
本发明的目的是提供一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层及其制备方法，具有增加涂层与基体的结合力、减少表面摩擦系数和增加刀具的使用寿命的优点。
本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层，包括基体，所述基体的顶部附着有Cr打底层，所述Cr打底层的顶部附着有成分梯度变化的TiAlSiN层,所述TiAlSiN梯度层的顶部附着有TiSiN层,所述TiSiN层的顶部附着有成分与下层梯度层的TiAlSiN梯度层呈镜面对称变化的TiAlSiN层。
包括以下步骤,
步骤1、在基体上表面采用电弧离子镀沉积Cr打底层；
步骤2、在Cr打底层上通过改变弧电流沉积梯度TiAlSiN层；
步骤3、在TiAlSiN梯度层上沉积TiSiN层；
步骤4、在TiSiN层上沉积成分与下层梯度层的TiAlSiN梯度层呈镜面对称变化的TiAlSiN层。
其中优选方案如下：
优选的：具体包括以下操作步骤,
1)将基体材料设置在真空室中的旋转支架上，将真空室抽真空至基本压力1.0×10-3Pa以下，加热至500-700℃，然后，用纯度为至少99.99％Ar将真空室的腔体填充至1.0×10-1-1.0Pa，启动Ar离子辉光放电，对基体材料的表面进行等离子体蚀刻30-40分钟,然后点燃若干个Cr靶进行2-5分钟Cr打底层沉积；
2)沉积梯度层，首先关闭Cr靶，通入400-600ccm的N2气，同时点燃若干个TiSi靶和若干个AlTi靶，调整TiSi靶弧电流为40-70A，AlTi靶弧电流为110-140A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟，然后调整TiSi靶弧电流为60-80A，保持AlTi靶弧电流为110-140A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟，然后调整TiSi靶弧电流为80-100A，AlTi靶弧电流为80-100A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟，继续调整TiSi靶弧电流为110-140A，AlTi靶弧电流为40-70A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟；
3)沉积TiSiN层，保持TiSi靶弧电流不变，关闭若干个AlTi靶，沉积TiSiN涂层10-20分钟；
4)沉积对称梯度层，同时点燃若干个TiSi靶和若干个AlTi靶，调整TiSi靶弧电流为110-140A，AlTi靶弧电流为40-70A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟；然后调整TiSi靶弧电流为80-100A，AlTi靶弧电流为80-100A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟；然后调整TiSi靶弧电流为60-80A，保持AlTi靶弧电流为110-140A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟；调整TiSi靶弧电流为40-70A，AlTi靶弧电流为110-140A，继续沉积TiAlSiN涂层8-12分钟。
优选的：所述2)、3)和4)中使用的合金靶为若干个纯Cr靶、若干个TiSi靶，若干个AlTi靶，所述TiSi靶中Ti：Si的原子百分含量的比例是70-90at％：10-30at％；AlTi靶中Al：Ti的原子百分含量的比例是60-80at％：20-40at％。
综合TiSiN、AlTiN两种成分的特点，设计一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层及其制备工艺，通过梯度的改变沉积弧电流，使其接近基体处的膜层残余应力较小，中间主体膜层硬度较高，而接近表面的膜层摩擦系数较小。通过合理设计，既减小了涂层和基底之间的硬度差异和应力，提高膜基结合力，又可以维持TiAlSiN涂层自身的优点，同时有利于刀具加工过程的排屑，提高刀具使用寿命。
综上所述，本发明具有增加涂层与基体的结合力、减少表面摩擦系数和增加刀具的使用寿命的优点。
附图说明
图1为本发明一种实施例的层结构原理示意图；
图2为本发明的多层膜层结合力图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明作进一步详细说明。
其中相同的零部件用相同的附图标记表示。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“底面”和“顶面”、“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。
如图1所示，一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层及其制备方法，包括基体，基体的顶部附着有Cr打底层，Cr打底层的顶部附着有成分梯度变化的TiAlSiN层,TiAlSiN梯度层的顶部附着有TiSiN层,TiSiN层的顶部附着有成分与下层梯度层的TiAlSiN梯度层呈镜面对称变化的TiAlSiN层，该TiAlSiN梯度层中各元素的原子百分比含量变化范围为,Ti:25-45at％，Al:10-25at％，Si:2-8at％，根据沉积弧电流不同，成分相应变化。
TiAlSiN对称多梯度硬质涂层，包括以下步骤,
步骤1、在基体上表面采用电弧离子镀沉积Cr打底层，即为了增加TiAlSiN层与基体表面的结合力；
步骤2、在Cr打底层上通过改变弧电流沉积梯度TiAlSiN层，为了提高涂层和基体的结合力并逐步增加硬度；
步骤3、在TiAlSiN梯度层上沉积TiSiN层，为了再次增加硬度；
步骤4、在TiSiN层上沉积成分与下层梯度层的TiAlSiN梯度层呈镜面对称变化的TiAlSiN层，即为了减少摩擦系数。
其中，基体材料为硬质合金。
根据不同的时间和不同的弧电流做出如下实施例：
实施例一：
1)将基体材料设置在真空室中的旋转支架上，将真空室抽真空至基本压力1.0×10-3Pa以下，加热至500℃，然后，用纯度至少为99.99％Ar将真空室的腔体填充至1.0×10-1-1.0Pa，启动Ar离子辉光放电，对基体材料的表面进行等离子体蚀刻30分钟，然后点燃4个Cr靶进行2分钟Cr打底层沉积；
2)沉积梯度层，首先关闭Cr靶，通入400ccm的N2气，同时点燃4个TiSi靶和4个AlTi靶，调整TiSi靶弧电流为50A，AlTi靶弧电流为120A，沉积TiAlSiN涂层10分钟，然后调整TiSi靶弧电流为70A，保持AlTi靶弧电流为120A，沉积TiAlSiN涂层10分钟，然后调整TiSi靶弧电流为90A，AlTi靶弧电流为90A，沉积TiAlSiN涂层10分钟，继续调整TiSi靶弧电流为120A，AlTi靶弧电流为50A，沉积TiAlSiN涂层10分钟；
3)沉积TiSiN层，保持TiSi靶弧电流不变，关闭4个AlTi靶，沉积TiSiN涂层10分钟。
4)沉积对称梯度层，同时点燃4个TiSi靶和4个AlTi靶，调整TiSi靶弧电流为120A，AlTi靶弧电流为50A，沉积TiAlSiN涂层10分钟；然后调整TiSi靶弧电流为90A，AlTi靶弧电流为90A，沉积TiAlSiN涂层10分钟；然后调整TiSi靶弧电流为70A，保持AlTi靶弧电流为120A，沉积TiAlSiN涂层10分钟；调整TiSi靶弧电流为50A，AlTi靶弧电流为120A，继续沉积TiAlSiN涂层10分钟。
实施例二：
1)将基体材料设置在真空室中的旋转支架上，将真空室抽真空至基本压力1.0×10-3Pa以下，加热至600℃，然后，用纯度至少为99.99％Ar将真空室的腔体填充至1.0×10-1-1.0Pa，启动Ar离子辉光放电，对基体材料的表面进行等离子体蚀刻40分钟，然后点燃4个Cr靶进行5分钟Cr打底层沉积；
2)沉积梯度层，首先关闭Cr靶，通入500ccm的N2气，同时点燃4个TiSi靶和4个AlTi靶，调整TiSi靶弧电流为60A，AlTi靶弧电流为140A，沉积TiAlSiN涂层12分钟，然后调整TiSi靶弧电流为80A，保持AlTi靶弧电流为140A，沉积TiAlSiN涂层12分钟，然后调整TiSi靶弧电流为100A，AlTi靶弧电流为100A，沉积TiAlSiN涂层12分钟，继续调整TiSi靶弧电流为140A，AlTi靶弧电流为60A，沉积TiAlSiN涂层12分钟；
3)沉积TiSiN层，保持TiSi靶弧电流不变，关闭4个AlTi靶，沉积TiSiN涂层20分钟。
4)沉积对称梯度层，同时点燃4个TiSi靶和4个AlTi靶，调整TiSi靶弧电流为140A，AlTi靶弧电流为60A，沉积TiAlSiN涂层12分钟；然后调整TiSi靶弧电流为100A，AlTi靶弧电流为100A，沉积TiAlSiN涂层12分钟；然后调整TiSi靶弧电流为80A，保持AlTi靶弧电流为140A，沉积TiAlSiN涂层12分钟；调整TiSi靶弧电流为50A，AlTi靶弧电流为140A，继续沉积TiAlSiN涂层12分钟。
实施例三：
1)将基体材料设置在真空室中的旋转支架上，将真空室抽真空至基本压力1.0×10-3Pa以下，加热至700℃，然后，用纯度至少为99.99％Ar将真空室的腔体填充至1.0×10-1-1.0Pa，启动Ar离子辉光放电，对基体材料的表面进行等离子体蚀刻30分钟，然后点燃4个Cr靶进行2分钟Cr打底层沉积；
2)沉积梯度层，首先关闭Cr靶，通入600ccm的N2气，同时点燃4个TiSi靶和4个AlTi靶，调整TiSi靶弧电流为40A，AlTi靶弧电流为110A，沉积TiAlSiN涂层8分钟，然后调整TiSi靶弧电流为60A，保持AlTi靶弧电流为110A，沉积TiAlSiN涂层8分钟，然后调整TiSi靶弧电流为80A，AlTi靶弧电流为80A，沉积TiAlSiN涂层8分钟，继续调整TiSi靶弧电流为110A，AlTi靶弧电流为40A，沉积TiAlSiN涂层8分钟；
3)沉积TiSiN层，保持TiSi靶弧电流不变，关闭4个AlTi靶，沉积TiSiN涂层10分钟。
4)沉积对称梯度层，同时点燃4个TiSi靶和4个AlTi靶，调整TiSi靶弧电流为110A，AlTi靶弧电流为40A，沉积TiAlSiN涂层10分钟；然后调整TiSi靶弧电流为80A，AlTi靶弧电流为80A，沉积TiAlSiN涂层8分钟；然后调整TiSi靶弧电流为60A，保持AlTi靶弧电流为110A，沉积TiAlSiN涂层8分钟；调整TiSi靶弧电流为40A，AlTi靶弧电流为110A，继续沉积TiAlSiN涂层8分钟。
其中，实施例一、实施例二和实施例三中的1)、2)、3)和4)中使用的合金靶为4个纯Cr靶、4个TiSi靶，4个AlTi靶，所述TiSi靶中Ti：Si的原子百分含量的比例是80at％：20at％；AlTi靶中Al：Ti的原子百分含量的比例是70at％：30at％。
实施例一中，时间和弧电流大部分采用的是中间值，实施例二中，时间和偏差值普遍偏大，实施例三中，时间和弧电流值普遍偏小，因此造成不同的硬度、韧性和摩擦系数，同时对根据实施例一、实施例二、实施例三所涂层后的产品做出测试：
S F H 孔数 寿命(米)
实施例一 2000 0.1 41 960 39.36
实施例二 2000 0.1 41 950 39.03
实施例三 2000 0.1 41 930 38.12
无涂层 2000 0.1 41 105 4.3
无涂层 2000 0.1 41 93 1.63
经过测试，经过涂层后的产品，不管是在使用寿命还是在钻出的孔数上均占优势，同时，经过不同的工作时间和弧电流，所产生的效果也不一样，以实施例一所产生的的寿命为最佳。
本具体实施例仅仅是对本发明的解释，其并不是对本发明的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本发明的权利要求范围内都受到专利法的保护。

Claims (4)

1.一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层，其特征在于：包括基体，所述基体的顶部附着有Cr打底层，所述Cr打底层的顶部附着有成分梯度变化的TiAlSiN层,所述TiAlSiN梯度层的顶部附着有TiSiN层,所述TiSiN层的顶部附着有成分与下层梯度层的TiAlSiN梯度层呈镜面对称变化的TiAlSiN层。
2.一种权利要求1所述的TiAlSiN对称多梯度硬质涂层的制备方法，其特征在于：包括以下步骤,
步骤1、在基体上表面采用电弧离子镀沉积Cr打底层；
步骤2、在Cr打底层上通过改变弧电流沉积梯度TiAlSiN层；
步骤3、在TiAlSiN梯度层上沉积TiSiN层；
步骤4、在TiSiN层上沉积成分与下层梯度层的TiAlSiN梯度层呈镜面对称变化的TiAlSiN层。
3.根据权利要求2所述的一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层的制备方法，其特征在于：具体包括以下操作步骤,
1)将基体材料设置在真空室中的旋转支架上，将真空室抽真空至基本压力1.0×10-3Pa以下，加热至500-700℃，然后，用纯度为至少99.99％Ar将真空室的腔体填充至1.0×10-1-1.0Pa，启动Ar离子辉光放电，对基体材料的表面进行等离子体蚀刻30-40分钟,然后点燃若干个Cr靶进行2-5分钟Cr打底层沉积；
2)沉积梯度层，首先关闭Cr靶，通入400-600ccm的N2气，同时点燃若干个TiSi靶和若干个AlTi靶，调整TiSi靶弧电流为40-70A，AlTi靶弧电流为110-140A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟，然后调整TiSi靶弧电流为60-80A，保持AlTi靶弧电流为110-140A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟，然后调整TiSi靶弧电流为80-100A，AlTi靶弧电流为80-100A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟，继续调整TiSi靶弧电流为110-140A，AlTi靶弧电流为40-70A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟；
3)沉积TiSiN层，保持TiSi靶弧电流不变，关闭若干个AlTi靶，沉积TiSiN涂层10-20分钟；
4)沉积对称梯度层，同时点燃若干个TiSi靶和若干个AlTi靶，调整TiSi靶弧电流为110-140A，AlTi靶弧电流为40-70A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟；然后调整TiSi靶弧电流为80-100A，AlTi靶弧电流为80-100A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟；然后调整TiSi靶弧电流为60-80A，保持AlTi靶弧电流为110-140A，沉积TiAlSiN涂层8-12分钟；调整TiSi靶弧电流为40-70A，AlTi靶弧电流为110-140A，继续沉积TiAlSiN涂层8-12分钟。
4.根据权利要求3所述的一种TiAlSiN梯度硬质涂层的制备方法，其特征在于：所述2)、3)和4)中使用的合金靶为若干个纯Cr靶、若干个TiSi靶，若干个AlTi靶，所述TiSi靶中Ti：Si的原子百分含量的比例是70-90at％：10-30at％；AlTi靶中Al：Ti的原子百分含量的比例是60-80at％：20-40at％。
CN202010713456.8A 2020-07-22 2020-07-22 一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层及其制备方法 Pending CN111690900A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010713456.8A CN111690900A (zh) 2020-07-22 2020-07-22 一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010713456.8A CN111690900A (zh) 2020-07-22 2020-07-22 一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层及其制备方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111690900A true CN111690900A (zh) 2020-09-22

Family

ID=72486549

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010713456.8A Pending CN111690900A (zh) 2020-07-22 2020-07-22 一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111690900A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115747718A (zh) * 2022-12-26 2023-03-07 常州夸克涂层科技有限公司 一种滚插齿刀涂层工艺

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104131250A (zh) * 2014-07-25 2014-11-05 广东工业大学 一种梯度成分设计的纳米复合刀具涂层及其制备方法
CN104862652A (zh) * 2015-05-11 2015-08-26 上海应用技术学院 一种TiAlSiN超硬梯度涂层的制备方法
CN109207938A (zh) * 2018-09-28 2019-01-15 清华大学 Ti/TiN/TiAlSiN/TiAlCrSiN纳米多层梯度膜及其制备方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104131250A (zh) * 2014-07-25 2014-11-05 广东工业大学 一种梯度成分设计的纳米复合刀具涂层及其制备方法
CN104862652A (zh) * 2015-05-11 2015-08-26 上海应用技术学院 一种TiAlSiN超硬梯度涂层的制备方法
CN109207938A (zh) * 2018-09-28 2019-01-15 清华大学 Ti/TiN/TiAlSiN/TiAlCrSiN纳米多层梯度膜及其制备方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115747718A (zh) * 2022-12-26 2023-03-07 常州夸克涂层科技有限公司 一种滚插齿刀涂层工艺

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105586572B (zh) (Ti,Al,Zr)N多组元复合涂层、具有该复合涂层的梯度超细硬质合金刀具及其制备方法
EP1760172B1 (en) Method for producing a diamondlike carbon hard multilayer.
EP2072636B1 (en) Method of making a coated cutting tool
US3900592A (en) Method for coating a substrate to provide a titanium or zirconium nitride or carbide deposit having a hardness gradient which increases outwardly from the substrate
JP5192642B2 (ja) 表面被覆部材及びその製造方法ならびに工具及び工作装置
EP1935999A2 (en) Coated cemented carbide endmill
CN106702331B (zh) 一种高温耐磨CrAlSiON基纳米复合涂层及其制备方法和应用
CN108118301B (zh) 一种具有Si含量梯度变化的中间层的AlCrSiN涂层、制备方法
CN112941462B (zh) 复合涂层刀具及其制备方法和应用
JP2003171758A (ja) ダイヤモンドライクカーボン硬質多層膜成形体およびその製造方法
CN112095079B (zh) 阴极磁场调制的硬质涂层刀具及其制备方法和应用
CN113235041A (zh) 一种AlCrTiSiWMoN高熵合金氮化物涂层及其制备方法和应用
JP2003113463A (ja) ＴｉＡｌ化合物膜被覆部材およびその製造方法
JPS61170559A (ja) 被覆超硬合金
CN111690900A (zh) 一种TiAlSiN对称多梯度硬质涂层及其制备方法
CN111690901A (zh) 一种TiAlSiN梯度硬质涂层及其制备方法
CN112962059A (zh) 一种CrAlTiSiCN纳米复合涂层及其制备方法
US7279078B2 (en) Thin-film coating for wheel rims
CN108179393A (zh) 一种CrAlSiCON纳米复合涂层及其制备方法
CN116732481A (zh) 一种添加硬质Ta-C膜层的NCVM颜色装饰膜及其镀制方法
CN111850483A (zh) 一种多层梯度硬质涂层及其制备工艺
KR930010709B1 (ko) 우수한 내마모성을 갖는 표면 피복 경질 부재
JPH07188901A (ja) 被覆硬質合金
JP2001107220A (ja) 硬質炭素膜を被覆した機械部品及びその製造方法
CN115216722B (zh) 一种硬质涂层的制备方法及具有硬质涂层的刀具

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination