CN111670270B - 铝构件及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明通过简便的初级处理提供高白度的铝构件。本发明的铝构件包括：母材，其由铝或铝合金形成；以及阳极氧化覆膜，其在母材表面上具有阻挡层，且在阻挡层上具有多孔层，阳极氧化覆膜含有P及S，且具有小于等于100μm的厚度，在从阳极氧化覆膜的表面朝向母材的深度方向上，距表面的深度大于等于500nm的区域中的S达到最大含量的深度大于P达到最大含量的深度，且S的最大含量大于P的最大含量。

Description

铝构件及其制造方法

技术领域

本发明涉及一种铝构件及其制造方法。

背景技术

在建筑材料或电子设备的外壳等要求外观设计性的用途中，优选不透明白色的铝构件。不透明白色难以通过在铝构件的阳极氧化处理中通常使用的染色及着色方法实现。因此，一直以来不断提出制造具有不透明白色的铝构件的方法。

专利文献1公开了一种制造铝构件的方法，其通过使用对温度及浓度条件加以控制且含有磷酸或硫酸的电解液进行阳极氧化处理，从而制造乳白色的铝构件。

专利文献2公开了一种着色方法，其通过在利用阳极氧化处理而形成的细孔中填充颜料，从而对铝构件进行着色。

(现有技术文献)

(专利文献)

专利文献1：JP特开2000-226694号公报

专利文献2：JP特开2017-25384号公报

发明内容

(发明要解决的问题)

然而，现有的用于制造不透明白色的铝构件的方法需要进行二级处理以上的处理工序等复杂的电解工序。而且，在现有的铝构件的制造方法中，尚未获得具有足够白度的铝构件。

为了解决上述问题，本发明的发明人经反复努力研究，结果发现：通过阳极氧化覆膜含有硫(S)及磷(P)，并控制在阳极氧化覆膜的深度方向上的S及P的分布(原子组成分布)，能够提高铝构件的白度，从而完成了本发明。

而且，发现通过使用特定组成的电解液来进行铝构件的阳极氧化处理，能够以简便的初级处理获得高白度的铝构件，从而完成本了发明。

(用于解决问题的方案)

为了解决上述问题，本发明包括以下各实施方式。

[1]一种铝构件，其包括：

母材，其由铝或铝合金形成；以及

阳极氧化覆膜，其在所述母材的表面上具有阻挡层，且在所述阻挡层上具有多孔层，

所述阳极氧化覆膜含有P及S，且具有小于等于100μm的厚度，

在从所述阳极氧化覆膜的表面朝向母材的深度方向上，距所述表面的深度大于等于500nm的区域中的S达到最大含量的深度大于距所述表面的深度大于等于0nm的区域中的P达到最大含量的深度，且所述S的最大含量大于所述P的最大含量。

[2]根据上述[1]所述的铝构件，其中，

在将存在于所述阳极氧化覆膜中的所述深度方向上的S及P的量分别设为T_S及T_P，并将存在于距所述阳极氧化覆膜表面的深度超过100μm且小于等于200μm的范围的母材中的S及P的含量分别设为M_S及M_P时，

T_S/M_S＝1.5～1500，

T_P/M_P＝10～9000。

[3]根据上述[2]所述的铝构件，其中，

0.9×T_P的量的P存在于距所述阳极氧化覆膜表面的深度为1μm以内的区域。

[4]一种铝构件的制造方法，所述铝构件为上述[1]～[3]任一项所述的铝构件，所述铝构件的制造方法包括：

准备由铝或铝合金形成的母材的工序；以及

在电解液中对所述母材进行阳极氧化处理的工序，该电解液包含(a)作为无机酸的第一酸或第一酸的盐、(b)选自由二磷酸、三磷酸及多磷酸组成的组中的至少一种第二酸或第二酸的盐。

[5]根据上述[4]所述的铝构件的制造方法，其中，

在进行所述阳极氧化处理的工序中，

所述电解液中的第一酸或第一酸盐的浓度为0.01～2.0mol·dm^-3，

所述电解液中的第二酸或第二酸盐的浓度为0.01～5.0mol·dm^-3。

[6]根据上述[4]或[5]所述的铝构件的制造方法，其中，

在进行所述阳极氧化处理的工序中，

在电流密度为5～30mA·cm^-2以及电解时间为10～600分钟的条件下进行阳极氧化处理。

(发明效果)

本发明能够通过简便的初级处理提供高白度的铝构件。

附图说明

图1是示意性表示一实施方式的铝构件的图。

图2是在实施例3中，利用扫描式电子显微镜(SEM)拍摄阳极氧化覆膜的剖面的照片。

图3是表示在实施例3中利用深度方向分析法(辉光放电发射光谱分析法/GD-OES)在铝构件的深度方向上从其表面进行测定的结果的图。

图4是说明在实施例3中阳极氧化覆膜中的S及P存在的区域的厚度的图。

具体实施方式

1.铝构件

铝构件具有母材和设置在母材表面上的阳极氧化覆膜。阳极氧化覆膜具有设置在母材表面上的阻挡层和设置在阻挡层上的多孔层。即，从母材表面朝向阳极氧化覆膜表面，阳极氧化覆膜依次具有阻挡层及多孔层。以下，对构成一实施方式所涉及的铝构件的各部分进行说明。

(母材)

母材可以由铝构成，也可以由铝合金构成。可以根据铝构件的用途，适当地选择母材的材质。例如，从提高铝构件强度的观点考虑，优选将5000系铝合金或6000系铝合金作为母材。而且，从进一步提高阳极氧化处理后的白度的观点考虑，优选将不易出现因阳极氧化处理而着色的1000系铝合金或6000系铝合金作为母材。

(阳极氧化覆膜)

阳极氧化覆膜具有阻挡层及多孔层，阻挡层形成在母材表面上，多孔层形成在阻挡层上。阳极氧化覆膜含有P及S，且具有小于等于100μm的厚度。而且，在从阳极氧化覆膜的表面朝向母材的深度方向上，距表面的深度大于等于500nm的区域中的S达到最大含量的深度大于距表面的深度大于等于0nm的区域中的P达到最大含量的深度，且S的最大含量大于P的最大含量。另外，该S及P的最大含量可通过辉光放电发射光谱分析法(Glow DischargeOptical Emission Spectrometry；GD-OES)来测定。在辉光放电发射光谱分析法中，利用因辉光放电而生成的放电等离子体，从试样表面向深度方向缓缓进行溅射，并使被溅射的试样中的原子在放电等离子体中激发并发光。由于该发光所发出的光具有原子固有的波长，因此，通过检测发出的光，可以鉴定原子并测定其含量。由此，可以利用辉光放电发射光谱分析法，从阳极氧化覆膜表面向深度方向测定原子组成。另外，在利用辉光放电发射光谱分析法测定阳极氧化覆膜中的S含量时，有时会在距阳极氧化覆膜表面的深度不足500nm的区域发现S含量的峰值。但是，这种阳极氧化覆膜的S含量的峰值被认为是受到了电解液成分的影响，并不代表阳极氧化覆膜中的实际S含量。因此，在距阳极氧化覆膜表面的深度不足500nm的区域出现的S含量的峰值并不相当于上述的S的最大含量。另一方面，在利用辉光放电发射光谱分析法测定阳极氧化覆膜中的P含量时，测定距阳极氧化覆膜表面的深度大于等于0nm的阳极氧化覆膜的所有区域中的P的最大含量。这是因为，在阳极氧化覆膜表面附近的P含量的测定结果不受电解液成分影响，并表示阳极氧化覆膜中的实际P含量。

如果阳极氧化覆膜的厚度超过100μm，则用于形成阳极氧化覆膜的时间变长，从而导致生产性降低，进而出现伴随不均匀生长的不均而导致外观不良。而且，在阳极氧化覆膜的一个示例中，在其深度方向上S及P如上所述分布，因此大体与阻挡层的表面垂直地延伸的第一孔位于多孔层的阻挡层侧，第二孔位于多孔层的表面侧。第二孔为朝向多孔层的表面侧呈辐射状延伸的反向树枝状的形态。这是因为：在形成第一孔与第二孔时，受到多孔层中的S及P的含量影响较大，在S较多的区域，包围第一孔的侧壁以相对于阻挡层的表面大致垂直的方式优先形成，在P较多的区域，包围第二孔的侧壁以相对于阻挡层的表面成为倾斜的角度的方式形成。这种铝构件在多孔层中具有第二孔，从而射入多孔层内的光因漫反射而引起光的扩散，从而可提高铝构件的白度。另一方面，在铝构件不具有第二孔时，成为仅具有相对于阻挡层表面大致垂直延伸的有规律的第一孔的多孔层。因此无法获得对光进行漫反射的覆膜结构，所以，铝构件的白度降低，无法获得所需的白度。

阳极氧化覆膜的厚度优选为6～100μm。通过使阳极氧化覆膜的厚度在该范围内，从而在铝构件上可获得整齐均匀的阳极氧化覆膜，并且具有优异的外观设计性。多孔层的厚度优选为大于等于6μm且小于100μm，更优选为8～75μm，进一步优选为10～50μm。通过多孔层的厚度在这些范围内，从而铝构件可具有适宜的不透明白色，并且具有优异的外观设计性。阻挡层的厚度优选为10～150nm。通过阻挡层具有这样的厚度，从而可抑制干涉引起的着色，并且提高白度。

图1是表示一实施方式的铝构件的示意图。如图1所示，在由铝或铝合金形成的母材1的表面上，形成有阳极氧化覆膜2。阳极氧化覆膜2在母材1的表面上具有阻挡层3，并且在阻挡层3上具有多孔层4。另外，图1是示意图，并且在图1中示意性地示出多孔层4的孔结构。因此，在图1的多孔层4中虽然存在第一孔与第二孔，但在图1中并未详细地表示该第一孔与第二孔的结构。

图2是在实施例3中，利用扫描式电子显微镜(SEM)拍摄阳极氧化覆膜的剖面的照片。如图2所示，相对于阻挡层3的表面垂直延伸的第一孔6位于多孔层4的阻挡层侧。而且，第二孔5位于多孔层4的表面侧。另外，第二孔5以连通各第一孔6的方式存在。第二孔5为呈辐射状地扩展延伸的反向树枝状的形态。

从阳极氧化覆膜的表面侧测定铝构件时的亨特白度优选为60～90，更优选为75～90，进一步优选为80～90。另外，亨特白度是指依据JIS P8123而获得的数值。亨特白度越大，则白色性越高。通过铝构件的亨特白度为60～90，从而铝构件可具有适宜的不透明白色，并且可实现优异的外观设计性。

在将存在于阳极氧化覆膜中的深度方向上的S及P的量分别设为T_S及T_P，并将存在于距阳极氧化覆膜表面的深度超过100μm且小于等于200μm范围的母材中的S及P的含量分别设为M_S及M_P时，优选T_S/M_S＝1.5～1500，T_P/M_P＝10～9000。

另外，该T_S、M_S、T_P及M_P可利用上述辉光放电发射光谱分析法(Glow DischargeOptical Emission Spectrometry；GD-OES)进行测定。关于利用辉光放电发射光谱分析法的T_S、M_S、T_P、及M_P的测定法，将在实施例中详细描述。阳极氧化覆膜的厚度小于等于100μm。因此，在利用辉光放电发射光谱分析法对铝构件中距阳极氧化覆膜表面的深度为超过100μm且小于等于200μm的区域进行测定时，该测定区域即为母材区域。

T_S/M_S、及T_P/M_P处于如上所述的数值范围时，可以稳定地形成第一孔与第二孔。其结果，可以更有效地在铝构件的第二孔中进行光的漫反射，并且可以有效地提高铝构件的白度。更优选T_S/M_S＝80～800。而且，更优选T_P/M_P＝50～500。通过T_S/M_S及T_P/M_P处于上述数值范围时，从而可以使多孔层充分生长至一定膜厚，并可以在多孔层上形成具有充分的分枝结构的反向树枝状层及有规律的第二孔，且可有效地提高白度。而且，T_S优选为500～1000000质量％，更优选为1000～50000质量％，进一步优选为5000～20000质量％。T_P优选为35～90000质量％，更优选为50～45000质量％，进一步优选为800～25000质量％。M_S优选为50～1000质量％。M_P优选为4～20质量％。另外，如下述实施例所示，T_S、M_S、T_P、及M_P由深度方向上S或P的含量的累计值来表示，因此分别可超过100质量％。

优选在距阳极氧化覆膜表面的深度为1μm以内的区域存在0.9×T_P的量的P。通过如上所述那样使大部分的P存在于阳极氧化覆膜的表面附近，从而阳极氧化覆膜可具有适合入射光的漫反射的内部结构。其结果，可以进一步提高铝构件的白度。

2.铝构件的制造方法

一实施方式的铝构件的制造方法包括：准备母材的工序；以及对母材进行阳极氧化处理的工序。以往，为了进行阳极氧化处理，需要进行初级处理以及二级处理，该二级处理使用的电解液不同于该初级处理。而且，有时还需要进行使用其它的电解液的三级处理以上的处理。相对于此，在一实施方式的铝构件的制造方法中，可以通过比以往简便的初级处理提供高白度的铝构件。以下，详细说明各工序。

(准备母材的工序)

首先，准备母材，该母材由铝或铝合金形成。作为铝合金并无特别限定，但可以列举1000系铝合金、5000系铝合金或6000系铝合金。

(对母材进行阳极氧化处理的工序)

阳极氧化处理条件设定为：能够形成具有设置在母材表面上的阻挡层和设置在阻挡层上的多孔层，并且厚度小于等于100μm的阳极氧化覆膜的条件。另外，该阳极氧化覆膜含有P及S，在从阳极氧化覆膜的表面朝向母材的深度方向上，距阳极氧化覆膜表面的深度大于等于500nm的区域中的S达到最大含量的深度大于距阳极氧化覆膜表面的深度大于等于0nm的区域中的P达到最大含量的深度，且距阳极氧化覆膜表面的深度大于等于500nm的区域中的S的最大含量大于距阳极氧化覆膜表面的深度大于等于0nm的区域中的P的最大含量。此时，在一实施方式的铝构件的制造方法中，在多孔层中形成第一孔与第二孔。第一孔为位于阻挡层侧，并在多孔层的厚度方向上延伸的孔。而且，第二孔为位于多孔层的表面侧，并在多孔层的厚度方向上朝向多孔层的表面呈辐射状分支并延伸的孔。

在进行阳极氧化处理之前，可以视需要对母材进行脱脂处理或研磨处理等基底处理。例如，作为基底处理进行碱性脱脂处理，从而可降低阳极氧化覆膜的光泽度值，并获得呈现无光泽的白色的铝构件。而且，作为基底处理进行化学研磨、机械研磨及电解研磨等研磨处理，从而可以提高阳极氧化处理的光泽度值，并获得呈现有光泽的白色的铝构件。从进一步提高铝构件的白度及光泽度值的观点考虑，优选在进行阳极氧化处理之前，对母材进行电解研磨处理。

在阳极氧化处理中，使用包含作为无机酸的第一酸或第一酸的盐、及选自由二磷酸、三磷酸及多磷酸组成的组中的至少一种第二酸或第二酸的盐的电解液。作为无机酸的第一酸或第一酸的盐具有以下作用：在阻挡层表面的凹部上进行覆膜的形成与溶解，而形成在覆膜的厚度方向上大致垂直地延伸的孔。像这样，在铝基体与阳极氧化覆膜的界面处进行反应，因此第一酸所含的S渗入存在于铝基体侧的多孔层中的阳极氧化覆膜内，从而阳极氧化覆膜生长。因此，阳极氧化覆膜中的S达到最大含量的深度位于母材侧。

另一方面，选自由二磷酸、三磷酸及多磷酸组成的组中的第二酸或第二酸的盐具有以下作用：在凹部的壁面上形成呈纤维状延伸的结构。像这样，在阳极氧化覆膜的表面进行反应，因此第二酸所含的P渗入在铝构件表面出现的多孔层的阳极氧化覆膜的表面侧。因此，阳极氧化覆膜中的P达到最大含量的深度位于阳极氧化覆膜的表面侧。其结果，在阳极氧化覆膜中，S达到最大含量的深度大于P达到最大含量的深度，且S的最大含量大于P的最大含量。并且，在一实施方式的铝构件的制造方法中，通过使用包含第一酸或其盐、以及第二酸或其盐的电解液，从而这些物质产生协同作用，并形成具有第一孔与第二孔的多孔层。

第一酸即无机酸及其盐并无特别限定，但可列举选自由亚硫酸、硫酸、硫代硫酸及二硫酸等无机酸及其盐、硫酸钠、硫酸铵、硫代硫酸钠等硫酸盐组成的组中的至少一种物质。

第二酸即酸酐及其盐，从可稳定地形成形状规律的第二孔的观点出发，优选使用选自由二磷酸、三磷酸、多磷酸、及其盐组成的组中的至少一种物质。

电解液中的第一酸或第一酸的盐的浓度优选为0.01～2.0mol·dm^-3，更优选为0.05～1.5mol·dm^-3。第一酸或第一酸的盐的浓度大于等于0.01mol·dm^-3时，可以有效地对母材进行阳极氧化处理，第一酸或第一酸的盐的浓度小于等于2.0mol·dm^-3时，电解液的溶解力不会变高，可以使多孔层有效地生长。

电解液中的第二酸或第二酸的盐的浓度优选为0.01～5.0mol·dm^-3，更优选为0.1～2.5mol·dm^-3。通过第二酸或第二酸的盐的浓度大于等于0.01mol·dm^-3时，从而可以在多孔层内有效地形成第二孔，如果第二酸或第二酸的盐的浓度小于等于5.0mol·dm^-3，则可以周期性地形成第二孔，且可以形成有效厚度的多孔层。因此，通过将第二酸或第二酸的盐的浓度设为0.01～5.0mol·dm^-3，从而可使多孔层充分生长至一定膜厚并在多孔层上周期性形成第二孔，并且可提高铝构件的白度。

阳极氧化处理时的电流密度优选为5～30mA·cm^-2，更优选为5～20mA·cm^-2，进一步优选为10～20mA·cm^-2。通过使电流密度大于等于5mA·cm^-2，从而可以加快多孔层的成膜速度并获得充分的膜厚。而且，通过使电流密度小于等于30mA·cm^-2，从而均匀地进行阳极氧化反应，因此可防止烧损或白色不均。

阳极氧化处理时的电解液的温度优选为0～80℃，更优选为20℃～60℃。通过电解液的温度大于等于0℃，从而易于形成第二孔，如果小于等于80℃，则由于多孔层以适度的速度溶解而膜厚变厚，并可以提高铝构件的白度。

而且，阳极氧化处理时的电解时间优选为10～600分钟，更优选为30～300分钟，进一步优选为30～120分钟。如果电解时间大于等于10分钟时，则可以使阳极氧化覆膜形成有效厚度，如果小于等于600分钟时，则生产效率提高。

另外，对母材进行阳极氧化处理之后，也可以视需要进行封孔处理等后续处理。

[实施例]

以下，基于实施例详细说明本发明。另外，本发明并不限于以下所示的例子，在不损及本发明的主旨的范围内可以适宜地变更其构成。

在下述表1所示的条件下，准备由铝合金形成的母材，并进行阳极氧化处理，制成实施例1～32及比较例1～2的铝构件。

[表1]

然后，对实施例1～32及比较例1～2的铝构件进行各种测定，并评价测定结果。在表2中示出所述各种测定及评价结果。另外，按照以下方式测定亨特白度、白色不均、第一孔与第二孔的确认、铝构件的原子组成的深度方向分析、S存在的区域的厚度、及P存在的区域的厚度。而且，关于表2中的“判定”，将存在第二孔且白色不均为“△”或“○”的情况评价为“○”，除此以外评价为“×”。

＜亨特白度＞

利用色度计测定依据JIS Z8781-4：2013规定的、由国际照明委员会(CIE)标准化的L^＊a^＊b^＊，并利用下式换算为亨特白度后进行评价。

亨特白度＝100－{(100－L^＊)²+a^＊2+b^＊2}^1/2。

＜白色不均＞

目视阳极氧化处理后的样品来进行外观观察，将阳极氧化均匀的样品设为“○”，将白色不均程度低的样品设为“△”，将出现很多白色不均的样品或者未阳极氧化的对象设为“×”。

＜第一孔与第二孔的确认＞

使用FE-SEM(SU-8230：日立制作所制造)，观察阳极氧化覆膜的表面及剖面，并根据观察结果来测定阻挡层、多孔层、以及多孔层中的第一孔与第二孔是否存在。剖面的观察如下进行：针对通过将阳极氧化处理后的样品进行V字弯曲而产生的覆膜的裂缝进行倾斜观察。

＜铝构件的原子组成的深度方向分析＞

关于铝构件的原子组成的深度方向分析，使用辉光放电发射光谱分析法(GD-OES)进行测定。测定用的设备中使用了SPECTRUMA制造的GDA750，并以阳极直径2.5mm、输出功率25W且在氩气(气压350Pa)中进行溅射，并测定来自各种(Al、O、S、P、H)元素的发光强度。数据获取时间为0.005秒/1个数据。如果使用表面/深度分布(SDPA)分析应用程序，对得到的发光强度对溅射速度的曲线图进行转换，则可获得质量百分比浓度对深度的曲线图。以下，使用得到曲线图，详细描述S的最大含量、P的最大含量、T_S、M_S、T_P、及M_P的测定步骤。

利用辉光放电发射光谱分析法，进行从阳极氧化覆膜的表面向深度方向至少到200μm为止的深度的铝构件的原子组成的测定。然后，测定阳极氧化覆膜中距表面的深度大于等于500nm的区域中的S的最大含量、以及距表面的深度大于等于0nm的区域中的P的最大含量。而且，将从阳极氧化覆膜的表面到与母材的界面为止的P的含量累计值设为T_P。另一方面，如上所述，在阳极氧化覆膜的表面附近测定出的S含量被认为会受到电解液成分的影响。因此，从距阳极氧化覆膜的表面的深度大于等于1nm的区域中出现的S含量的峰值的第一个向下凸出的拐点到与母材的界面为止的阳极氧化覆膜的深度方向上S含量累计值设为T_S。例如，在图4(a)中，阳极氧化覆膜的第一个凸出的拐点以G表示，T_S是在阳极氧化覆膜中的比G深的整个区域中所存在的S的含量累计值。即，T_S是阳极氧化覆膜中的从G到与母材的界面为止的整个深度方向上存在的S含量的累计值。而且，将距阳极氧化覆膜表面的深度为超过100μm且小于等于200μm的母材区域中的S及P的含量累计值分别设为M_S及M_P。根据如上所得的T_S、M_S、T_P、及M_P，计算出T_S/M_S及T_P/M_P。并且，根据所得的P的深度方向分析结果，将0.9×T_P存在于距阳极氧化覆膜表面的深度为1μm以内的区域的情况评价为“○”，将0.9×T_P存在于距阳极氧化覆膜表面的深度为1μm以外的区域的情况评价为“×”。将评价结果记载于表2的“0.9×T_P”一栏。

图3是表示在实施例3中，利用深度方向分析法(辉光放电发射光谱分析法/GD-OES)在铝构件的深度方向上从其表面测定原子组成的结果的图，并且为表示从阳极氧化覆膜表面到20μm为止的铝构件的原子组成的测定结果的图。在图3中，S的含量变大的峰值存在两个，第一峰值位于阳极氧化覆膜的表面附近，第二峰值位于距阳极氧化覆膜表面的深度约为7500nm处。但是如上所述，S的最大含量定义为距阳极氧化覆膜表面的深度大于等于500nm的区域中的S的最大含量，因此第一峰值被排除，第二峰值成为S的最大含量的峰值。在图3中，以A表示S的最大含量的峰值。另一方面，P的最大含量是在阳极氧化覆膜的深度方向上的整个区域中测定的，因此P的最大含量峰值位于阳极氧化覆膜的表面附近。在图3中，以B示出。

＜阳极氧化覆膜中的S存在的区域的厚度及P存在的区域的厚度＞

如上所述，利用辉光放电发射光谱分析法，测定从阳极氧化覆膜的表面向其深度方向直到与母材的界面为止的原子组成的分布。

然后，“阳极氧化覆膜中的S存在的区域的厚度”如下测定：在该原子组成分布中从S的含量的峰值绘制切线，测定该切线与S的基线相交的两个交点。其次，计算出两个交点间的距离作为“阳极氧化覆膜中的S存在的区域的厚度”。

此外，“阳极氧化覆膜中的P存在的区域的厚度”如下测定：在该原子组成分布中从P的含量的峰值绘制切线，测定该切线与P的基线相交的两个交点。其次，计算出两个交点间的距离作为“阳极氧化覆膜中的P存在的区域的厚度”。

根据如上所述计算出的“阳极氧化覆膜中的S存在的区域的厚度”及“阳极氧化覆膜中的P存在的区域的厚度”，计算(阳极氧化覆膜中的S存在的区域的厚度)－(阳极氧化覆膜中的P存在的区域的厚度)。

图4(a)及(b)分别表示图3中的S的最大含量的峰值及P的最大含量的峰值。如图4(a)所示，计算出基线C与峰值的切线D、E的两个交点，并计算两个交点间的距离(阳极氧化覆膜中的S存在的区域的厚度)L_s。而且，如图4(b)所示，计算出基线F与峰值的切线G的交点，并计算阳极氧化覆膜的表面与该交点间的距离(阳极氧化覆膜中的P存在的区域的厚度)L_p。然后，通过L_s－L_p来计算(阳极氧化覆膜中的S存在的区域的厚度)－(阳极氧化覆膜中的P存在的区域的厚度)。另外，可以利用SPECTRUMA制造的GDA750所附带的软件，来计算L_s及L_p。

[表2]

图2是利用SEM拍摄实施例3中所制成的铝构件的剖面的照片。根据图2可知：在实施例3的铝构件中，形成有具有阻挡层3，并在阻挡层3上具有多孔层4的阳极氧化覆膜。而且，可知在阳极氧化覆膜内形成有第一孔6与第二孔5。

在实施例1～32中，制成包括母材及阳极氧化覆膜的铝构件，母材由铝合金形成，阳极氧化覆膜形成在母材表面上，厚度小于等于100μm。实施例1～32的阳极氧化覆膜具有形成在母材表面上的阻挡层以及形成在阻挡层上的多孔层，且多孔层具有第一孔与第二孔。而且，根据实施例1～32的铝构件的原子组成的深度方向分析结果，距阳极氧化覆膜表面的深度大于等于500nm的区域中的S达到最大含量的深度大于距该表面的深度大于等于0nm的区域中的P达到最大含量的深度，且所述S的最大含量大于所述P的最大含量。此外，在实施例1～32中，可以通过在电解液中对准备好的由铝合金形成的母材进行阳极氧化处理，来制成本发明的铝构件，该电解液包含作为无机酸的第一酸或第一酸的盐、及选自由二磷酸、三磷酸及多磷酸组成的组中的第二酸或第二酸的盐。因此，实施例1～32的铝构件中，S与P存在于阳极氧化覆膜内，关于白色不均也是“△”或“○”，且具有高亨特白度，因此可获得外观特性优异的铝构件。

相对于此，在比较例1中，由于未在硫酸及二磷酸的溶液中对母材进行阳极氧化处理，因此并未形成多孔层，白色不均为“×”且亨特白度也低。

同样地，在比较例2中，由于电解液不含硫酸(第一酸或第一酸的盐)，因此无法进行母材的阳极氧化处理。因此，并未形成多孔层，白色不均为“×”且亨特白度也低。

(标号说明)

1母材；2阳极氧化覆膜；3阻挡层；4多孔层；5第二孔；6第一孔。

Claims (4)

1.一种铝构件的制造方法，其中包括：

准备由铝或铝合金形成的母材的工序；

在电解液中对所述母材进行阳极氧化处理的工序，该电解液包含(a)选自由亚硫酸、硫代硫酸、二硫酸及上述酸的盐、以及硫酸盐组成的组中的至少一种第一酸或所述第一酸的盐、(b)选自由二磷酸、三磷酸及多磷酸组成的组中的至少一种第二酸或第二酸的盐，

在进行所述阳极氧化处理的工序中，

所述电解液中的第一酸或第一酸的盐的浓度为0.01～2.0mol·dm^-3，

所述电解液中的第二酸或第二酸的盐的浓度为0.01～5.0mol·dm^-3，

所述铝构件包括：

母材，其由铝或铝合金形成；以及

阳极氧化覆膜，其具有设置在所述母材表面上的阻挡层和设置在所述阻挡层上的多孔层，所述阳极氧化覆膜含有P及S，且具有小于等于100μm的厚度，

在从所述阳极氧化覆膜的表面朝向母材的深度方向上，距所述表面的深度大于等于500nm的区域中的S达到最大含量的深度大于距所述表面的深度大于等于0nm的区域中的P达到最大含量的深度，且所述S的最大含量大于所述P的最大含量。

2.根据权利要求1所述的铝构件的制造方法，其特征在于，

在将存在于所述阳极氧化覆膜中的所述深度方向上的S及P的量分别设为T_S及T_P，并将存在于距所述阳极氧化覆膜表面的深度超过100μm且小于等于200μm的母材中的S及P的含量分别设为M_S及M_P时，

T_S/M_S＝1.5～1500，

T_P/M_P＝10～9000。

3.根据权利要求2所述的铝构件的制造方法，其特征在于，

0.9×T_P的量的P存在于距所述阳极氧化覆膜表面的深度为1μm以内的区域。

4.根据权利要求1或2所述的铝构件的制造方法，其特征在于，

在进行所述阳极氧化处理的工序中，

在电流密度为5～30mA·cm^-2以及电解时间为10～600分钟的条件下进行阳极氧化处理。

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