CN111627964A - 一种新型柔性激光剥离面板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及柔性面板技术领域，特别涉及一种新型柔性激光剥离面板及其制备方法，包括玻璃基板，玻璃基板的一侧面依次层叠设有剥离膜层、反射膜层和OLED器件，剥离膜层分别与玻璃基板和反射膜层接触，外设的激光器位于玻璃基板的一侧面相对的另一侧面的上方，通过在剥离膜层和OLED器件之间设置反射膜层，使得激光器反射的激光经过玻璃基板和剥离膜层之间的接触界面时，激光发生折射，由于反射膜层的反射作用，使得即将进入器件的折射光经过反层射膜反射回剥离界面，增加了激光的能量和提高产品剥离的良率，不仅提高机台的产能，也规避了OLED器件被折射光影响而失效的风险。
Description
技术领域
本发明涉及柔性面板技术领域，特别涉及一种新型柔性激光剥离面板及其制备方法。
背景技术
随着柔性显示器的制造技术日趋发展成熟，柔性OLED(英文全称为Organic LightEmitting Diode，中文意思为有机发光二极管)普遍采用激光工艺对显示屏进行剥离(简称LLO)，激光剥离技术是柔性OLED生产的关键技术，剥离工艺对产品的良率、成本等都有非常大的影响；
柔性基板是以PI(Polyimide Film，即聚酰亚胺)膜层作为衬底，使其作为后续OLED器件显示模组的载体，制备柔性基板时，需要使用高精度机械平台配合准分子激光通过外光路形成线性光斑对OLED器件显示模组进行扫描，在高能量激光作用下，PI膜层失去粘性，进而和玻璃基板分离；
然而在玻璃基板涂布PI时，由于环境和机构传动影响，玻璃基板和PI薄膜的接触面进入颗粒，然而剥离工艺中激光是从玻璃基板背面射入，激光很容易被颗粒挡住，导致被颗粒接触的PI膜层难以剥离玻璃基板，造成不良品增多，影响经济效益。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是：提供一种能够提高剥离良率的新型柔性激光剥离面板及其制备方法。
为了解决上述技术问题，本发明采用的第一种技术方案为：
一种新型柔性激光剥离面板，包括玻璃基板，所述玻璃基板的一侧面依次层叠设有剥离膜层、反射膜层和OLED器件，所述剥离膜层分别与玻璃基板和反射膜层接触，外设的激光器位于玻璃基板的一侧面相对的另一侧面的上方。
本发明采用的第二种技术方案为：
一种新型柔性激光剥离面板的制备方法，包括以下步骤：
步骤S1、提供一玻璃基板，且在所述玻璃基板上覆盖剥离膜层；
步骤S2、形成一反射膜层，且覆盖于剥离膜层表面；
步骤S3、提供一OLED器件，且覆盖于反射膜层表面。
本发明的有益效果在于：
通过在剥离膜层和OLED器件之间设置反射膜层，使得激光器反射的激光经过玻璃基板和剥离膜层之间的接触界面时，激光发生折射，由于反射膜层的反射作用，使得即将进入器件的折射光经过反层射膜反射回剥离界面，增加了激光的能量和提高产品剥离的良率，不仅提高机台的产能，也规避了OLED器件被折射光影响而失效的风险。
附图说明
图1为根据本发明的一种新型柔性激光剥离面板的结构示意图；
图2为根据本发明的一种新型柔性激光剥离面板的结构示意图；
图3为根据本发明的一种新型柔性激光剥离面板的结构示意图；
图4为根据本发明的一种新型柔性激光剥离面板的制备方法的步骤流程图；
标号说明：
1、玻璃基板；2、剥离膜层；3、反射膜层；4、OLED器件；5、颗粒。
具体实施方式
为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
请参照图1，本发明提供的一种技术方案：
一种新型柔性激光剥离面板，包括玻璃基板，所述玻璃基板的一侧面依次层叠设有剥离膜层、反射膜层和OLED器件，所述剥离膜层分别与玻璃基板和反射膜层接触，外设的激光器位于玻璃基板的一侧面相对的另一侧面的上方。
从上述描述可知，本发明的有益效果在于：
通过在剥离膜层和OLED器件之间设置反射膜层，使得激光器反射的激光经过玻璃基板和剥离膜层之间的接触界面时，激光发生折射，由于反射膜层的反射作用，使得即将进入器件的折射光经过反层射膜反射回剥离界面，增加了激光的能量和提高产品剥离的良率，不仅提高机台的产能，也规避了OLED器件被折射光影响而失效的风险。
进一步的，所述反射膜层的材质为氮硅化合物，所述反射膜层的厚度为0.1μm-0.2μm。
由上述描述可知，将反射膜层的材质采用氮硅化合物，且反射膜层的厚度设为0.1μm-0.2μm，能够进一步提高反射膜层的反射效果，更加有效地将即将进入器件的折射光经过反层射膜反射回剥离界面，从而进一步增加了激光的能量和提高产品剥离的良率。
进一步的，所述反射膜层的材质为氧硅化合物和氮硅化合物，所述反射膜层的厚度为0.2μm-0.3μm。
由上述描述可知，将反射膜层的材质采用氧硅化合物和氮硅化合物，且反射膜层的厚度设为0.2μm-0.3μm，能够进一步提高反射膜层的反射效果，更加有效地将即将进入器件的折射光经过反层射膜反射回剥离界面，从而进一步增加了激光的能量和提高产品剥离的良率。
进一步的，所述反射膜层的材质为氧硅化合物，所述反射膜层的厚度为0.2μm-0.6μm。
进一步的，所述剥离膜层与玻璃基板之间的接触面设有颗粒，所述激光器的激光覆盖范围大于或等于颗粒的竖直截面的长度。
由上述描述可知，这样使得在反射膜层发生全反射的激光不会被颗粒遮挡，避免膜层出现无法剥离的问题，增加了剥离的能量，加快剥离速率，减少入射进OLED器件的激光，进一步保护了OLED器件，在一定程度上可以减少入射激光的功率，降低激光器的规格，降低设备成本。
进一步的，所述剥离膜层的材质为聚酰亚胺，所述剥离膜层的厚度为0.5μm-2μm。
请参照图4，本发明提供的另一种技术方案：
一种新型柔性激光剥离面板的制备方法，包括以下步骤：
步骤S1、提供一玻璃基板，且在所述玻璃基板上覆盖剥离膜层；
步骤S2、形成一反射膜层，且覆盖于剥离膜层表面；
步骤S3、提供一OLED器件，且覆盖于反射膜层表面。
从上述描述可知，本发明的有益效果在于：
在玻璃基板表面涂完剥离膜层之后，再通过PECVD/PVD在剥离膜层表面沉积反射膜层，通过反射膜层的全反射作用提高激光在剥离界面的能量，也减小了由于激光折射进器件的激光对器件的影响，加快剥离速率；因为激光器功率越高，制作工艺越难，价格也越高，通过本方案可以降低激光器的功率规格，减少购价成本，提高经济效益。
进一步的，所述反射膜层的材质为氮硅化合物，所述反射膜层的厚度为0.1μm-0.2μm。
从上述描述可知，将反射膜层的材质采用氮硅化合物，且反射膜层的厚度设为0.1μm-0.2μm，能够进一步提高反射膜层的反射效果，更加有效地将即将进入器件的折射光经过反层射膜反射回剥离界面，从而进一步增加了激光的能量和提高产品剥离的良率。
进一步的，所述反射膜层的材质为氧硅化合物和氮硅化合物，所述反射膜层的厚度为0.2μm-0.3μm。
从上述描述可知，将反射膜层的材质采用氧硅化合物和氮硅化合物，且反射膜层的厚度设为0.2μm-0.3μm，能够进一步提高反射膜层的反射效果，更加有效地将即将进入器件的折射光经过反层射膜反射回剥离界面，从而进一步增加了激光的能量和提高产品剥离的良率。
进一步的，所述剥离膜层的材质为聚酰亚胺，所述剥离膜层的厚度为0.5μm-2μm。
请参照图1至图3，本发明的实施例一为：
请参照图1，一种新型柔性激光剥离面板，包括玻璃基板1，所述玻璃基板1的一侧面依次层叠设有剥离膜层2、反射膜层3和OLED器件4，所述剥离膜层2分别与玻璃基板1和反射膜层3接触，外设的激光器位于玻璃基板1的一侧面相对的另一侧面的上方。
所述反射膜层3采用PECVD设备沉积一层或多层得到。
所述反射膜层3的材质可以为氮硅化合物，即SiNx(其中x为正整数)，所述反射膜层3的厚度为0.1μm-0.2μm，优选为0.15μm。
所述反射膜层3的材质可以为氧硅化合物和氮硅氧化物(即SiO2和SiNx(其中x为正整数))，即采用氧硅化合物和氮硅氧化物共同制成的叠层结构，所述反射膜层3的叠层的厚度为0.2μm-0.3μm，优选为0.25μm。
当发射膜层采用氧硅化合物和氮硅化合物叠层设计时，若是双层，则采用氧硅化合物一层和氮硅化合物一层，各自厚度范围是0.1μm-0.3μm，优选的厚度值均为0.2μm，叠层结构可以是双层结构或三明治结构或四层结构，优选为四层结构(即SiNx/SiO2/SiNx/SiO2)，优选光是从光疏到光密的介质传输(即叠层结构中薄膜的第一层SiNx的折射率小于第二层SiO2的折射率，依次递减)。
所述反射膜层的材质可以为氧硅化合物，即SiO2，所述反射膜层的厚度为0.2μm-0.6μm，优选为0.4μm。
所述剥离膜层2与玻璃基板1之间的接触面设有颗粒5，所述激光器的激光覆盖范围大于或等于颗粒5的竖直截面的长度。
所述剥离膜层2的材质为聚酰亚胺，所述剥离膜层2的厚度为0.5μm-2μm，优选为1.5μm。
本方案的具体实施例为：
请参照图2，激光器发出的激光照射在剥离膜层2和玻璃基板1的接触面时，形成入射光角度θ1，部分激光会透过剥离膜层2折射进入OLED器件4，然后照射在反射膜层3界面上面，形成入射角θ2，反射膜层3的作用是把折射的激光在反射膜层3界面上经过全反射，形成折射光的反射角θ3，反射回去的激光照射在剥离界面(即剥离膜层2和玻璃基板1的接触面)上面，增加了剥离的能量，加快剥离速率，减少入射进器件的激光，进一步保护了器件，在一定程度上可以减少入射激光的功率，降低激光器的规格，降低设备成本；
当玻璃在涂布剥离膜层2时，由于机械结构和环境颗粒5引入的原因，在剥离膜层2和玻璃基板1的接触面的地方引入颗粒5，导致部分入射的激光被颗粒5挡住，使激光能量无法到达剥离界面，此处区域无法剥离，如图3所示；
此时可通过机台光学自动检测颗粒5的高度d和颗粒5的长度L，为了使激光到达被颗粒5遮挡的剥离界面，根据光的折射定律，公式：Sinθ1/Sinθ2＝n(n为剥离膜层2的绝度折射率)，θ2＝θ3；
如果激光要剥离整个颗粒5遮挡的区域，激光必须要覆盖此区域，激光从颗粒5的左边进入，反射光必须要达到颗粒5的右边边缘，因为入射角等于反射角，所以折射的激光刚刚在颗粒5遮挡的阴影区域中心发生全反射，所以Tanθ3＝L/2(H-d)，其中H为剥离膜层2的厚度；
则θ2＝n*arctanL/2(H-d)，根据此公式，激光的出射光根据颗粒5大小调整入射光的角度，使被颗粒5遮挡的剥离界面也能被剥离，以此提高产品良率。
请参照图4，本发明的实施例二为：
一种新型柔性激光剥离面板的制备方法，包括以下步骤：
步骤S1、提供一玻璃基板1，且在所述玻璃基板1上覆盖剥离膜层2；
步骤S2、形成一反射膜层3，且覆盖于剥离膜层2表面；
步骤S3、提供一OLED器件4，且覆盖于反射膜层3表面。
所述反射膜层3的材质为氮硅化合物，可以为SiNx(其中x为正整数)所述反射膜层3的厚度为0.1μm-0.2μm，优选为0.15μm。
所述反射膜层3的材质可以为氧硅化合物和氮硅氧化物(即SiO2和SiNx(其中x为正整数))，即采用氧硅化合物和氮硅氧化物的共同制成的叠层结构，所述反射膜层3的叠层的厚度为0.2μm-0.3μm，优选为0.25μm。
所述剥离膜层2的材质为聚酰亚胺，所述剥离膜层2的厚度为0.5μm-2μm，优选为1.5μm。
综上所述，本发明提供的一种新型柔性激光剥离面板及其制备方法，通过在剥离膜层和OLED器件之间设置反射膜层，使得激光器反射的激光经过玻璃基板和剥离膜层之间的接触界面时，激光发生折射，由于反射膜层的反射作用，使得即将进入器件的折射光经过反层射膜反射回剥离界面，增加了激光的能量和提高产品剥离的良率，不仅提高机台的产能，也规避了OLED器件被折射光影响而失效的风险。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种新型柔性激光剥离面板，其特征在于，包括玻璃基板，所述玻璃基板的一侧面依次层叠设有剥离膜层、反射膜层和OLED器件，所述剥离膜层分别与玻璃基板和反射膜层接触，外设的激光器位于玻璃基板的一侧面相对的另一侧面的上方。
2.根据权利要求1所述的新型柔性激光剥离面板，其特征在于，所述反射膜层的材质为氮硅化合物，所述反射膜层的厚度为0.1μm-0.2μm。
3.根据权利要求1所述的新型柔性激光剥离面板，其特征在于，所述反射膜层的材质为氧硅化合物和氮硅化合物，所述反射膜层的厚度为0.2μm-0.3μm。
4.根据权利要求1所述的新型柔性激光剥离面板，其特征在于，所述反射膜层的材质为氧硅化合物，所述反射膜层的厚度为0.2μm-0.6μm。
5.根据权利要求1所述的新型柔性激光剥离面板，其特征在于，所述剥离膜层与玻璃基板之间的接触面设有颗粒，所述激光器的激光覆盖范围大于或等于颗粒的竖直截面的长度。
6.根据权利要求1所述的新型柔性激光剥离面板，其特征在于，所述剥离膜层的材质为聚酰亚胺，所述剥离膜层的厚度为0.5μm-2μm。
7.一种新型柔性激光剥离面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤S1、提供一玻璃基板，且在所述玻璃基板上覆盖剥离膜层；
步骤S2、形成一反射膜层，且覆盖于剥离膜层表面；
步骤S3、提供一OLED器件，且覆盖于反射膜层表面。
8.根据权利要求7所述的新型柔性激光剥离面板的制备方法，其特征在于，所述反射膜层的材质为氮硅化合物，所述反射膜层的厚度为0.1μm-0.2μm。
9.根据权利要求7所述的新型柔性激光剥离面板的制备方法，其特征在于，所述反射膜层的材质为氧硅化合物和氮硅化合物，所述反射膜层的厚度为0.2μm-0.3μm。
10.根据权利要求7所述的新型柔性激光剥离面板的制备方法，其特征在于，所述剥离膜层的材质为聚酰亚胺，所述剥离膜层的厚度为0.5μm-2μm。
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