CN209447196U - 光学指纹传感器模组 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 219
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims abstract description 73
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 34
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 13
- 239000003921 oil Substances 0.000 claims description 9
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 claims description 8
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 claims description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 323
- 239000000463 material Substances 0.000 description 29
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 19
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 6
- 241000446313 Lamella Species 0.000 description 5
- 241000209094 Oryza Species 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 description 2
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 244000283207 Indigofera tinctoria Species 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000000392 somatic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Image Input (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
一种光学指纹传感器模组，包括：自发光显示面板，自发光显示面板包括指纹区和位于指纹区周围的非指纹显示区；位于自发光显示面板背面且覆盖指纹区的反光滤光层，反光滤光层对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率，且反光滤光层对绿光的透过率大于对红光的透过率；位于自发光显示面板背面且覆盖非指纹显示区的光学层，光学层对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率；位于自发光显示面板的指纹区底部的屏下指纹模组，屏下指纹模组包括光学传感器，反光滤光层位于所述自发光显示面板和光学传感器之间。所述光学指纹传感器模组的性能得到提高。
Description
技术领域
本发明涉及光学指纹识别领域，尤其涉及一种光学指纹传感器模组。
背景技术
指纹成像识别技术，是通过光学指纹传感器采集到人体的指纹图像，然后与系统里的已有指纹成像信息进行比对，来判断正确与否，进而实现身份识别的技术。由于其使用的方便性，以及人体指纹的唯一性，指纹成像识别技术已经大量应用于各个领域，如公安局和海关等安检领域、楼宇的门禁系统、以及个人电脑和手机等消费品领域等。
指纹成像识别技术的成像方式有光学成像、电容成像、超声成像等多种技术。相对来说，光学指纹成像识别技术成像效果相对较好，设备成本相对较低。
然而，现有的光学指纹传感器模组的性能有待提高。
发明内容
本发明解决的问题是提供一种光学指纹传感器模组，以提高光学指纹传感器模组的性能。
为解决上述问题，本发明提供一种光学指纹传感器模组，包括：自发光显示面板，所述自发光显示面板包括指纹区和位于指纹区周围的非指纹显示区；位于所述自发光显示面板背面且覆盖指纹区的反光滤光层，所述反光滤光层对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率，且所述反光滤光层对绿光的透过率大于对红光的透过率；位于所述自发光显示面板背面且覆盖非指纹显示区的光学层，所述光学层对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率；位于所述自发光显示面板的指纹区底部的屏下指纹模组，所述屏下指纹模组包括光学传感器，所述反光滤光层位于所述自发光显示面板和光学传感器之间。
可选的，所述反光滤光层对波长为630纳米～1000纳米的光的反射率大于80％，且所述反光滤光层对波长为500纳米～580纳米的光的透过率大于80％。
可选的，所述光学层对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于50％。
可选的，所述反光滤光层对蓝光的透过率小于、等于或大于对红光的透过率。
可选的，所述反光滤光层包括：透光基板和位于所述透光基板表面的多层层叠的干涉反射膜。
可选的，所述透光基板为聚酰亚胺层或聚对苯二甲酸乙二醇酯层，所述干涉反射膜为氮化铝层、氧化硅层或氧化钛层。
可选的，所述屏下指纹模组与所述反光滤光层贴合在一起，所述反光滤光层位于所述自发光显示面板和所述屏下指纹模组之间；所述光学层和所述反光滤光层一体成型。
可选的，所述屏下指纹模组包括反光滤光层；所述光学层的结构和所述反光滤光层的结构不同。
可选的，所述光学层为红色油墨层。
可选的，所述反光滤光层的厚度为20um～200um。
可选的，所述光学层的厚度为20um～200um。
可选的，所述屏下指纹模组还包括：光准直层，所述光准直层位于所述光学传感器和所述反光滤光层之间。
可选的，还包括：位于所述光学层表面的遮光层，且所述光学层位于所述自发光显示面板和所述遮光层之间。
可选的，所述遮光层为黑色油膜层或黑色胶带层。
与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：
本发明技术方案提供的光学指纹传感器模组中，外部环境中的红光透过自发光显示面板照射至反光滤光层时，由于反光滤光层对红光具有很高的反射率，因此外界红光就会很大比例被反射至外界环境中，这样能防止外部环境中过多的红光进入光学传感器，避免外部环境中的红光影响指纹成像效果。光学指纹传感器模组还包括光学层，光学层位于所述自发光显示面板背面且覆盖非指纹显示区，所述光学层对红光的反射率也很高，因此光学层对外部环境中红光的反射程度和反光滤光层对外部环境中红光的反射程度差别较小，这样当人眼观看自发光显示面板的指纹区和非指纹显示区时，指纹区出射的红光和非指纹显示区出射的红光的强度差别较小，从而降低了指纹区显示的画面和非指纹显示区显示的画面之间的色差。综上，光学指纹传感器模组的性能得到提高。
附图说明
图1是一种光学指纹传感器模组的结构示意图；
图2至图6是本发明一实施例中光学指纹传感器模组形成过程的结构示意图；
图7至图10是本发明另一实施例中光学指纹传感器模组形成过程的结构示意图。
具体实施方式
正如背景技术所述，现有技术形成的光学指纹传感器模组的性能较差。
一种光学指纹传感器模组，请参考图1，包括：自发光显示面板100，所述自发光显示面板100包括指纹区A和位于指纹区A周围的非指纹显示区B；位于所述自发光显示面板指纹区100底部的屏下指纹模组120，所述屏下指纹模组120包括反光滤光层121、光准直层122和光学传感器123，光准直层122位于反光滤光层121和光学传感器123之间，反光滤光层121位于自发光显示面板100和光准直层122之间；位于所述自发光显示面板100非指纹显示区B底部的遮光层130。
由于手指皮肤对外部环境中的红外光和红光具有很高的透过率，具体的，手指皮肤对波长为630纳米～1000纳米的光的透过率大于90％，且光学传感器123对波长为630纳米～1000纳米的光具有一定的响应。外部环境中波长为630纳米～1000纳米的光透过自发光显示面板照射至反光滤光层121时，由于反光滤光层121对波长为630纳米～1000纳米的光具有很高的反射率，因此照射至反光滤光层121的红外光和红光就会很大比例被反射至外界环境中，这样能防止外部环境中过多的红光和红外光进入光学传感器123，避免外部环境中的红外光和红光影响指纹成像效果。
由于自发光显示面板100发出的绿光用于指纹成像时的效果较好，因此通常自发光显示面板100至少采用绿光用于指纹成像。那么就要求反光滤光层121对绿光具有很高的透过率。当自发光显示面板100射向手指的光被手指反射后照射至反光滤光层121时，绿光绝大部分能透过反光滤光层121，用于指纹成像。
当外界光较强时，对于波长为630纳米～800纳米的光，部分外界光b透过自发光显示面板100照射至反光滤光层121，由于反光滤光层121对波长为630纳米～1000纳米的光具有很高的反射率，因此外界光b就会很大比例被反射至外界环境中；而部分外界光a透过自发光显示面板100照射至遮光层130，而遮光层130具有一定的吸光性，外界光a绝大部分被遮光层130吸收，较少的外界光a被遮光层130反射。人眼的敏感区为400纳米至800纳米。在此基础上，当人眼观看自发光显示面板100的指纹区A和非指纹显示区B时，指纹区A出射的红色光和非指纹显示区B出射的红色光的强度差别较大，导致指纹区A显示的画面偏红，指纹区A显示的画面和非指纹显示区B显示的画面之间的色差较大。综上，导致光学指纹传感器模组的性能较差。
在此基础上，本发明提供一种光学指纹传感器模组，包括：自发光显示面板，自发光显示面板包括指纹区和位于指纹区周围的非指纹显示区；位于自发光显示面板背面且覆盖指纹区的反光滤光层，反光滤光层对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率，且反光滤光层对绿光的透过率大于对红光的透过率；位于自发光显示面板背面且覆盖非指纹显示区的光学层，光学层对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率；位于自发光显示面板的指纹区底部的屏下指纹模组，屏下指纹模组包括光学传感器，反光滤光层位于自发光显示面板和光学传感器之间。所述光学指纹传感器模组的性能得到提高。
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
图2至图6是本发明一实施例中光学指纹传感器模组形成过程的结构示意图。
参考图2，提供自发光显示面板200，所述自发光显示面板200包括指纹区A1和位于指纹区A1周围的非指纹显示区B1。
所述自发光显示面板200包括第一透光基板201、第二透光基板202和自发光电路层203。自发光电路层203位于第一透光基板201和第二透光基板202之间。第一透光基板201和第二透光基板202的材料可以为透光材料，具体材料为无机玻璃或有机玻璃，也可以是有机玻璃以外的其它塑料制品，如塑料基板，塑料基板包括PI基板或PET基板。
所述自发光电路层203包括多个显示像素单元2031。图2中用虚线框示意出多个显示像素单元2031所在的区域，及各个显示像素单元2031相邻关系。需要说明的是，虽然虚线框包括了部分第一透光基板201和第二透光基板202，但这只是为了便于显示，显示像素单元2031并不包括第一透光基板201和第二透光基板202。
本实施例中，自发光显示面板200为OLED显示面板，相应的，显示像素单元2031包括阳极层、空穴注入层(HIL)、发光层(EML)、电子注入层(EIL)和阴极层等结构，显示像素单元2031还可以包括空穴传输层(HTL)和电子传输层(ETL)，显示像素单元2031还包括驱动OLED的TFT、驱动金属线和存储电容等结构。
所述指纹区A1指的是用户在使用光学指纹传感器模组进行指纹识别时，用于用户手指按压的区域，且指纹区A1还能用于显示画面。所述非指纹显示区B1不用于用户手指按压，而是用于显示画面。
所述自发光显示面板200发出的绿光用于指纹成像时的效果较好，因此通常自发光显示面板200至少采用绿光用于指纹成像。
参考图3，提供屏下指纹模组300，所述屏下指纹模组300包括光学传感器301。
所述光学传感器301包括传感器透光基板(未图示)和位于所述传感器透光基板表面的指纹感测电路层(未图示)。
所述传感器透光基板的材料可以为玻璃或者PI基板。
所述指纹感测电路层包括信号线、驱动线和感光像素阵列，所述感光像素阵列包括若干感光像素单元。
在其他实施例中，所述光学传感器301为：以硅晶圆作为衬底的CMOS光学传感器。
所述屏下指纹模组还包括：光准直层302。
所述光准直器层302具有相对的第一准直面和第二准直面，第一准直面和第二准直面平行，所述光准直器层302包括多个光准直单元，所述光准直单元的延伸方向垂直于第一准直面和第二准直面。
所述光准直器层302用于使透过自发光显示面板200射向光学传感器301的光线更加准直。所述光准直器层302对光线的准直作用，有助于提高光学传感器301的指纹识别性能。
本实施例中，每个光准直单元具有芯层和包围芯层的皮层。光准直器层302主要利用芯层来通过光线，而皮层则用于吸收光线，芯层和皮层配合使用，从而达到上述光准直作用。
在其它实施例中，所述光准直器层为柔性准直器。
在其它实施例中，所述光准直器层包括多个光准直单元，所述光准直单元具有空心通孔和包围空心通孔的不透光材料。
所述指纹感测电路层位于传感器透光基板和光准直器层302之间。
第一准直面朝向光学传感器301，第二准直面背向光学传感器301。
参考图4，在所述自发光显示面板200背面贴合覆盖指纹区A1的反光滤光层220，所述反光滤光层220对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率，且所述反光滤光层220对绿光的透过率大于对红光的透过率；在所述自发光显示面板200背面贴合覆盖非指纹显示区B1的光学层221，所述光学层221对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率。
所述反光滤光层220对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率，具体的，入射光的入射角度为入射光与反光滤光层220表面法线之间的夹角，在反光滤光层220表面，至少对于入射角度为大于等于-5度且小于等于5度的入射光，所述反光滤光层220对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率。
本实施例中，屏下指纹模组300不包括反光滤光层220。
本实施例中，所述光学层221的材料和所述反光滤光层220的材料相同，所述光学层221的结构和所述反光滤光层220的结构相同，在所述自发光显示面板200背面贴合覆盖指纹区A1的反光滤光层220的过程中，在所述自发光显示面板200背面贴合覆盖非指纹显示区B1的光学层，即在同一道工艺中对反光滤光层220进行贴合且对光学层221进行贴合，在贴合反光滤光层220至自发光显示面板200的指纹区A1以及贴合光学层221至自发光显示面板200的非指纹显示区B1之前，反光滤光层220和光学层221一体成型。
所述反光滤光层220对波长为630纳米～1000纳米的光的反射率大于80％，进一步，所述反光滤光层220对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于80％。
在反光滤光层220表面，至少对于入射角度为大于等于-5度且小于等于5度的入射光，所述反光滤光层220对波长为630纳米～1000纳米的光的反射率大于80％，所述反光滤光层220对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于80％。
所述反光滤光层220对波长为500纳米～580纳米的光的透过率大于80％。
在反光滤光层220表面，至少对于入射角度为大于等于-5度且小于等于5度的入射光，所述反光滤光层220对波长为500纳米～580纳米的光的透过率大于80％。
所述反光滤光层220对蓝光的透过率小于、等于或大于对红光的透过率。
在一个实施例中，所述反光滤光层220对蓝光的透过率较大，所述反光滤光层220对蓝光的透过率大于80％。
所述反光滤光层220包括：透光基板和位于所述透光基板表面的多层层叠的干涉反射膜。所述透光基板的材料为聚酰亚胺或聚对苯二甲酸乙二醇酯，所述干涉反射膜的材料包括氮化铝、氧化硅或氧化钛。通过对多层干涉反射膜的每一层的厚度的精确控制，以实现多层层叠的干涉反射膜对光的干涉，具体表现在：在反光滤光层220表面，至少对于入射角度为大于等于-5度且小于等于5度的入射光，反光滤光层220对红光和红外光具有高反射率，对绿光和蓝光具有高透过率。
所述透光基板位于光准直器层和多层层叠的干涉反射膜之间，或者，多层层叠的干涉反射膜位于透光基板和光准直器层之间。
所述反光滤光层220的厚度为20um～200um。所述反光滤光层220的厚度选择该范围的意义在于：若反光滤光层220的厚度大于200um，则导致光学指纹传感器模组整体的厚度过大，不够轻薄；若反光滤光层220的厚度小于20um，则导致反光滤光层220的制作难度较大，具体表现在：反光滤光层220中透光基板的厚度较小，透光基板容易形变，干涉反射膜的成膜工艺不好控制，干涉反射膜的厚度均匀性较差。
所述光学层221对波长为600纳米～1000纳米的光的反射率大于80％，即光学层221对波长为600纳米～1000纳米的光具有很高的反射率。进一步的，光学层221对波长为610纳米～800纳米的光的反射率大于80％。
所述光学层221对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于50％，即光学层221对波长为630纳米～800纳米的光具有很高的反射率。进一步的，光学层221对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于80％。
所述光学层221对蓝光的透过率小于、等于或大于对红光的透过率，在一个实施例中，所述光学层221对蓝光的透过率较大，所述光学层221对蓝光的透过率大于80％。
所述光学层221的厚度为20um～200um。所述光学层221的厚度选择该范围的意义在于：若光学层221的厚度大于200um，则导致光学指纹传感器模组整体的厚度过大，不够轻薄；若光学层221的厚度小于20um，则导致光学层221的形成工艺不好控制，光学层221的厚度均匀性较差。
本实施例中，采用第一光学胶层210分别将所述反光滤光层220和所述自发光显示面板200的指纹区A1的背面、以及光学层221和所述自发光显示面板200非指纹显示区B1的背面贴合在一起。
所述第一光学胶层210透光，所述第一光学胶层210能够透射自发光显示面板200发出的光，第一光学胶层210对红光、蓝光和绿光均能够透过。
参考图5，将所述屏下指纹模组300贴合在自发光显示面板200的指纹区A1底部，所述反光滤光层220位于所述自发光显示面板200和光学传感器301之间。
本实施例中，反光滤光层220位于所述自发光显示面板200和所述屏下指纹模组300之间。
在所述自发光显示面板200背面贴合覆盖指纹区A1的反光滤光层220之后，且在所述自发光显示面板200背面贴合覆盖非指纹显示区B1的光学层221之后，将所述屏下指纹模组300贴合在自发光显示面板200的指纹区A1底部，具体的，将屏下指纹模组300与反光滤光层220贴合在一起。
本实施例中，采用第二光学胶层230将所述屏下指纹模组300和反光滤光层220贴合在一起，具体的，采用第二光学胶层230将第二准直面与反光滤光层220贴合在一起。
第二光学胶层230的材料参照第一光学胶层210。第二光学胶层230对红光、蓝光和绿光均能够透过。
所述光准直层302位于所述光学传感器301和所述反光滤光层220之间。
需要说明的是，屏下指纹模组300与光学层221并不贴合。
在其他实施例中，没有第二光学胶层230，所述光准直层302和所述反光滤光层220中的周边区域相贴合，所述光准直层302和所述反光滤光层220中的中心区域之间具有很薄的空气间隙层，所述空气间隙层的厚度小于等于300um。
参考图6，在所述自发光显示面板200背面贴合覆盖非指纹显示区B1的光学层221之后，在光学层221表面贴合遮光层250；所述光学层221位于所述自发光显示面板200和所述遮光层250之间。
所述遮光层250为黑色油膜层或黑色胶带层。
所述遮光层250的作用包括：吸收外界环境穿过自发光显示面板200非指纹显示区B1的光线，避免自发光显示面板200非指纹显示区B1底部的部件对这部分光的反射不均一的现象。
相应的，本实施例还提供一种采用上述方法形成的光学指纹传感器模组，请参考图6，包括：
自发光显示面板200，所述自发光显示面板200包括指纹区A1和位于指纹区A1周围的非指纹显示区B1；
位于所述自发光显示面板200背面且覆盖指纹区A1的反光滤光层220，所述反光滤光层220对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率，且所述反光滤光层220对绿光的透过率大于对红光的透过率；
位于所述自发光显示面板200背面且覆盖非指纹显示区B1的光学层221，所述光学层221对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率；
位于所述自发光显示面板200的指纹区A1底部的屏下指纹模组300，所述屏下指纹模组300包括光学传感器301，所述反光滤光层301位于所述自发光显示面板200和光学传感器301之间。
所述自发光显示面板200参照前述内容，不再详述。
所述反光滤光层220对波长为630纳米～1000纳米的光的反射率大于80％，进一步，所述反光滤光层220对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于80％，且所述反光滤光层220对波长为500纳米～580纳米的光的透过率大于80％。
在反光滤光层220表面，至少对于入射角度为大于等于-5度且小于等于5度的入射光，所述反光滤光层220对波长为630纳米～1000纳米的光的反射率大于80％，所述反光滤光层220对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于80％。
在反光滤光层220表面，至少对于入射角度为大于等于-5度且小于等于5度的入射光，所述反光滤光层220对波长为500纳米～580纳米的光的透过率大于80％。
所述反光滤光层220对蓝光的透过率小于、等于或大于对红光的透过率。
在一个实施例中，所述反光滤光层220对蓝光的透过率较大，所述反光滤光层220对蓝光的透过率大于80％。
所述反光滤光层220包括：透光基板和位于所述透光基板表面的多层层叠的干涉反射膜。所述透光基板的材料为聚酰亚胺或聚对苯二甲酸乙二醇酯，所述干涉反射膜的材料包括氮化铝、氧化硅或氧化钛。通过对多层干涉反射膜的每一层的厚度的精确控制，以实现多层层叠的干涉反射膜对光的干涉，具体表现在：在反光滤光层220表面，至少对于入射角度为大于等于-5度且小于等于5度的入射光，反光滤光层220对红光和红外光具有高反射率，对绿光和蓝光具有高透过率。
所述反光滤光层220的厚度为20um～200um。
所述光学层221的厚度为20um～200um。
所述光学层221对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于50％，即光学层221对波长为630纳米～800纳米的光具有很高的反射率。进一步的，光学层221对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于80％。
本实施例中，所述光学层221对波长为500纳米～580纳米的光的透过率大于80％。
所述光学层221对蓝光的透过率小于、等于或大于对红光的透过率，在一个实施例中，所述光学层221对蓝光的透过率较大，所述光学层221对蓝光的透过率大于80％。
本实施例中，所述屏下指纹模组300与所述反光滤光层220贴合在一起，所述反光滤光层220位于所述自发光显示面板200和所述屏下指纹模组300之间；所述光学层221的材料和所述反光滤光层220的材料相同，所述光学层221的结构和所述反光滤光层220的结构相同。
所述屏下指纹模组还包括：光准直层302，所述光准直层302位于所述光学传感器301和所述反光滤光层220之间。
所述光准直层302参照前述内容，不再详述。所述光学传感器301参照前述内容，不再详述。
所述光学指纹传感器模组还包括：位于所述光学层221表面的遮光层250，且所述光学层221位于所述自发光显示面板200和所述遮光层250之间。
所述遮光层250为黑色油膜层或黑色胶带层。
所述光学指纹传感器模组还包括：第一光学胶层210，第一光学胶层210分别位于反光滤光层220和自发光显示面板200的指纹区A1之间、以及光学层221和自发光显示面板200的非指纹显示区B1之间。
所述光学指纹传感器模组还包括：位于所述屏下指纹模组300和反光滤光层220之间的第二光学胶层230。
本实施例中，光学层位于所述自发光显示面板背面且覆盖非指纹显示区，所述光学层对红光的反射率也很高，因此光学层对外部环境中红光的反射程度和反光滤光层对外部环境中红光的反射程度差别较小，这样当人眼观看自发光显示面板的指纹区和非指纹显示区时，指纹区出射的红光和非指纹显示区出射的红光的强度差别较小，从而降低了指纹区显示的画面和非指纹显示区显示的画面之间的色差。
本发明另一实施例还提供一种光学指纹传感器模组的形成方法，本实施例与前一实施例的区别在于：所述屏下指纹模组包括反光滤光层；所述光学层的材料和所述反光滤光层的材料不同；通过将反光滤光层贴合在所述自发光显示面板指纹区的背面，使所述屏下指纹模组贴合在自发光显示面板的指纹区底部；将所述屏下指纹模组贴合在自发光显示面板的指纹区底部之后，在所述自发光显示面板背面贴合覆盖非指纹显示区的光学层。关于本实施例与前一实施例相同的部分，不再详述。
图7至图10是本发明另一实施例中光学指纹传感器模组形成过程的结构示意图。图7至图10均为在图2基础上的示意图。
参考图7，提供屏下指纹模组400，所述屏下指纹模组400包括光学传感器401和反光滤光层403。
所述屏下指纹模组400还包括光准直层402，光准直层402位于反光滤光层403和光学传感器401之间。所述光准直层402参照前述实施例中的光准直层。
所述反光滤光层403的材料参照前述实施例中反光滤光层的材料，所述反光滤光层403的厚度参照前述实施例中反光滤光层的厚度，所述反光滤光层403的反射率参照前述实施例中的反光滤光层的反射率，所述反光滤光层403的透过率参照前述实施例中反光滤光层的透过率。所述反光滤光层403的结构参照前述实施例中反光滤光层的结构。
参考图8，将所述屏下指纹模组400贴合在自发光显示面板200的指纹区A1底部，且反光滤光层403朝向所述自发光显示面板200指纹区A1的背面。
所述反光滤光层403位于所述自发光显示面板200和光学传感器401之间，具体的，所述反光滤光层403位于所述自发光显示面板200和光准直层402之间。
本实施例中，采用第一光学胶层420将反光滤光层403与自发光显示面板200指纹区A1的背面贴合在一起。第一光学胶层420的材料参照前述实施例中第一光学胶层的材料。
在其他实施例中，没有第一光学胶层420，反光滤光层403与指纹区A1中的周边区域相贴合，反光滤光层403与指纹区A1中的中心区域之间具有很薄的空气间隙层，所述空气间隙层的厚度小于等300um。
参考图9，将所述屏下指纹模组400贴合在自发光显示面板200的指纹区A1底部之后，在所述自发光显示面板200背面贴合覆盖非指纹显示区B1的光学层430。
所述光学层430的厚度参照前述实施例中光学层的厚度。
所述光学层221对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于50％，即光学层221对波长为630纳米～800纳米的光具有很高的反射率。进一步的，光学层221对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于80％。本实施例中，光学层430对绿光的透过率不做要求，光学层430对蓝光的透过率不做要求，因此光学层430和反光滤光层403采用不同的结构和材料，所述光学层430的制作难度降低。
本实施例中，所述光学层430为红色油墨层。
所述光学层430的结构和所述反光滤光层403的结构不同。
参考图10，在所述自发光显示面板200背面贴合覆盖非指纹显示区A1的光学层430之后，在光学层430表面贴合遮光层440，所述光学层430位于所述自发光显示面板200和所述遮光层440之间。
所述遮光层440为黑色油膜层或黑色胶带层。
相应的，本实施例还提供一种采用上述方法形成的光学指纹传感器模组，请参考图10，包括：自发光显示面板200，所述自发光显示面板200包括指纹区A1和位于指纹区A1周围的非指纹显示区B1；位于所述自发光显示面板200的指纹区A1底部的屏下指纹模组400，所述屏下指纹模组400包括光学传感器401和反光滤光层403，所述反光滤光层403位于所述自发光显示面板200和光学传感器401之间，反光滤光层403覆盖指纹区A1的背面，所述反光滤光层403对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率，且所述反光滤光层403对绿光的透过率大于对红光的透过率；位于所述自发光显示面板200背面且覆盖非指纹显示区B1的光学层430，所述光学层430对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率，所述光学层430的材料和所述反光滤光层403的材料不同。
所述屏下指纹模组400还包括光准直层402，光准直层402位于反光滤光层403和光学传感器401之间。所述光准直层402参照前述实施例中的光准直层。
所述光学层430的厚度参照前述实施例中光学层的厚度。
所述光学层221对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于50％，即光学层221对波长为630纳米～800纳米的光具有很高的反射率。进一步的，光学层221对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于80％。
本实施例中，光学层430对绿光的透过率不做要求，光学层430对蓝光的透过率不做要求，因此光学层430和反光滤光层403采用不同的结构和材料，所述光学层430的制作难度降低。
所述光学层430为红色油墨层。
所述反光滤光层403位于所述自发光显示面板200和光学传感器401之间，具体的，所述反光滤光层403位于所述自发光显示面板200和光准直层402之间。
所述反光滤光层403的材料参照前述实施例中反光滤光层的材料，所述反光滤光层403的厚度参照前述实施例中反光滤光层的厚度，所述反光滤光层403的反射率参照前述实施例中的反光滤光层的反射率，所述反光滤光层403的透过率参照前述实施例中反光滤光层的透过率。所述反光滤光层403的结构参照前述实施例中反光滤光层的结构。
本实施例中，所述光学指纹传感器模组还包括：第一光学胶层420，第一光学胶层420位于反光滤光层403与自发光显示面板200指纹区A1之间。
本实施例中，所述光学指纹传感器模组还包括：位于所述光学层430表面的遮光层440，且所述光学层430位于所述自发光显示面板200和所述遮光层440之间，所述遮光层440为黑色油膜层或黑色胶带层。
虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。
Claims (14)
1.一种光学指纹传感器模组，其特征在于，包括：
自发光显示面板，所述自发光显示面板包括指纹区和位于指纹区周围的非指纹显示区；
位于所述自发光显示面板背面且覆盖指纹区的反光滤光层，所述反光滤光层对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率，且所述反光滤光层对绿光的透过率大于对红光的透过率；
位于所述自发光显示面板背面且覆盖非指纹显示区的光学层，所述光学层对红光的反射率大于对绿光的反射率且大于对蓝光的反射率；
位于所述自发光显示面板的指纹区底部的屏下指纹模组，所述屏下指纹模组包括光学传感器，所述反光滤光层位于所述自发光显示面板和光学传感器之间。
2.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述反光滤光层对波长为630纳米～1000纳米的光的反射率大于80％，且所述反光滤光层对波长为500纳米～580纳米的光的透过率大于80％。
3.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述光学层对波长为630纳米～800纳米的光的反射率大于50％。
4.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述反光滤光层对蓝光的透过率小于、等于或大于对红光的透过率。
5.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述反光滤光层包括：透光基板和位于所述透光基板表面的多层层叠的干涉反射膜。
6.根据权利要求5所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述透光基板为聚酰亚胺层或聚对苯二甲酸乙二醇酯层，所述干涉反射膜为氮化铝层、氧化硅层或氧化钛层。
7.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述屏下指纹模组与所述反光滤光层贴合在一起，所述反光滤光层位于所述自发光显示面板和所述屏下指纹模组之间；所述光学层和所述反光滤光层一体成型。
8.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述屏下指纹模组包括反光滤光层；所述光学层的结构和所述反光滤光层的结构不同。
9.根据权利要求8所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述光学层为红色油墨层。
10.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述反光滤光层的厚度为20um～200um。
11.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述光学层的厚度为20um～200um。
12.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述屏下指纹模组还包括：光准直层，所述光准直层位于所述光学传感器和所述反光滤光层之间。
13.根据权利要求1所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，还包括：位于所述光学层表面的遮光层，且所述光学层位于所述自发光显示面板和所述遮光层之间。
14.根据权利要求13所述的光学指纹传感器模组，其特征在于，所述遮光层为黑色油膜层或黑色胶带层。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201920388102.3U CN209447196U (zh) | 2019-03-26 | 2019-03-26 | 光学指纹传感器模组 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201920388102.3U CN209447196U (zh) | 2019-03-26 | 2019-03-26 | 光学指纹传感器模组 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN209447196U true CN209447196U (zh) | 2019-09-27 |
Family
ID=68034152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201920388102.3U Withdrawn - After Issue CN209447196U (zh) | 2019-03-26 | 2019-03-26 | 光学指纹传感器模组 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN209447196U (zh) |
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| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| AV01 | Patent right actively abandoned | ||
| AV01 | Patent right actively abandoned | ||
| AV01 | Patent right actively abandoned |
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|
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Granted publication date: 20190927 Effective date of abandoning: 20240227 |