CN111613654A - 显示面板及显示面板制作方法 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种显示面板及显示面板的制作方法，所述显示面板包括衬底基板、薄膜晶体管层和发光层，所述发光层的靠近薄膜晶体管层一侧设置有第一遮光层，所述第一遮光层与所述薄膜晶体管层中的薄膜晶体管的位置为上下垂直对应。本申请利用所述第一遮光层遮挡射向所述薄膜晶体管的光线，从而避免了所述薄膜晶体管因受光线照射而出现的性能稳定性变差的问题，有利于提高显示面板的显示品质。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示面板制作方法。
背景技术
OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示器具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、对比度高、宽视角等性能特点，以及可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优势，被业界认为最有发展潜力的显示器。
OLED显示器具有底发光型和顶发光型两种。对于底发光型OLED显示器，发光元件(一般为白光OLED器件)发出的光线需要穿过显示器的层状结构后才能射出。为了提高底发光型OLED显示器的光能利用率，会在发光元件中设置反射型阴极，使射向该反射型阴极的光线被反射而从显示器的正面射出。但是，经反射型阴极反射出来的光线在穿过显示器的层状结构的过程中，会有一部分光线照射在显示器的薄膜晶体管上；而薄膜晶体管中的半导体材料具有光敏感性，其在受到光线照射后会引起薄膜晶体管性能的变化，通常表现为薄膜晶体管的工作稳定性变差，进而影响OLED显示器的显示品质。
发明内容
基于上述现有技术中的不足，本申请提供一种显示面板及显示面板制作方法，通过在显示面板中设置与薄膜晶体管垂直对应的第一遮光层结构，实现对射向所述薄膜晶体管的光线的遮挡，从而避免了所述薄膜晶体管因受光线照射而出现的性能稳定性变差的问题。
本申请提供一种显示面板，所述显示面板上具有显示区域，至少在所述显示区域内，所述显示面板包括：
衬底基板；
薄膜晶体管层，设置于所述衬底基板上，所述薄膜晶体管层中设置有多个薄膜晶体管；
发光层，设置于所述薄膜晶体管层上，所述发光层包括多个发光结构，所述发光结构与所述薄膜晶体管电性连接，且所述发光结构与所述薄膜晶体管在所述显示面板的厚度方向上错开设置；
第一遮光层，设置于所述发光层的靠近所述薄膜晶体管层的一侧，所述第一遮光层在所述薄膜晶体管层上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管。
根据本申请一实施例，所述发光结构包括：设置于所述薄膜晶体管层上的阳极层、设置于所述阳极层上的有机功能层、以及设置于所述有机功能层上的阴极层；
所述阳极层在所述薄膜晶体管层上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管，所述第一遮光层设置于所述阳极层上。
根据本申请一实施例，所述发光层还包括像素定义层，所述像素定义层上设置有多个通孔，所述发光结构设置于所述通孔中。
根据本申请一实施例，所述第一遮光层与所述发光结构在所述显示面板的厚度方向上错开设置。
根据本申请一实施例，所述衬底基板与所述薄膜晶体管层之间还设置有第二遮光层，所述第二遮光层在所述薄膜晶体管层上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管。
根据本申请一实施例，所述衬底基板与所述薄膜晶体管层之间还设置有缓冲层，所述第二遮光结构设置于所述缓冲层中。
根据本申请一实施例，在所述缓冲层靠近所述衬底基板的一侧和所述缓冲层靠近所述薄膜晶体管层的一侧分别设置存储电容的相对两极，且所述存储电容与所述发光结构在所述显示面板的厚度方向上的位置垂直对应。
根据本申请一实施例，所述显示面板还包括设置于所述薄膜晶体管层与所述发光层之间的彩色滤光层，所述彩色滤光层与所述发光结构在所述显示面板的厚度方向上的位置垂直对应。
本申请还提供一种显示面板制作方法，包括以下步骤：
提供一衬底基板，在所述衬底基板上制作第二遮光层；
在所述衬底基板上制作薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层覆盖所述第二遮光层，所述薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管与所述第二遮光层在所述显示面板的厚度方向上垂直对应；
在所述薄膜晶体管层上制作发光层，所述发光层包括靠近所述薄膜晶体管层一侧的第一遮光层、及多个发光结构，所述发光结构与所述薄膜晶体管在所述显示面板的厚度方向上相错开，所述第一遮光层在所述薄膜晶体管层上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管。
根据本申请一实施例，在所述薄膜晶体管层上制作所述发光层的步骤包括：
在所述薄膜晶体管层上制作阳极层；
在所述阳极层上制作所述第一遮光层，所述第一遮光层在所述薄膜晶体管层上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管；
在所述薄膜晶体管层上制作覆盖所述阳极层及所述第一遮光层的像素定义层；
在所述像素定义层上形成通孔，以暴露部分所述阳极层；
在所述像素定义层上及所述通孔内制作有机功能层，位于所述通孔内的所述有机功能层与所述阳极层直接接触；
在所述像素定义层上及所述通孔内制作阴极层，所述阴极层覆盖所述有机功能层，并且至少在所述通孔内所述阴极层与所述有机功能层直接接触。
根据本申请一实施例，制作所述阳极层和所述第一遮光层的方法包括以下步骤：
在所述薄膜晶体管层上通过涂布工艺或气相沉积工艺或喷墨打印工艺形成阳极材料层；
在所述阳极材料层上通过涂布工艺或气相沉积工艺或喷墨打印工艺形成第一遮光材料层；
利用第一半色调掩膜板对所述阳极材料层和所述第一遮光材料层共同进行光罩制程，以形成所述阳极层及第一中间遮光层；
利用第二半色调掩膜板对所述第一中间遮光层进行光罩制程，以形成所述第一遮光层。
根据本申请一实施例，在所述薄膜晶体管层上制作所述发光层之前，还包括以下步骤：
在所述薄膜晶体管层上制作彩色滤光层，使所述彩色滤光层与所述薄膜晶体管在所述显示面板的厚度方向上相错开，且使所述彩色滤光层与之后制作的所述发光结构在所述显示面板的厚度方向上的位置相对应。
根据本申请一实施例，还包括在所述发光层上制作薄膜封装层的步骤。
本申请的有益效果是：本申请提供的显示面板包括设置于发光层的靠近薄膜晶体管层一侧的第一遮光层，本申请提供的显示面板制作方法包括制作所述第一遮光层的步骤，通过将所述第一遮光层与所述薄膜晶体管层中的薄膜晶体管的位置设置为上下垂直对应，使射向所述薄膜晶体管的光线被所述第一遮光层遮挡，从而避免了所述薄膜晶体管因受光线照射而出现的性能稳定性变差的问题，有利于提高显示面板的显示品质。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例提供的显示面板的第一种结构示意图；
图2是本申请实施例提供的显示面板的第二种结构示意图；
图3是本申请实施例提供的显示面板制作方法流程图；
图3a是本申请实施例提供的显示面板制作方法中在衬底基板上制作缓冲层和第二遮光层后的结构示意图；
图3b是本申请实施例提供的显示面板制作方法中在缓冲层上制作薄膜晶体管层后的结构示意图；
图3c是本申请实施例提供的显示面板制作方法中在薄膜晶体管层上制作平坦层后的结构示意图；
图3d是本申请实施例提供的显示面板制作方法中在平坦层上制作阳极材料层和第一遮光材料层后的结构示意图；
图3e是本申请实施例提供的显示面板制作方法中形成阳极层和第一中间遮光层后的结构示意图；
图3f是本申请实施例提供的显示面板制作方法中形成第一遮光层后的结构示意图；
图3g是本申请实施例提供的显示面板制作方法中制作完成所述发光层后的结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本申请实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括设置于发光层的靠近薄膜晶体管层一侧的第一遮光层，使所述第一遮光层与所述薄膜晶体管层中的薄膜晶体管的位置上下垂直对应，利用所述第一遮光层实现对射向所述薄膜晶体管的光线的遮挡，从而避免了所述薄膜晶体管因受光线照射而出现的性能稳定性变差的问题，有利于提高显示面板的显示品质。
如图1所示，是本申请实施例提供的显示面板的第一种结构示意图。所述显示面板上具有显示区域，至少在所述显示区域内，所述显示面板具有多层结构，所述显示面板的多层结构包括衬底基板10、设置于所述衬底基板10上的薄膜晶体管层20、以及设置于所述薄膜晶体管层20上的发光层30。需要说明的是，所述显示区域是所述显示面板上具有显示画面功能的区域，所述显示面板还可以包括设置于所述显示区域周围的非显示区域，所述非显示区域可以具有所述显示区域的部分层状结构；此外，图1仅示出了所述显示面板的部分显示区域的结构示意图，本领域技术人员可以通过相关文字描述和图1所示容易得出整个所述显示区域的结构特征。
所述衬底基板10可以由玻璃等硬质材料制作而成，也可以由聚酰亚胺等柔性材料制作而成。需要说明的是，所述衬底基板10是所述显示面板中各功能元件的基本支撑件，同时也是所述显示面板显示画面时的出光面。
所述薄膜晶体管层20设置于所述衬底基板10上，所述薄膜晶体管层20中设置有多个薄膜晶体管20a。可选地，所述衬底基板10与所述薄膜晶体管层20之间还设置有缓冲层40，所述缓冲层40由柔性有机材料制作而成，例如可以是聚酰亚胺等，所述缓冲层40用于缓解所述衬底基板10与所述薄膜晶体管层20之间的胀缩性能的差异。
进一步地，所述薄膜晶体管层20包括设置于所述缓冲层40上的有源层22、设置于所述有源层22上的栅极绝缘层23、设置于所述栅极绝缘层23上的栅极24、设置于所述缓冲层40上并覆盖所述有源层22、所述栅极绝缘层23、所述栅极24的中间绝缘层26、以及设置于所述中间绝缘层26上的源漏极25，其中所述源漏极25通过设置于所述中间绝缘层26上的过孔与所述有源层22电性连接。需要说明的是，所述有源层22、所述栅极绝缘层23、所述栅极24、所述中间绝缘层26、及所述源漏极25共同构成所述薄膜晶体管20a。
需要说明的是，所述薄膜晶体管层20的结构并不仅限图1所示的一种，本申请的另一实施例提供的显示面板还提供了所述薄膜晶体管层20的另一种结构，参考图2所示。在图2所示的实施例中，所述薄膜晶体管层20包括设置于所述缓冲层40上的有源层22、设置于所述有源层22上的栅极绝缘层23、设置于所述栅极绝缘层23上的栅极24和源漏极25、以及设置于所述缓冲层40上并覆盖所述有源层22、所述栅极绝缘层23、所述栅极24和所述源漏极25的绝缘过渡层27，其中所述源漏极25通过设置于所述栅极绝缘层23上的过孔与所述有源层22电性连接。所述有源层22、所述栅极绝缘层23、所述栅极24、及所述源漏极25共同构成所述薄膜晶体管20a。需要说明的是，图1所示的实施例提供的显示面板与图2所示的实施例提供的显示面板仅在所述薄膜晶体管层20的结构上存在差异，而在其它方面具有相同的结构特征。下面继续对图1所示的实施例提供的显示面板的结构进行说明。
可选地，所述缓冲层40上靠近所述衬底基板10的一侧设置有第一极板41和第二遮光层42，所述第二遮光层42设置于所述第一极板41上，所述源漏极25通过所述中间绝缘层26和所述缓冲层40上的过孔与所述第二遮光层42电性连接。所述第二遮光层42在所述薄膜晶体管层20上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管20a。所述第二遮光层42用于遮挡外界射向所述薄膜晶体管20a的光线，以避免外界光线影响所述薄膜晶体管20a的性能。
可选地，所述缓冲层40上靠近所述薄膜晶体管层20的一侧设置有第二极板2。所述第一极板41与所述第二极板21之间通过所述缓冲层40电性绝缘，所述第一极板41与所述第二极板21形成存储电容，所述存储电容与所述薄膜晶体管20a在所述显示面板的厚度方向上错开设置。
所述发光层30设置于所述薄膜晶体管层20上，所述发光层30包括多个发光结构30a。可选地，所述发光层30与所述薄膜晶体管层20之间还设置有平坦层50，所述平坦层50用于在所述薄膜晶体管层20上形成平坦表面，以便于所述发光层30中的各元件的设置。
可选地，所述平坦层50中设置有彩色滤光层51，所述彩色滤光层51与所述发光结构30a在所述显示面板的厚度方向上的位置垂直对应，从而使所述发光结构30a发出的光线经所述彩色滤光层51过滤而转化为单色光。可选地，所述彩色滤光层51包括红色滤光块51a、绿色滤光块51b和蓝色滤光块51c，从而使所述发光结构30a发出的光线经所述彩色滤光层51过滤后而转化为红、绿、蓝三种单色光。
所述发光层30包括像素定义层33，所述像素定义层33上设置有多个通孔，所述发光结构30a设置于所述通孔中。具体地，所述发光结构30a包括设置于所述平坦层50上的阳极层31、设置于所述阳极层31上的有机功能层34、以及设置于所述有机功能层34上的阴极层35。需要说明的是，仅在所述像素定义层的通孔内，所述阳极层31、所述有机功能层34和所述阴极层35依次直接层叠相连，从而在该区域形成所述发光结构30a；所述阳极层31、所述有机功能层34和所述阴极层35分别向外延伸而不直接接触的区域无法发光，因而不形成发光结构。
所述阳极层31通过所述平坦层50上的过孔与所述薄膜晶体管20a电性连接，且所述发光结构30a与所述薄膜晶体管20a在所述显示面板的厚度方向上错开设置，从而使所述发光结构30a发出的光线不会直接射向所述薄膜晶体管20a。
需要说明的是，所述显示面板的厚度方向是指：由所述衬底基板10垂直指向所述发光层30的方向，或由所述发光层30垂直指向所述衬底基板10的方向。
进一步地，所述发光层30的靠近所述薄膜晶体管层20的一侧设置有第一遮光层32，所述第一遮光层32在所述薄膜晶体管层20上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管20a。所述第一遮光层32用于遮挡由所述发光结构30a发出，并经所述阴极35反射而射向所述薄膜晶体管20a的光线，避免该反射光影响所述薄膜晶体管20a的性能。
进一步地，所述第一遮光层32设置于所述阳极层31上，且与所述发光结构30a在所述显示面板的厚度方向上错开设置。需要说明的是，通过将所述第一遮光层32设置于所述阳极层31上，使所述第一遮光层32嵌入所述发光层30的整体结构中，有利于简化所述显示面板结构上的复杂度和制造工艺的复杂度。
可选地，所述第一遮光层32的制作材料可以是具有吸光作用的金属材料或非金属材料，也可以是具有反光作用的金属材料或非金属材料，以达到阻隔光线穿透的目的。
综上所述，本申请实施例提供的显示面板包括设置于发光层的靠近薄膜晶体管层一侧的第一遮光层，通过将所述第一遮光层与所述薄膜晶体管层中的薄膜晶体管的位置设置为上下垂直对应，使射向所述薄膜晶体管的光线被所述第一遮光层遮挡，从而避免了所述薄膜晶体管因受光线照射而出现的性能稳定性变差的问题，有利于提高显示面板的显示品质。
本申请另一实施例还提供了一种显示面板制作方法，如图3所示，所述显示面板制作方法包括以下步骤：
步骤S101、参考图3a所示，提供一衬底基板10，在所述衬底基板上制作第二遮光层42。
可选地，所述步骤S101可以具体包括以下操作：在所述衬底基板10上制作第一极板41；在所述第一极板41上制作所述第二遮光层42；在所述衬底基板40上制作覆盖所述第一极板41和所述第二遮光层42的缓冲层40。
进一步地，制作所述第一极板41和所述第二遮光层42的方法可以包括：通过气相沉积工艺或涂布工艺成膜后，再利用光罩工艺进行刻蚀的操作。
步骤S102、参考图3b所示，在所述衬底基板10上制作薄膜晶体管层20，所述薄膜晶体管层20覆盖所述第二遮光层42，所述薄膜晶体管层20包括多个薄膜晶体管20a，所述薄膜晶体管20a与所述第二遮光层42在所述显示面板的厚度方向上垂直对应。
可选地，所述衬底基板10上设置有所述缓冲层40，所述薄膜晶体管层20制作于所述缓冲层40上。
进一步地，所述薄膜晶体管层20包括设置于所述缓冲层40上的有源层22、设置于所述有源层22上的栅极绝缘层23、设置于所述栅极绝缘层23上的栅极24、设置于所述缓冲层40上并覆盖所述有源层22、所述栅极绝缘层23、所述栅极24的中间绝缘层26、以及设置于所述中间绝缘层26上的源漏极25，其中所述源漏极25通过设置于所述中间绝缘层26上的过孔与所述有源层22电性连接。需要说明的是，所述有源层22、所述栅极绝缘层23、所述栅极24、所述中间绝缘层26、及所述源漏极25共同构成所述薄膜晶体管20a。
进一步地，制作所述薄膜晶体管层20之前，或与制作所述薄膜晶体管层20同时，在所述缓冲层40上制作第二极板21。所述第一极板41与所述第二极板21共同构成存储电容。
进一步地，参考图3c所示，制作完成所述薄膜晶体管层20之后，在所述薄膜晶体管层20上制作平坦层50，所述平坦层50用于在所述薄膜晶体管层20上形成平整表面，以便于后续操作。
步骤S103、参考图3g所示，在所述薄膜晶体管层20上制作发光层30，所述发光层30包括靠近所述薄膜晶体管层20一侧的第一遮光层32、及多个发光结构30a，所述发光结构30a与所述薄膜晶体管20a在所述显示面板的厚度方向上相错开，所述第一遮光层32在所述薄膜晶体管层20上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管20a。
可选地，所述薄膜晶体管层20上设置有所述平坦层50，所述发光层30制作于所述平坦层50上。
进一步地，在所述薄膜晶体管层20上制作所述发光层30的方法包括以下步骤：
在所述薄膜晶体管层20或所述平坦层50上制作阳极层31；
在所述阳极层31上制作所述第一遮光层32，所述第一遮光层32在所述薄膜晶体管层20上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管20a；
在所述薄膜晶体管层20或所述平坦层50上制作覆盖所述阳极层31及所述第一遮光层32的像素定义层33；
在所述像素定义层33上形成通孔331，以暴露部分所述阳极层31；
在所述像素定义层33上及所述通孔331内制作有机功能层34，位于所述通孔331内的所述有机功能层34与所述阳极层31直接接触；
在所述像素定义层33上及所述通孔331内制作阴极层35，所述阴极层35覆盖所述有机功能层34，并且至少在所述通孔331内所述阴极层35与所述有机功能层34直接接触。
需要说明的是，仅在所述像素定义层33的通孔331内，所述阳极层31、所述有机功能层34和所述阴极层35依次直接层叠相连，从而在该区域形成所述发光结构30a；所述阳极层31、所述有机功能层34和所述阴极层35分别向外延伸而不直接接触的区域无法发光，因而不形成发光结构。
进一步地，制作所述阳极层31和所述第一遮光层32的方法包括以下步骤：
参考图3d所示，在所述薄膜晶体管层20或所述平坦层50上通过涂布工艺或气相沉积工艺或喷墨打印工艺形成阳极材料层31a；在所述阳极材料层31a上通过涂布工艺或气相沉积工艺或喷墨打印工艺形成第一遮光材料层32a。
参考图3d和图3e所示，利用第一半色调掩膜板对所述阳极材料层31a和所述第一遮光材料层32a共同进行光罩制程，以形成所述阳极层31及第一中间遮光层32b。
参考图3e和图3f所示，利用第二半色调掩膜板对所述第一中间遮光层32b进行光罩制程，以形成所述第一遮光层32。
进一步地，参考图3g所示，在所述薄膜晶体管层20上制作所述发光层30之前，还包括以下步骤：
在所述薄膜晶体管层20上制作彩色滤光层51，使所述彩色滤光层51与所述薄膜晶体管20a所述显示面板的厚度方向上相错开，且使所述彩色滤光层51与之后制作的所述发光结构30a在所述显示面板的厚度方向上的位置相对应。
可选地，所述薄膜晶体管层20与所述发光层30之间设置有所述平坦层50，所述彩色滤光层51设置于所述平坦层50中。
可选地，所述彩色滤光层51包括红色滤光块51a、绿色滤光块51b和蓝色滤光块51c，从而使所述发光结构30a发出的光线经所述彩色滤光层51过滤后而转化为红、绿、蓝三种单色光。
进一步地，所述显示面板制作方法还包括在所述发光层30上制作薄膜封装层的步骤。所述薄膜封装层用于防止外界气体和水分侵蚀所述显示面板的内部结构。
综上所述，本申请实施例提供的显示面板制作方法，包括在发光层的靠近薄膜晶体管层的一侧制作第一遮光层的步骤，并使所述第一遮光层与所述薄膜晶体管层中的薄膜晶体管的位置设置为上下垂直对应，进而使射向所述薄膜晶体管的光线被所述第一遮光层遮挡，避免了所述薄膜晶体管因受光线照射而出现的性能稳定性变差的问题，有利于提高显示面板的显示品质。
需要说明的是，虽然本申请以具体实施例揭露如上，但上述实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (13)
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板上具有显示区域，至少在所述显示区域内，所述显示面板包括：
衬底基板；
薄膜晶体管层，设置于所述衬底基板上，所述薄膜晶体管层中设置有多个薄膜晶体管；
发光层，设置于所述薄膜晶体管层上，所述发光层包括多个发光结构，所述发光结构与所述薄膜晶体管电性连接，且所述发光结构与所述薄膜晶体管在所述显示面板的厚度方向上错开设置；
第一遮光层，设置于所述发光层的靠近所述薄膜晶体管层的一侧，所述第一遮光层在所述薄膜晶体管层上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光结构包括：设置于所述薄膜晶体管层上的阳极层、设置于所述阳极层上的有机功能层、以及设置于所述有机功能层上的阴极层；
所述阳极层在所述薄膜晶体管层上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管，所述第一遮光层设置于所述阳极层上。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述发光层还包括像素定义层，所述像素定义层上设置有多个通孔，所述发光结构设置于所述通孔中。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一遮光层与所述发光结构在所述显示面板的厚度方向上错开设置。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述衬底基板与所述薄膜晶体管层之间还设置有第二遮光层，所述第二遮光层在所述薄膜晶体管层上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述衬底基板与所述薄膜晶体管层之间还设置有缓冲层，所述第二遮光结构设置于所述缓冲层中。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，在所述缓冲层靠近所述衬底基板的一侧和所述缓冲层靠近所述薄膜晶体管层的一侧分别设置存储电容的相对两极，且所述存储电容与所述发光结构在所述显示面板的厚度方向上的位置垂直对应。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述薄膜晶体管层与所述发光层之间的彩色滤光层，所述彩色滤光层与所述发光结构在所述显示面板的厚度方向上的位置垂直对应。
9.一种显示面板制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供一衬底基板，在所述衬底基板上制作第二遮光层；
在所述衬底基板上制作薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层覆盖所述第二遮光层，所述薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管与所述第二遮光层在所述显示面板的厚度方向上垂直对应；
在所述薄膜晶体管层上制作发光层，所述发光层包括靠近所述薄膜晶体管层一侧的第一遮光层、及多个发光结构，所述发光结构与所述薄膜晶体管在所述显示面板的厚度方向上相错开，所述第一遮光层在所述薄膜晶体管层上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管。
10.根据权利要求9所述显示面板制作方法，其特征在于，在所述薄膜晶体管层上制作所述发光层的步骤包括：
在所述薄膜晶体管层上制作阳极层；
在所述阳极层上制作所述第一遮光层，所述第一遮光层在所述薄膜晶体管层上的垂直投影覆盖所述薄膜晶体管；
在所述薄膜晶体管层上制作覆盖所述阳极层及所述第一遮光层的像素定义层；
在所述像素定义层上形成通孔，以暴露部分所述阳极层；
在所述像素定义层上及所述通孔内制作有机功能层，位于所述通孔内的所述有机功能层与所述阳极层直接接触；
在所述像素定义层上及所述通孔内制作阴极层，所述阴极层覆盖所述有机功能层，并且至少在所述通孔内所述阴极层与所述有机功能层直接接触。
11.根据权利要求10所述显示面板制作方法，其特征在于，制作所述阳极层和所述第一遮光层的方法包括以下步骤：
在所述薄膜晶体管层上通过涂布工艺或气相沉积工艺或喷墨打印工艺形成阳极材料层；
在所述阳极材料层上通过涂布工艺或气相沉积工艺或喷墨打印工艺形成第一遮光材料层；
利用第一半色调掩膜板对所述阳极材料层和所述第一遮光材料层共同进行光罩制程，以形成所述阳极层及第一中间遮光层；
利用第二半色调掩膜板对所述第一中间遮光层进行光罩制程，以形成所述第一遮光层。
12.根据权利要求9所述显示面板制作方法，其特征在于，在所述薄膜晶体管层上制作所述发光层之前，还包括以下步骤：
在所述薄膜晶体管层上制作彩色滤光层，使所述彩色滤光层与所述薄膜晶体管在所述显示面板的厚度方向上相错开，且使所述彩色滤光层与之后制作的所述发光结构在所述显示面板的厚度方向上的位置相对应。
13.根据权利要求9所述显示面板制作方法，其特征在于，还包括在所述发光层上制作薄膜封装层的步骤。
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