CN111530489A - 一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料及其制法 - Google Patents
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- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 238000013033 photocatalytic degradation reaction Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 20
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 claims abstract description 82
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 79
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(III) oxide Inorganic materials O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- WZRRRFSJFQTGGB-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazinane-2,4,6-trithione Chemical compound S=C1NC(=S)NC(=S)N1 WZRRRFSJFQTGGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims abstract description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 118
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 70
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 claims description 46
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 32
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 25
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000012265 solid product Substances 0.000 claims description 24
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000004321 preservation Methods 0.000 claims description 20
- 230000001012 protector Effects 0.000 claims description 17
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 16
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 13
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 10
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 9
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 8
- 239000008247 solid mixture Substances 0.000 claims description 8
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims description 7
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 claims description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 claims description 7
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 claims description 7
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 238000011068 loading method Methods 0.000 claims description 6
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 7
- 239000010865 sewage Substances 0.000 abstract description 7
- 239000011148 porous material Substances 0.000 abstract description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 3
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 abstract description 3
- 230000005012 migration Effects 0.000 abstract description 3
- 238000013508 migration Methods 0.000 abstract description 3
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 abstract description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 abstract description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract 1
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Inorganic materials [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 62
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 16
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 16
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 16
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 7
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 4
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 4
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 3
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 3
- 239000002957 persistent organic pollutant Substances 0.000 description 3
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M Superoxide Chemical compound [O-][O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 2
- 238000009396 hybridization Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N thiocyanic acid Chemical compound SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000006065 biodegradation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001622 bismuth compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002144 chemical decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009388 chemical precipitation Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010842 industrial wastewater Substances 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004298 light response Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008239 natural water Substances 0.000 description 1
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N oxalonitrile Chemical compound N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000004083 survival effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/24—Nitrogen compounds
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- B01J35/39—
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
- B01J37/03—Precipitation; Co-precipitation
- B01J37/031—Precipitation
- B01J37/035—Precipitation on carriers
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/08—Heat treatment
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/725—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation by catalytic oxidation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/74—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with air
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
- C02F2101/308—Dyes; Colorants; Fluorescent agents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
- C02F2101/34—Organic compounds containing oxygen
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
- C02F2101/36—Organic compounds containing halogen
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- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
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- C02F2101/38—Organic compounds containing nitrogen
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- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
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Abstract
本发明涉及污水净化技术领域,且公开了一种g‑C3N4‑Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料,包括以下配方原料及组分:S掺杂g‑C3N4负载石墨烯、Bi(NO3)3、Zn(NO3)2、柠檬酸。该一种g‑C3N4‑Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料,多孔石墨烯表面生长S掺杂g‑C3N4,三聚硫氰酸中的巯基可以降低g‑C3N4边缘处的氨基和亚氨基的含量,减小了g‑C3N4的氢键化程度,促进了光生电子的迁移的扩散,Zn取代了部分Bi的晶格,产生捕获陷阱可以捕捉光生电子,抑制了Bi2O3的光生电子和空穴的复合,g‑C3N4和Bi2O3的能带相匹配,两者界面之间形成异质结,促进了光催化复合材料光生电子和空穴的分离,三维网络结构的多孔石墨烯具有丰富的孔隙和孔道结构,可以吸附降解后的小分子。
Description
技术领域
本发明涉及污水净化技术领域,具体为一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料及其制法。
背景技术
水是生命的源泉,是生命存在与经济发展的必要条件,也是构成人体组织的重要部分,当有害化学物质进入到自然水体环境在时,会使水的使用价值降低和丧失导致污染环境,近年来我国的水资源质量不断下降,水环境持续恶化,严重地威胁了社会的可持续发展和人民的生存,污染物主要来源于未经处理而排放的生活污水、工业废水、农田污水等,污染物主要有酸、碱、无机盐以及铜、镉、汞、砷等重金属离子及其化合物;芳香族化合物、卤化物,包括亚甲基蓝、罗丹明B等有机染料污染物等。
目前对于污水处理和水源净化的方法主要有生物降解法、物理吸附法、物理絮凝法、化学沉淀法、氧化还原法等,其中光催化降解是利用光辐射在光催化半导体材料上,半导体材料的价带和导带产生光生电子和空穴,光生电子和空穴分别与水和氧气反应,生成氧化性极强的羟基自由基和超氧自由基,与有机污染物亚甲基蓝和罗丹明B等反应氧化还原反应,降解成为无毒或低毒的小分子,起到污水处理的效果,铋系化合物如Bi2O3、Bi2WO6等具光生载流子分离效率良好,可见光响应性较高,具有良好的光催化活性,石墨相氮化碳g-C3N4带隙宽度较窄,是一种应用广泛的光催化降解材料,但是g-C3N4的光生电子和空穴很容易复合,大大降低g-C3N4的光化学活性和降解性能。
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本发明提供了一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料及其制法,解决了g-C3N4的光生电子和空穴很容易复合的问题。
(二)技术方案
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料,包括以下按重量份数计的配方原料及组分:24-43份S掺杂g-C3N4负载石墨烯、35-45份Bi(NO3)3、0.6-1.2份Zn(NO3)2、22-30份柠檬酸。
优选的,所述S掺杂g-C3N4负载石墨烯制备方法包括以下步骤:
(1)向反应瓶中加入蒸馏水和氧化石墨烯,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,加热至170-200℃,反应5-8h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水洗涤固体产物,得到凝胶状石墨烯,并与氢氧化钾混合均匀,研磨成细粉,混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为5-10℃/min,在720-760℃下保温处理1-2h,使用蒸馏水洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到多孔氧化石墨烯。
(2)向反应瓶中加入蒸馏水、多孔氧化石墨烯、三聚氰胺和三聚硫氰酸,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,加热至120-150℃,预活化反应2-4h,将溶液真空干燥除去溶剂,固体混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为2-4℃/min,在620-640℃下保温处理2-3h,使用蒸馏水洗涤煅烧产物,并充分干燥,制备得到S掺杂g-C3N4负载石墨烯。
优选的,所述多孔氧化石墨烯、三聚氰胺和三聚硫氰酸的质量比为1:6-10:0.4-0.8。
优选的,所述旋转反应釜加热箱包括箱体、箱体内部下方与电热鼓风机固定连接,电热鼓风机内部设置有旋转风扇,箱体内部固定连接有保温层,保温层的内部与支撑块固定连接,固定连接内部与轴承固定连接,轴承活动连接有支撑杆,支撑杆与反应釜保护器固定连接,反应釜保护器内部设置有反应釜。
优选的,所述g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料制备方法包括以下步骤:
(1)向反应瓶中加入乙二醇溶剂、24-43份S掺杂g-C3N4负载石墨烯、35-45份Bi(NO3)3、0.6-1.2份Zn(NO3)2,超声分散均匀后,加入22-30份柠檬酸,将溶液转移进反应釜中,置于旋转反应釜加热箱中,加热至150-180℃,反应10-15h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水和乙醇洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料。
(三)有益的技术效果
与现有技术相比,本发明具备以下有益的技术效果:
该一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料,以三维网络结构的多孔石墨烯为生长模板,三聚硫氰酸为硫源,通过原位生长法在多孔石墨烯巨大的比表面积上生长一层S掺杂g-C3N4,三聚硫氰酸中的巯基可以降低g-C3N4边缘处的氨基和亚氨基的含量,硫的电负性较小,从而减小了g-C3N4的氢键化程度,促进了光生电子的迁移的扩散,同时硫掺杂取代了部分氮的晶格,降低了g-C3N4的带隙能,从而拓宽了g-C3N4紫外可见光吸收范围,提高了光催化材料对光辐射的响应性和光能的利用率。
该一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料,通过热溶剂法和液相沉积法,以S掺杂g-C3N4负载石墨烯为载体,制备得到Zn掺杂Bi2O3,Zn取代了部分Bi的晶格,使Bi2O3价带和导带的轨道发生杂化,促进了光吸收边发生红移,从而拓宽了Bi2O3的光化学活性范围,并且Zn的掺杂在晶格中产生捕获陷阱,可以捕捉光生电子,抑制了Bi2O3的光生电子和空穴的复合,g-C3N4和Bi2O3的能带相匹配,两者界面之间形成异质结,g-C3N4产生的光生电子向Bi2O3移动,而Bi2O3产生的空穴向g-C3N4迁移,有效促进了光催化复合材料光生电子和空穴的分离,产生大量的光生电子和空穴,氧气和水反应,生成氧化性极强的超氧自由基和羟基自由基,与亚甲基蓝和罗丹明B等有机污染物发生氧还原反应,进行降解成无毒或低毒的小分子。
该一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料,三维网络结构的多孔石墨烯具有丰富的孔隙和孔道结构,可以吸附降解后的小分子,避免二次污染,同时氧化石墨烯导电性能很好,可以作为电子受体,促进复合材料产生的光生电子向氧化石墨烯迁移,从而进一步提高了g-C3N4光生电子和空穴的分离效率。
附图说明
图1是旋转反应釜加热箱后正面示意图;
图2是轴承示意图。
1、箱体;2、电热鼓风机;3、旋转风扇;4、保温层;5、支撑块;6、轴承;7、支撑杆;8、反应釜保护器;9、反应釜。
具体实施方式
为实现上述目的,本发明提供如下具体实施方式和实施例:一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料,包括以下按重量份数计的配方原料及组分:24-43份S掺杂g-C3N4负载石墨烯、35-45份Bi(NO3)3、0.6-1.2份Zn(NO3)2、22-30份柠檬酸。
S掺杂g-C3N4负载石墨烯制备方法包括以下步骤:
(1)向反应瓶中加入蒸馏水和氧化石墨烯,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,旋转反应釜加热箱包括箱体、箱体内部下方与电热鼓风机固定连接,电热鼓风机内部设置有旋转风扇,箱体内部固定连接有保温层,保温层的内部与支撑块固定连接,固定连接内部与轴承固定连接,轴承活动连接有支撑杆,支撑杆与反应釜保护器固定连接,反应釜保护器内部设置有反应釜,加热至170-200℃,反应5-8h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水洗涤固体产物,得到凝胶状石墨烯,并与氢氧化钾混合均匀,研磨成细粉,混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为5-10℃/min,在720-760℃下保温处理1-2h,使用蒸馏水洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到多孔氧化石墨烯。
(2)向反应瓶中加入蒸馏水、多孔氧化石墨烯、三聚氰胺和三聚硫氰酸,三者质量比为1:6-10:0.4-0.8,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,加热至120-150℃,预活化反应2-4h,将溶液真空干燥除去溶剂,固体混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为2-4℃/min,在620-640℃下保温处理2-3h,使用蒸馏水洗涤煅烧产物,并充分干燥,制备得到S掺杂g-C3N4负载石墨烯。
g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料制备方法包括以下步骤:
(1)向反应瓶中加入乙二醇溶剂、24-43份S掺杂g-C3N4负载石墨烯、35-45份Bi(NO3)3、0.6-1.2份Zn(NO3)2,超声分散均匀后,加入22-30份柠檬酸,将溶液转移进反应釜中,置于旋转反应釜加热箱中,加热至150-180℃,反应10-15h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水和乙醇洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料。
实施例1
(1)制备多孔氧化石墨烯组分1:向反应瓶中加入蒸馏水和氧化石墨烯,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,旋转反应釜加热箱包括箱体、箱体内部下方与电热鼓风机固定连接,电热鼓风机内部设置有旋转风扇,箱体内部固定连接有保温层,保温层的内部与支撑块固定连接,固定连接内部与轴承固定连接,轴承活动连接有支撑杆,支撑杆与反应釜保护器固定连接,反应釜保护器内部设置有反应釜,加热至170℃,反应5h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水洗涤固体产物,得到凝胶状石墨烯,并与氢氧化钾混合均匀,研磨成细粉,混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为5℃/min,在720℃下保温处理1h,使用蒸馏水洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到多孔氧化石墨烯组分1。
(2)制备S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分1:向反应瓶中加入蒸馏水、多孔氧化石墨烯组分1、三聚氰胺和三聚硫氰酸,三者质量比为1:6:0.4,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,加热至120℃,预活化反应2h,将溶液真空干燥除去溶剂,固体混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为2℃/min,在620℃下保温处理2h,使用蒸馏水洗涤煅烧产物,并充分干燥,制备得到S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分1。
(3)制备g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料1:向反应瓶中加入乙二醇溶剂、43份S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分1、35份Bi(NO3)3、0.6份Zn(NO3)2,超声分散均匀后,加入22份柠檬酸,将溶液转移进反应釜中,置于旋转反应釜加热箱中,加热至150℃,反应10h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水和乙醇洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料1。
实施例2
(1)制备多孔氧化石墨烯组分2:向反应瓶中加入蒸馏水和氧化石墨烯,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,旋转反应釜加热箱包括箱体、箱体内部下方与电热鼓风机固定连接,电热鼓风机内部设置有旋转风扇,箱体内部固定连接有保温层,保温层的内部与支撑块固定连接,固定连接内部与轴承固定连接,轴承活动连接有支撑杆,支撑杆与反应釜保护器固定连接,反应釜保护器内部设置有反应釜,加热至200℃,反应5h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水洗涤固体产物,得到凝胶状石墨烯,并与氢氧化钾混合均匀,研磨成细粉,混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为10℃/min,在720℃下保温处理2h,使用蒸馏水洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到多孔氧化石墨烯组分2。
(2)制备S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分2:向反应瓶中加入蒸馏水、多孔氧化石墨烯组分2、三聚氰胺和三聚硫氰酸,三者质量比为1:6:0.4,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,加热至120℃,预活化反应4h,将溶液真空干燥除去溶剂,固体混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为2℃/min,在640℃下保温处理2h,使用蒸馏水洗涤煅烧产物,并充分干燥,制备得到S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分2。
(3)制备g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料2:向反应瓶中加入乙二醇溶剂、38份S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分2、37份Bi(NO3)3、0.75份Zn(NO3)2,超声分散均匀后,加入24份柠檬酸,将溶液转移进反应釜中,置于旋转反应釜加热箱中,加热至180℃,反应10h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水和乙醇洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料2。
实施例3
(1)制备多孔氧化石墨烯组分3:向反应瓶中加入蒸馏水和氧化石墨烯,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,旋转反应釜加热箱包括箱体、箱体内部下方与电热鼓风机固定连接,电热鼓风机内部设置有旋转风扇,箱体内部固定连接有保温层,保温层的内部与支撑块固定连接,固定连接内部与轴承固定连接,轴承活动连接有支撑杆,支撑杆与反应釜保护器固定连接,反应釜保护器内部设置有反应釜,加热至190℃,反应6h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水洗涤固体产物,得到凝胶状石墨烯,并与氢氧化钾混合均匀,研磨成细粉,混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为8℃/min,在740℃下保温处理1.5h,使用蒸馏水洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到多孔氧化石墨烯组分3。
(2)制备S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分3:向反应瓶中加入蒸馏水、多孔氧化石墨烯组分3、三聚氰胺和三聚硫氰酸,三者质量比为1:8:0.6,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,加热至140℃,预活化反应3h,将溶液真空干燥除去溶剂,固体混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为3℃/min,在630℃下保温处理2.5h,使用蒸馏水洗涤煅烧产物,并充分干燥,制备得到S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分3。
(3)制备g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料3:向反应瓶中加入乙二醇溶剂、33份S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分3、40份Bi(NO3)3、0.9份Zn(NO3)2,超声分散均匀后,加入26份柠檬酸,将溶液转移进反应釜中,置于旋转反应釜加热箱中,加热至170℃,反应12h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水和乙醇洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料3。
实施例4
(1)制备多孔氧化石墨烯组分4:向反应瓶中加入蒸馏水和氧化石墨烯,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,旋转反应釜加热箱包括箱体、箱体内部下方与电热鼓风机固定连接,电热鼓风机内部设置有旋转风扇,箱体内部固定连接有保温层,保温层的内部与支撑块固定连接,固定连接内部与轴承固定连接,轴承活动连接有支撑杆,支撑杆与反应釜保护器固定连接,反应釜保护器内部设置有反应釜,加热至190℃,反应8h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水洗涤固体产物,得到凝胶状石墨烯,并与氢氧化钾混合均匀,研磨成细粉,混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为10℃/min,在760℃下保温处理2h,使用蒸馏水洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到多孔氧化石墨烯组分4。
(2)制备S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分4:向反应瓶中加入蒸馏水、多孔氧化石墨烯组分4、三聚氰胺和三聚硫氰酸,三者质量比为1:10:0.8,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,加热至120℃,预活化反应4h,将溶液真空干燥除去溶剂,固体混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为2℃/min,在640℃下保温处理3h,使用蒸馏水洗涤煅烧产物,并充分干燥,制备得到S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分4。
(3)制备g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料4:向反应瓶中加入乙二醇溶剂、29份S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分4、42份Bi(NO3)3、1.1份Zn(NO3)2,超声分散均匀后,加入28份柠檬酸,将溶液转移进反应釜中,置于旋转反应釜加热箱中,加热至180℃,反应15h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水和乙醇洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料4。
实施例5
(1)制备多孔氧化石墨烯组分5:向反应瓶中加入蒸馏水和氧化石墨烯,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,旋转反应釜加热箱包括箱体、箱体内部下方与电热鼓风机固定连接,电热鼓风机内部设置有旋转风扇,箱体内部固定连接有保温层,保温层的内部与支撑块固定连接,固定连接内部与轴承固定连接,轴承活动连接有支撑杆,支撑杆与反应釜保护器固定连接,反应釜保护器内部设置有反应釜,加热至200℃,反应8h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水洗涤固体产物,得到凝胶状石墨烯,并与氢氧化钾混合均匀,研磨成细粉,混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为10℃/min,在760℃下保温处理2h,使用蒸馏水洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到多孔氧化石墨烯组分5。
(2)制备S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分5:向反应瓶中加入蒸馏水、多孔氧化石墨烯组分5、三聚氰胺和三聚硫氰酸,三者质量比为1:10:0.8,将溶液超声分散均匀后,将溶液转移进聚四氟乙烯反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,加热至150℃,预活化反应4h,将溶液真空干燥除去溶剂,固体混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为4℃/min,在640℃下保温处理3h,使用蒸馏水洗涤煅烧产物,并充分干燥,制备得到S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分5。
(3)制备g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料5:向反应瓶中加入乙二醇溶剂、24份S掺杂g-C3N4负载石墨烯组分5、45份Bi(NO3)3、1.2份Zn(NO3)2,超声分散均匀后,加入30份柠檬酸,将溶液转移进反应釜中,置于旋转反应釜加热箱中,加热至180℃,反应15h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水和乙醇洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料5。
分别向浓度为2%的亚甲基蓝水溶液中加入0.5%的g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料1-5,以200W氙灯作为光源,光照24h,使用UV1901PCS型双光束扫描型紫外可见分光光度计,检测亚甲基蓝的剩余浓度,亚甲基蓝降解率=(0.02-亚甲基蓝的剩余浓度)/0.02,测试标准为GB/T 23762-2020和GB/T 23762-2009。
综上所述,该一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料,以三维网络结构的多孔石墨烯为生长模板,三聚硫氰酸为硫源,通过原位生长法在多孔石墨烯巨大的比表面积上生长一层S掺杂g-C3N4,三聚硫氰酸中的巯基可以降低g-C3N4边缘处的氨基和亚氨基的含量,硫的电负性较小,从而减小了g-C3N4的氢键化程度,促进了光生电子的迁移的扩散,同时硫掺杂取代了部分氮的晶格,降低了g-C3N4的带隙能,从而拓宽了g-C3N4紫外可见光吸收范围,提高了光催化材料对光辐射的响应性和光能的利用率。
通过热溶剂法和液相沉积法,以S掺杂g-C3N4负载石墨烯为载体,制备得到Zn掺杂Bi2O3,Zn取代了部分Bi的晶格,使Bi2O3价带和导带的轨道发生杂化,促进了光吸收边发生红移,从而拓宽了Bi2O3的光化学活性范围,并且Zn的掺杂在晶格中产生捕获陷阱,可以捕捉光生电子,抑制了Bi2O3的光生电子和空穴的复合,g-C3N4和Bi2O3的能带相匹配,两者界面之间形成异质结,g-C3N4产生的光生电子向Bi2O3移动,而Bi2O3产生的空穴向g-C3N4迁移,有效促进了光催化复合材料光生电子和空穴的分离,产生大量的光生电子和空穴,氧气和水反应,生成氧化性极强的超氧自由基和羟基自由基,与亚甲基蓝和罗丹明B等有机污染物发生氧还原反应,进行降解成无毒或低毒的小分子。
三维网络结构的多孔石墨烯具有丰富的孔隙和孔道结构,可以吸附降解后的小分子,避免二次污染,同时氧化石墨烯导电性能很好,可以作为电子受体,促进复合材料产生的光生电子向氧化石墨烯迁移,从而进一步提高了g-C3N4光生电子和空穴的分离效率。
Claims (5)
1.一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料,包括以下按重量份数计的配方原料及组分,其特征在于:24-43份S掺杂g-C3N4负载石墨烯、35-45份Bi(NO3)3、0.6-1.2份Zn(NO3)2、22-30份柠檬酸。
2.根据权利要求1所述的一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料,其特征在于:所述S掺杂g-C3N4负载石墨烯制备方法包括以下步骤:
(1)向蒸馏水中加入氧化石墨烯,将溶液超声分散均匀后,转移进反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,加热至170-200℃,反应5-8h,将溶液过滤和洗涤,得到凝胶状石墨烯,与氢氧化钾混合均匀,研磨成细粉,混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为5-10℃/min,在720-760℃下保温处理1-2h,使用蒸馏水洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到多孔氧化石墨烯;
(2)向蒸馏水中加入多孔氧化石墨烯、三聚氰胺和三聚硫氰酸,将溶液超声分散均匀后,转移进反应釜中,并置于旋转反应釜加热箱中,加热至120-150℃,预活化反应2-4h,将溶液除去溶剂,固体混合物置于气氛电阻炉中并通入氩气,升温速率为2-4℃/min,在620-640℃下保温处理2-3h,使用蒸馏水洗涤煅烧产物,并充分干燥,制备得到S掺杂g-C3N4负载石墨烯。
3.根据权利要求2所述的一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料,其特征在于:所述多孔氧化石墨烯、三聚氰胺和三聚硫氰酸的质量比为1:6-10:0.4-0.8。
4.根据权利要求2所述的一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料,其特征在于:所述旋转反应釜加热箱包括箱体、箱体内部下方与电热鼓风机固定连接,电热鼓风机内部设置有旋转风扇,箱体内部固定连接有保温层,保温层的内部与支撑块固定连接,固定连接内部与轴承固定连接,轴承活动连接有支撑杆,支撑杆与反应釜保护器固定连接,反应釜保护器内部设置有反应釜。
5.根据权利要求1所述的一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料,其特征在于:所述g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料制备方法包括以下步骤:
(1)向乙二醇溶剂中加入24-43份S掺杂g-C3N4负载石墨烯、35-45份Bi(NO3)3、0.6-1.2份Zn(NO3)2,超声分散均匀后,加入22-30份柠檬酸,将溶液转移进反应釜中,置于旋转反应釜加热箱中,加热至150-180℃,反应10-15h,将溶液过滤除去溶剂,使用蒸馏水和乙醇洗涤固体产物,并充分干燥,制备得到g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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CN202010394061.6A CN111530489A (zh) | 2020-05-11 | 2020-05-11 | 一种g-C3N4-Bi2O3异质结光催化降解吸附复合材料及其制法 |
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---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112169760A (zh) * | 2020-10-21 | 2021-01-05 | 江苏中烟工业有限责任公司 | 一种选择性吸附烟气中氨的烟蒂生物炭材料的制备方法 |
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- 2020-05-11 CN CN202010394061.6A patent/CN111530489A/zh not_active Withdrawn
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CN112169760A (zh) * | 2020-10-21 | 2021-01-05 | 江苏中烟工业有限责任公司 | 一种选择性吸附烟气中氨的烟蒂生物炭材料的制备方法 |
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20200814 |
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