CN111412847A - 一种测量非导电材质涂装膜厚度的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种测量非导电材质涂装膜厚度的方法，通过连接有高频天线发射头的高周波发生装置标识目标厚度范围内的多阶段涂装膜产品及未涂装的素材产品，确定波形的最低点和膜厚极限值，取空白波形的非波谷任意点，加上膜厚的极限值的波谷点连成直线，作为测定报警线，将涂装后的产品置于天线发射头处进行测试。本发明的方法特别适用于非金属材质表面进行金属化涂装的膜厚测定，对涂装膜本身无破坏性；针对要求特别严格的产品，可以进行100％的膜厚检测，膜厚测量的精度可以达到0.1um的等级。
Description
技术领域
本发明属于涂装及真空镀膜技术领域，涉及一种测量涂装膜厚度的方法，具体涉及一种测量非导电材质涂装膜厚度的方法。
背景技术
随着科学技术的快速发展，涂层及薄膜的应用越来越广泛，工业界对膜厚的测量与质量控制提出了很高的要求。
作为普通涂装企业，涂装膜厚度的测定一般的方法有以下几种：
1、千分尺，测量精度为0.001mm，准确度为0.01mm；
2、使用磁感应原理的测试设备，测量精度为0.01um，准确度为0.1um；
3、其他方式。
以上方式中，第一种可以运用在金属或非金属等多种本体材质上，但是其准确度低；第二种只能运用在金属本体材质上。无论采用上述何种方式，如果需要进行100％的全检，均不具备大规模量产操作性。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提供一种测量非导电材质表面进行涂装后涂装膜厚度的方法，不仅可以运用在非金属材质上，而且可以实现涂装膜产品的100％全检。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
本发明的测量非导电材质涂装膜厚度的方法，包括下述步骤：
(1)分别制作目标厚度范围内的多阶段涂装膜产品；
(2)采用断层切割电子显微镜方式进行膜厚的测定；
(3)将连接有高频天线发射头的高周波发生装置固定，于天线发射头处放置未涂装的素材产品，确定波形的最低点，将多阶段涂装膜产品分别置于天线发射头处并标识波形最低点，确定目标厚度范围内的膜厚极限值，取空白波形的非波谷任意点，加上膜厚的极限值的波谷点连成直线，作为测定报警线，将涂装后的产品置于天线发射头处进行测试，在报警线范围内即为合格，超过报警线范围则为不合格。
优选的，所述的多阶段涂装膜产品的目标厚度范围为0.5～2.0um。
本发明的方法相对现有方法，抛弃了传统的膜厚测定方式，采用全新的膜厚测定方法，特别适用于非金属材质表面进行金属化涂装的膜厚测定，对涂装膜本身无破坏性；针对要求特别严格的产品，可以进行100％的膜厚检测，膜厚测量的精度可以达到0.1um的等级。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行详细的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例
本方法采用玻璃非导电材质进行试作
涂装方式：含Al粉的金属涂装
客户要求的涂装膜厚度为：0.5um～2.0um
其测试和管控方法为：
1、按照要求制作0.5um～2.0um的多阶段涂装产品；
2、采用断层切割电子显微镜方式进行膜厚的测定；
3、进行高周波相位反射偏移测试的测定方式检讨：
(1)准备可以发射高周波的设备，如安捷伦、安立等设备；
(2)准备一个能够发射高频的天线发射头；
(3)准备没有涂装的素材产品
(4)将天线发射头与高周波发生设备连接后，固定；
(5)将没有涂装的素材产品放置于天线发射头处，确定波形的最低点；
(6)将得到客户认可的等同膜厚的产品分别放置于天线发射头处，并分别标识波形最低点，尤其是需要标识出客户认可的膜厚的极限值；
(7)取空白波形的非波谷任意点，加上膜厚的极限值的波谷点连成直线，作为测定报警线；
(8)将涂装后的产品置于天线发射头处进行测试，在报警线范围内即为合格，超过报警线范围则为不合格。
于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (5)
1.一种测量非导电材质涂装膜厚度的方法，其特征在于，对涂装膜本身无破坏性；包括下述步骤：
(1)分别制作目标厚度范围内的多阶段涂装膜产品；
(2)采用断层切割电子显微镜方式进行膜厚的测定；
(3)将连接有高频天线发射头的高周波发生装置固定，于天线发射头处放置未涂装的素材产品，确定波形的最低点，将多阶段涂装膜产品分别置于天线发射头处并标识波形最低点，确定目标厚度范围内的膜厚极限值，取空白波形的非波谷任意点，加上膜厚的极限值的波谷点连成直线，作为测定报警线，将涂装后的产品置于天线发射头处进行测试，在报警线范围内即为合格，超过报警线范围则为不合格；所述的多阶段涂装膜产品的目标厚度范围为0.5～2.0um。
2.根据权利要求1所述的测量非导电材质涂装膜厚度的方法，其特征在于，非导电材质采用玻璃非导电材质。
3.根据权利要求1所述的测量非导电材质涂装膜厚度的方法，其特征在于，所述涂装方式采用含Al粉的金属涂装。
4.根据权利要求1所述的测量非导电材质涂装膜厚度的方法，其特征在于，所述高周波发生装置采用安捷伦或安立。
5.根据权利要求1所述的测量非导电材质涂装膜厚度的方法，其特征在于，膜厚测量的精度可以达到0.1um的等级。
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