CN1566902A - 膜厚量测方法及微波量测设备 - Google Patents
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Abstract
本发明是关于一种膜厚量测方法及微波量测设备,该膜厚量测方法,是先提供一物体,再量测波长范围在微波段的一讯号从一量测点到达物体表面所需的时间t0。然后,提供一待测物,其是经表面处理过的物体,其中物体表面具有一表面处理层物。之后,量测波长范围在微波段的讯号从量测点到达待测物表面所需的时间t1,其中此处的讯号需与之前量测t0所用的讯号波长一样。接着,利用讯号的波长λ与时间差(t0-t1)估算出物体的表面处理层物的膜厚d,其中估算公式为d=λ(t0-t1)。由于本发明比通过讯号发射、反射及接收,并设定范围在短波高频的微波段来量测膜厚,所以可以轻易且精确测得较薄的膜厚。
Description
技术领域
本发明涉及一种仪器、测量领域厚度的计量中的膜厚量测方法及微波量测设备,特别是涉及一种可以精确量测非平面的膜厚量测方法及微波量测设备。
背景技术
目前3C产品的发展随着客户的需求,逐渐走向多元化及外观活泼化的方向发展,而在外壳上则赋予不同的喷涂、溅镀、转印、电镀,甚至是含浸等技术。而这些技术对于外壳的膜厚通常很难加以控制,因此容易造成产品的变异性增加。这并不是产品本身有许多问题,而是对于膜厚的分布无法确实掌握,以便提供客户设计指引。举例来说,手机的外壳膜厚会随着夹具旋转速度、重力及喷枪的特定因素(如压力、喷嘴形状及方向等)的影响,因而在膜厚的最低与最高点的差异达7.5微米以上,这相当于一层漆的厚度。
而现有习知的对于膜厚或膜厚分布的量测方法,多半是利用所谓的单点破坏或单点非破坏性量测以及超音波C扫描方法,而得到膜厚或膜厚分布。其存在的最大问题是就单点破坏或单点非破坏性量测而言,所获得的资料很少,故无法提出准确的信息,并造成量测点位置本身就变异很大。而对于超音波C扫描方法而言,只能量测最小15微米以上的膜厚(偏差值目前现有习知扫描方法的精准度约在±1微米),因此较难精准测得较薄的膜厚,而会发生很大的问题,更何况是非平面物体表面上膜厚分布的量测。
由此可见,上述现有的膜厚量测方法及量测设备仍存在有诸多缺陷,而亟待加以进一步改进。为了解决现有的膜厚量测方法及量测设备的缺陷,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决的道,但长久以来一直未见适用的设计被发展完成,此显然是相关业者急欲解决的问题。
有鉴于上述现有的膜厚量测方法及量测设备存在的缺陷,本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识,积极加以研究创新,以期创设一种新的膜厚量测方法及微波量测设备,能够改进一般现有的膜厚量测方法及量测设备,使其更具有实用性。经过不断研究、设计,并经反复试作样品及改进后,终于创设出确具实用价值的本发明。
发明内容
本发明的主要目的在于,克服上述现有的膜厚量测方法及量测设备存在的缺陷,而提供一种新的膜厚量测方法及微波量测设备,所要解决的主要技术问题是使其可以轻易且精确地测得较薄的膜厚,并且可以精准地测得非平面物体表面上的膜厚分布,从而更具有实用性,且具有产业上的利用价值。
本发明的另一目的在于,提供一种膜厚量测方法及微波量测设备,所要解决的技术问题是使其可以防止待测物的表面处理层物在量测膜厚期间被破坏。
本发明的又一目的在于,提供一种膜厚量测方法及微波量测设备,所要解决的技术问题是使其可以避免量测讯号被待测物的表面处理层物吸收掉。
本发明的再一目的在于,提供一种膜厚量测方法及微波量测设备,所要解决的技术问题是使其可使讯号接收器轻易量测到时间差异值,且不易受外界影响。
本发明的目的及解决其主要技术问题是采用以下的技术方案来实现的。依据本发明提出的一种膜厚量测方法,其包括以下步骤:提供一物体;量测波长范围在微波段的一讯号从一量测点到达该物体表面所需的时间t0;提供一待测物,该待测物是表面处理过的该物体,其中该物体具有一表面处理层物;量测波长范围在微波段的该讯号从该量测点到达该待测物表面所需的时间t1;以及利用该讯号的波长λ与时间差(t0-t1)估算出该物体的该表面处理层物的膜厚d,其中估算公式为d=λ(t0-t1)。
本发明的目的及解决其技术问题还可以采用以下技术措施来进一步实现。
前述的膜厚量测方法,其中所述的讯号的波长在0.01~10公分之间,该讯号的频率在3GHz~3000GHz之间。
前述的膜厚量测方法,其中所述的提供该待测物的步骤包括对该物体进行喷涂、溅镀、转印、电镀或含浸,以在该物体表面形成该表面处理层物。
前述的膜厚量测方法,其中所述的物体包括具有不规则平面。
前述的膜厚量测方法,其中更包括利用快速傅立叶转换计算出整体膜厚分布。
本发明的目的及解决主要技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种膜厚量测方法,适于量测需进行一表面处理的一样品,其包括以下步骤:利用一微波发射/接收装置发射波长λ的一讯号到一样品表面,其中该讯号到达该样品之后会反射一第一反射讯号;利用该微波发射/接收器接收该第一反射讯号,以得到该讯号从该微波发射/接收装置到达该样品的所需时间t0;利用该微波发射/接收装置发射波长为λ的该讯号到已进行该表面处理而具有一表面处理层物的该样品,其中该讯号到达该表面处理层物之后会反射一第二反射讯号;利用该微波发射/接收器接收该第二反射讯号,以得到该讯号从该微波发射/接收装置到达该表面处理层物的所需时间t1;以及利用波长λ与反射接收时间差(t0-t1)估算出该样品的该表面处理层物的膜厚d,其中估算公式为d=λ(t0-t1)。
本发明的目的及解决技术问题还可采用以下技术措施来进一步实现。
前述的膜厚量测方法,其中所述的讯号的波长在100微米~100000微米之间,该讯号的频率在3GHz~3000GHz之间。
前述的膜厚量测方法,其中所述的利用该微波发射/接收装置发射波长λ的该讯号到该样品表面的步骤,包括:固定该样品;以及相对于该样品移动该微波发射/接收装置。
前述的膜厚量测方法,其中所述的微波发射/接收装置包括含有多个微波发射器的移动轴。
前述的膜厚量测方法,其中所述的表面处理包括喷涂、溅镀、转印、电镀或含浸。
前述的膜厚量测方法,其中所述的物体包括具有不规则平面。
前述的膜厚量测方法,其中更包括利用快速傅立叶转换计算出整体膜厚分布。
本发明的目的及解决其主要技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种微波量测设备,适于量测具非平面表面的一待测物,该微波量测设备至少包括:一微波发射/接收装置,设置位于该待测物上方,其中该微波发射/接收装置具有以阵列排列的复数个发射器以及复数个接收器,其中该些发射器是用以发射波长范围在微波段的复数个讯号到该待测物表面;该些接收器是用以经由该待测物表面的反射,接收该些发射器所发射出的该些讯号;以及一处理装置,与该微波发射/接收装置相连,并根据该些讯号的发射/接收时间差来测出该些讯号到该待测物的所需时间。
本发明的目的及解决其技术问题还采用以下技术措施来进一步实现。
前述的微波量测设备,其中更包括一移动轴,连接该微波发射/接收装置的该些发射器,用以同时移动该些发射器。
前述的微波量测设备,其中更包括一移动轴,连接该微波发射/接收装置的该些接收器,用以同时移动该些接收器。
前述的微波量测设备,其中更包括一定位装置,用以定位该待测物。
前述的微波量测设备,其中所述的该些讯号的波长在100微米~100000微米之间,该些讯号的频率在3GHz~3000GHz之间。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。由以上技术方案可知,为了达到前述发明目的,本发明的主要技术内容如下:
本发明提出一种膜厚量测方法,其是先提供一物体,再量测波长范围在微波段的一讯号从一量测点到达物体表面所需的时间t0。然后,提供一待测物,该一待测物是表面处理过的物体,其中物体具有一表面处理层物。之后,量测波长范围在微波段的讯号从量测点到达待测物表面所需的时间t1,其中在此使用的讯号需与之前量测t0所使用的讯号波长一样。接着,利用讯号的波长λ与时间差(t0-t1)估算出物体的表面处理层物的膜厚d,其中估算公式为d=λ(t0-t1)。
本发明再提出一种膜厚量测方法,其步骤包括:利用一微波发射/接收装置发射波长λ的一讯号到一样品表面,其中讯号到达样品之后会反射一第一反射讯号。然后,利用微波发射/接收器接收第一反射讯号,以得到讯号从微波发射/接收装置到达样品的所需时间t0。接着,利用微波发射/接收装置发射波长同为λ的讯号到已进行表面处理而具有一表面处理层物的样品,其中讯号到达表面处理层物之后会反射一第二反射讯号。随后,利用微波发射/接收器接收第二反射讯号,以得到讯号从微波发射/接收装置到达表面处理层物的所需时间t1。之后,利用波长λ与反射接收时间差(t0-t1)估算出样品的表面处理层物的膜厚d,其中估算公式为d=λ(t0-t1)。
另外,本发明又提出一种微波量测设备,适于量测具有非平面表面的一待测物,再根据所得到的数据估算待测物在表面处理前后的表面厚度差异。该微波量测设备,至少包括一微波发射/接收装置以及一处理装置,其中微波发射/接收装置具有以阵列排列的数个发射器以及数个接收器。微波发射/接收装置是位于待测物上方,其中的发射器是用以发射波长范围在微波段的讯号到待测物表面,而接收器则是用以经由待测物表面的反射,接收发射器所发射出的讯号。而处理装置则与微波发射/接收装置相连,以根据讯号的发射/接收时间差来测出讯号到待测物的所需时间。
本发明因为通过讯号发射、反射及接收,并设定范围在短波高频的微波段,所以可以轻易地精确测得较薄的膜厚。
综上所述,本发明特殊的膜厚量测方法及微波量测设备,可以轻易且精确地测得较薄的膜厚,并且可以精准地测得非平面物体表面上的膜厚分布,从而更具有实用性,且具有产业上的利用价值;其可以防止待测物的表面处理层物在量测膜厚期间被破坏;可以避免量测讯号被待测物的表面处理层物吸收掉;且可使讯号接收器轻易量测到时间差异值,且不易受外界影响。其具有上述诸多优点及实用价值,其在量测方法及量测设备上确属创新,在功能上有较大的改进,且在技术上有较大的进步,较现有的量测方法及量测设备具有增进的多项功效,并产生了好用及实用的效果,而确实具有增进的功效,从而更加适于实用,具有产业的广泛利用价值,诚为一新颖、进步、实用的新设计。
本发明具体量测方法及微波量测设备由以下实施例及附图详细给出。
附图说明
图1A、图1B是依照本发明的膜厚量测的原理示意简图。
图2是依照本发明的第一实施例的膜厚量测步骤图。
图3是依照本发明的第二实施例的微波量测设备的结构示意图。
100:物体 102a,304:发射器
102b,306:接收器 104:讯号
106,106a:反射讯号 108:移动方向
110:表面处理层物 120,310:待测物
200:利用一微波发射/接收装置发射波长λ的一讯号到一样品表面,而样品是未经表面处理,其中讯号到达样品之后会反射一第一反射讯号
202:利用微波发射/接收装置接收第一反射讯号,以得到讯号从微波发射/接收装置到达样品的所需时间t0
204:利用微波发射/接收装置发射波长为λ的讯号到已进行表面处理而具有一表面处理层物的样品,其中讯号到达表面处理层物之后会反射一第二反射讯号
206:利用微波发射/接收装置接收第二反射讯号,以得到讯号从微波发射/接收装置到达表面处理层物的所需时间t1
208:利用波长λ与反射接收时间差(t0-t1)估算出样品的表面处理层物的膜厚d,其中估算公式为d=λ(t0-t1)
300:微波量测设备
302:微波发射/接收装置
具体实施方式
以下结合附图及较佳实施例,对依据本发明提出的膜厚量测方法及微波量测设备其具体量测方法、步骤、结构、特征及其功效,详细说明如后。
请参阅图1A、图1B所示,是本发明的膜厚量测的原理示意简图。如图1A所示,假设要量测一具有不规则平面的物体100上的表面处理层物的厚度时,可先提供一物体100,其为未经表面处理过,主要是作为背景值的量测。然后,由一发射器102a发射一讯号104到该未表面处理过的物体100上,并设定讯号104的波长范围在短波高频的微波段,譬如讯号104的波长在0.01~10公分之间、频率在3GHz~3000GHz之间。当讯号104到达物体100表面后,会反射一反射讯号106。此时,可利用一接收器102b接收该反射讯号106,因而量测出波长范围在微波段的讯号104从发射器102a(即量测点)到物体100表面所需的时间t0。此外,在利用发射器102a发射讯号104到物体100时,可先固定物体100,再相对于物体100将发射器102a往一移动方向108移动。
之后,请参阅图1B,利用与图1A相同的原理,对表面处理过而具有一表面处理层物110的物体100(即一待测物120)作量测,其中该待测物120例如是经过喷涂、溅镀、转印、电镀或含浸而在物体100表面形成表面处理层物110。而这里的量测原理与图1A相同,包括由发射器102a发射讯号104到待测物120上,其中讯号104的波长需与之前图1A所使用的一样。此外,在利用发射器102a发射讯号104到待测物120时,可先固定该待测物120,再相对于该待测物120将发射器102a往一移动方向108移动。当讯号104到达待测物120表面后,会从表面处体层物110表面反射另一反射讯号106a。此时,可利用接收器102b接收该反射讯号106a,因而量测出波长范围在微波段的讯号104从发射器102a到待测物120表面所需的时间t1。因此,可利用讯号104的波长λ与反射接收时间差(t0-t1)估算出物体100的表面处理层物110的膜厚d,其中估算公式如下:
d=λ(t0-t1)
另外,以微波量测物体100的表面处理层物110的整体膜厚分布计算,除可利用前述讯号的一接一收特性外,尚可透过快速傅立叶转换(FastFourier Transform,简称FFT)方式加以获得。
而依据上述原理,本发明可应用于以下实施例。
第一实施例
请参阅图2所示,是依照本发明的第一实施例的膜厚量测步骤图。在步骤200中,利用一微波发射/接收装置发射波长λ的一讯号到一样品的表面,而该样品是未经表面处理,其中讯号到达样品之后会反射一第一反射讯号,而讯号的波长λ譬如在0.01~10公分之间(频率则在3GHz~3000GHz之间)。此外,在利用微波发射/接收装置发射波长λ的讯号到样品表面时,可先固定样品,再相对于样品将微波发射/接收装置往一移动方向移动,其中微波发射/接收装置例如是含有多个微波发射器的移动轴。之后,在步骤202中,利用微波发射/接收装置接收第一反射讯号,以得到讯号从微波发射/接收装置到达样品的所需时间t0。
然后,请继续参阅图2所示,在步骤204中,利用微波发射/接收装置发射波长为λ的讯号到已进行表面处理而具有一表面处理层物的样品,其中讯号到达表面处理层物之后会反射一第二反射讯号,而在此发射的讯号的波长需与步骤200中所发射的讯号的波长一样。再者,对样品所进行的表面处理包括喷涂、溅镀、转印、电镀或含浸。此外,在利用微波发射/接收装置发射讯号到表面处理层物表面时,可先固定样品,再相对于样品将微波发射/接收装置往一移动方向移动,其中,微波发射/接收装置例如是含有多个微波发射器的移动轴。接着,在步骤206中,利用微波发射/接收装置接收第二反射讯号,以得到讯号从微波发射/接收装置到达表面处理层物的所需时间t1。
请再参阅图2所示,进行步骤208,利用波长λ与反射接收时间差(t0-t1)估算出样品的表面处理层物的膜厚d,其中估算公式为d=λ(t0-t1)。另外,以微波量测样品的表面处理层物的整体膜厚分布计算,除可利用讯号的一接一收特性外,尚可透过快速傅立叶转换方式加以获得。以下为应用本发明的两个范例:
1、以3GHz(波长相当于10公分或100000微米)的微波发射/接收装置,利用本发明的方法量测预估膜厚为10微米的涂料,则所需的时间差只要有达0.1ms,微波发射/接收器相对精准度在0.01ms以内,则在同步扫描过程,即可获得曲面表面的整体膜厚分布。
2、以3000GHz(波长相当于0.01公分或100微米)的微波发射/接收装置,利用本发明的方法量测预估膜厚为10微米的涂料,则所需的时间差只要有达100ms,微波发射接收器相对精准度在10ms以内,则在同步扫描过程,即可获得曲面表面的整体膜厚分布。
由上述范例可知,本发明利用波长范围在微波段的讯号进行量测,即可搭配现有的接收器,而轻易获致待测物体的膜厚。此外,为说明本发明的优势,请见表一。
表一
范围 | 波长(cm) | 频率(Hz) | 能量(eV) |
无线电磁波 | >10 | <3×109 | <10-5 |
微波 | 10~0.01 | 3×109~3×1012 | 10-5~0.01 |
红外线 | 0.01~7×10-5 | 3×1012~4.3×1014 | 0.01~2 |
可见光 | 7×10-5~4×10-5 | 4.3×1014~7.5×1014 | 2~3 |
紫外线 | 4×10-5~10-7 | 7.5×1014~3×1017 | 3~103 |
X射线 | 10-7~10-9 | 3×1017~3×1019 | 103~105 |
伽玛射线 | <10-9 | >3×1019 | >105 |
表一为一般讯号辐射频谱,通过表一可知,本发明不选用X射线、伽玛射线的主要原因在于其所夹带的能量很大,容易造成操作者基因病变等问题。若选用紫外线、可见光的话,虽然其能量不高,但是容易将表面处理层物破坏。而红外线则是会被表面处理层物分子以旋转、震荡与简谐运动方式吸收。至于无线讯号则是波长太长,目前接收器不容易量测到时间差异值,且易受外界影响。总而言之,本发明选用波长范围在微波段的讯号来量测磨厚,不但可以轻易地精确测得较薄的膜厚,而且能避免前述的缺点。
第二实施例
本发明还提出一种微波量测设备,可以用以达成本发明的膜厚量测方法,请参阅图3所示。
请参阅图3所示,是依照本发明的第二实施例的微波量测设备的结构示意图。本发明的微波量测设备300,适于量测具非平面表面的一待测物310,该一微波量测设备300包括一微波发射/接收装置302以及一处理装置308。微波发射/接收装置302是设置位于待测物310的上方,其中该微波发射/接收装置302具有以阵列排列(数组排列)的数个发射器304与数个接收器306,其中发射器304是用以发射波长范围在微波段的讯号到待测物310表面,而接收器306则是用以经由待测物310表面的反射,接收发射器304所发射出的讯号。而处理装置308则与微波发射/接收装置302相连,并根据讯号的发射/接收时间差来测出讯号到待测物310的所需时间。此外,本发明的设备300更可包括一移动轴(图中未示),连接微波发射/接收装置302的发射器304及/或接收器306,用以同时移动发射器304及/或接收器306。另外,本发明的设备300还可以加上一定位装置(图中未示),用以定位待测物310。
综上所述,本发明的特点在于通过讯号发射、反射及接收,并设定其波长范围在微波段,所以可以轻易地精确测得较薄的膜厚。另外,本发明还提出一种具有以阵列排列的微波发射器,可以更有效地量测出曲面的待测物。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的方法及技术内容加以变更或修饰为等同变化的等效实施例,但是凡是未脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (17)
1、一种膜厚量测方法,其特征在于其包括以下步骤:
提供一物体;
量测波长范围在微波段的一讯号从一量测点到达该物体表面所需的时间t0;
提供一待测物,该待测物是表面处理过的该物体,其中该物体具有一表面处理层物;
量测波长范围在微波段的该讯号从该量测点到达该待测物表面所需的时间t1;以及
利用该讯号的波长λ与时间差(t0-t1)估算出该物体的该表面处理层物的膜厚d,其中估算公式为d=λ(t0-t1)。
2、根据权利要求1所述的膜厚量测方法,其特征在于其中所述的讯号的波长在0.01~10公分之间,该讯号的频率在3GHz~3000GHz之间。
3、根据权利要求1所述的膜厚量测方法,其特征在于其中所述的提供该待测物的步骤包括对该物体进行喷涂、溅镀、转印、电镀或含浸,以在该物体表面形成该表面处理层物。
4、根据权利要求1所述的膜厚量测方法,其特征在于其中所述的物体包括具有不规则平面。
5、根据权利要求1所述的膜厚量测方法,其特征在于其中更包括利用快速傅立叶转换计算出整体膜厚分布。
6、一种膜厚量测方法,适于量测需进行一表面处理的一样品,其特征在于其包括以下步骤:
利用一微波发射/接收装置发射波长λ的一讯号到一样品表面,其中该讯号到达该样品之后会反射一第一反射讯号;
利用该微波发射/接收器接收该第一反射讯号,以得到该讯号从该微波发射/接收装置到达该样品的所需时间t0;
利用该微波发射/接收装置发射波长为λ的该讯号到已进行该表面处理而具有一表面处理层物的该样品,其中该讯号到达该表面处理层物之后会反射一第二反射讯号;
利用该微波发射/接收器接收该第二反射讯号,以得到该讯号从该微波发射/接收装置到达该表面处理层物的所需时间t1;以及
利用波长λ与反射接收时间差(t0-t1)估算出该样品的该表面处理层物的膜厚d,其中估算公式为d=λ(t0-t1)。
7、根据权利要求6所述的膜厚量测方法,其特征在于其中所述的讯号的波长在100微米~100000微米之间,该讯号的频率在3GHz~3000GHz之间。
8、根据权利要求6所述的膜厚量测方法,其特征在于其中所述的利用该微波发射/接收装置发射波长λ的该讯号到该样品表面的步骤,包括:
固定该样品;以及
相对于该样品移动该微波发射/接收装置。
9、根据权利要求8所述的膜厚量测方法,其特征在于其中所述的微波发射/接收装置包括含有多个微波发射器的移动轴。
10、根据权利要求6所述的膜厚量测方法,其特征在于其中所述的表面处理包括喷涂、溅镀、转印、电镀或含浸。
11、根据权利要求6所述的膜厚量测方法,其特征在于其中所述的物体包括具有不规则平面。
12、根据权利要求6所述的膜厚量测方法,其特征在于其中更包括利用快速傅立叶转换计算出整体膜厚分布。
13、一种微波量测设备,适于量测具非平面表面的一待测物,其特征在于该微波量测设备至少包括:
一微波发射/接收装置,设置位于该待测物上方,其中该微波发射/接收装置具有以阵列排列的复数个发射器以及复数个接收器,其中
该些发射器是用以发射波长范围在微波段的复数个讯号到该待测物表面;
该些接收器是用以经由该待测物表面的反射,接收该些发射器所发射出的该些讯号;以及
一处理装置,与该微波发射/接收装置相连,并根据该些讯号的发射/接收时间差来测出该些讯号到该待测物的所需时间。
14、根据权利要求13所述的微波量测设备,其特征在于其中更包括一移动轴,连接该微波发射/接收装置的该些发射器,用以同时移动该些发射器。
15、根据权利要求13所述的微波量测设备,其特征在于其中更包括一移动轴,连接该微波发射/接收装置的该些接收器,用以同时移动该些接收器。
16、根据权利要求13所述的微波量测设备,其特征在于其中更包括一定位装置,用以定位该待测物。
17、根据权利要求13所述的微波量测设备,其特征在于其中所述的该些讯号的波长在100微米~100000微米之间,该些讯号的频率在3GHz~3000GHz之间。
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