CN111410433A

CN111410433A - 一种手机后盖玻璃闪点效果的制作方法

Info

Publication number: CN111410433A
Application number: CN202010301552.1A
Authority: CN
Inventors: 熊国祥
Original assignee: Zhengzhou Hiho Optical Technology Co ltd
Current assignee: Zhengzhou Hiho Optical Technology Co ltd
Priority date: 2020-04-16
Filing date: 2020-04-16
Publication date: 2020-07-14
Anticipated expiration: 2040-04-16
Also published as: CN111410433B

Abstract

本发明属于蚀刻玻璃技术领域，具体公开一种手机后盖玻璃闪点效果的制作方法，包括以下步骤：配制玻璃蚀刻液；将玻璃原片不需蚀刻的一面用即时贴保护膜进行覆盖保护；将玻璃原片需要闪点效果蚀刻的一面用去离子水清洗干净，在湿式状态下放入蚀刻喷淋装置处进行2‑5分钟淋砂蚀刻处理即可；本发明工艺简单实用、容易操作、成本低廉，制得高铝硅玻璃闪点效果产品表面闪光颗粒分布均匀、大小一致，制得的高铝硅玻璃闪点效果产品在光电性能、装饰性能方面效果极佳，具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能，极大的增强了智能手机的装饰美感及触握时的饱满度。

Description

一种手机后盖玻璃闪点效果的制作方法

技术领域

本发明属于蚀刻玻璃技术领域，尤其涉及一种手机后盖玻璃闪点效果的制作方法。

背景技术

目前，随着5G信息时代的来临，为减少智能手机后盖对信号的遮挡与屏蔽，手机后盖的材质选用主要集中在玻璃与陶瓷方面，高铝硅玻璃以其高强度、高化学稳定性的特性在手机3D玻璃后盖领域得到推广与应用，闪点效果蚀刻工艺极大的丰富了手机后盖的装饰档次与内涵，可以实现手机玻璃后盖呈现金光闪烁的奇幻效果，目前国内仅在普通钠钙平板玻璃表面运用酸蚀刻技术实现了闪点效果，还没有在高铝硅玻璃表面实现闪点效果的先例，严重制约了手机玻璃后盖的闪点效果装饰需求，满足不了手机厂商对新品的需求，采用钠钙平板玻璃闪点效果的蚀刻配方运用到高铝硅玻璃上，会造成闪点效果蚀刻不均匀、闪点颗粒过小、闪光不明显、不均匀、漏蒙等缺陷，严重制约了手机后盖玻璃闪点效果产品的应用前景。

发明内容

本发明的目的是提供一种手机后盖玻璃闪点效果的制作方法，克服了普通蚀刻液不能有效针对高铝硅玻璃进行闪点效果的蚀刻的弊端，解决了智能手机领域对高铝硅3D玻璃后盖闪点效果的具体指标要求，实现了在高铝硅玻璃表面蚀刻出金光闪烁的闪点效果的目的。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：

一种手机后盖玻璃闪点效果的制作方法，包括以下步骤：

1）配制高铝硅玻璃蚀刻液并将玻璃蚀刻液置于喷淋装置内；

2）将高铝硅玻璃不需蚀刻的一面用即时贴保护膜进行覆盖保护；

3）将高铝硅玻璃原片需要蚀刻的一面用去离子水清洗干净，在湿式状态下放入蚀刻喷淋装置处进行2-5分钟淋砂蚀刻处理即可，湿式状态就是玻璃原片清洗干净后，玻璃表面会均匀形成一层水膜，不需要烘干或者晾干，表面均匀的水膜可以促进蚀刻液与玻璃表面的反应，湿式状态与干式状态反应时产生的表面效果是不同的。

进一步的，所述高铝硅玻璃蚀刻液由以下质量分数的原料组成：NH₄HF₂ 15-25%、KHF₂ 3-10%、NH₄F 5-12%、HCL 8-20%、HNO₃12-25%、K₂SO₄ 2-8%、BaSO₄ 5-8%、Na₂SiF₆ 3-6%、FeCL₃ 0.8-1.5%、麦芽糖 3-5%、H₂O 10-20%，具体配制时，按照上述配方顺序称量配制蚀刻液，并在常温下搅拌2-8小时，搅拌速度为200-600转/分钟，直至药液呈现均匀一致的过饱和溶液状态即可，过饱和溶液是一种可溶性固体粉末颗粒在溶液中的浓度超出了饱和浓度，是介稳状态，为了使过饱和溶液稳定，在溶液中添加了悬浮剂，让未能充分溶解的固态粉末颗粒在蚀刻液中均匀悬浮，目的是在蚀刻反应过程中一直保持蚀刻液的饱和浓度。

进一步的，所述步骤3）中蚀刻玻璃从喷淋装置中取出以后先用去离子水清洗，在自然风干或烘干即可。

进一步的，整个制作工程中控制蚀刻液温度为25-27℃。

本发明具有的优点是：本发明利用喷淋式化学蚀刻的方法制作高铝硅玻璃闪点效果产品，对高铝硅玻璃蚀刻液的配方进行了成分及含量的优化，选择了NH₄HF₂、KHF₂、NH₄F、HCL、HNO₃、K₂SO₄、BaSO₄、Na₂SiF₆ 、FeCL₃、麦芽糖、H₂O的组合，其中，氟化物对玻璃具有蚀刻作用，在不同浓度不同种类的酸液中与玻璃表面反应时产生的蒙砂颗粒形状不同，这些蒙砂微晶颗粒属于硅酸盐络合物聚体，通过添加不同种类的盐类物质，可以实现不同的玻璃表面蒙砂微晶颗粒晶型效果，从而达到手机玻璃后盖呈现出来想得到的蚀刻效果，目前智能手机玻璃后盖均是采用高铝硅玻璃材质，本申请优化了各种原料之间的配比，采用喷淋式酸蚀刻技术，在玻璃表面形成纳米级的微晶钻石状颗粒，这些钻石状微晶颗粒的颗粒深度在10-15μm之间，颗粒跨度在650-750μm之间，每个微晶颗粒具有3-4个钻石平面突出，这些钻石状微晶颗粒在玻璃表面按照近程无序、远程有序的方式进行排列，从而在光照下产生星光闪烁的奇妙视觉效果，同时在蚀刻液中添加BaSO₄、麦芽糖等物质，促进了蚀刻液的悬浮乳化性能，有利于蚀刻液的均匀性与一致性，从而实现蚀刻反应均匀一致，达到高铝硅玻璃表面闪点效果均匀一致的目的。

具体实施方式

实施例1

⑴按照如下配比进行高铝硅玻璃闪点效果蚀刻液的配制（wt%）：NH₄HF₂ 20.4%、KHF₂4.8%、NH₄F 6.2%、HCL 12.5%、HNO₃21.8%、K₂SO₄ 2.7%、BaSO₄ 6.9%、 Na₂SiF₆ 5.6%、FeCL₃0.8%、麦芽糖 3.6%、H₂O14.7%，充分搅拌均匀直至药液呈现完全均匀一致的过饱和溶液状态，即制得高铝硅玻璃闪点效果蚀刻液；

⑵将高铝硅玻璃不需蚀刻的一面用即时贴保护膜进行覆盖保护；

⑶将高铝硅玻璃原片需要蚀刻的一面用去离子水清洗干净，在湿式状态下放入蚀刻喷淋装置处进行淋砂蚀刻处理；

⑷控制蚀刻液温度为25-27℃，控制蚀刻时间为2-5分钟；

⑸达到蚀刻时间要求后及时从蚀刻液喷淋装置中取出被蚀刻后的玻璃，然后用去离子水清洗干净，并风干或者烘干即制得高铝硅玻璃闪点效果产品。

实施例2

实施例2与实施例1的不同之处在于：实施例2中玻璃闪点效果蚀刻液的配方如下：NH₄HF₂ 21.8%、KHF₂ 5.3%、NH₄F 7.5%、HCL 11.8%、HNO₃20.5%、K₂SO₄ 2.5%、BaSO₄ 6.3%、Na₂SiF₆ 5.2%、FeCL₃ 1.1%、麦芽糖4.5%、H₂O14.0%。

实施例3

实施例3与实施例1的不同之处在于：实施例3的玻璃闪点效果蚀刻液配方如下：NH₄HF₂21.7%、KHF₂ 5.0%、NH₄F 5.8%、HCL 12.6%、HNO₃23.8%、K₂SO₄ 2.0%、BaSO₄ 6.0%、Na₂SiF₆4.8%、FeCL₃ 0.9%、麦芽糖 4.8%、H₂O 12.6%。

性能试验

根据玻璃行业统一的测试方法对蚀刻前的原玻璃以及实施例1-3制备的闪点蚀刻玻璃的性能进行测定，并于表1中将各项性能指标进行对比如下：

表1 手机后盖玻璃闪点效果蚀刻前后性能指标对比

性能	蚀刻前原玻	实施例1	实施例2	实施例3
					光泽度（%）	110.6	35.8	36.2	36.8
透光率（%）	96.6	66.2	65.3	64.5
					雾度（%）	0.08	34.9	35.6	36.8
粗糙度（μm）	0	2.7	2.8	2.8
					反射率（%）	8.8	3.2	3.5	3.6

Claims

1.一种手机后盖玻璃闪点效果的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

配制高铝硅玻璃蚀刻液并将玻璃蚀刻液置于喷淋装置内；

将高铝硅玻璃不需蚀刻的一面用即时贴保护膜进行覆盖保护；

将高铝硅玻璃原片需要蚀刻的一面用去离子水清洗干净，在湿式状态下放入蚀刻喷淋装置处进行2-5分钟淋砂蚀刻处理即可。

2.如权利要求1所述的手机后盖玻璃闪点效果的制作方法，其特征在于：所述高铝硅玻璃蚀刻液由以下质量分数的原料组成：NH₄HF₂ 15-25%、KHF₂ 3-10%、NH₄F 5-12%、HCL 8-20%、HNO₃12-25%、K₂SO₄ 2-8%、BaSO₄ 5-8%、Na₂SiF₆ 3-6%、FeCL₃ 0.8-1.5%、麦芽糖 3-5%、H₂O 10-20%，具体配制时，按照上述配方顺序称量配制蚀刻液，并在常温下搅拌2-8小时，搅拌速度为200-600转/分钟，直至药液呈现均匀一致的过饱和溶液状态即可。

3.如权利要求2所述的手机后盖玻璃闪点效果的制作方法，其特征在于：所述步骤3）中蚀刻玻璃从喷淋装置中取出以后先用去离子水清洗，在自然风干或烘干即可。

4.如权利要求3所述的手机后盖玻璃闪点效果的制作方法，其特征在于：整个制作工程中控制蚀刻液温度为25-27℃。