CN111330163A - 口腔内光疗法装置以及使用它们的方法 - Google Patents
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Abstract
本公开涉及口腔内光疗法装置以及使用它们的方法。在一些实施例中，装置包括壳体、发射器和电子电路。壳体被配置为适配在患者嘴内。发射器至少部分地包装在壳体内。发射器被配置为当壳体设置在嘴内时对牙槽软组织发射有效量的光。电子电路操作地耦合至发射器。电子电路被配置为当壳体设置在嘴内以及装置在正畸治疗期间使用时控制发射器。此处公开了装置以及其用于调节牙齿移动或者维持或者改善口腔组织健康的用途。
Description
本申请是申请日为2014年10月22日，申请号为 201480057810.9，发明名称为“口腔内光疗法装置以及使用它们的方 法”的申请的分案申请。
相关申请的交叉引用
本申请要求2013年10月22日提交的美国临时申请No. 61/894,404、2014年4月25日提交的61/984,667和2014年9月3日 提交的62/045,439的权益，这些申请中的每一个的全部公开通过引用 合并于此。
背景技术
本发明通常涉及口腔内光疗法装置以及使用该口腔内光疗法装 置的方法，包括用于调节和/或便于正畸牙齿移动的方法。
正畸包括牙齿穿过骨骼的移动。通过对牙齿施加压力，可以在 牙齿前缘处破坏骨骼以便于牙齿移动。随后在牙齿后缘处产生新骨骼。 在牙根与牙周组织之间的压力区域中吸收(例如，破坏)骨骼，以及 在牙根与牙周组织之间的张力区域中沉积(产生)骨骼。压力可以引 起吸收以及张力可以引起沉积，与它们沿着牙根表面在何处发生无关。 当牙齿经受常规正畸治疗时牙齿穿过骨骼的移动基于重建过程的速度 很慢，从而需要长期治疗以达到期望牙齿位置。成人的牙齿移动比青 少年的牙齿移动慢。长期正畸治疗可以具有增大的牙根吸收、牙龈炎 症和龋齿的风险。另外，由于牙齿可能由于所施加的力而“倾斜” (即，牙冠可以在期望方向上比牙根移动得快，导致牙齿倾斜移动)， 因此牙齿穿过骨骼的移动可以是不均匀的。当牙齿“整体地”移动穿 过骨骼时(即，沿相对于骨骼几乎垂直取向)，牙齿在没有倾斜移动 的情况下或者在仅较低程度倾斜移动的情况下移动。
已经寻求用于提高牙齿移动速率而不损坏牙齿和牙周组织的方 法。例如，可以通过围绕牙槽窝局部注射前列腺素、维生素D3的活 性形式和骨钙蛋白以实现牙齿移动的加速。尽管这些物质可能提高牙 齿移动的速率，但是也可能引起副作用，诸如在注射过程期间患者的 局部疼痛和不适。用于提高牙齿移动速率的替换策略是提高骨骼再生。 例如，已经发现光疗法在治疗骨骼疾病以及对骨骼和软组织的生物刺 激中有效，并且可以在加速牙槽骨再生中有效。光可以例如通过刺激 细胞色素C氧化酶或者一氧化氮合酶以刺激功能上受损的细胞和组 织中的各种生物活性。
通常地由向受影响区域引导来自手持发光装置的光的牙科医生、 正畸医生、医师或者治疗师施用已知光线疗法或者光疗法治疗。已知 发光装置会很难始终如一地在受影响区域上定位。因此，通常由临床 环境中的从业医师施用光疗法的已知方法。这还允许从业医师手动地 解决依从性和安全性担忧。例如，通过在临床环境中执行光疗法，从 业医师可以监督患者对处方的光疗法治疗程序的依从性。然而，即使 通过这种人工监督，患者可能跳过预定治疗时段或者处方治疗时段或 者无法维持记录治疗性时段的日志的可能性仍然存在。因此，开治疗 程序处方的从业医师可能不能精确地评估患者是否受益于发光装置的 使用。
另外，使用已知光疗法设备可以呈现与在没有向受影响区域引 导时的发射光相关联的其它并发症和/或风险。例如，向患者解剖结 构的不同部分(例如，眼睛)引导光潜在地可能是有害的。另外，发 光装置的温度可能超过期望的温度阈值，因此使患者遭受潜在伤害。 更具体地，已经颁布各种规则和/或行业标准以解决安全性担忧(包 括发光装置的与过高温度相关的担忧)。例如，国际电工技术委员会 (“IEC”)已经颁布了标准No.60601，该标准阐述了医疗电气器 械的通用基本安全性和性能要求。更具体地说，IEC标准No.60601- 2-57阐述了旨在用于治疗性和其它用途的光源器械的安全性和性能 要求，以及IEC标准No.60601-1-11阐述了用于家庭环境的医疗电 气设备和系统的要求。在另一个示例中，IEC已经颁布了标准No. 62471，该标准解决了灯和灯系统的光生物安全性。对这些标准和任 何其它适用标准的遵从会对光疗法的已知方法和系统提出挑战。
另外，口腔内光疗法典型地包括在至少若干天内的重复治疗。 相应地，口腔内光疗法的已知方法包括接受光疗法的患者到从业医师 办公室或者医务室多次就诊以完成治疗疗程。这种重复就诊可以是耗 时的或者昂贵的。
此外，在近年的研究中，北美洲超过65％的受试者被示出为缺 乏维生素D的血清水平。在这些缺乏维生素D的受试者中，骨骼代 谢和重建会受到不利影响。
因此，存在对用于响应于正畸治疗提高穿过骨骼的牙齿移动的 速度(或者速率)或者提高穿过骨骼的牙齿移动的质量以在没有不期 望的副作用或疼痛的情况下减少患者治疗次数的方法和装置的需要。 还有对可以用于使用允许在患者嘴内一个或者多个期望特定位置处调 制牙齿移动而没有过度困难的口腔内施用的光疗法以实现牙齿穿过骨 骼移动的期望模式或者质量(例如，牙齿穿过骨骼的整体移动)的方 法和装置的需要。还存在对监测患者对处方治疗程序的依从性的可以 用于在家庭环境中施用光疗法的方法和装置的需要。还存在对配置为 解决与在家庭环境中自我施用光疗法相关联的患者安全性担忧(包括 确保装置符合适用安全性和性能规则和/或标准)的方法和装置的需 要。
另外，一些已知正畸治疗方案包括按照预定顺序佩戴一组正畸 器具(诸如定制校准器)中的每一个，每个佩戴一段时间。使用这种 校准器的已知治疗方法通常指定应当佩戴每个校准器的固定时间周期 (例如，六天)。已知方法不提供用于采用与特定患者相关联(即， 将患者牙齿移动的特定速率考虑在内)的时间周期的方法。另外，使 用校准器的已知治疗方法不包括光疗法。因此，存在对用于确定应当 佩戴正畸器具的时间周期的改进方法和装置的需要。
发明内容
本发明提供包括壳体、发射器和电子电路的装置。壳体被配置 为适配在患者嘴内。发射器至少部分地包装在壳体内，并且被配置为 当壳体设置在嘴内时对与牙槽软组织相关联的区域发射有效量的光。 电子电路操作地耦合至发射器，并且被配置为当壳体设置在嘴内并且 装置在正畸治疗期间使用时控制发射器。
装置对调节牙齿移动或者维持或者改善口腔组织健康有用。
本发明还提供用于调节牙齿移动、维持口腔组织健康或者改善 口腔组织健康的方法。方法包括对需要方法的患者施用来自装置的发 射器的有效量的光。
装置对提高口腔外科手术之后口腔组织的愈合速率有用。
本发明还提供用于提高口腔外科手术之后口腔组织的愈合速率 的方法。方法包括对执行了口腔外科手术并且需要愈合的患者的组织 施用来自装置的发射器的有效量的光。
在一些实施例中，装置包括壳体、发射器和电子电路。壳体被 配置为适配在患者嘴内。发射器光学地耦合至壳体，并且被配置为当 壳体设置在嘴内时对牙槽软组织发射有效量的光。电子电路操作地耦 合至发射器，并且被配置为当壳体设置在嘴内并且装置在正畸治疗期 间使用时控制发射器。
装置对调节牙齿移动或者维持或者改善口腔组织健康有用。
本发明还提供用于调节牙齿移动、维持口腔组织健康或者改善 口腔组织健康的方法。方法包括对需要方法的患者施用来自装置的发 射器的有效量的光。
本发明提供包括第一部分和第二部分的系统。第一部分被配置 为设置在患者嘴内。耦合至第一部分的第一发射器被配置为当第一部 分设置在嘴内时以第一波长对牙槽软组织发射有效量的光。电子电路 操作地耦合至第一发射器，并且被配置为当第一部分设置在嘴内并且 装置在正畸治疗的第一阶段期间使用时控制第一发射器。第一阶段从 时间T0开始。第二部分与第一部分不同，并且被配置为设置在患者 嘴内。第二发射器耦合至第二部分并且被配置为当第二部分设置在嘴 内时以不同于第一波长的第二波长对牙槽软组织发射有效量的光。电 子电路操作地耦合至第二发射器，电子电路配置为当第二部分设置在 嘴内并且装置在正畸治疗的第二阶段期间使用时控制第二发射器。第 二阶段在第一阶段之后，并且从时间T＞0开始。
在一些实施例中，方法包括在预定天数内每天接收与正畸器具 与患者口腔内的组织之间的接触相关联的指示。正畸器具是可拆卸地 耦合至患者牙齿的一组正畸器具中的一个。基于指示确定与来自多个 正畸器具的每个正畸器具相关联的治疗周期。方法还包括产生与治疗 周期相关联的信号。
在一些实施例中，方法包括将第一正畸器具设置在患者口腔内 以使得第一正畸器具可拆卸地耦合至患者的牙齿。确定特定于患者的 周期。在周期内将第一正畸器具维持在口腔内。方法还包括在周期之 后将第二正畸器具设置在患者口腔内以使得第二正畸器具可拆卸地耦 合至患者牙齿。
系统对于对患者的牙槽软组织施用光疗法是有用的。
附图说明
图1和图2是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的透视图。
图3A是沿着线X-X得到的图1的装置的截面图。
图3B是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的一部分的侧视 图。
图4-8是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的示意图。
图9是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的示意图。
图10是图9的装置的一部分的截面图。
图11是图9的装置的一部分的顶部透视图。
图12是图9的装置的一部分的截面图。
图13是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的示意图。
图14是图13的装置的侧视图。
图15是图13的装置和充电站的侧视图。
图16和17是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的示意图。
图18A是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的一部分的顶 视图。
图18B是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的一部分的正 视图。
图19是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的一部分的顶视 图。
图20是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的透视图。
图21是沿着线A-A得到的图20的装置的截面图。
图22是图20的装置的底视图。
图23是在口腔内使用的根据本发明实施例的口腔内光疗法装置 的侧视图。
图24和25分别是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的部 分的侧视图和正视图。
图26是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的透视图。
图27-29是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的顶视图。
图30-33是根据本发明实施例的口腔内光疗法装置的透视图。
图34和35分别是供电(即，“接通”)操作状态中的图30-33 的装置的顶视图和后视图。
图36是耦合至电子设备的图34和35的装置的透视图。
图37是设置在患者口腔中并且由患者使用的图30-36的装置的 图像。
图38是设置在患者口腔中并且由患者使用的根据本发明实施例 的口腔内光疗法装置的图像。
图39是在使用图38的口腔内光疗法装置的光疗法治疗之前患 者的上牙弓的图像。
图40是在使用图38的口腔内光疗法装置的光疗法治疗之后图39的患者的上牙弓的图像。
图41是在使用图38的口腔内光疗法装置的光疗法治疗之前患 者的上牙弓的图像。
图42是在使用图38的口腔内光疗法装置的光疗法治疗之后图 41的患者的上牙弓的图像。
图43是根据本发明实施例的口腔内装置的后视图。
图44是图43的口腔内装置的正视图。
图45和46是根据本发明实施例的口腔内装置的侧视图和顶视 图。
图47是图45的口腔内装置的一部分的透视图。
图48A和48B是图45的口腔内装置的一部分的仰视后透视图 和俯视后透视图。
图49和50是根据本发明实施例图45的口腔内装置和外部站的 透视图和正视图。
图51是图49的外部站的正视图。
图52是图45的口腔内装置的一部分的示意图示。
图53是根据本发明实施例的口腔内装置的顶视图。
图54是根据本发明实施例的口腔内装置的一部分的侧视图。
图55和图56是图54的口腔内装置的端视图和透视图。
图57是根据本发明实施例包括图54的口腔内装置的系统的示 意图示。
图58是根据本发明实施例的口腔内装置的示意图示。
图59是研究组参与者的上颌齿移动的个体速率的图形图示。
图60是研究组参与者的下颌齿移动的个体速率的图形图示。
图61是对比的口腔外光疗法设备的透视图。
图62和63是根据实施例的光疗法装置的透视图。
图64A是图62的光疗法装置的右侧视图。图62的光疗法装置 的左侧视图是右侧视图的镜像。
图64B是沿着图64A中的线B-B得到的图64A的装置的横截面 视图。
图65是图62的光疗法装置的后透视图。
图66是翻转位置中的图62的光疗法装置的透视图。
图67是图62的光疗法装置的一部分的透视图。
图68是图67的光疗法装置的部分的正视图。
图69是图67的光疗法装置的部分的顶视图。
图70是图67的光疗法装置的部分的底视图。
图71是图62的光疗法装置的一部分的透视图。
图72是图62的光疗法装置的后视图。
图73是图62的光疗法装置的一部分的示意图。
图74是图62的光疗法装置的一部分的电气示意图。
图75是图62的光疗法装置的一部分的透视图。
图76-86是表示根据各种实施例配置为由图62的光疗法装置执 行的代码的逻辑流程图。
图87是根据实施例可以在其中设置图62的光疗法装置的外部 站的透视图。
图88是图87的外部站的后视图。
图89是图87的外部站的底部部分的顶视图。
图90是图87的外部站的底部部分的透视图。
图91是图87的外部站的电子组件的示意图示。
图92是根据实施例在拔出部位处植入的屏障种植体的侧视图。
图93-103是根据实施例的外部电子设备的样本显示屏的图像。
图104-105是根据实施例的光疗法装置的后透视图和后视图。
图106是根据实施例的光疗法装置的顶视图。
图107是图106的光疗法装置的透视图。
图108是图106的光疗法装置的顶部透视图。
图109是图106的光疗法装置的后视图。
图110是图106的光疗法装置的透视图。
图111是根据实施例的光疗法装置的一部分的正视图。
图112是根据实施例的方法的流程图。
图113是根据实施例的外部电子设备的样本显示屏的图像。
图114A、114B和115A、115B是研究组参与者的正畸治疗的空 间关闭阶段期间的个体患者数据的表格。
图116-118是示出了示例7中描述的研究中的个体患者的每个 校准器的平均天数的柱状图。
具体实施方式
如此处结合参考数字指示使用的术语“大约”指的是参考数字 指示加或者减多达该参考数字指示的10％。例如，语言“大约50个” 单位意指从45个单位到55个单位。
如此处使用的动词“围绕”意指在目标对象的大约一(1)厘米 内。例如，围绕牙齿的口腔组织在牙齿的大约1cm内。在一些实施 例中，此处公开的方法对于防止或者最小化牙齿的大约1cm内的炎 症是有用的。
如此处使用的术语“患者”指的是可以接受医疗(包括正畸) 治疗的任何活体受试者。患者可以是例如诸如人类的哺乳动物。患者 可以是成年患者或者儿童患者。在一些实施例中，患者可以是接受光 治疗(例如，使用此处描述的口腔内装置在口腔内对患者施用光)的 活体受试者。
如此处使用的术语“根区域”指的是包括牙根的解剖长度和宽 度的患者解剖结构的一部分以及便于牙齿附着到牙齿位于其内的牙槽 骨的外周组织的至少一部分。外周组织可以包括牙周韧带和设置有牙 周韧带并且围绕牙齿的骨窝。根区域可以包括根据牙齿的类型从牙龈 线延伸到大约10mm到大约22mm的深度的组织。除非上下文另外 清楚指出，根区域还可以包括每个牙齿的根区域的特定距离内(例如， 大约0.1cm至大约3cm内)的区域。根区域的尺寸可以根据特定受 试者牙齿而变化。除非上下文另外清楚地指出，此处提到的根区域可 以包括根区域的至少一部分或者整个根区域。
如此处使用的，术语“柔性”涉及对象对通过所施加力的偏转、 变形和/或位移的抵抗性。例如，当受到力时具有较大柔性的口件或 者口腔结构相比具有较低柔性口件或者口腔结构对偏转、变形和/或 位移的抵抗性小。如类似地陈述的，具有较高刚度的口件可以表征为 比具有较低刚度的口件更刚性(或者柔性差)。在一些实施例中，对 象的柔性和/或可变形性可以由对象的线性柔性和/或可变形性表征。 线性柔性和/或可变形性可以根据施加至对象的力的量和所产生的使 对象的第一部分相对于对象的第二部分偏转、变形和/或位移的距离 来表征。
柔性是当前描述的对象的广延性质，并且因此取决于形成对象 的材料和对象的某些物理特征(例如，形状和边界条件)。例如，可 以通过在对象中选择性地包括具有期望弹性模量的材料以增大或者减 小对象的柔性。弹性模量是组成材料的强度性质并且描述对象响应于 所施加的力的弹性地(即，非永久地)变形的倾向。在同样施加的力 的面前，具有高弹性模量的材料将不如具有低弹性模量的材料偏转得 多。因此，可以例如通过将具有低弹性模量的材料引入对象中和/或 由具有低弹性模量的材料构造对象以提高对象的柔性。在另一个示例 中，可以通过改变构造对象的材料的挠曲模量以增大或者减小对象的柔性。挠曲模量用于描述在受挠对象上施加的应力与对象最外部分中 的对应应变的比率。挠曲模量(而不是弹性模量)用于表征在条件范 围内不具有基本上线性的材料性质的某些材料(例如塑料)。相比具 有第二挠曲模量的对象，具有第一挠曲模量的对象的弹性更小并且在 对象的最外部分上具有更大应变，第二挠曲模量低于第一挠曲模量。 因此，可以通过在对象中包括具有低挠曲模量的材料以增大对象的柔 性。
还可以通过改变对象的物理特征(诸如对象的形状或者横截面 面积)以增大或者减小对象的柔性。例如，具有长度和横截面面积的 对象比具有相同长度但更大横截面面积的对象具有更大的柔性。因此， 可以通过增大和/或改变对象横截面区域的形状以增大对象的柔性和/ 或刚度。
如此处使用的术语“透明”涉及对象使光穿过其中透射的能力。 对象的透明度与对象内不存在光散射(或者非常少量的光散射)直接 相关。如果对象允许可见光穿过其中透射以使得可以通过主对象明显 地看到另外的对象，则对象被称作“基本上透明的”。在另一个实施 例中，如由任何适用试验(诸如ASTM D-1746、ASTM D-1003等等) 测量的，如果对象允许可见范围中的入射光的至少百分之六十穿过对 象的一部分透射，则对象被称作“基本上透明的”。在又其它实施例 中，如果对象允许可见范围中的入射光的至少百分之七十穿过对象的 一部分透射，则对象被称作是“基本上透明的”。在又其它实施例中， 如果对象允许可见范围中的入射光的至少百分之八十穿过对象的一部 分透射，则对象被称作是“基本上透明的”。在又其它实施例中，如 果对象允许可见范围中的入射光的至少百分之九十穿过对象的一部分 透射，则对象被称作是“基本上透明的”。在又其它实施例中，如果 对象允许可见范围中的入射光的至少百分之九十五穿过对象的一部分 透射，则对象被称作是“基本上透明的”。在又其它实施例中，如果 对象允许可见范围中的入射光的至少百分之九十九穿过对象的一部分 透射，则对象被称作是“基本上透明的”。
口腔内光治疗装置
此处描述的一些实施例涉及使牙槽软组织(例如，牙槽粘膜) 暴露于光(例如，具有从大约10mW/cm2到大约200mW/cm2的强 度)。施用光可以改变牙齿移动速率、提高愈合速率或者提供一个或 者多个其它正畸好处。例如，对拔出部位施用光可以提高愈合速率以及减缓牙齿到部位中的移动。此处描述的一些实施例包括口腔内光疗 法装置，配置为对患者牙槽软组织的一个或者多个部分施用光。可以 在正畸治疗之前、期间或者之后和/或在口腔外科手术之前、期间或 者之后使用这种装置。如此处公开的，在一些实施例中，可以每天使 用装置向患者施用光1分钟到60分钟。在其它实施例中，装置可以 接触患者的口腔粘膜数分钟、数小时、数天、数周、数月或者数年， 以及装置的发射器中的一个或者多个可以在该周期期间的至少一些时 间期间照射光。
在一些实施例中，装置被配置为符合任何人类患者的牙槽软组 织；在其它实施例中，装置可以被配置为符合特定人类患者的牙槽软 组织。例如，可以例如使用从CT扫描(例如，锥束CT扫描)、患 者的颌模型、口腔内数字扫描模型和/或患者的颌的照片获得的信息将装置配置为符合任何人类患者或者特定人类患者的特定牙齿几何结 构。更具体地说，可以例如基于从上述方法中的一个或者多个获得的 信息，使用CAD/CAM设计应用定制设计要安置在患者嘴内的装置 内的LED布置。在其它实施例中，可以从配置为大体符合人类患者口腔解剖特性的一组装置选择标准装置。在一些这种实施例中，标准 装置可以被调节为符合特定人类患者的特性。
在一些实施例中，装置被配置为偏转、弯曲和/或变形以符合患 者的口腔解剖结构。例如，在一些实施例中，装置包括口件，口件配 置为在口件在患者嘴外面时的第一配置与口件在患者嘴里面时的第二 配置之间转换。此外，在一些实施例中，装置包括口件和光发射器。 在一些实施例中，口件被配置为装配在患者的嘴内并且包括咬合托盘 和耦合至咬合托盘的凸缘。在一些实施例中，例如，当口件在患者嘴 外面时，凸缘的内面与咬合托盘的上表面形成第一角度。在一些实施 例中，当口件设置在患者嘴内时，凸缘可相对于咬合托盘偏转以使得 在凸缘内面与咬合托盘上表面之间形成第二角度。在一些实施例中， 当口件设置在嘴内时，光发射器设置在凸缘内并且配置为向患者的口 腔组织发射光。
在一些实施例中，用于调节牙齿移动的方法包括将光疗法设备 的口件设置到患者嘴中。在一些实施例中，口件包括咬合托盘、凸缘 和光发射器中的一个或者多个。在一些实施例中，凸缘耦合至咬合托 盘并且在其中可选地包括光发射器。在一些实施例中，凸缘被配置为 在设置期间相对于咬合托盘移动以使得凸缘内面与咬合托盘上表面之 间的角度在设置之前具有第一值以及在设置之后具有第二值。在一些 实施例中，方法还包括向需要该方法的患者施用来自光发射器的有效 量的光。
在一些实施例中，装置被配置为基于定制剂量(例如，为特定 患者定制的剂量)施用光疗法。较年轻患者可以具有比较年长患者低 密度的骨骼。可以在光疗法施用之前例如使用计算机断层摄影术 (CT)(在一个实施例中，锥束CT)测量患者的骨骼密度。在一些 实施例中，可以通过照射患者的牙齿并且测量穿透牙齿的光量(例如， 使用诸如与图18A中描绘的装置类似的装置或者诸如图18A中描绘 的装置)测量患者的骨骼密度。一旦确定患者的骨骼密度，则可以确 定最优光剂量以用于实现期望牙齿移动。
在一些实施例中，装置可以包括用以在装置与患者的牙槽软组 织接触时改善患者舒适度和/或用于将装置安置在患者嘴中的咬合垫。
在一些实施例中，装置可以与在患者牙齿和/或肌肉组织(诸如 面颊和唇颊、舌头等等)上施加力的器具结合使用。在一些实施例中， 本发明的装置与超过一个对患者施加力的器具结合使用。对牙龈区域 施加一个或者多个力并且在口腔内向患者的牙槽软组织施用光可以提 高牙齿移动速率、提高口腔组织愈合速率以及提供其它正畸好处。在 一些实施例中，所施加的力中的一个或者多个是重的力。在一些实施 例中，施加力的器具中的一个或者多个是功能器具。此处公开了重的 力和功能器具。
在其它实施例中，装置可以与正畸器具结合使用。
在一些实施例中，用于正畸治疗的方法包括将光疗法设备的口 件设置到患者嘴中。口件包括咬合托盘、凸缘和光发射器。在一些实 施例中，凸缘耦合至咬合托盘并且在其中可选地包括光发射器。在一 些实施例中，凸缘被配置为在设置期间相对于咬合托盘移动以使得凸 缘内面与咬合托盘上表面之间的角度在设置之前具有第一值以及在设 置之后具有第二值。在一些实施例中，方法还包括向患者施用来自光 发射器的有效量的光。
在一些实施例中，装置可以与配置为向患者传送维生素D的器 具或者其它合适运输工具结合使用。维生素D治疗提高患者的维生 素D血清水平，并且在与口腔内光治疗相结合时可以提高牙齿移动 速率、提高口腔组织的愈合速率以及提供其它正畸好处。此处公开了 维生素D治疗。
在一些实施例中，本发明的装置可以与在患者口腔组织(诸如 患者的牙齿)上施加力的一个或者多个器具或者配置为向患者传送维 生素D的器具(或者其它合适的运输工具)结合使用。以这种方式， 患者接受光治疗和维生素D治疗并且还使力施加在例如一个或者多 个牙齿上。
在一些实施例中，装置被配置为在口件设置在患者嘴内时检测 和/或发送信号。以这种方式，装置可以发起和/或控制此处公开的光 疗法的方法中的任何一个的传送。例如，在一些实施例中，光疗法装 置包括口件、喙形件和电子组件中的一个或者多个。在一些实施例中， 口件被配置为设置在患者嘴内，并且在其中包括一系列光发射器。在 一些实施例中，一系列光发射器被配置为向患者的牙槽软组织发射光。 在一些实施例中，喙形件耦合至口件的前端并且被配置为当口件设置 在嘴内时设置在嘴外部。在一些实施例中，电子组件的至少一部分设 置在喙形件内。在一些实施例中，电子组件被配置为控制光发射器的操作。在一些实施例中，电子组件还被配置为发送第一信号以使第一 光发射器发射光。在一些实施例中，电子组件被配置为从第二光发射 器接收第二信号，第二信号与从第一光发射器发射的光相关联。电子 组件被配置为基于第二信号检测口件何时设置在嘴内。
图1和图2是本发明的口腔内光疗法装置的示意图。如图1所 示，装置包括面板1、2、3、4、5和6。面板1、2和3被配置为设 置在上颌的一个或者多个牙齿的根区域附近。在一些实施例中，面板 1、2和3可以被配置为邻近上颊牙槽软组织设置。例如，在一个实 施例中，面板1、2和3与上颊牙槽软组织接触；而，在其它实施例 中，面板1、2和3不与上颊牙槽软组织接触但是在上颊牙槽软组织 的一定距离内(例如，在0.1cm到3cm内)。牙槽软组织可以包括 例如牙槽粘膜。在其它实施例中，面板1、2和3可以被配置为邻近 上舌牙槽软组织设置。例如，在一个实施例中，面板1、2和3与上 舌牙槽软组织接触；而，在其它实施例中，面板1、2和3不与上舌 牙槽软组织接触但是在上舌牙槽软组织的一定距离内(例如，在0.1 cm到3cm内)。如类似陈述的，在一些实施例中，面板1、2和/或 3可以被配置为设置在上颌根区域后方，而在其它实施例中，面板1、 2和/或3可以被配置为设置在上颌根区域前方。类似地，面板4、5 和/或6可以被配置为邻近前和/或后下颌根区域设置。
在其它实施例中，面板(或者装置的其它部分)可以设置在此 处描述的各种区或者区域中的任何一个处。例如，尽管在一些实施例 中，此处将面板描述为与上颊或者上舌牙槽软组织接触或者在上颊或 者上舌牙槽软组织的一定距离内(例如，在0.1cm到3cm内)，但 是在其它实施例中，面板被配置为与下颊或者下舌牙槽软组织接触和 /或在下颊或者下舌牙槽软组织的一定距离内(例如，在0.1cm到3 cm内)。在又其它实施例中，装置可以包括多个面板，多个面板中 的至少第一部分被配置为与上颊或者上舌牙槽软组织接触或者在上颊 或者上舌牙槽软组织的一定距离内(例如，在0.1cm到3cm内)， 以及多个面板中的至少第二部分被配置为当第一部分与上牙槽软组织 接触或者在上牙槽软组织的一定距离内时与下颊或者下舌牙槽软组织 接触或者在下颊或者下舌牙槽软组织的一定距离内(例如，在0.1cm 到3cm内)。
在一些实施例中，装置被配置为仅邻近上颌或者下颌根区域设 置。例如，在一个实施例中，装置与上颌或者下颌根区域接触；而， 在其它实施例中，装置不与上颌或者下颌根区域接触但在上颌或者下 颌根区域的一定距离内(例如，在0.1cm到3cm内)。如类似陈述的，尽管图1描绘了包括上部分和下部分的装置，但是在其它实施例 中，装置仅具有上部分或者仅具有下部分。尽管装置示出为具有六个 面板，但是在其它实施例中，装置可以具有一个或者多个面板。例如， 单个面板可以被配置为覆盖上颌和/或下颌根区域的至少一部分或者 整体。在其它实施例中，可以邻近每个牙齿的根区域设置一个或者多 个面板。例如，在一个实施例中，一个或者多个面板与每个牙齿的根 区域接触；而，在其它实施例中，一个或者多个面板不与每个牙齿的 根区域接触但在每个牙齿的根区域的一定距离内(例如，在0.1cm 到3cm内)。
尽管在一些实施例中，此处描述的面板覆盖大多数牙根的解剖 尺寸(例如，长度)中的至少一些，但是个体患者的软组织和骨结构 中的变化可以防止面板覆盖一些牙根的根尖范围。在这种情况下，牙 齿的根尖部分可以接收较低能量密度。然而，在一些实施例中，面板 包括嵌入式LED阵列，配置为沿一个或者多个这种根尖部分的方向 引导光或者配置为以其它方式提高面板的根尖部分中的强度。
在一些实施例(诸如图2中描绘的实施例)中，装置被配置为 包裹在牙齿上，使得装置的第一部分邻近前根区域设置以及装置的第 二部分邻近后根区域设置。在这种实施例中，当装置在操作中时，在 解剖牙冠上解除装置以提供牙齿移动的自由。例如，在一个实施例中， 装置的第一部分与前根区域接触和/或装置的第二部分与后根区域接 触；而，在其它实施例中，装置的第一部分不与前根区域接触和/或 装置的第二部分不与后根区域接触，但是装置的第一部分和/或第二 部分分别地在前根区域或者后根区域的一定距离内(例如，在0.1cm 到3cm内)。
图3A描绘了沿着线X-X得到的图1的装置的截面。装置10可 以包括包装在面板40中的一个或者多个金属丝12、反射背衬20、电 路30和一个或者多个发射器32。在一些实施例中，一个或者多个发 射器32可以部分地包装在面板40内，使得一个或者多个发射器32的至少一部分暴露并且当装置在患者嘴中时可以接触例如患者的牙槽 软组织。面板40可以由基本上透明的柔性和/或软性聚合物(诸如硅 树脂)构造。在其它实施例中，面板40可以是刚性塑料，诸如丙烯 酸。当由患者佩戴装置时，面板40可以成形为覆盖患者嘴的特定区 域。例如，面板40可以具有有效覆盖患者牙根中的至少四个的宽度 和长度。面板42的一部分可以具有圆形和/或泪滴形状以为患者提供 舒适度并且允许装置适合凸缘区域。面板42的部分可以具有不包括 锐利或者尖锐边缘的任何形状，因为这种边缘将刺激患者嘴的前庭或 者在患者嘴的前庭深处令人不舒服。
在一些实施例中，面板40至少部分地包装在装置中，该面板40 可以具有类似于护口器或者透明牙齿校准器的形状并且可以由适合在 嘴中使用的任何材料构造。以这种方式，包装在面板40中的组件还 至少部分地包装在装置中。在一些实施例中，面板40完全包装在装 置中。可以将面板40和包装在其中的组件流体密封在装置内，使得 唾液或者另外的流体不能接触面板40。以这种方式密封面板40可以 提供安全性好处、延长口腔内装置的使用寿命和/或需要较少维护。 例如，如果不将面板40流体密封在装置内，则装置可能需要频繁维 护以从面板40清理流体以及其它堆积。
发射器32可以是可操作用于发射光的任何合适设备。发射器32 可以是例如发光二极管(LED)。在一些实施例中，发射器32是发 射光的光学纤维(或者其部分)。在一些实施例中，发射器32是连 接至一个或者多个光学纤维并且从一个或者多个光学纤维接收光输入 的设备。面板40可以包括此处公开的LED和光学纤维发射器的任何 组合。在一些实施例中，发射器32可以发射具有大约620nm波长 的单色光。在其它实施例中，发射器32可以发射具有大约850nm 波长的单色光。在又其它实施例中，发射器32可以被配置为发射具 有范围从大约600nm到大约1200nm的波长的光、以超过一个波长 发射光、前进穿过波长范围和/或发射宽光谱光或者一个或者多个任 何合适波长。发射器32可以被配置为发射具有此处描述的任何波长 或者特征的光。此处更详细地描述了这种光的波长和特征。
可以在面板40内以任何合适方式安置和布置发射器32。例如， 发射器32可以被布置为使得当由患者佩戴装置时它们将光覆盖和照 射到嘴的特定区域。在一个示例中，将每个发射器32安置在不同牙 根上并且将光照射到不同牙根。在另一个示例中，发射器32被一起 分成组，使得发射器的一个组安置在患者嘴的第一区域(例如，一个 牙根)上并且将光照射到患者嘴的第一区域，而发射器的另一个组安 置在患者嘴的第二不同区域(例如，另一个牙根)上并且将光照射到 患者嘴的第二不同区域。以这种方式，可以为特定患者定制装置和每 个对应面板40内的发射器32以满足正畸治疗的特定需要。如此处指 出的，面板以及因此发射器32可以与牙槽软组织或者牙根接触或者 在牙槽软组织或者牙根的一定距离内。由于在发射器32与组织或者 根之间的距离内会发生的能量损失，发射器32越接近牙槽软组织或 者牙根，由发射器32发射的光剂量可以对调节牙齿移动越有效。然 而，在一些实施例中，如此处描述的，可以通过将发射器32安置为 与组织或者根接触和/或安置在组织或者根的一定距离内以使由发射 器32发射的光的功率密度最大化。
在一些实施例中，如图3B所示，发光阵列1001具有第一部分 1002和第二部分1003。发光阵列1001的第一部分1002被配置为包 括比第二部分1003中的光发射器密度大的光发射器密度。在一些实 施例中，发光阵列1001的第一部分1002包括光垫的一部分上的较紧 编织。发光阵列1001(或者光垫)的第一部分1002可以设置在阵列 的顶端部分处。由于增大的功率至少部分地补偿较短的延伸，因此由 光垫的较紧编织产生的顶端处增大的功率密度允许对于凸缘的较短延 伸。
再次参考图3A，电路30可以是例如柔性电路。在一些实施例 中，电路30包括可操作用于控制一个或者多个发射器32的操作的控 制器(未示出)。在其它实施例中，电路30可以耦合至控制器，诸 如口腔内或者口腔外控制器。在一些实施例中，控制器可以独立地控制一个或者多个发射器32中的每一个。例如，使用电路30，控制器 可以共同地和/或单独地控制接通/断开状态、强度、频率、脉冲、占 空因数和/或一个或者多个发射器32的任何其它合适参数。当装置在 使用中时，可以改变这些参数中的任何一个。通过对发射器32中的 一个或者多个通电，控制器使一个或者多个发射器32能够发射光并 且从而加速骨骼重建和/或牙齿移动。通过对发射器32中的一个或者 多个断电，由于骨骼重建将不会由光加速，因此控制器使区域中牙齿 的移动最小化。在一些实施例中，可以接通面板40内的一个或者多个发射器32，而断开面板40内的一个或者多个其它发射器32。在一 些实施例中，当装置在使用中时，一个或者多个发射器32可以以接 通状态启动，然后在某个稍后时间切换到断开状态。通过增大或者减 小光的强度，控制器可以增大或者减小至患者的光剂量。光剂量基于 强度和时间，因此，在一些实例中，增大光强度允许减少需要对患者 施用的光的时间量。实际上，为了产生治疗性结果，存在最小时间和 强度两者的生物阈值。控制器可以在该阈值处或者之上操作发射器 32。在一些实施例中，可以增大从面板40内的一个或者多个发射器 32发射的光的强度，而减小从面板40内的一个或者多个其它发射器 32发射的光的强度。例如，当装置在使用中时，可以发生该增大或 者减小。
控制器可以控制频率和占空因数以使得可以实现较高峰值强度。 高峰值强度可以在较厚组织中和/或当需要在较大深度处施用光剂量 时有用。在一些实施例中，面板40内的第一发射器可以邻近并且瞄 准比面板40内第二发射器瞄准的骨骼区域更深入牙槽软组织下方的 骨骼区域设置。在这些实施例中，控制器可以为第一发射器编程或者 控制第一发射器以使得该第一发射器发射具有比第二发射器高的峰值 强度的光。控制占空因数还可以防止发射器过热。例如，控制器可以 以25％占空因数和100Hz的频率操作一个或者多个发射器32以使得 发射器32接通1/400秒，然后断开3/400秒。断开时间将允许发射 器32冷却，从而避免与较高温度相关联任何潜在性能退化。
如此处公开的，控制器可以单独地并且选择性地控制面板40内 每个发射器32的各种光发射特征并且因此每个发射器32可以独立于 面板40内的其它发射器32操作。具体地，如果需要，面板40内的 每个发射器32可以发射具有不同特征的光。因此，面板40可以以超 过一个波长照射光或者以其它方式照射具有多个不同特征的光。在其 它实施例中，控制器可以共同地控制面板40内发射器32的各种光发 射特征。在一些实例中，控制面板40内发射器32中的全部以使得它 们发射具有相同特征的光。然而，可以独立于装置其它面板内的发射 器来操作和控制这些发射器32。例如，发射器32可以发射具有850 nm波长的光，而另一个面板内的发射器(例如，图1所示面板3) 发射具有650nm波长的光。因此，所发射光的特征可以在装置内的 面板之间不同。在其它实例中，面板40内的发射器32可以形成分组并且共同地控制每个分组内的发射器。例如，面板40可以包括两组 发射器32：第一组发射器可以以第一波长发射光以及第二组发射器 可以以第二不同波长发射光。可以为特定患者定制面板40以及其中 的发射器32，使得对患者施用有效量的光或者光剂量并且瞄准嘴内 的特定区域。该定制可以在例如嘴的一个区域接受与嘴的另一个区域 不同的光治疗时有用。
在一些实施例中，装置可以包括内部电源(诸如电池(未示 出))。在其它实施例中，装置可以包括端口，使得电路30可以耦 合至外部电源。
在一些实施例中，电路30可以包括一个或者多个传感器(未示 出)以检测装置、患者牙槽软组织和/或患者根区域的温度。例如， 可以在电路30中放置热敏电阻器或者类似温度测量设备以监测发射 器32(例如，LED阵列)和面板40的温度以及测量患者嘴内部的温度。该信息可以充当获得温度相关信息以及监测患者依从性的方法。 当将电路(即，电路30和来自装置剩余面板的电路)放置在嘴中时 以及当装置发射光时，发射器的温度将从治疗前环境温度上升到更接 近正常体温。通过监测温度变化，控制器可以基于温度升高并且接近 体温的时间周期监测发射器32在嘴中的时间周期。替换地，如参照 图18A-图19更详细描述的，可以将光电检测器放置在电路30中和/ 或与发射器32放置在一起以测量来自牙槽软组织的光的反射。该配 置可以充当监测患者依从性的方法并且还充当确保除装置在患者嘴内 以外发射器32不工作的故障安全机制。
反射背衬20可以是金属箔或者可操作用于使得沿期望方向(在 一个实施例中，基本上例如在特定方向的大约1度到大约10度内的 一个方向)引导由发射器20发射的光的其它合适反射材料。例如， 反射背衬20可以限定装置的背面，使得朝患者的牙槽软组织或者根 区域(例如，在包括骨骼的牙槽软组织和根下方的区域)引导光。
金属丝12可以是可操作用于使得装置符合牙槽软组织和/或牙 龈的超弹性金属丝。在一些实施例中，金属丝12可以产生相对较大 的正畸和/或矫形力，诸如可操作用于促使一个或者多个牙齿移动的 力。力可以例如从大约10克的力到大约1000克的力。在一些实施例 中，力是重的力。在其它实施例中，装置可以是单独口腔内装置的一 部分和/或耦合至单独口腔内装置，诸如正畸矫正架、保持器和/或任 何其它合适的功能器具。在一些这种实施例中，单独口腔内装置可以 结合或者代替产生力的金属丝12产生力。
图4-6是本发明装置的示意图。如图4所示，在一些实施例中， 可以在一个或者多个牙齿160的根上设置一个或者多个发射器132。 在其它实施例中，如图5所示，可以在一个或者多个牙齿260的根之 间设置一个或者多个发射器232。在这种实施例中，可以对装置和/或 每个牙齿260的根区域施加罩以防止牙齿260的根区域暴露于光。如 此处公开的，罩阻挡从一个或者多个发射器132照射的光，使得几乎 没有或者没有光到达由罩覆盖的区域。罩可以是牙罩。罩可以是不透 明的和/或反射性的。在一些实施例中，罩包括粘合表面，使得可以 在期望光被阻挡的位置处将罩放置并且粘附至装置外表面。在一些实 施例中，罩以贴纸的形式。罩的粘合表面可以接触和/或覆盖一个或 者多个面板(或者其部分)。在一些实施例中，当罩粘附至装置并且 装置在患者嘴中时，罩的相对外表面(或者其部分)可以接触牙槽软 组织(例如，牙槽粘膜)。在一些实施例中，可以对装置和/或每个 牙齿260的根区域施加超过一个罩以防止牙齿260的根区域暴露于光。 在一些这种实施例中，可以施加超过一种类型的罩。例如，可以对装 置施加不透明罩和反射性罩两者。
在其它实施例中，如图6所示，一个或者多个发射器332可以 可操作用于照射上颌骨缝，例如，上颌骨缝的中线。在一些实施例中， 在对上颌骨缝施加矫形力之前、期间和/或之后，一个或者多个发射 器332发射朝上颌骨缝引导的光。可以由正畸器具(诸如，例如，快速上颌扩弓(RME)器具)施加矫形力。RME器具可以在患者臼齿 上施加矫形力以为上颌的骨骼扩展打开和扩展上颌骨缝(如与仅牙齿 移动的正畸扩展相反的)。可以在这些实施例中使用光疗法加快上颌 骨生长以及填充由骨骼扩展产生的间隙的速率。在一些实施例中，当前方法可用于加速骨骼填充和/或减小正畸器具移除之后上颌弓恢复 原状或者变窄的可能性。在一些实施例中，一个或者多个发射器332 发射朝腭中线引导的光，使得通过光疗法刺激骨再生。在一些实施例 中，图6所示装置被定制为围绕RME器具或者其它类似的固定正畸 扩张器适配。在一些实施例中，图6所示装置包括照射上颌骨缝的一 个或者多个发射器332以及照射牙槽软组织的一个或者多个其它发射 器。
发射器132、232和/或332可以以与图3A中描绘的发射器32 类似的方式工作。
图7是根据实施例的装置的示意图。装置包括四个面板401、 402、403、404、光源410、一个或者多个光学纤维电缆420和控制 器430。面板401、402、403和/或404可以配置为邻近上颌和/或下 颌的根区域设置。例如，在一个实施例中，面板401、402、403和/ 或404与上颌和/或下颌的根区域接触；而，在其它实施例中，面板 401、402、403和/或404不与上颌和/或下颌的根区域接触但是在上 颌和/或下颌的根区域的一定距离内(例如，在0.1cm到3cm内)。 这种配置可以消除在口腔中放置电子设备的需要。
光源410可以可操作用于发射光。例如，在一些实施例中，光 源410可以输出单色光。例如，光源410可以是激光器、LED和/或 任何其它合适的光源。光源410可以被配置为发射具有范围从大约 600nm到大约1200nm的波长的光、以超过一个波长发射光输出、 前进穿过波长范围和/或发射宽光谱光输出或者任何合适的一个或者 多个波长。光源410可以输出具有此处描述的任何波长或者特征的光。
可以通过一个或者多个光学纤维420将光从光源410传送到控 制器430。控制器430可以是例如光学开关。控制器430可以可操作 用于通过一个或者多个光学纤维420选择性地将来自光源410的光传 输到面板401、402、403和/或404。例如，控制器430可以共同地和 /或单独地控制接通/断开状态、强度、频率、脉冲、占空因数和/或传 送至面板401、402、403、和/或404的光的任何其它合适参数。控制 器430可以与图3A中描绘的控制器类似地工作。
在一些实施例中，可以将超过一个光学纤维420引导至每个面 板。类似于参考图4和图5示出和描述的装置，光学纤维可以邻近根 区域(例如，在0.1cm到3cm内)或者在根区域处端接。因此，每 个光学纤维可以将来自光源410的光引导至根区域。通过提供超过一个纤维420，可以引导和/或控制来自源410的光以照射根区域的特定 部分。以这种方法，类似于如此处参照图3、4和5示出和描述的发 射器32、132和/或232，控制器430可以选择性地对一个或者多个牙 齿的根区域施加光。
图8是根据一个实施例的装置的示意图。装置包括两个面板501、 502、光源510、光学纤维带520和控制器530。面板501和502可以 配置为邻近上颌的根区域以及下颌的根区域设置。如此处公开的，面 板501和502例如可以首先邻近上颌的根区域设置；随后，在上颌正 畸治疗完成之后，面板501和502可以从上颌移除并且放置在下颌上， 使得它们邻近下颌的根区域设置。在一个实施例中，面板501、502 与上颌和/或下颌的根区域接触；而，在其它实施例中，面板501、 502不与上颌和/或下颌的根区域接触但是在上颌和/或下颌的根区域 的一定距离内(例如，在0.1cm到3cm内)。这种配置可以消除在 口腔中放置电子设备的需要。
面板501、502可以限定上部分542。上部分542的横截面可以 是圆形和/或泪滴形状(类似于图3A中描绘的面板42的部分)以向 患者提供舒适度并且允许装置适合于上颌和下颌的凸缘区域。例如， 如此处公开的，装置可以戴在上颌上，使得面板501、502的上部分542适合于上凸缘区域；随后，装置可以从上颌移除、颠倒翻转并且 随后安装在下颌上，使得上部分542现在设置在下凸缘区域中。以这 种方式，面板501、502的上部分542被配置为适配并且适应患者嘴 的上凸缘区域和下凸缘区域两者。在一些实施例中，面板501、502 还可以限定具有圆形和/或泪滴形状截面的下部分541，使得例如装置 可以从上颌移除并且安装在下颌上而不必翻转装置。在这里，与上部 分542相对的下部分541被设置在下凸缘区域中并且配置为在下凸缘 区域中适配。
面板501、502的部分541、542可以具有不包括锐利或者尖锐 边缘的任何形状，因为这种边缘将刺激患者嘴的前庭或者在患者嘴的 前庭深处令人不舒服。在一些实施例中，部分541和/或542具有使 力分散并且使会引起患者不适的压迫点最小化的形状或者截面形状。 在一些实施例中，部分541和/或542具有比面板501、502的剩余部 分厚的截面。以这种方式，部分541和/或542可以使娇嫩的粘膜软 组织偏转并且允许凸缘完全伸展而对患者几乎没有或者没有不适。更 具体地说，部分541和/或542可以使颊组织远离牙槽偏转。
光源510可以可操作用于以与参照图7的光源410相同的方式 发射光。可以通过光学纤维带520将光从光源510传送到控制器530。 控制器530可以可操作用于以与参照图7的控制器430相同的方式通 过光学纤维带520选择性地将来自光源510的光传输到面板501和/ 或502。例如，控制器530可以共同地和/或单独地控制接通/断开状 态、强度、频率、脉冲、占空因数和/或传送至面板501和/或502的 光的任何其它合适参数。
如图8所示，光学纤维带520可以耦合至装置，使得带520的 一个或者多个光学纤维电气地连接和/或引导到每个面板501、502。 例如，类似于参考图4和5示出和描述的装置，带520中的光学纤维 中的一个或者多个可以邻近根区域(例如，在0.1cm到3cm内)或 者在根区域处端接。因此，带520的每个光学纤维可以以与参照图7 的光学纤维420相同的方式将来自光源510的光引导至根区域。带 520的光学纤维可以被配置为使面板501、502光学地耦合在一起。 光学纤维带520可以在其中具有一个或者多个光学纤维(例如，一束 或者多束)。例如，带520可以根据用于治疗的特定光发射技术或者 模式针对每个面板501、502具有从1个纤维到500个纤维的任何纤 维数。光学纤维带520可以具有任何合适形状和/或大小，使得带可 以舒适地从装置延伸到患者嘴外面。带520可以例如具有大约0.5cm 到大约1.0cm的宽度。尽管图8的装置被图示和描述为具有电耦合 至面板501和502两者的单条带，但是在其它实施例中，装置包括超 过一条带。例如，在一个实施例中，装置包括两条带。在一些实施例 中，一条带可以电连接至面板501以及另一条带可以单独地电连接至 面板502。在一些实施例中，带520是编织的光纤织物。更具体地说， 该实施例中的带520可以由编织成织物的一个或者多个光学纤维组成。 在一些实施例中，以大约90度或者垂直于织物平面发射来自编织的 光纤织物的光。可以与图8的装置一起使用的编织的光纤织物的示例是可从Lumitex公司(http://www.lumitex.com/)商业上购得的 
。
如此处公开的，图8中的装置可以安装在上颌或者下颌上。在 一些实施例中，在正畸治疗期间安装图8中的装置。例如，在治疗开 始时，装置可以安装在上颌上，使得装置的上部分542设置在上凸缘 区域中。随后，在治疗期间的稍后时间，患者可以从上颌移除装置并 且将装置安装在下颌上以用于治疗的剩余部分。在一个实施例中，装 置可以安装在下颌上，使得装置的下部分541设置在下凸缘区域内。 在该实施例中，装置保持正面向上。然而，在另一个实施例中，装置 可以安装在下颌上，使得装置的上部分542设置在下凸缘区域内。换 句话说，在患者从他的或者她的上颌移除装置之后，他或者她使装置 旋转180度以使得装置颠倒，然后将装置安装在下颌上。在该实施例 中，上部分542适配上凸缘区域和下凸缘区域两者。
在一些实施例中，装置包括诸如位置传感器的电子设备，其可 以确定装置相对于患者嘴的位置或者取向。更具体地说，在装置颠倒 翻转(例如，旋转180度)以安装在下颌上的实施例中，装置可以包 括在正畸治疗期间确定装置在患者口腔中的位置或者取向的电子设备。 例如，传感器可以确定装置正戴在上颌上还是下颌上。这种电子设备 可以用于在正畸治疗期间监测依从性。在一些实施例中，电子设备可 以是一个或者多个开关、传感器等等。
此处参照图1-8图示和描述的装置中的任何一个可以具有任何 数量的面板，该面板可以以此处描述的任何方式工作和运行。尽管未 必图示，但是在一些实施例中，面板可以耦合在一起和/或封装在一 个或者多个单元内。例如，图7中的面板403和404可以耦合在一起 和/或封装在类似于适配上牙的护口器的单个单元中。面板401和402 可以同样地耦合在一起和/或封装在类似于适配下齿的护口器的单个 单元内。在图30-37和图43-50中示出了包括发光面板的护口器的示 例。应当注意，尽管在图37中示出了相对于患者上牙定位的护口器， 但是护口器还配置为相对于患者下齿定位。在另一个示例中，面板 403和404可以耦合在一起，使得面板403的至少一部分与面板404 的一部分重叠。在该示例中，面板403可以以与面板404相同或者不 同的波长发射光。此外，可以通过一个或者多个面板的层叠或者重叠 增大功率输出和光治疗强度。
在一些实施例中，此处描述的口腔内装置中的任何一个可以包 括容纳微处理器、菜单驱动软件和LCD屏幕中的一个或者多个的手 持式控制器。控制器可以被编程以计算和/或监测一个或者多个光疗 法疗程和它们的持续时间。用户界面可以向患者显示疗程信息，使得 例如患者知道完成的疗程数量以及每个疗程中剩余的时间。控制器可 以使用任何合适的电力供应，包括例如UL认证的电力供应。在一些 实施例中，口腔内装置可以包括四个治疗阵列，它们中的每一个可以 包括安装至轮廓形成的散热器和可透射红外线的透镜(在一个实施例 中，塑料透镜)的一组LED和柔性印刷电路板，并且具有附接至控 制器的导电电缆。
图9是根据实施例的装置的示意图。装置可以配置用于患者的 口腔内光疗法。装置包括四个面板601、602、光源610和光学纤维 620。面板601、602、603和604可以被配置为例如以与此处参照图 1-8描述的类似方式邻近上颌的根区域以及下颌的根区域设置。更具体地说，面板601和602可以邻近上颌(或者下颌)的前根区域设置， 以及面板603和604可以邻近上颌(或者下颌)的后根区域设置。换 句话说，面板601、602、603、604可以被配置为设置在上颌根区域 和下颌根区域中的每一个的前方(对于面板601、602)和后方(对 于面板603、604)。以这种方式，在使用中，面板601、602可以被 配置为沿着朝向面板603、604的方向发射光，以及面板603、604可 以被配置为沿着朝向面板601、602的方向发射光。面板601、602、 603和604例如可以首先邻近上颌的相应前根或者后根区域设置；随 后，在上颌正畸治疗完成之后，面板601、602、603和604可以从上 颌移除并且放置在下颌上，使得它们邻近下颌的相应前根区域或者后 根区域设置。在一个实施例中，面板601、602、603和604与上颌和 /或下颌的根区域接触；而，在其它实施例中，面板601、602、603 和604不与上颌和/或下颌的根区域接触但是在上颌和/或下颌的根区 域的一定距离内(例如，在0.1cm到3cm内)。在一些实施例中， 面板601、602可以被配置为邻近上颊舌牙槽软组织和/或下颊舌牙槽 软组织设置(例如，与上颊舌牙槽软组织和/或下颊舌牙槽软组织接 触或者在上颊舌牙槽软组织和/或下颊舌牙槽软组织的一定距离内) 以及面板603、604可以被配置为邻近上舌牙槽软组织和/或下舌牙槽 软组织设置。这种配置可以消除在口腔中放置电子设备的需要。
面板可以在一个或者多个方面与此处描述的任何面板(包括， 例如参照图1-8描述的那些面板)相似或者相同。每个面板601、 602、603、604与延伸至光源610的一束光学纤维620相关联。更具 体地说，每个面板601、602、603、604通过一束光学纤维620与光 源610的发射器632相关联。以这种方式，每个面板601、602、603、604和相应面板所耦合的任何壳体(在图9中未示出)光学地耦合至 光源610的发射器632。
光源610可以可操作用于以与参照图7的光源410和/或参照图 8的光源510相同的方式发射光。光源610可以包括例如一个、两个、 三个、四个或者更多个(例如，十个)LED(包括，例如，图9所示 的LED 612、614、616、618)。光源610的至少一部分(例如，包 括LED 612、614、616、618)可以设置在装置的外部壳体中，该外 部壳体的至少一部分被配置为当面板601、602、603，604如此处描 述的邻近根区域设置在口腔中时设置在口腔外。例如，当面板601、 602、603、604如此处描述的邻近根区域设置在口腔中时，装置的外 部壳体可以延伸穿过由患者的嘴唇形成的开口。
装置可以包括限定通过其中的一个或者多个开口652的歧管650。 歧管650的每个开口652可以包括锥形表面部分654，使得开口652 的至少一部分是漏斗状的。在光源610(例如，LED 612、614、616、 618中的一个)与面板中的一个(例如，面板601)之间延伸的一束光学纤维620可以穿过歧管650的开口652设置。如图10所图示的， 该束中的光学纤维620的端部安置在LED 612上或者邻近LED 612 安置。例如，在一些实施例中，该束中的光学纤维620的端部安置在 LED封装(例如，图12所示的LED封装632，该LED封装632可 以包括例如LED 612)或者其它合适光源上。接近LED封装(或者 其它发射器)632的歧管650的开口652的部分或者LED封装(或 者其它发射器)632中的至少一个可以具有与光学纤维束的直径相等 或者比光学纤维束的直径窄的直径。例如，如图12所示，光学纤维 束620和接近LED封装632的歧管650开口652中的每一个具有直 径D。漏斗状歧管的使用允许光学纤维620组织成更小束的分组，从 而消除对笨重机载套圈的任何需要。如此处更详细描述的，光学纤维620通过歧管650的这种组织还提供对单个面板601、602、603、604 的寻址。
可以通过光学纤维620将光从光源610的LED(例如，LED 612、614、616、618)传送到面板601、602、603和/或604。例如， 控制器(在图9中未示出)可以共同地和/或单独地控制接通/断开状态、 强度、频率、脉冲、占空因数和/或传送至面板601、602、603、和/ 或604的光的任何其它合适参数。
如图9所示，光学纤维620可以耦合至装置，使得光学纤维620 束电连接和/或引导到每个面板601、602、603、604。例如，可以使 光学纤维620耦合以使得光学纤维620的近侧端部耦合或者以其它方 式邻近光源610和歧管650中的至少一个以及使得光学纤维620的远 侧端部耦合或者以其它方式与一个或者多个面板601、602、603和/ 或604相邻。类似于参考图4和5示出和描述的装置，光学纤维620 中的一个或者多个(即，光学纤维中的一个或者多个的远侧端部)可 以邻近根区域(例如，在0.1cm到3cm内)或者在根区域处端接。 因此，每个光学纤维620可以以与参照图7的光学纤维420相同的方 式将来自光源610的光引导至根区域。光学纤维620可以被配置为使 面板601、602、603和/或604光学地耦合在一起。可以以任何合适 数量的纤维捆绑光学纤维620。例如，每个面板601、602、603和/或 604可以根据用于治疗的特定光发射技术或者模式与一束从1个纤维 到500个纤维的任何纤维数的纤维相关联。光学纤维620可以具有任 何合适形状和/或大小，使得纤维可以舒适地从面板延伸到患者嘴外 面设置的光源610。光学纤维620可以例如具有大约0.5cm到大约 1.0cm的共同宽度。套管622可以围绕光学纤维620束中的一个或者 多个设置以将纤维束维持在一起。图9-12所示装置可以例如在正畸 治疗期间安装在上颌或者下颌上。
图13是根据实施例的装置的示意图。装置可以配置用于患者的 口腔内光疗法。装置可以在一个或者多个方面中与此处描述的其它口 腔内光疗法装置(包括，例如，此处参照图9-12描述的装置)相似 或者相同。装置包括口腔内壳体780和外部壳体790，该外部壳体 790从口腔内壳体的前面部分延伸以使得当口腔内壳体设置在口腔内 时壳体的至少一部分设置在口腔外。
口腔内壳体780包括一个或者多个面板701、702、703、704。 面板701、702、703、704可以包括发光阵列、纤维垫、有机LED (“OLED”)或者上述的任何合适组合。面板701、702、703、704 可以被配置为以此处参照面板601、602、603、604描述的任何方式 设置在患者口腔内。
口腔内壳体780可以连接在配置为邻近颌的前根区域(或者颊 部牙槽软组织)定位的面板701、702与配置为邻近颌的后根区域 (或者舌部牙槽软组织)定位的面板703、704之间。在一些实施例 中，口腔内壳体780包括配置为在面板701的下部分(在图13中未 示出)与面板704的下部分(在图13中未示出)之间以及类似地在 面板702的下部分(在图13中未示出)与面板703的下部分(在图 13中未示出)之间延伸的下部分。以这种方式，口腔内壳体780可 以包括由口腔内壳体的下部分和包括面板701、702、703、704的口 腔内壳体的上部分限定的凹部部分782、783。凹部部分782、783可 以被配置为容纳患者牙列的至少一部分或者围绕患者牙列的至少一部 分设置。更具体地说，凹部部分782、783被配置为具有足以将患者 牙列的至少一部分容纳在口腔内壳体的下部分中的深度，使得包括面 板701、702、703、704的口腔内壳体的上部分邻近牙槽软组织或者 上颌和/或下颌的根区域设置和/或与牙槽软组织或者上颌和/或下颌的 根区域接触。
光学纤维720在面板701、702、703、704与外部壳体790中 (例如，在配置为当装置在使用中时保持在口腔外面的外部壳体的前 面部分处)设置的光源(在图13中未示出)之间延伸，使得一个或 者多个光学纤维电连接和/或引导至每个面板701、702、703、704。 例如，类似于参考图4和7示出和描述的装置，光学纤维720中的一 个或者多个可以邻近根区域(例如，在0.1cm到3cm内)或者在根 区域处端接。因此，每个光学纤维720可以以与参照图7描述的光学 纤维420相同的方式将来自光源的光引导至根区域。光学纤维720可 以被配置为使面板701、702、703、704的任何组合光学地耦合在一 起。装置可以具有任何合适数量的光学纤维。例如，装置可以根据用 于治疗的特定光发射技术或者模式针对每个面板701、702、703、 704具有从1个纤维到500个纤维的任何纤维数的纤维。光学纤维 720可以通过歧管750连接至光源。歧管可以在一个或者多个方面中 与参照图10-12描述的歧管650相似或者相同，并且因此此处不进行 详细描述。
光源可以在一个或者多个方面中与此处参照图9-12描述的光源 610相似或者相同，并且因此此处不进行详细描述。光源可以可操作 用于发射光。例如，在一些实施例中，光源可以输出单色光。例如， 光源可以是或者包括激光器、LED和/或任何其它合适的光源中的一 个或者多个。光源可以被配置为发射具有范围从大约600nm到大约 1200nm的波长的光或者以此处公开的任何波长或者波长范围发射光； 以超过一个波长发射光输出；前进穿过波长范围；和/或发射宽光谱 光输出或者任何合适的一个或者多个波长。光源可以输出具有此处描 述的任何波长或者特征的光。
如图14所示，外部壳体790包括电源792和电子电路794。电 源792可以是电池，包括，例如可再充电电池。电子电路794可以包 括电路板。电子电路794和任何关联的电子设备可以被配置为控制装 置(即，在正畸治疗期间)。例如，电子电路被配置为控制光源和/或光学纤维720的工作状态、光发射的持续时间、波长、强度或者频 率中的至少一个。由于装置在治疗期间不需要与外部组件的任何物理 连接(例如，不需要连接到外部光源、外部控制器或者外部电源)， 因此装置可以被表征为自容式的。
装置可以被配置为确定装置在直立位置或者取向中还是在倒置 (例如，旋转180度)位置或者取向中(即，装置相对于上颌取向还 是相对于下颌取向)。例如，在一些实施例中，外部壳体790包括位 置传感器、陀螺仪和加速度计中的至少一个。陀螺仪和/或加速度计 可以包括配置为确定装置位置(或者取向)的一个或者多个传感器。
在一些实施例中，如图15所示，装置包括在还包括充电站770 的系统中。充电站770限定配置为容纳装置的至少一部分(例如，口 腔内壳体780和/或外部壳体790的至少一部分)的容纳部分774、连 接组件772和显示器776。连接组件772被配置为便于使外部壳体790中设置的电源792充电(或者再充电)。在一些实施例中，连接 组件772提供用于耦合至装置的连接组件796的物理连接或者有线连 接以便于电源792充电。例如，连接组件772可以包括装置或者充电 站770中的一个上设置的插座和装置或者充电站中的另一个上设置的 对应插头。在一些实施例中，连接组件772被配置用于使电源792无 线地充电。例如，连接组件772可以被配置为使电源792感应地充电。 充电站770的显示器776被配置为显示与装置和/或充电站相关联的 信息。例如，显示器776可以被配置为显示与电源792的充电状态或 者充电量相关的信息、与治疗方案相关联的参数和/或用于使用充电 站770或者装置中的一个的指令。在一些实施例中，充电站770被配 置用于与装置单向或者双向通信。以这种方式，由于在装置与充电站 之间传递最新信息，因此与治疗方案和/或治疗历史相关联的信息 (例如，患者对处方治疗方案的用法或者依从性)包括更新，该更新 包括对治疗方案和/或治疗历史的任何改变。
图16是根据实施例的装置的示意图示。装置可以配置用于患者 的口腔内光疗法。装置可以在一个或者多个方面中与此处描述的装置 和关联部件相似并且包括在一个或者多个方面中与此处描述的装置和 关联部件(包括此处参照图13-15描述的那些装置和部件)相似或者 相同的部件。例如，装置包括口腔内壳体880和外部壳体890。口腔 内壳体880被配置为设置在口腔中。外部壳体890从口腔内壳体880 的前面延伸，使得外部壳体的至少一部分可以延伸穿过由患者嘴唇形 成的开口以及使得当口腔内壳体设置在口腔中时外部壳体的至少一部 分在口腔外面。
口腔内壳体880可以被配置为以此处描述的任何合适方式安置 在口腔内。口腔内壳体880包括配置为邻近上颌和/或下颌的前根区 域(和/或颊部牙槽软组织)设置的第一发光阵列801和配置为邻近 上颌和/或下颌的舌部根区域(和/或舌部牙槽软组织)设置的第二发 光阵列802。例如，从顶视图来看，如图16中示意性示出的，口腔 内壳体880可以具有与U或者马蹄铁的形状相似的形状。因此，换 言之，第一发光阵列801设置在口腔内壳体880的U形形状的外部 部分上，以及第二发光阵列802设置在口腔内壳体的U形形状的内 部部分上。以这种方式，在使用中，发光阵列801、802可以被配置 为沿着朝向发光阵列803、804的方向发射光，以及发光阵列803、 804可以被配置为沿着朝向发光阵列801、802的方向发射光。
发光阵列801、802至少部分地嵌入构造口腔内壳体880的材料 中。口腔内壳体880可以由任何合适材料(包括，例如硅树脂或者另 一个软性(例如，可延展)材料)构造。例如，发光阵列801、802 可以包括至少部分地嵌入构造口腔内壳体880的材料中的LED、 OLED、发光半导体或者它们的任何合适组合。在一些实施例中，发 光阵列801、802完全嵌入口腔内壳体880的材料中。
口腔内壳体880可以以与参照图13关于凹部部分782描述的类 似方式限定凹部部分882，并且因此此处不对凹部部分782进行详细 描述。
外部壳体890包括电源892、电子电路894和取向感测机构(在 图16中未示出)。以这种方式，装置可以被表征为自容式的。电源 892(例如，电池)被配置为通过电子电路894向发光阵列801、802 提供电力。电子电路894可以被配置为控制(例如，在正畸治疗期间)装置。取向感测机构被配置为确定装置的位置或者取向，例如，装置 直立用于相对于上颌安置还是倒置用于相对于下颌安置。取向感测机 构可以包括位置传感器、陀螺仪(例如，半陀螺仪)和加速度计中的 至少一个。
装置可以被配置为以与此处参照图13-15描述的装置类似的方 式与充电站(诸如充电站770)一起使用。
尽管参照图13-16描述的装置已经被描述为配置用于与充电站 (例如，充电站770)一起使用，但是，在其它实施例中，自容式装 置可以不同地配置用于使电源充电和/或控制通过装置的光发射。例 如，参照图17，装置包括配置为设置在口腔中的口腔内壳体980和 外部壳体990，外部壳体990配置为延伸穿过由患者嘴唇形成的开口 使得当口腔内壳体设置在口腔中时外部壳体的至少一部分在口腔外面。 口腔内壳体980可以在一个或者多个方面中与此处描述的用于口腔内 光疗法的任何口腔内壳体或者装置相似并且可以包括与此处描述的用 于口腔内光疗法的任何口腔内壳体或者装置中的那些部件相似或者相 同的部件。外部壳体990可以在一个或者多个方面中与此处描述的外 部壳体790和890相似，并且可以包括与此处描述的外部壳体790和 890中的那些部件相似或者相同的部件。
外部壳体990中的电源(在图17中未示出)被配置为通过连接 器972(例如，USB小型插头或者微型插头)充电。装置可以与外部 电子设备(诸如移动电话，包括智能手机(例如，
或者基于 AndroidTM的设备)电子地链接或者配对。装置可以被配置用于诸如 通过
或者其它无线连接与外部电子设备进行无线单向或 者无线双向通信中的至少一个。例如，装置可以被配置为向外部电子 设备传输与患者使用和/或治疗方案依从性相关联的信息，并且可以 被配置为从外部电子设备接收与医疗治疗(例如，正畸治疗)相关联 的信息。加载到外部电子设备上的应用程序可以用于监测和控制使用 装置的正畸治疗和/或记录和查看患者使用历史和/或处方治疗方案的 依从性历史。
在一些实施例中，根据实施例的装置被配置为检测通过装置在 患者牙周组织(例如，牙槽软组织和/或下颌和/或下颌的根区域的一 部分)处照射的、由患者牙周组织吸收或者反射的光量(例如，其强 度或者持续时间)。以这种方式，例如，如此处描述的，根据实施例 的装置可以被配置为评估患者对处方正畸治疗方案的依从性。参照图 18A，根据实施例的装置可以包括发光阵列1101(可以与此处描述的 任何发光阵列相似或者相同)和一个或者多个光电检测器1102。在 一些实施例中，发光阵列1101包括一个或者多个发射器，可操作用 于照射上颌和/或下颌的根区域和/或牙槽软组织的一部分的区域或者 与上颌和/或下颌的根区域和/或牙槽软组织的一部分相关联的区域。 光电检测器1102的至少一部分(诸如光电检测器的一个或者多个传 感器)被配置为安置在口腔内以检测来自牙槽软组织(和关联牙槽) 的由发光阵列1101发射的光(即，光子)的透射或者反射。例如， 光电检测器1102或者其传感器可以被安置在口腔内的腭表面上，并 且可以与设置在口腔外面的光电检测器的一部分电通信。由光电检测 器1102在正畸治疗期间进行的光透射检测每隔几秒钟激活光电检测 器。装置可以被配置为如果光电检测器在预定时间周期内没有检测到 光衰减则断电。装置可以被配置为存储光检测和由于缺乏检测装置断 电的历史记录。这种使用信息可以用于确定患者是否依从处方正畸治 疗方案。该配置还可以充当故障安全机构以确保除装置在患者嘴内之 外发光阵列1101不工作。如此处描述的，该配置还可以用于获得关 于患者骨骼密度的信息，其中信息可以用于定制要向患者施用的光疗 法的剂量。上述依从性评估机构可以包括在此处描述的用于口腔内光 疗法的任何装置中，或者以其它方式并入此处描述的用于口腔内光疗 法的任何装置中。
在另一个示例中，参照图18B，根据实施例的装置被配置为检 测通过装置在患者牙周组织(例如，上颌和/或下颌的根区域和/或牙 槽软组织的一部分)处照射的、由患者牙周组织吸收或者反射的光量 (例如，其强度或者持续时间)。例如，装置可以被配置为确定照射 在根区域处的、由根区域从根区域暴露的光量或者剂量吸收或者反射 的能量密度。如此处描述的，装置还被配置为基于在患者牙周组织处 照射的、由患者牙周组织吸收的还是反射的光的所检测的量、强度和 /或持续时间(或者能量密度)确定是否应当调节当前由装置发射的 光量。
在一些实施例中，装置包括具有第一凸缘1110和第二凸缘1116 的口件。第一凸缘1110包括一个或者多个光发射器1111，并且被配 置为当口件设置在患者口腔内时邻近上颌和/或下颌的根区域和/或牙 槽软组织(通常标示为组织T)的第一部分的颊侧设置。在一些实施 例中，一个或者多个光发射器1111可以至少部分地或者完全地封装 在第一凸缘中。在一些实施例中，一个或者多个光发射器1111可以 设置在第一凸缘的表面上。一个或者多个光发射器1111被安置为使 得从其中发射的光被引导至上颌和/或下颌的根区域和/或牙槽软组织 的第一部分。一个或者多个光发射器1111被配置为诸如通过通路 1113与控制器1114电通信。以这种方式，控制器1114可以控制影 响通过一个或者多个光发射器1111的光发射的参数(例如，持续时 间、强度和波长)。
口件的第二凸缘1116包括一个或者多个光电检测器1112，并且 被配置为当口件被设置在患者口腔内(以及第一凸缘邻近上和/或下 颌的根区域和/或牙槽软组织的第一部分的颊侧设置)时邻近上颌和/ 或下颌的根区域和/或牙槽软组织的第二部分的腭侧或者舌侧设置， 第二部分与第一部分相对。光电检测器1112可以至少部分地或者完 全地封装在第二凸缘1116内。光电检测器1112被配置为在第一部分 与第二部分之间接收穿过上颌和/或下颌的根区域和/或牙槽软组织的 光。光电检测器1112被配置为诸如通过通路1118与控制器1114电 通信。光电检测器1112被配置为向控制器1114传送与由光电检测器1112接收的光相关联的信息。例如，光电检测器1112可以向控制器 1114传送与所接收的光强度相关联的信息。
控制器1114被配置为执行用于确定是否应当调节通过一个或者 多个光发射器1111的光发射的参数以例如实现穿过患者组织的目标 光透射的算法。例如，控制器1114可以基于与由光电检测器1112接 收的光相关联并且传送至控制器1114的信息以及与通过一个或者多 个光发射器1111的光发射相关联的一个或者多个已知参数(例如， 持续时间、强度和波长)执行算法。控制器1114可以被配置为基于 上述确定来调节通过一个或者多个光发射器1111的光发射的一个或 者多个参数。可以由控制器1114调节或者以其它方式控制的光发射 的参数包括由一个或者多个发射器1111发射的光的强度、通过一个 或者多个光发射器1111的光发射的持续时间、一个或者多个光的波 长或者强度、持续时间和波长中的一个或者多个。
在一些实施例中，控制器1114被配置为确定相对于(例如，邻 近)上颌还是下颌根区域安置装置的口件。例如，控制器1114可以 使得一个或者多个光发射器1111按照已知强度、持续时间或者波长 发射光。控制器1114可以随后从光电检测器1112接收与穿过根区域的光透射相关联的信息，然后基于所接收的信息确定光透射穿过上颌 根区域还是下颌根区域。换句话说，控制器1114可以确定如果由光 电检测器1112接收的光透射在第一值范围内则是否相对于上颌安置 口件或者如果由光电检测器1112接收的光透射在第二值范围内则是 否相对于下颌安置口件。
在一些实施例中，装置被配置为在处方治疗方案开始之前或者 开始时相对于下颌和上颌中的每一个进行校准。以这种方式，相对于 上颌安置口件，随后由一个或者多个光发射器1111发射光并且由光 电检测器1112检测基于穿过上颌根区域透射的光的能量密度。关于 上颌，光透射或者反射(视情况而定)的值(此处称为Iratio)可以计 算如下，其中Idelivery是由发射器发射的光的值(例如，以mW/cm2计量的强度)以及Itransmission是由光电检测器接收的光的值(例如， 以mW/cm2计量的强度)：
类似地，关于下颌，Iratio可以计算如下：
Iratio可以例如至少部分地基于光子功率密度。控制器1114可以 被配置为存储Iratio值(即，□1max和/或□1mnd)。以这种方式，装置可以 参考所存储的值以确定最优地相对于上颌还是下颌安置口件。以与此 处参照图18A描述的类似方式，装置可以被配置为在整个正畸治疗 方案持续时间期间监测患者依从性。在使用中，可以基于根据下列计 算的患者的耐受性范围调节每个Iratio值：□1±％耐受性范围。在一些 实施例中，控制器1114被配置为(诸如通过选择性地改变(例如， 增大或者减小)Idelivery强度)调节Idelivery以实现期望Itransmission。
尽管此处将Iratio描述为以mW/cm2计量，但是，在一些实施例 中，可以使用与期望照明参数或者特征相当的不同计量单位计量Iratio。 例如，可以关于光波长(例如，以纳米)计量Iratio。以这种方式，控 制器1114可以被配置为例如分析如通过由患者组织中的发色团吸收 和/或透射的波长的变化表示的细胞光电吸收状态。
参照图19，根据实施例的装置被配置为控制朝向上颌和/或下颌 的根区域和/或牙槽软组织的一部分发射的光的量、强度、波长和/或 持续时间以及检测穿过上颌和/或下颌的根区域和/或牙槽软组织的光 的量、强度、波长和/或持续时间。装置可以在许多方面与此处描述 的任何其它装置(诸如，例如此处参照图18A和18B描述的装置) 的部件相似或者相同，或者包括在许多方面与此处描述的任何其它装 置的部件相似或者相同的部件。在一些实施例中，装置包括具有配置 为设置在根区域的颊侧上的第一凸缘1120和配置为设置在根区域的 腭侧或者舌侧上的第二凸缘1126的口件。
一个或者多个光发射器(例如，多个光发射器)1121设置在第 一凸缘1120中。一个或者多个光发射器1121包括可单独寻址(或者 控制)的区段1123。可以与一个或者多个光发射器的不同区段分开 地并且独立于一个或者多个光发射器的不同区段地控制影响通过一个 或者多个光发射器1121的区段的光发射的参数(例如，强度、持续 时间和/或波长)。换言之，由一个或者多个光发射器1121发射的光 的强度、持续时间和/或波长可以在一个或者多个光发射器的各种区 段1123之间改变。第二凸缘1126包括一个或者多个光电检测器(例 如，多个光电检测器1122)。多个光电检测器1122可以包括两个或 者更多个分立光电检测器1124。在一些实施例中，一个或者多个光 电检测器1122包括与一个或者多个光发射器1121中的区段1123的 数量相等的光电检测器1124数量。以这种方式，每个光电检测器1124可以被配置为接收由一个或者多个光发射器1121的对应区段1123发射并且穿过区段1123与光电检测器1124之间的根区域的光。 以这种方式，可以调节通过一个或者多个光发射器1121的每个区段 的光发射以适应牙槽尺寸可以不同的不同患者的治疗目标和/或解剖 结构的变化。这些调节可以至少部分地基于由对应光电检测器1124 接收的光。
在一些实施例中，包括用于感测光透射或者反射的光电检测器 的装置(诸如此处参照图18A-图19描述的装置)被配置为执行初始 校准。例如，在一些实施例中，为了校准装置，患者将装置放置在口 腔的上牙弓中。装置使用内部取向感测机构(例如，陀螺仪)校准其 取向(即，直立或者倒置)。激活光源(诸如一个或者多个LED)。 一个或者多个光学纤维在它们的远侧端部处充当接收器和光电检测器， 配置为确定光子或者光透射或者反射。重复激活光源和通过接收器/ 光电检测器纤维确定光透射或者反射诸如两次或者三次。计算光透射 或者反射的平均值，以及在正畸治疗期间将所计算的平均值用作阈值 或者范围。如果所检测的光量变得与阈值或者范围不一致，则装置去 激活以停止正畸治疗。
在一些实施例中，装置包括轮廓形成为补充患者口腔内的患者 组织的弯曲度和/或其它物理属性的口腔内壳体。例如，参照图20-22， 根据实施例的装置包括口腔内壳体1280，该口腔内壳体1280包括配 置为邻近患者的颊部牙槽软组织设置的前面部分1282和配置为邻近 患者的舌部牙槽软组织设置的后面部分1284。中线M分别地划分口 腔内壳体1280的前面部分1282和后面部分1284的左侧和右侧(此 处还称为翼或者凸缘)。在一些实施例中，左侧和/或右侧的高度被 配置为与包括平均切牙根长度和前臼齿的长度的长度相对应。配置为 邻近犬齿的侧的一部分与侧的不同(例如，切牙)部分相比可以稍微 欠扩展或者较短。配置为邻近颊部牙槽软组织设置的第一发光阵列或 者垫(在图20-22中未示出)例如可以具有基本上等于两个臼齿宽度 的长度。配置为邻近舌部牙槽软组织设置在牙齿的腭侧上的第二对应 发光阵列或者垫例如可以具有与第一发光阵列相似的长度。口腔内壳 体1280可以包括腭部分或者翼1288，其可以被配置为关于第一侧和 第二侧垂直地(例如，向上抵着上硬腭)移动。
口腔内壳体1280包括一个或者多个不同段1286，各自包括从口 腔内壳体前面部分1282的下表面(例如，向下)延伸的第一部分、 从口腔内壳体后面部分1284的下表面(例如，向下)延伸的第二部 分和在段1286的第一部分与第二部分的端部之间(例如，水平地)延伸的第三部分。以这种方式，段1286(也称为咬合垫)被配置为 如此处描述的当口腔内壳体1280设置在口腔中时围绕邻近每个段的 一个或者多个牙齿的牙冠的至少一部分设置。段1286相对于口腔内 壳体1280的前面部分1282彼此横向地间隔开。以这种方式，如此处描述的当口腔内壳体1280设置在口腔中时，段1286或者咬合垫围绕 少于所有牙齿的牙冠设置。在一些实施例中，患者第一数量的牙齿由 段1286覆盖以及大于第一数量的第二数量的牙齿不被段覆盖。例如， 每个段1286可以具有足够的高度、宽度和/或深度以用于围绕一个或 者两个牙齿的牙冠设置。在使用中，患者可以在正畸治疗期间向下咬 在段1286上以维持口腔内壳体1280在口腔内的位置。此处描述的段 或者咬合垫的使用还用来减小与装置表面面积相关联的体积，并且因 此提供增强的患者舒适度。
段1286可以由与口腔内壳体1280的前面部分1282和后面部分 1284的材料相似或者相同或者不同的材料构造。例如，口腔内壳体 1280的前面部分1282和后面部分1284可以由软性(例如，可延展 的)材料(诸如硅树脂)构造，以及段1286可以由较硬的、可延展 性较差的材料(例如，用诸如软硅树脂的软性材料过模制(overmold) 的硅树脂)构造。
在图20-22中图示的实施例中，口腔内壳体1280包括三个咬合 垫段。第一段沿着中线M从前面部分1282和后面部分1284的下表 面延伸。第二段和第三段在与中线M相对的口腔内壳体1280的左侧 和右侧的端部处从前面部分1282和后面1284的下表面延伸。然而，在其它实施例中，段可以沿着前面部分1282和后面部分1284的下表 面从不同位置延伸。例如，如图23所示，装置可以包括口腔内壳体 1380，该口腔内壳体1380包括在由口腔内壳体限定的中线(在图23 中未示出)处从口腔内壳体的前面部分和后面部分的下表面延伸的段以及从口腔内壳体的前面部分和后面部分的下表面从与中线相对的分 别地与口腔内壳体的中部、左端部和右端部之间的一个或者多个位置 延伸的一个或者多个段。
在一些实施例中，装置的至少一部分朝患者身体的一部分偏置， 这可以例如帮助维持装置相对于患者口腔的位置。如图24所示，装 置可以包括配置为邻近颌的根区域设置在根区域与颊粘膜之间的第一 部分1401，以及配置为邻近颌的根区域的腭侧设置的第二部分1402。 第一部分1401沿第一方向朝根区域偏置，以及第二部分1402沿相反 的第二方向朝根区域偏置。更具体地说，第一部分1401用弹簧加载， 使得第一部分的自由端沿由箭头A1指示的第一方向朝根区域移动和/ 或可以对根区域施加压力，以及第二部分1402用弹簧加载，使得第 二部分的自由端沿由箭头A2指示的第二方向朝根区域移动和/或可以 对根区域施加压力。在一些实施例中，由第一部分1401和/或第二部 分1402施加的压力足以使患者组织的至少一部分位移。第一部分 1401和第二部分1402可以被配置为围绕邻近根区域(例如，紧挨牙 齿的牙冠之上)设置的接头枢转。
在另一个示例中，如图25所示，装置可以包括具有由中线M 划分的右凸缘1501和左凸缘1502的口腔内壳体1580。右凸缘1501 和左凸缘1502各自配置为邻近颌的根区域设置。右凸缘1501沿第一 方向朝根区域偏置。右凸缘1501通过一个或者多个铰接部(例如，如图25所示的两个铰接部1503、1505)耦合至装置并且包括嵌入在 口腔内壳体1580的右凸缘1501内的一个或者多个金属丝(例如，两 个镍钛诺金属丝或者其它超弹性金属丝，各自与如图25所示的相应 铰接部相关联)。例如，铰接部1503、1505可以围绕水平轴移动以 及镍钛诺金属丝1504、1506可以沿着基本上垂直于铰接部水平轴的 轴嵌入在口腔内壳体1580的硅树脂中。金属丝1504、1506被配置为 朝根区域偏置。照此，金属丝1504、1506推压右凸缘的顶端部分并 且使得右凸缘1501推压根区域的组织。可以与右凸缘1501类似地配置左凸缘1502。在一些实施例中，铰接部1503、1505和/或金属丝 1504、1506可以产生相对较大的正畸和/或矫形力，诸如可操作用于 促使一个或者多个牙齿移动的力。
在另一个示例中，在图26中图示了根据实施例的装置。装置包 括具有在第一端部与第二端部之间延伸的上部分1681和在第一端部 与第二端部之间延伸的下部分1682的口腔内壳体1680。上部分1681 和下部分1682各自配置为邻近根区域设置在口腔内。上部分1681和 下部分1682具有配置为与患者牙列的弯曲度基本上相对应的弯曲度 (例如，U形或者马蹄铁形状)。上部分1681的第一端部通过形状 保持构件1687耦合至下部分1682的第一端部。形状保持构件1687 可以包括例如具有形状记忆特性的弯曲硬塑料材料。形状保持构件 1687朝开放式构造偏置，在所述开放式构造中，上部分1681的第一 端部沿由箭头A3指示的第一方向远离口腔内壳体1680的下部分 1682的第一端部移动以及下部分1682的第一端部沿由箭头A4指示 的第二相反方向远离口腔内壳体1680的上部分1681的第一端部部分移动的。上部分1681的第二端部通过类似的形状保持构件1687耦合 至下部分1682的第二端部。照此，上部分1681的第二端部和下部分 1682的第二端部朝开放式构造远离彼此偏置。以这种方式，口腔内 壳体1680的上部分1681和下部分1682被配置为当患者打开颌时保持邻近它们的相应根部分。由形状保持构件1687施加的偏置力足以 使上部分1681和/或下部分1682的至少一部分的基座朝向患者脸颊/ 牙槽前庭的深处移动；然而，仅仅这种力可能不足以使患者的颌打开。
在图27中图示了根据实施例的装置的一部分。装置包括基本上 U形或者马蹄铁形状的口腔内壳体。口腔内壳体可以由软性硅树脂构 造。金属丝1787(例如，镍钛诺金属丝或者其它超弹性金属丝)或 者其它的形状保持构件嵌入在口腔内壳体中。金属丝的第一端部设置 在口腔内壳体1780的第一端部1782处，以及金属丝的第二端部设置 在口腔内壳体的第二相对端部1784处。金属丝的第一端部和第二端 部向内偏置，使得口腔内壳体的第一端部和口腔内壳体的第二端部 (或者可以)沿朝向彼此的方向移动。换句话说，金属丝被偏置以从 打开位置移动到闭合位置，在打开位置中，距口腔内壳体的中线M 第一距离设置口腔内壳体1780的第一端部1782和第二端部1784 (如由图27中的实线所示的)，在闭合位置中，距口腔内壳体的中 线M第二距离设置第一端部1782和第二端部1784(如由图27中的 虚线所示的)，第二距离小于第一距离。以这种方式，金属丝使得口 腔内壳体的一部分(例如，左部分和右部分和/或发光面板)朝根区 域的舌侧或者腭侧对根区域的颊侧施加轻柔的压力。此外以这种方式， 口腔内壳体1780被配置为使得口腔软组织的一部分在牙根上位移。
在一些实施例中，如图28所示，装置可以包括具有配置为分别 地使口腔内壳体1880的第一端部1882和第二端部1884远离彼此偏 置(例如，沿与参考图27示出和描述的方向相反的方向)的金属丝 1887(例如，镍钛诺金属丝或者其它超弹性金属丝)或者其它形状保 持构件的口腔内壳体1880。换句话说，金属丝1887被偏置以从距口 腔内壳体的中线M第一距离设置第一端部1882和第二端部1884的 闭合位置(如由图28中的实线所示的)移动到距口腔内壳体的中线 M第二距离设置第一端部1882和第二端部1882的打开位置(如由 图28中的虚线所示的)，第二距离大于第一距离。以这种方式，金 属丝被配置为使得口腔内壳体的一部分(例如，左部分和右部分和/ 或发光面板，在图28中未示出)朝向根区域的颊侧或者沿根区域的 颊侧方向对根区域的舌侧或者腭侧施加轻柔的压力。此外以这种方式，口腔内壳体1880被配置为使得口腔软组织的一部分在牙根上位移。
可以在任何合适位置中将金属丝1887设置在口腔内壳体1880 内。例如，如图28所示，金属丝1887可以邻近口腔内壳体1880的 内部弯曲部分安置。然而，在其它实施例中，如图29所示，金属丝 1987可以邻近口腔内壳体1980的外弯曲部分安置。金属丝1987可 以在许多方面与金属丝1887相似，例如，金属丝1987可以被配置为 使口腔内壳体1980的第一端部1982和第二端部1984(例如，沿参 考图27示出和描述的方向相反的方向和与参考图28示出和描述的方 向类似的方向)分别地远离彼此偏置。换句话说，金属丝1987被偏 置以与此处参照图28描述的类似方式从闭合位置(如由图29中的实 线所示)移动到打开位置(如由图28中的虚线所示)。因此，金属 丝1987被配置为使得口腔内壳体1980的一部分对根区域的舌侧或者 腭侧横向地并且向外地直接施加轻柔的压力。
尽管图27和28中描绘的装置被描述为包括金属丝(例如，镍 钛诺金属丝)作为形状保持构件，但是，在其它实施例中，可以在装 置中包括不同的形状保持构件(或者偏置构件)。例如，形状保持构 件可以包括过模制的塑料插件。
在图43和44中图示了根据本发明实施例的口腔内装置2000。 装置2000可以在许多方面与此处描述的口腔内装置相同或者相似或 者包括在许多方面与此处描述的口腔内装置相同或者相似的部件。口 腔内装置2000包括配置为设置在患者口腔中的口腔内壳体2080。在 一些实施例中，口腔内壳体2080被配置为相对于上颌、下颌或者上 颌和下颌中的每一个安置在患者口腔内。口腔内壳体2080包括至少 一个发光面板2002。发光面板2002可以包括一个或者多个光发射器 2004，诸如LED。口腔内装置2000可以被配置为以此处描述的任何 合适方式照射光。例如，在一些实施例中，口腔内装置2000可以被 配置为以大约60mW/cm2的密度照射光。
尽管发光面板2002被图示为包括三个平行排中的一个或者多个 光发射器2004，但是在其它实施例中，一个或者多个光发射器可以 相对于发光面板和/或口腔内壳体不同地被安置(例如，在一个或者 多个垂直排、一个或者多个斜排、随机模式或者任何其它合适的构造 中)。在一些实施例中，发光面板2002至少部分地封装在口腔内壳 体2080内。例如，发光面板2002可以嵌入在口腔内壳体2080内。 口腔内壳体2080可以由任何合适材料(包括，例如，软性硅树脂材 料)构造。口腔内壳体2080被配置为电耦合至电子设备，诸如如此处描述的控制器(在图43-44中未示出)。如图44所示，口腔内壳 体2080可以通过绳2020耦合至电子设备。
口腔内装置2000可以被配置为在正畸治疗(包括此处描述的任 何这种治疗)中使用。在一些实施例中，例如，口腔内装置2000用 于照射患者上颌的至少一部分大约3分钟、患者下颌大约3分钟或者 患者上颌和下颌中的每一个大约3分钟。
在图45-50中图示了根据本发明实施例的口腔内装置2100。装 置2100可以在许多方面与此处描述的口腔内装置相同或者相似或者 包括在许多方面与此处描述的口腔内装置相同或者相似的部件。口腔 内装置2100包括配置为设置在患者口腔中(例如，嘴中)的口腔内 壳体2180和耦合至口腔内壳体2180的口腔外壳体2190(此处也称 为“喙形件”)。口腔外壳体2190耦合至口腔内壳体2180的前面部 分。例如，口腔外壳体2190可以通过突出部2188耦合至口腔内壳体 2180。以这种方式，突出部2188延伸穿过患者嘴的开口(例如，穿过患者嘴唇之间的开口)，使得当口腔内壳体2180设置在患者口腔 内时口腔外壳体2190的至少一部分设置在患者口腔的外部。此外以 这种方式，当口腔内壳体2180设置在患者嘴内时，口腔外壳体2190 或者喙形件可以通过口腔内壳体2180和/或突出部2188相对于患者的嘴被支撑。口腔外壳体2190被配置为至少部分地封装如此处更详 细描述的装置2100的一个或者多个电子部件。
口腔内装置2100被配置为可用于关于患者上颌和下颌中的每一 个进行光疗法。换句话说，口腔内装置2100可以被配置为当装置在 直立位置中时关于患者的上颌施用光疗法，以及可以被配置为当装置 在倒立位置中时关于患者的下颌施用光疗法。照此，口腔内壳体 2180可以被配置为相对于上颌和下颌中的每一个安置在患者口腔内。 应当注意，尽管口腔内装置2100和口腔内壳体2180被描述为当配置 为相对于上颌取向时在直立位置中以及当配置为相对于下颌取向时在 倒立位置中，但是，在其它实施例中，口腔内装置2100和口腔内壳 体2180在配置为相对于患者下颌取向时在直立位置中，以及在配置 为相对于患者上颌取向时在倒立位置中。
口腔内装置2100可以被配置为确定装置的取向。换言之，口腔 内装置2100可以被配置为确定口腔内壳体2180在直立位置中取向还 是在倒立位置中取向。例如，口腔内装置2100包括配置为确定口腔 内壳体2180在直立位置中取向还是在倒立位置中取向的陀螺仪(在 图47中未示出)。陀螺仪设置在装置2100的口腔外壳体2190内或 者以其它方式耦合至装置2100的口腔外壳体2190。
装置2100包括至少一个电池或者其它合适电源。例如，如图47 所示，第一电池2194和第二电池2195耦合至装置2100的口腔外壳 体2190。例如，电池2194、2195可以设置在口腔外壳体2190中。 如此处更详细描述的，每个电池2194、2195可以被配置为向设置在口腔内壳体2180内的一个或者多个发光面板(在图52中示意性图示 的)提供电力。第一电池2194可以包括例如可再充电锂离子电池。 第二电池2195可以被配置用于感应充电。例如，第二电池2195可以 包括Qi基充金属丝圈。
微处理器2196耦合至装置2100的口腔外壳体2190。微处理器 2196可以设置在口腔外壳体2190中。微处理器2196被配置为存储 与患者对口腔内装置2100的使用相关的信息。例如，微处理器2196 可以被配置为存储与患者治疗程序和治疗程序期间装置2100的使用 相关联的信息，包括，例如治疗程序中包括的一个或者多个治疗疗程 的时间表、治疗疗程期间装置2100的取向、治疗疗程的持续时间和 治疗疗程与一个或者多个先前治疗疗程之间的持续时间。微处理器 2196还可以被配置为确定患者对口腔内装置2100的使用是否依从患 者治疗程序。换句话说，微处理器2196可以被配置为确定患者的使 用历史(包括，例如，对患者上颌和/或下颌应用的治疗疗程的数量、 治疗疗程的持续时间、是否中断了任何治疗疗程等等)是否依从由患 者治疗程序指定的治疗疗程的时间表(包括识别与治疗程序的任何偏 差)。微处理器2196关于患者依从性的确定可以至少部分地基于从 近程检测器接收的信息。例如，近程检测器可以被配置为当设备完全 放置到患者嘴中时被激活。微处理器2196还可以被配置为向外部设 备传输与患者对装置2100的使用和/或依从性相关联的信息。例如， 在一些实施例中，微处理器2196被配置为通过
或者另一个合适的无线机构向外部设备(例如，移动电话、个人数字助理、计 算机、便携式电子设备等等)传输使用和/或依从性信息。例如，如 图47所示，
通信模块2198可以设置在口腔外壳体2190 内。
口腔外壳体2190包括配置为提供治疗疗程状态的标记的通信机 构(在图47中未示出)。除非上下文另外清楚地指示，此处术语 “标记”用作包括单数(“标记(indicium)”)或者复数(“标记 (indicia)”)。标记可以包括可听标记(例如，音调、嘟嘟声、通 知等等)、触觉标记(例如，振动等等)或者视觉标记(例如，光、 显示的消息等等)中的一个或者多个。更具体地说，例如，口腔外壳 体2190包括配置为指示治疗疗程的状态或者阶段的光标记。光标记 被配置为在治疗疗程的第一阶段期间不显示光、在治疗疗程的第二阶 段期间显示闪烁光或者脉动光和/或在治疗疗程的第三阶段期间显示 固态光。光标记可以例如被配置为当发起治疗疗程时显示固态光第一 预定持续时间(例如，2分30秒、2分45秒或者2分10秒)。光标 记可以被配置为在第一预定持续时间之后向患者显示闪烁光或者脉动 光第二预定持续时间(例如，10秒、15秒或者30秒)作为治疗疗程 接近其结束的信号。光标记可以被配置为当治疗疗程结束以及装置 2100不照射光时(例如，在从发起治疗疗程3分钟之后)不显示光。
在一些实施例中，口腔外壳体2190具有足够长度(例如，在与 口腔内壳体2080接合的口腔外壳体的第一端部2191与口腔外壳体的 第二相对端部2193(即，当口腔内壳体设置在患者口腔中时口腔外 壳体离患者口腔最远的端部)之间)，使得口腔外壳体的至少一部分 在口腔内壳体设置在患者口腔中时对患者可见。换句话说，当口腔内 壳体2180设置在患者口腔内时，口腔外壳体2190的至少一部分(例 如，包括口腔外壳体的第二端部2193)在患者视线内。以这种方式， 光标记可以以某种方式耦合至口腔外壳体2190使得光标记在治疗疗 程期间在患者视线内。
如此处指示的，口腔内壳体2180被配置为相对于上颌、下颌安 置在患者口腔内或者可颠倒用于相对于上颌和下颌中的每一个安置。 口腔内壳体2180可以在一个或者多个方面中与此处描述的口腔内壳 体(包括此处参照图13-15和图43-44描述的口腔内壳体)相似并且 包括在一个或者多个方面中与此处描述的口腔内壳体相似或者相同的 部件。因此，不对口腔内壳体2180进行详细描述。
口腔内壳体2180包括下部分2182和上部分2186。下部分2182 具有第一平面，以及上部分2186具有不同于第一平面的第二平面。 例如，当口腔内壳体2180设置在患者口腔内用于治疗疗程时，上部 分2186可以是基本上垂直的以及下部分2182可以是基本上水平的。以这种方式，上部分2186可以邻近患者牙齿侧面的一部分和/或邻近 牙槽粘膜设置以及下部分2182可以邻近患者牙齿的咬合表面设置。 例如，下部分2182可以被配置为患者在治疗疗程期间向下咬在上面 的咬合垫。
如图46所示，口腔内壳体2180的下部分2182包括脊2184。脊 2184沿着口腔内壳体2180的中线设置并且相对于下部分2182的第 一平面升高。当口腔内壳体2180设置在患者口腔内时，脊2184便于 患者将口腔内壳体2180安置在患者口腔内。例如，口腔内壳体2180被配置为安置在患者口腔内，使得脊2184设置在患者的前中切牙之 间。与牙齿和牙周组织相关的患者本体感受将允许患者关于口腔内壳 体2180的脊2184的位置的感觉反馈。以这种方式，脊2184便于在 口腔内将口腔内壳体2180居中放置，从而促进对牙槽或者患者嘴两侧的其它口腔组织的光疗法治疗的对称性。换句话说，为了促进对根 区域对称施用光疗法，可以利用沿着矢状平面或者在矢状平面的5度 内(即，加或者减5度)安置的口腔内壳体2180的中线安置口腔内 壳体2180，以及脊2184可以便于这样获得这种位置。
上部分2186包括第一(或者左)凸缘2187和第二(或者右) 凸缘2189。凸缘2187、2189被各自配置为在顶端使口腔软组织位移。 更具体地说，凸缘2187、2189被各自配置为使颊组织远离患者牙槽 位移。在一些实施例中，当口腔内壳体2180设置在患者嘴内以及凸缘2187、2189正在使颊组织位移时上部分2186的内面2185可以与 患者牙槽组织间隔开。在一些实施例中，当口腔内壳体2180设置在 患者嘴内以及凸缘2187、2189正在使颊组织位移时，上部分2186的 内面2185的至少一部分可以接触患者的牙槽组织。
口腔内壳体2180可以由任何合适材料(包括，例如，弹性体材 料(例如，软性硅树脂))构造。更具体地说，在一些实施例中，口 腔内壳体可以由医疗级别的注塑成型高柔性硅树脂制造。脊2184可 以由与口腔内壳体2180相同的材料或者至少与口腔内壳体2180的下 部分2182相同的材料构造。以这种方式，当患者用上颌和下颌一起 咬合时，口腔内壳体2180的下部分2182(包括脊2184)可能因由患 者牙齿的咬合表面施加的压力稍微变形。尽管如此，脊2184具有足 够的尺寸，使得不论下部分2182和/或脊2184有任何轻微变形，患者应当知道其位置。
口腔内壳体2180包括至少一个发光面板2102(在图52中示意 性地图示了发光面板2102的电路2130)。发光面板2102可以包括 一个或者多个光发射器2132(诸如多个LED)和柔性电路2130。口 腔内装置2100可以被配置为以此处描述的任何合适方式照射光以照射患者牙槽和/或根区域。LED或者其它合适的一个或者多个光发射 器可以以任何合适构造(包括此处描述的任何构造)包括在发光面板 2102中。在一些实施例中，发光面板2102至少部分地封装在口腔内 壳体2180内。例如，发光面板可以嵌入在口腔内壳体2180内(例如，在口腔内壳体2180的上部分2186的内面2185中)。如此处指示的， 口腔内壳体2180可以由软性硅树脂材料构造。以这种方式，发光面 板以及因此面板中包括的任何LED或者光发射器可以嵌入在硅树脂 材料中，使得当口腔内壳体2180设置在患者口腔内时防止发光面板接合患者口腔组织的一部分。发光面板2102可以具有用于耦合至口 腔内壳体2180的上部分2186或者嵌入口腔内壳体2180的上部分 2186中的任何合适尺寸。例如，如图52所示，发光面板2102可以 具有高度D1和大于高度D1的宽度D2。在一些实施例中，例如，面 板2102具有大约31.9mm的高度和大约92.5mm的宽度。面板2102 的高度D1的一部分可以包括从口腔内壳体2180的左凸缘2187和右 凸缘2189向下延伸的下突出部。突出部可以具有高度D3和宽度D4。 在一些实施例中，例如，突出部具有大约6.9mm的高度和大约12 mm的宽度。尽管提供了面板2102的尺寸的特定示例，但是仅通过 示例的方式呈现这种尺寸，而非限制性的。
口腔内壳体2180可以被配置为设置在患者口腔内，使得口腔内 壳体2180的外表面与患者的牙槽软组织间隔开。以这种方式，口腔 内壳体2180被配置为在治疗疗程期间与患者的牙槽软组织间隔开 (即，不接触)。在一些实施例中，例如，口腔内壳体2180的至少一部分可以被配置为设置在患者牙齿的至少一部分上。当口腔内壳体 2180设置在患者嘴内时，口腔内壳体2180的第一部分围绕患者牙齿 的部分设置以及口腔内壳体2180的第二部分邻近牙槽软组织设置并 且与牙槽软组织间隔开。
在一些实施例中，口腔内壳体2180的至少部分(例如，第一部 分)被配置为当口腔内壳体2180设置在患者嘴中用于治疗疗程时搭 扣到患者牙齿的至少一部分上或者以其它方式贴合地适配患者牙齿的 至少一部分。例如，可以以与此处参照图24和/或25描述的方式类 似的方式使口腔内壳体2180的至少一部分偏置。在一些实施例中， 口腔内壳体2180可以包括一个或者多个牵开器，配置为便于打开患 者的嘴。在一些实施例中，当口腔内壳体2180设置在患者嘴内用于 治疗疗程时，口腔内壳体2180的至少一部分可以被配置为接触牙槽 软组织的至少一部分。在一些实施例中，当口腔内壳体2180设置在 患者嘴内用于治疗疗程时，口腔内壳体2180的至少一部分被配置为 不接触牙槽软组织但是在牙槽软组织的一定距离内(例如，在0.1cm 到3cm内)。
参照图49-51，口腔外壳体2190可以被配置为例如当装置2100 不在患者的使用中时设置在外部站2170上或者以其它方式耦合至外 部站2170。外部站2170可以是例如手提箱、充电盒或者站等等或者 上述的组合。
站2170包括底座2178和盖2176并且当盖在闭合位置中时(如 图49-51所示)限定由底座2178和盖2176形成并且在底座2178与 盖2176之间形成的空腔。可以使用任何合适的耦合机构(例如，使 用如图49-51所示的铰接部)将盖2176耦合至底座2178。以这种方式，盖2176可在其闭合位置与打开位置(未示出)之间方便地移动。 底座2178可以限定配置为容纳口腔内壳体2180的至少一部分的第一 凹部2172和配置为容纳口腔外壳体2190的至少一部分的第二凹部 2174。第一凹部2172的周界可以例如与口腔内壳体2180的轮廓互补。第二凹部2174的周界可以例如与口腔外壳体2190的轮廓互补。
外部站2170可以被配置为当装置2100设置在站上或者以其它 方式耦合至站时使装置2100充电。以这种方式，当口腔外壳体2190 耦合至充电站时，可以使电池2194再充电。在一些实施例中，例如， 站2170被配置为使装置2100感应地充电(例如，通过使此处描述的第二电池2195感应地充电)。在一些实施例中，口腔外壳体2190的 第二端部2193包括配置为耦合至外部站2170的互补连接器或者配套 连接器(在图45-51中未示出)的连接器(在图45-51中未示出)。
口腔内装置2100可以被配置为确定口腔内壳体2180何时设置 在患者嘴内(即，以适合于治疗疗程的方式)。在一些实施例中，例 如，口腔内装置2100包括配置为检测光从患者口腔软组织的反射的 传感器(在图45-49中未示出)。传感器可以是例如包括或者嵌入在柔性电路2130中的近程检测器。这种近程检测器可以例如包括任何 合适的电容检测设备。发光面板2102可以被配置为当例如从外部站 2170移除装置2100时例如基于来自近程检测器的反馈使其中包括的 LED闪烁或者脉动。LED可以被配置为以预定速率闪烁或者脉动。
从脉动或者闪烁的LED朝患者嘴的口腔软组织发射的光的至少 一部分被反射到口腔内壳体2180并且从而由传感器或者其它光反射 检测机构(通常称为“反射传感器”，在图45-49中未示出)检测。 反射传感器被配置为评估耦合至口腔内壳体2180左侧的发光阵列 2102的一部分和耦合至口腔内壳体2180右侧的发光阵列2102的一 部分的功能性。以这种方式，反射传感器便于在装置2100相对于患 者进行操作之前检测装置2100相对于口腔内壳体2180的左侧和右侧 中的每一个的任何错误操作。为了确定发光阵列2102的LED正在适 当地工作，可以建立合适的反射阈值以测量反射。装置2100可以被 配置为当反射传感器检测从口腔软组织的光反射时发起对口腔组织的 照射(即，开始治疗疗程)。在一些实施例中，反射传感器被配置为 当反射传感器检测从口腔软组织的光反射(例如，在预定阈值处或者 高于预定阈值)时向微处理器2196传输信号以发起治疗疗程。
口腔内装置2100可以被配置为在正畸治疗(包括此处描述的任 何治疗)中使用。在一些实施例中，例如，口腔内装置2100可用于 照射患者上颌的至少一部分大约3分钟、患者下颌的至少一部分大约 3分钟或者患者上颌和下颌的至少一部分中的每一个大约3分钟。更 具体地说，在一个治疗程序中，口腔内装置2100可用于施用每天连 续地照射与患者嘴的上牙弓和患者嘴的下牙弓(或者反之亦然)中的 每一个相关联的口腔组织3分钟(对于整个治疗疗程每天6分钟)的 光疗法治疗疗程。
在治疗疗程期间，例如，装置2100被配置为使用12焦耳/cm2施用光疗法。在一些实施例中，以150mW/cm2的强度施用12焦耳 /cm2三分钟的持续时间。照此，LED倾向于保持在大约41摄氏度的 热阈值下与口腔组织接触或者在口腔组织一定距离内(并且因此在 43摄氏度的最大限度下)。在一些实施例中，可以以较高强度施用 12焦耳/cm2(诸如以大约600mW/cm2的强度施用大约20秒或者以 1W/cm2的强度施用大约12秒)。在其它实施例中，以大约60-12mW/cm2的强度施用光。
在治疗疗程期间以850nm的波长发射光。在一些实施例中，在 治疗疗程期间以850nm(±5nm)的波长发射光。换句话说，LED 可以以波长的混合发射光，而不是像激光器那样以单个波长发射光。 LED的峰值光发射波长(λmax)是855nm。可以施用治疗疗程任何 合适的周期，包括但不限于四到十二个月的周期。这种治疗程序可以 例如将预计患者需要使用正畸器具(例如，矫正架)实现期望正畸结 果的平均周期的持续时间从两年减少到六个月。上述治疗程序和/或 此处描述的任何治疗程序可以将不用如此处描述的光疗法施用的正畸 治疗的持续时间减少大约百分之50到大约百分之75。
尽管此处已经将口腔内壳体(例如，口腔内壳体780、880、980、 1280、1680、1780、1880、1980、2080、2180)图示和描述为具有与 患者牙齿的上牙弓或者下牙弓中的至少一个相似的牙弓形状，但是， 在其它实施例中，光疗法装置可以包括具有另一个合适构造的口腔内 壳体。例如，参照图53，配置为对患者口腔组织(例如，口腔粘膜 和/或根区域)施用光疗法的口腔内装置2200包括口腔内壳体2280 和耦合至口腔内壳体的口腔外壳体2290。口腔外壳体可以在许多方 面与此处参照图45-47描述的口腔外壳体2190相似或者相同，并且因此此处不进行详细描述。尽管将口腔内壳体2280示出并且描述为 耦合至口腔外壳体2290，但是，在其它实施例中，口腔内壳体2280 可以被配置为(例如，通过一个或者多个光纤电缆或者参照图44示 出和描述的其它电子绳)电耦合至配置为执行口腔外壳体2290的部 件的功能的单独电子设备。
口腔内壳体2280包括发光阵列2202。发光阵列2202可以在许 多方面与此处描述的发光阵列相同或者相似，并且因此不关于图53 详细描述。口腔内壳体2280可以被配置为容纳在口腔中，使得发光 阵列2202完全地设置在患者牙齿的上牙弓和/或下牙弓的舌侧上。口 腔内壳体2280可以限定基本上圆形的周界。例如，口腔内壳体2280 可以是球形的、圆盘形的等等。为了描述性目的，口腔内壳体2280 可以具有类似于棒棒糖的形状并且可以设置在患者的嘴内。以这种方 式，发光阵列2202可以邻近口腔内壳体2280的周界设置，使得发光 阵列2202沿着从中心轴A辐射的方向(如由图53中的箭头A1、A2、 A3、A4、A5和A6所示)朝患者口腔组织(例如，口腔粘膜和/或根区 域)发射光。在一些实施例中，当口腔内壳体2280设置在患者嘴内 时，口腔内壳体2280的至少一部分可以被配置为接触牙槽软组织的至少一部分。在一些实施例中，当口腔内壳体2280设置在患者嘴内 时，口腔内壳体2280的至少一部分被配置为不接触牙槽软组织但是 在牙槽软组织的一定距离内(例如，在0.1cm到3cm内)。
尽管此处已经将口腔内装置图示和描述为被配置为对患者牙齿 的上牙弓和/或下牙弓施用光疗法，但是，在一些实施例中，口腔内 装置被配置为对患者口腔粘膜(例如，牙槽)的部分或者区段施用光 疗法。例如，参照图54，在一些实施例中，装置2300被配置为对患 者的三个或者四个牙齿、患者牙齿的四分之一或者患者牙齿的一个牙 弓施用光疗法。这种口腔内装置可以对口腔植入和/或口腔外科手术 的情况有益。
装置2300包括配置为设置在患者口腔内的口腔内壳体2380。口 腔内壳体2380限定第一段2382、第二段2384和使第一段和第二段 耦合的第三段2386。当口腔内壳体2380设置在患者口腔内用于治疗 疗程时，口腔内壳体的第一段2382被配置为(例如，垂直地)设置在患者牙齿与患者颊粘膜之间，第二段2384被配置为(例如，垂直 地)设置在患者牙齿的牙冠的舌侧上，以及第三段2386被配置为 (例如，水平地)邻近患者牙齿的咬合表面设置和/或设置在患者牙 齿的咬合表面上。第二段2384具有足够的高度(即，沿着从咬合表 面到根区域的方向测量的)以抑制口腔内壳体2380朝患者脸颊倾斜。
在一些实施例中，一层2381可模塑材料设置在口腔内壳体2380 的第三段2386的面向咬合的表面上。可以使用层2381制作指定牙齿 的可模塑印模，从而当壳体稍后由患者重新插入到口腔中(例如，用 于随后的治疗疗程)时便于放置口腔内壳体2380。
柔性电路2330设置在口腔内壳体2380的第一段2382内。柔性 电路2330包括配置为以此处描述的任何方式对患者牙齿施用光疗法 的发光阵列2302。例如，柔性电路2330可以包括发光阵列2302，该 发光阵列2302包括15个LED或者将受到光疗法的每个牙齿15LED。发光阵列2302可以包括配置为在600nm到1200nm范围内施用光 或者发光的LED。口腔内壳体2380的柔性电路2330包括传感器 2387。传感器2387可以在许多方面与此处参照图3A示出和描述的 传感器相同或者相似。传感器2387可以被配置为检测装置2300、患 者牙槽软组织和/或患者根区域的温度。例如，可以在电路2330中放 置热敏电阻器或者类似的温度测量设备以监测发光阵列2302的温度 以及测量患者嘴内部的温度。该信息可以充当获得温度相关信息以及 监测患者依从性的方法。当将口腔内壳体2380以及因此电路2330放 置在嘴中时以及当装置2300发射光时，发光阵列2302的温度将从治 疗前环境温度上升到更接近正常体温。通过监测温度变化，此处更详 细描述的控制器2314可以基于温度升高并且接近体温的时间周期监 测发光阵列2302在口腔中的时间周期。
在一些实施例中，电路2330包括传感器(或接近度检测器)， 被配置为检测第一段和/或由发光阵列2302发射的光与患者口腔粘膜 和/或根区域的接触或者第一段和/或由发光阵列2302发射的光与患 者口腔粘膜和/或根区域的一定距离内(例如，在0.1cm到3cm内) 的接近度。以这种方式，控制器2314可以检测口腔内壳体2380设置 在患者口腔内，并且因此可以确定治疗疗程可以被发起。
参照图57，口腔内壳体2380被配置为例如通过有线或者无线连 接耦合至外部电子设备。外部电子设备可以被配置为向口腔内壳体 2380提供或者传送电力，例如，用于在治疗疗程期间操作发光阵列 2302。外部电子设备还可以被配置为控制发光阵列2302的操作。
在一些实施例中，外部电子设备是控制器2314。口腔内壳体 2380可以可拆卸地耦合至控制器2314。在一些实施例中，口腔内壳 体2380是可弃式的以及所述控制器2314是可重用的。以这种方式， 可以在预定数量的使用之后和/或在预定时间周期之后处置口腔内壳 体2380，以及第二口腔内壳体(未示出)可以可选地与控制器2314 一起使用。控制器2314可以通过电缆2315(诸如USB电缆)电耦 合至充电器2317(诸如医用级别的USB充电器)。
控制器2314可以在许多方面与此处描述的任何控制器(例如， 控制器430、1114)相似或者相同。控制器2314还可以包括与装置 2100的口腔外壳体2190内设置的那些部件相同或者相似的许多部件。 例如，控制器2314可以包括微处理器。由于微处理器可以在许多方 面与此处描述的任何微处理器(例如，微处理器2196)相同或者相 似，因此此处不对其进行详细描述。可以用治疗方案对控制器2314 进行预配置。控制器2314包括用于发起治疗疗程的按钮2318。按钮 2318还可以被配置为例如暂停或者停止治疗疗程。
控制器2314包括LED指示器2316，该LED指示器2316可以 被配置为向患者提供控制器、口腔内壳体2380和/或治疗程序的状态 的标记。LED指示器2316可以与例如此处描述的口腔外壳体2190 的通信机构相似或者相同，在于其被配置为指示治疗疗程的状态或者阶段。在一些实施例中，光LED指示器2316被配置为在治疗疗程的 第一阶段期间不显示光、在治疗疗程的第二阶段期间显示闪烁光或者 脉动光和/或在治疗疗程的第三阶段期间显示固态光。LED指示器 2316可以例如被配置为当发起治疗疗程时显示固态光第一预定持续时间(例如，2分30秒、2分45秒或者2分10秒)。LED指示器 2316可以被配置为在第一预定持续时间之后向患者显示闪烁光或者 脉动光第二预定持续时间(例如，10秒、15秒或者30秒)作为治疗 疗程接近其结束的信号。LED指示器2316可以被配置为当治疗疗程 结束以及装置2100不对患者照射光时(例如，在从发起治疗疗程3 分钟之后)不显示光。
在一些实施例中，外部电子设备2314是诸如移动电话(例如， 智能手机(诸如
)、平板(诸如
))、个人数字助理 等等的个人电子设备。可以使用连接器2319将口腔内壳体2380耦合 至设备2314。在设备2390包括例如智能手机的实施例中，智能手机 可以被配置为执行控制器配置为执行的任何操作或者功能。例如，设 备2314可以被配置为向口腔内壳体2380提供电力。在另一个示例中， 设备2314可以包括配置为向患者提供界面、控制发光阵列2302和/ 或记录使用信息(例如，依从性信息)以用于由患者和/或医师后续 访问信息的应用程序。
在一些实施例中，系统包括配置为如此处描述的对患者施用光 疗法第一时间周期的第一部分以及配置为如此处描述的对患者施用光 疗法第二时间周期的第二部分，第二时间周期不同于第一时间周期。 例如，在一些实施例中，系统包括多个装置(或者口腔内壳体)，使 得每个装置的至少一部分被配置为设置在患者嘴内。多个装置中的每 个装置可以包括此处描述的任何装置或者口腔内壳体。例如，系统包 括第一口腔内装置和不同于第一口腔内装置的第二口腔内装置。第一 装置被配置为在从T0开始的第一时间周期对患者开始施用光疗法。 T0表示光线疗法疗程的开始(例如，与向患者分配第一装置和/或患 者开始每天使用第一装置的日期相对应)。对于至少一些患者，T0还可以表示上颌接合和/或开始正畸治疗的日子。正畸治疗的开始可 以包括例如将常规固定正畸托架和金属丝安装在患者牙齿上的日子。 可以在施用光疗法之前基于患者牙齿的位置或者构造选择第一装置。 第一装置被配置为以第一波长(诸如，但不限于大约850nm)施用 光。
第二装置被配置为在从T＞0(在T0之后)开始的第二时间周期 对患者施用光疗法。在一些实施例中，第二装置被最优地配置为在施 用光疗法的至少一部分之后基于患者牙齿的位置对患者施用光疗法。 例如，第二装置可以包括与第一装置的发光阵列不同地配置的发光阵 列。第二装置可以被配置为以不同于第一波长的第二波长(诸如，但 不限于大约620nm)施用光。以这种方式，可以至少部分地基于结 合第一装置施用的光疗法期间以及在T0与T＞0之间的时间周期期间 发生的牙齿移动选择第二装置。例如，可以由患者在光疗法程序开始 时以及在第一时间周期内使用第一装置，以及可以由患者在开始光疗 法程序之后开始大约三个月以及在第二时间周期内使用第二装置。系 统可以包括配置为施用光疗法的任何合适数量的装置，诸如两个、三 个、四个或者更多个装置。例如，系统可以包括配置为从T0开始施 用光疗法的第一装置、配置为从T1开始施用光疗法的第二装置以及 配置为从T2开始施用光疗法的第三装置。
在另一个示例中，系统可以包括具有第一发光阵列(例如，第 一部分)和第二发光阵列(例如，第二部分)的装置。第一发光阵列 可以被配置为以第一波长(诸如，但不限于大约850nm)施用光。 第二发光阵列可以被配置为以不同于第一波长的第二波长(诸如，但 不限于大约620nm)施用光。第一发光阵列和第二发光阵列可以包 括在单个口腔内壳体中。包括配置为在第一时间周期以第一波长发射 光的第一部分和配置为在第二时间周期以第二波长发射光的第二部分 的系统至少是有益的，因为该系统允许在光疗法程序期间从较高光波 长转变至较低光波长，该转变可以帮助开始增强患者治疗区域中的骨 矿化。这种骨矿化增强可以便于确保在正畸治疗之后已移动牙齿的更 稳定结果。
在一些实施例中，此处描述的光疗法装置被配置为与如此处更 详细描述的功能性牙齿器具结合使用。在其它实施例中，光疗法装置 与配置为对患者牙齿施加力的功能性器具(诸如此处更详细描述的功 能性器具)整体地形成。例如，参照图57，根据实施例的系统2400 被配置为调节牙齿移动。系统2400包括一个或者多个光发射器(例 如，一个或者多个光纤电缆)2420和正畸托架系统2490。光发射器 2420可以与此处描述的任何光发射器(包括但不限于，图7中描绘 的光学纤维电缆420)相同或者相似。光发射器2420被耦合至托架 系统2490。例如，光发射器2420可以耦合至托架系统2490的一个 或者多个托架2492、托架系统2490的一个或者多个金属丝2494或 者上述的任何组合。以这种方式，不需要单独的口腔内壳体维持光发 射器2420相对于患者牙齿、根区域和/或口腔粘膜的位置。光发射器2420可耦合至光源2402。光源2402可以是任何合适的光源，包括此 处描述的任何光源(诸如图7中描绘的光源402)。
在图62-91中图示了根据实施例的光疗法系统。系统包括光疗 法装置2500(参见，例如，图62-75)和外部站2580(参见，例如， 图87-91)。光疗法装置2500被配置为以此处描述的任何合适方式 照射光，包括，例如，照射患者牙槽和/或根区域。如类似陈述的， 光疗法装置2500被配置为对患者的牙齿和/或口腔粘膜施用光疗法。 更具体地说，光疗法装置2500被配置为当接受正畸治疗时对患者的 牙齿和/或口腔粘膜施用足够的光以加速患者牙齿的正畸移动并且减 少患者的总治疗时间。光疗法装置2500被配置为与使用正畸器具(诸如托架和金属丝)或者校准器的传统正畸治疗结合使用。光疗法 装置2500可以在许多方面与此处描述的口腔内装置(包括，例如， 装置2100)相同或者相似或者包括在许多方面与此处描述的口腔内 装置相同或者相似的部件。光疗法装置2500被配置为当装置不用于如此处更详细描述的光疗法治疗疗程时设置在外部站2580中或者设 置在外部站2580上。
光疗法装置2500包括配置为设置在患者口腔中(例如，嘴中， 在图62和63中未示出)的口腔内壳体2510(此处也称为“口件”) 和配置为当口件2510设置在患者嘴内时耦合至口件2510并且设置到 患者嘴外部的口腔外壳体2560(此处也称为“喙形件”)。
光疗法装置2500被配置为可用于对患者上颌和/或下颌进行光 疗法。换句话说，光疗法装置2500可以被配置为当装置在直立位置 中时(例如，如图62所示)关于患者的上颌施用光疗法，以及可以 被配置为当装置在倒立位置中时(例如，如图66所示)关于患者的下颌施用光疗法。照此，口件2510可以被配置为相对于患者上颌和 下颌中的每一个设置在患者口腔内。如类似陈述的，口件2510被配 置为匹配地适合于如此处描述的上颌和下颌两者，从而消除对于每个 颌的单独口件的需要。应当注意，尽管可以通常地将光疗法装置2500以及具体地将口件2510描述为当配置为相对于上颌取向时在直 立位置中以及当配置为相对于下颌取向时在倒立位置中，但是，在其 它实施例中，光疗法装置2500和口件2510在配置为相对于患者下颌 取向时在直立位置中，以及当配置为相对于患者上颌取向时在倒立位 置中。
口件2510可以在一个或者多个方面中与此处描述的口腔内壳体 (包括，例如，此处参照图13-15、图43-44和图45-50描述的口腔 内壳体或者口件)相似并且包括在一个或者多个方面中与此处描述的 口腔内壳体相似或者相同的部件。口件2510包括咬合托盘2512、凸 缘2522、2524、光阵列2542(参见，例如，图72)和支撑板2554 (参见，例如，图72)。咬合托盘2512被配置为容纳患者上颌和/或 下颌的牙齿的至少一部分。照此，如图64所示，咬合托盘2512通常 为U形的。咬合托盘2512被配置为便于将口件2510适当安置在患 者嘴内。咬合托盘2512通常包括口件2510的下部分。咬合托盘 2512包括具有内周界(或者侧壁)2515和外周界(或者侧壁)2517 的咬合垫2514。此处更详细描述的凸缘2522、2524通常限定口件 2510的上部分并且耦合至咬合垫2514的外周界2517。内脊2516耦 合至咬合垫2514的内周界2515或者以其它方式在咬合垫2514的内 部周界2515上形成内脊2516。口件2510的凸缘2522、2524和内脊 2516各自沿第一方向从咬合垫2514延伸和/或突出。照此，当口件2510设置在患者嘴内时，咬合托盘2512安置在嘴内，使得咬合垫 2514邻近一个或者多个牙齿的咬合表面，凸缘2522、2524设置在一 个或者多个牙齿与颊组织之间，以及内脊2516设置在一个或者多个 牙齿与舌头之间。如类似陈述的，咬合托盘被配置为使得当口件 2510设置在嘴内时，一个或者多个牙齿的至少一部分安置在凸缘 2522、2524与内脊2516之间。
咬合托盘2512可以具有适合于在其上承受咬合力的任何厚度。 在一些实施例中，咬合垫2514可以具有恒定厚度。在其它实施例中， 咬合垫2514的厚度可以在空间上变化。例如，咬合托盘2512以及更 具体地咬合垫2514可以在咬合托盘的前端部部分处具有第一厚度， 以及在咬合托盘的后端部部分处具有大于第一厚度的第二厚度。如类 似陈述的，在一些实施例中，咬合垫2514的厚度沿着咬合垫2514的 长度在咬合垫2514的第一(前)部分与咬合垫的第二(后)部分之 间增大。例如，在一些实施例中，咬合垫2514在前部分处的厚度在 大约5mm与大约25mm之间，以及咬合垫2514在后部分处的厚度 在大约7mm与大约27mm之间。咬合垫2514的第一部分的增大的 厚度迫使患者牙齿与口件2510之间的接触的大部分在后牙(例如， 臼齿)与咬合垫2514较厚的第二部分之间。如类似陈述的，由牙齿 施加在咬合托盘2512上的任何压力将更集中在咬合垫2514的较厚部 分上。在咬合托盘2512的后部分处有较大咬合力提高患者舒适度并 且帮助避免可能以其它方式由患者锐利的前牙引起的对口件2510的 损坏。
另外，由于后牙的位置可变性通常小于前牙的位置可变性，因 此咬合托盘2512与后牙之间增大的接触界面还提供更通用的患者适 配。如类似陈述的，由于患者后牙的位置通常在不同患者解剖结构当 中比前牙和切牙的位置变化得小，因此该布置产生更可重复的(治疗 到治疗以及患者到患者)适配。在一些实施例中，咬合垫2514被构 造(即，由材料构造和/或具有足够厚度)以承受高达大约340N的 咬合力。在一些实施例中，咬合垫2514具有承受反复施加至咬合托 盘2514的50N的力的剪切强度和/或疲劳强度。
如图65所示，咬合垫2514的上表面包括脊2518。脊2518沿着 口件2510的中线M设置并且相对于咬合托盘2512和/或咬合垫2514 的上表面升高。如在图64B中最佳示出的，脊2518可以在咬合垫 2514的内周界2515与咬合垫2514的外周界2517之间延伸。脊2518 便于将口件2510安置在患者口腔内。例如，口件2510被配置为安置 在患者口腔内，使得脊2518设置在患者的前中切牙之间(在上颌或 者下颌上)。与牙齿和牙周组织相关的患者本体感受可以产生患者关 于口件2510的脊2518的位置的感觉反馈。
以这种方式，脊2518便于在口腔内将口件2510居中放置，从 而促进对牙槽或者患者嘴两侧上的其它口腔组织的光疗法治疗的对称 性。换句话说，为了促进对根区域对称施用光疗法，可以利用沿着矢 状平面或者在矢状平面的5度内(即，加或者减5度)安置的口件2510的中线M安置口件2510，以及脊2518可以便于在使用中这样 定位。脊2518可以具有任何合适的形状，包括，例如，如图65所示 的倒V形状，使得V的尖可以设置在患者的前中切牙之间。
如上所述，口件2510的上部分包括第一(或者左)凸缘2522 和第二(或者右)凸缘2524。口件2510的上部分(即，凸缘2522、 2524)相对于咬合板2514横向地设置。凸缘2522、2524被配置为当 口件2510设置在患者嘴内使得咬合托盘邻近患者牙齿的咬合表面时 邻近患者牙齿侧面的一部分和/或邻近牙槽粘膜设置。以这种方式， 封装在如此处更详细描述的凸缘2522、2524中的光阵列2542可以用 于对患者牙齿和/或牙槽粘膜施用光。
凸缘2522、2524共同地包括光阵列2542并且各自配置为设置 在颊组织与牙槽之间。因此，在使用中，凸缘2522和2524使口腔软 组织位移以维持光阵列2542相对于患者解剖结构的期望位置。更具 体地说，凸缘2522、2524被各自配置为使颊组织远离患者牙槽位移。 在一些实施例中，当口件2510设置在患者嘴内并且凸缘2522、2524 使颊组织位移时，凸缘2522、2524的内面2526可以与患者牙槽组织 间隔开。在一些实施例中，当口件2510设置在患者嘴内并且凸缘 2522、2524使颊组织位移时，凸缘2522、2524的内面2526的至少 一部分可以接触患者牙槽组织。
口件2510的凸缘2522、2524被配置为柔性的和/或可变形的。 如类似陈述的，凸缘2522、2524由材料构造并且具有提供如此处描 述的期望柔性的几何尺寸和/或构造。另外，第一和第二凸缘2522、 2524中的每一个可相对于口件2510和/或彼此独立地偏转、移动和/或变形。以这种方式，如此处描述的，可以容易地将口件2510设置 在具有各种不同解剖结构的各种不同患者的口腔内。
例如，口件2510包括一定的几何特征(例如，应力集中提升部、 具有期望弯曲力矩的惯量的区域等等)以结合构造口件2510的一个或 者多个材料产生期望的柔性、可变形性和耐久性。如图所示，口件2510限定凹口2530和凹槽2532、2533，配置为允许或者以其它方式 增大凸缘2522、2524朝牙齿、牙龈、颌等等向内偏转(如由图68中 的箭头AA所示)的能力。如图68所示，口件2510在口件的中线 M(参见，例如，图64B)处以及在第一凸缘2522与第二凸缘2524 的上部分之间限定凹口2530。凹口2530被配置为允许第一凸缘2522 和第二凸缘2524中的每一个例如响应于来自患者嘴唇或者内脸颊的 压力独立和/或向内偏转。特别地，凸缘2522、2524各自配置为相对 于咬合垫2514向内偏转。如类似陈述的，当口件2510以未变形状态 (即，第一构造)位于嘴外面时，第一凸缘2522和第二凸缘2524各 自近似垂直于咬合垫2514。当口件2510设置在嘴内部时，口件2510 和/或凸缘2522、2524的上部分充分地柔性，使得在每个凸缘2522、 2524与咬合垫2514之间形成的角(“凸缘角”)是锐角。该“倾斜” 允许凸缘2522、2524符合嘴的内表面，从而促进光阵列2542相对于 骨骼和/或牙齿的期望对准。
如图68所示，凹口2530可以是V形的，并且在凹口的最宽尖 端处具有深度X和宽度Y。宽度Y在邻近凸缘2522、2524与咬合托 盘2512相对的自由端的凹口上端部处并且小于凹口的深度X。形成 凹口2530的相应侧的每个凸缘2522、2524的边缘朝V形的尖端逐 渐变尖，该尖端可以与凹槽2532、2533的上边缘基本上对准。如类 似陈述的，限定凹口2530下边界的口件2510的部分与限定凹槽 2532、2533的口件2510的部分的上边缘在水平面上对准。然而，在 其它实施例中，限定凹口2530的下边界的口件2510的部分可以在相 对于凹槽2532、2533的任何合适位置中(例如，高于或者低于凹 槽)。
口件2510限定由第一凸缘2522和第二凸缘2524中的每一个的 下外(或者前)表面限定的至少一个凹槽2533、2534。例如，如图 68所示，口件2510包括各自由口件2510的外表面或者前表面2528 限定的第一凹槽2532和第二凹槽2533。特别地，每个凹槽设置在咬 合垫2514与柔性电路板2546的下边缘之间的高度处(参见，例如， 图71)。换言之，凹槽2532、2533可以由第一凸缘2522和第二凸 缘2524中的每一个的底座部分限定。凹槽2532、2533各自围绕口件 2510的外表面2528在口件2510的后端部部分与口件2510的前端部 部分之间延伸，使得每个凹槽2532、2533的第一端部2534、2535分 别地在口件2510的后端部部分处或者邻近口件2510的后端部部分以 及每个凹槽2532、2533的第二端部2536、2537分别地在口件2510 的前端部处或者邻近口件2510的前端部。
如图68所示，可以将凹槽2532、2533的第二端部2536、2537 间隔开。换句话说，凹槽2532、2533的第二端部2536、2537未必在 口件2510的前端部处接触。如类似陈述的，凹槽2532、2533是非邻 接的和/或不共享共同边界。例如，凹槽2532、2533的第二端部2536、2537可以由从口件2510前面延伸的桥2506的宽度间隔开。在另一 个示例中，如图68所示，凹槽2532、2533的第二端部2536、2537 可以由距离Z间隔开(Z可以至少与凹口2530的宽度Y一样大)。 凹槽2532、2533可以具有任何合适形状，包括，例如半圆形或者U 形的形状。凹槽2532、2533产生凸缘2522、2524可以绕着旋转、弯 曲和/或偏转的铰接部状结构(即，“活动铰接部”)。以这种方式， 凹槽2532、2533和凹口2530共同地允许凸缘2522、2524例如响应于来自患者嘴唇或者内脸颊的压力向内偏转。
照此，凹槽2532、2533和凹口2530共同地便于口件2510在第 一构造与第二构造之间转换。当口件2510在第一构造中时，在每个 凸缘2522、2524与咬合垫2514之间形成的角(“凸缘角”)具有第 一值。当口件2510在第二构造中时，凸缘角具有不同于第一值的第 二值。特别地，口件2510可以在设置在患者嘴内时移动至第二构造。 在一些实施例中，第二值小于第一值(即，当口件2510插入嘴中时， 凸缘2522、2524向内“倾斜”)。在一些实施例中，当口件在第一 构造中时凸缘角近似90度以及当口件在第二构造中时凸缘角是锐角。 在一些实施例中，当口件在第二构造中时，凸缘角为大约80度(例 如，凸缘2522、2524向内倾斜大约10度)。在其它实施例中，凸缘 角在大约75度与大约80度之间(例如，凸缘2522、2524向内倾斜 大约10度与15度之间)。在又其它实施例中，当口件在第二构造中 时，凸缘角近似85度、75度、70度或者65度(例如，凸缘2522、 2524分别地向内倾斜大约5度、15度、大约20度和大约25度)。
口件2510以及凸缘2522、2544的柔性尤其提供显著优势。例 如，与由硬塑料和/或以永久设置(或者形状)构造的口件相反，当 前布置允许更容易地插入以及更好地符合患者的口腔组织。口件 2510的柔性还适应患者解剖结构的变化(无论在两个不同患者之间还是对于与患者解剖结构随时间改变的相同的患者)。例如，一些患 者具有明显的覆咬合并且可能需要比10度向内偏转(或者“倾斜”) 更多或者更少的向内偏转。在这种实例中，口件2510可以符合患者 嘴内的内部结构和/或解剖结构。作为另一个示例，随着患者的正畸随时间起作用，患者的牙齿解剖结构将改变。相应地，口件2510可 以符合患者嘴内的内部结构和/或解剖结构以适应这种改变而不需要 新口件模塑等等。最后，口件2510的柔性设计为患者提供的舒适度 比由硬塑料构造的口件将提供的舒适度大。
另外，口件2510和/或凸缘2522、2524的柔性性质提供制造益 处。特别地，制造和/或模塑在咬合表面与凸缘侧表面之间具有锐角 (即，凸缘的内角或者“凸缘角”)的口件会很难。然而，口件 2510的设计允许以近似九十度(或者更大)的凸缘角进行模塑和/或 制造，同时允许使用中的凸缘角为锐角(例如，如此处描述的，当口 件2510在第二构造中时)。
光疗法装置2500的口件2510包括在图71和72中一般示出以 及在图73中示意性示出的电子组件2540。在一些实施例中，口件 2510的至少一个或多个部分由基本上透明的材料(例如，硅树脂) 构造，使得嵌入在口件2510内的一个或者多个部件通过口件2510可 见。因此，为了图示目的，在图71和72中将口件2510的部分(包 括第一凸缘2522、第二凸缘2524和咬合托盘2512的部分)显示为 透明以示出设置在其中的电子组件2540和支撑板2554的部分。电子 组件2540被配置为与设置在喙形件2560内的电子设备板2570协同 运行以产生如此处描述的光疗法。如图所示，口件2510的电子组件 2540主要地设置在第一凸缘2522和第二凸缘2524中。电子组件 2540包括光阵列2542、柔性电路板2546、一对电容传感器2549和 一个或者多个热传递瓦片2558。图73示意性地图示了根据一些实施 例口件2510的电子组件2540的至少一部分。光阵列2542包括一个 或者多个光发射器2544，诸如多个LED(在图72中仅标识了每个凸 缘中的一个光发射器2544)。光发射器2544电气地和/或物理地耦合至柔性电路板254(同样参见，图64B)。柔性电路板2546诸如通 过通路2543a、2543b、2543c、2543d(参见，例如，图73)将光发 射器2544电气地耦合至喙形件2560中的电子电路。以这种方式，如 此处描述的，光发射器2544可以接收电力和/或信号以产生期望的光。
参照图72，光发射器2544设置在柔性电路板2546的第一、腭 (或者舌)侧上。以这种方式，当口件2510设置在患者嘴内时，光 发射器2544被配置为朝患者牙齿和/或邻近口腔组织发射光。光发射 器2544可以被配置为以此处描述的任何合适强度、波长和/或频率发 射光。例如，在一些实施例中，光发射器2544可以被配置为在红外 线或者近红外的波长范围中发射光。例如，在一些实施例中，光发射 器2544可以被配置为以大约850nm的波长发射光。在一些实施例 中，光发射器2544可以被配置为以大约850nm±5nm的波长发射 光。光发射器2544可以被配置为发射足以向患者骨骼传送光能量的 光以便于和/或执行此处描述的方法中的任何一个。光发射器2544可 以被配置为以小于150mW/cm2发射光。
光发射器2544可以以任何合适的构造(包括此处描述的任何构 造)设置在柔性电路板2546上和/或凸缘2522、2524。例如，在一些 实施例中，光发射器2544是以两个或者更多个平行排和/或列耦合至 柔性电路板2546的LED。如图73示意性地示出，光阵列2542可以包括大约54个光发射器2544或者LED，其中大约27个光发射器嵌 入在第一凸缘2522中以及大约27个光发射器2544嵌入在第二凸缘2524中。可以以任何合适的构造(包括例如以每列三个间隔开的 LED的九个均匀间隔的列)布置27个光发射器2544。柔性电路板 2546和光发射器2544可以具有用于耦合至或者嵌入口件2510的凸 缘2522、2524的任何合适尺寸。尽管将光发射器2544示出为在第一 凸缘2522和第二凸缘2524内均匀地间隔，但是，在其它实施例中， 光发射器可以在第一凸缘2522和/或第二凸缘2524内不均匀地间隔。 例如，在一些实施例中，口件可以包括由在靠近口件的前部分以第一 量以及在靠近口件的后部分以第二不同量间隔开的一系列光发射器。
如图71所示，一个或者多个热传递瓦片2558设置在口件2510 的柔性电路板2546的第二侧或者颊侧上。瓦片可以由任何合适的导 电材料(例如，铜、铝等等)构造并且被配置为促进将热量从光疗法 装置2500和/或光发射器2544传递开并且传递到患者的颊组织。如 类似陈述的，在使用中，铜瓦片2558可以将热量从装置2500传递到 患者脸颊，其中患者自然存在的循环系统将从脸颊区域抽走热量。以 这种方式，瓦片2558可以便于在光疗法施用期间遵守适用的温度规 则和行业标准(例如，此处描述的IEC 60601、1EC 60601-2-57、IEC 60601-1-11、EN 62471等等)。
瓦片2558可以以任何合适的方式操作地耦合至光发射器2544。 在一些实施例中，柔性电路板2546在其第二侧上具有包括一个或者 多个热传递瓦片2558的层。瓦片2558彼此间隔开，并且因此可以表 征为分立的。瓦片2558的分立性质增强或者至少不减轻口件2510的 凸缘2522、2524的柔性。然而，在其它实施例中，瓦片2558不需要 是独立元件。
在一些实施例中，柔性电路板2546的至少一部分设置在光疗法 装置2500的桥2506内。例如，柔性电路板2546可以包括设置在桥 2506中的突片部分2548。柔性电路板2546的突片部分2548被配置 为使口件2510的电子组件2540与此处更详细描述的设置在喙形件 2560中的电子部件电气地耦合。以这种方式，如此处更详细描述的， 设置在喙形件2560中的电子部件可以控制装置2500的操作和控制使 用光阵列2542的光的发射。
口件2510可以由任何合适材料(包括，例如，弹性体材料(例 如，软性硅树脂))构造。此处使用术语硬度(或者软度，如适用 的)、强度和/或变形抗力指示与口件2510相关联的若干相关性质。 例如，术语可以用于指代特定材料性质，诸如抗屈强度、弹性模量、 刚性模量、硬度和/或延伸百分率。材料或者口件2510的硬度可以表 征为其关于用于测量用于形成口件的材料类型的硬度的装置的“计示 硬度”。
在一些实施例中，口件2510可以由医用级别的注塑的高柔性和 非常低硬度的硅树脂制造。例如，在制造口件2510期间，可以将硅 树脂过模制到口件2510的电子组件2540的一部分(包括柔性电路板 2546、光发射器2544和铜瓦片2558中的一个或者多个)上。以这种 方式，将电子组件2540的部分(诸如柔性电路板2546、光发射器 2544和铜瓦片2558中的一个或者多个)完全地封装或者嵌入在模塑 的硅树脂内。以这种方式，可以保护电子设备以在嘴内重复应用。在 一些实施例中，硅树脂可以具有大约22肖氏A的硬度(或者软度)。尽管柔软，但是硅树脂是抗撕裂的(由于患者牙齿(以及特别地前牙) 的锐利而期望的特性)。另外，硅树脂是疏水性的，并且因此将不吸 收水。合适的硅树脂包括由BluestarSilicones，East Brunswick，NJ 以名称
提供的那些硅树脂，包括
LSR 4305、 
LSR 4310、
LSR 4325和
LSR 4325 PEX(www.bluestarsilicones.com)。
在一些实施例中，口件2510的硅树脂和/或部分是基本上透明 的，使得嵌入在硅树脂内的一个或者多个部件通过硅树脂可见。另外， 以这种方式，口件2510可以提供适当的光学性质以用于允许由光发 射器2544产生和/或传送的光穿过口件2510到期望的目标组织。在 一些实施例中，口件2510和/或凸缘2522、2524可以包括配置为过 滤、聚焦由光发射器2544产生的光和/或以其它方式对由光发射器 2544产生的光起作用的一个或者多个部件。在其它实施例中，口件2510可以在光发射器2544与凸缘2522、2524的表面之间包括空气 间隙以便于聚焦光。然而，如图64B所示，口件2510被构造为使得 光发射器2544完全封装或者嵌入在模塑硅树脂内使得硅树脂材料与 电子组件2540的部分之间不存在空间或者空气间隙。如类似陈述的， 口件2510在光发射器2544与口件2510的材料之间没有空气间隙， 因此不需要空气间隙透镜作用产生由光发射器2544产生的光的期望 光学性质。
脊2518可以由与口件2510相同的材料或者至少与口件2510的 咬合托盘2512相同的材料构造。以这种方式，当患者用上颌和下颌 一起咬合时，口件2510的咬合托盘2512(包括脊2518)可能因由患 者牙齿的咬合表面施加的压力稍微变形。尽管如此，脊2518具有足够的尺寸，使得不论咬合托盘2512和/或脊2518有任何轻微变形， 患者都应当知道其位置。
口腔外壳体或者喙形件2560通过桥2506耦合至口件2510的前 面部分。以这种方式，当口件2510设置在患者口腔内时，喙形件 2560设置到患者口腔外部。同样以这种方式，当口件2510设置在患 者嘴内时，可以通过口件2510和/或桥2506相对于患者的嘴支撑喙形件2560。
装置2500可以包括支撑板2554。支撑板2554被配置为向口件 2510的硅树脂材料提供结构支撑。支撑板2554被配置为例如当口件 2510设置在患者嘴内时帮助相对于口件2510支撑喙形件2560。支撑 板2554具有近侧部分2551(参见，例如，图72)和远侧部分2553(参见，例如，图70)。支撑板2554的近侧部分2551耦合至口件 2510和/或在口件2510内。例如，支撑板2554的近侧部分2551可以 嵌入在咬合垫2514的硅树脂材料中。支撑板2554可以是基本上平坦 的，以及支撑板2554的近侧部分2551可以设置在口件2510内，使 得支撑板与咬合垫2514的上表面基本上平行。支撑板2554的至少一 部分设置在桥2506中。支撑板2554的远侧部分2553被配置为使口 件2510与喙形件2560耦合。例如，支撑板2554的远侧部分2553可 以限定两个孔径2555、2557，各自配置为容纳喙形件2560的突出部 或者导向销(在图70和72中未示出)。在一些实施例中，限定孔径 2555、2557的支撑板2554的至少远侧部分2553相对于口件2510的 材料露出(或者没有设置在口件2510的材料内)。
光疗法装置2500的喙形件2560包括第一或者顶部部分2562和 第二或者底部部分2564，并且在其间形成空腔(未示出)。尽管在 图62-66中将结合桥2506的喙形件2560示出为一般地具有T形形状， 但是在其它实施例中，喙形件2560可以具有任何合适形状。喙形件2560被配置为至少部分地封装如此处更详细描述的可以设置在喙形 件2560的空腔中的装置2500的一个或者多个电子部件。
装置2500包括至少一个电池或者其它合适电源。例如，电池 2568设置在喙形件2560的空腔中。电池2568可以电气地耦合至喙 形件2560的一个或者多个电子部件(包括，例如，喙形件的电子设 备板2570、微控制器2572、系统时钟、无线发射器2576以及其它电子部件中的一个或者多个)并且向喙形件2560的一个或者多个电子 部件提供电力。电池2568被配置为向口件2510的电子组件2540提 供电力。更具体地，电池2568被配置为向光阵列2542提供电力以使 光发射器2544能够在治疗疗程期间照射光。电池2568可以包括例如可再充电锂离子电池。在一些实施例中，电池是锂离子聚合物电池， 也称为锂聚合物或者LIPO电池。在一些实施例中，在喙形件2560 的空腔内将电池2568设置在加速度计2567与电子设备板2570之间。
在一些实施例中，装置2500被配置为无线地充电电池或者使电 池2568再充电。例如，感应接收器线圈2569可以设置在喙形件 2560的空腔中。如此处更详细描述的，感应接收器线圈2569被配置 用于使电池2568感应地充电。感应接收器线圈2569可以包括例如 Qi基充电线圈。
电子设备板2570设置在装置2500的喙形件2560中。电子设备 板2570(例如，通过柔性电路板2546的突片部分2548)电气地耦合 至口件2510的柔性电路板2546，从而使喙形件2560的电子部件与 口件2510的电子组件2540电气地耦合。喙形件2560内的电子电路 使喙形件2560的电子设备板2570、微控制器2572、系统时钟、无线 发射器2576、一个或者多个开关以及其它电子部件电气地耦合。
光疗法装置2500被配置为检测装置的移动。更具体地说，装置 2500被配置为检测装置何时沿三个轴或者维度中的任何一个移动 (此处也称为三维移动)。参照图74，在一些实施例中，装置2500 包括设置在喙形件2560的空腔内的加速度计2567。加速度计2567 可以是例如压电传感器。加速度计2567可以通过任何合适的耦合机 构(包括但不限于，粘合剂(诸如双面胶带))耦合至喙形件2560 (例如，耦合至喙形件的第一部分2562)。加速度计2567电气地耦 合至电子设备板2570。在一些实施例中，两条电子引线或者金属丝 (在图74或者75中未示出)使加速度计2567与电子设备板2570耦 合。加速度计2567被配置为检测光疗法装置2500的三维或者三轴移 动。
加速度计2567可以被配置为当检测到三维移动时向装置2500 的微控制器2572发送电信号。微控制器2572设置在喙形件2560的 空腔中。微控制器2572与加速度计2567电通信并且被配置为从加速 度计2567接收电信号。所检测的装置2500的移动可以用于控制光发 射和/或设备性能的其它方面。例如，在一些实施例中，当微控制器 2572检测装置2500的移动时，微控制器2572可以将装置2500从 “睡眠”状态(防止光发射器2544被启动的状态)移动到“唤醒” 状态(启动光发射器2544的状态)。
在一些实施例中，光疗法装置2500可以被配置为确定装置的取 向。换言之，光疗法装置2500可以被配置为确定口件2510在直立位 置中取向还是在倒立位置中取向。例如，在一些实施例中，加速度计 2567被配置为确定装置2500在直立位置中取向还是在倒立位置中取 向。加速度计2567被配置为向微控制器2572发送与装置2500的取 向相关联的信号。以这种方式，电子设备板2570和/或微控制器2572 可以根据如此处描述的口件2510的取向调节和/或控制设备2500的 操作。
设置在装置2500的喙形件2560中的电子电路包括可从第一位 置(或者构造)移动至第二位置(或者构造)的开关2575(此处也 称为磁性开关或者传感器，在图74中示意性地图示)。更具体地说， 开关2575被配置为当开关被位于紧邻开关内的磁体激活时从其第一位置移动至其第二位置。当开关2575在其第二位置中时，即使加速 度计2567检测到移动，装置2500也维持在其睡眠状态中。在一些实 施例中，外部站2580包括配置为激活开关2575的磁体2596(参见 例如，图90)。以这种方式，当装置2500设置在外部站2580上时， 无论加速度计2567是否检测到装置的移动，外部站2580的磁体 2596都使得开关从其第一位置移动到其第二位置，从而阻止装置 2500从其睡眠状态移动至其唤醒状态。这帮助防止装置2500的不利 唤醒和/或激活(如如果外部站2580与设置在其中的装置2500一起 移动(例如，为了运输)可能以其它方式发生的)。微控制器2572 被配置为确定开关2575在其第一位置中还是其第二位置中。以这种 方式，微控制器2572被配置为确定装置2500是否设置在外部站 2580上。
光疗法装置2500还可以被配置为确定口件2510是否设置在患 者嘴内(即，以适合于治疗疗程的方式)。以这种方式，装置2500 可以被配置为仅在装置2500已经确定口件2510设置在患者嘴中时为 治疗疗程照射光。在一些实施例中，例如，光疗法装置2500包括配 置为当口件2580设置在患者嘴内时检测电容变化的电容检测系统。 参照图71-74，电容检测系统可以包括电容传感器2549(参见，例如， 图74)，设置在喙形件2560中并且配置为与各自耦合至口件2510 的柔性电路板2546的第一电容电极2550和第二电容电极2552电通信。柔性电路板2546被配置为分别地通过通路2543a-b和2543c-d 将电极2550、2552电气地耦合至喙形件2560中的电容传感器2549。
传感器2550、2552的至少一部分可以例如以如此处关于光阵列 2542讨论的类似方式嵌入在口件2510的凸缘2522、2524中。电极2550、2552在柔性电路板2546上间隔开。在一些实施例中，如图72 所示，电极2550、2552相对于柔性电路板2546设置在相对位置处，使得第一电极2550在嵌入第一凸缘2522中的光阵列2542的部分下 方以及第二电极2552在嵌入第二凸缘2524中的光阵列2542的部分 下方。以这种方式，装置2500被配置为从两侧检测电容变化。在一 些实施例中，每个电极2550、2552在患者嘴内向后延伸，从而提供 与患者口腔组织更“水平”的接触以用于更稳健地感测电容变化。
电极2550、2552被配置为当口件2510设置在患者嘴内准备进 行治疗时紧邻于具有高电容的患者的颊组织设置。患者的唾液或者湿 润的颊组织可以激活每个电极2550、2552的电容。装置2500被配置 为仅在已经记录到预定电容变化之后照射光。换言之，装置2500以 及更具体地微控制器2572被配置为仅在已经记录到预定电容变化之 后接通光发射器2544。电容变化由微控制器2572记录，微控制器 2572被配置为当(1)由电容传感器2549关于每个电极2550、2552 (即，从两侧)检测到电容变化阈值和/或(2)在预定持续时间内检 测到电容变化(例如，至少2秒钟)时执行算法以记录电容变化。当 微控制器2572记录电容变化时，在喙形件2560中并且与微控制器 2572电通信的开关(此处也称为“电容开关”，在图74中未示出， 但是通常包括在电容传感器2549部件中)从光发射器2544断开的第一位置移动至光发射器2544接通的第二位置，从而将装置2500移动 到光发射器2544照射光的激活状态。
由于需要两侧电容变化将开关移动到其第二位置，因此限制了 可能由仅使用一个电极产生的假阳性的发生率。然而，在其它实施例 中，光疗法装置可以仅包括单个电容电极。在又其它实施例中，光疗 法装置可以包括用于确定口件2510何时安置在嘴内的任何其它合适 的检测机构。
此外，光疗法装置2500的电容检测系统提高患者安全性和/或 依从性。例如，光发射器2544可以被配置为发射红外光，因此期望 阻止光发射直到口件2510适当地设置在患者嘴内为止(例如，以避 免可能对眼睛有害的发射辐射的可能性)。电容传感器的布置还消除 了对喙形件2560上手动“开/关”开关的需要。这种手动开关易于发 生用户错误。例如，由于患者可能不容易辨别光发射器是断开还是打 开的，因此患者可能在患者打算开始光疗法治疗疗程时意外地关闭光 发射器。
在一些实施例中，装置2500被配置为检测从患者口腔软组织的 光反射。光发射器2544可以被配置为诸如以闪烁或者脉动方式发射 光。光发射器2544可以被配置为以预定速率闪烁或者脉动。从脉动 或者闪烁的光发射器2544朝患者嘴的口腔软组织发射的光的至少一 部分被反射到口件2510并且从而由传感器或者其它光反射检测机构 (通常称为“反射传感器”，在图62-75中未示出)检测。反射传感 器被配置为评估耦合至口件2510的第一凸缘2522的光阵列2542的 一部分和耦合至口件2510的第二凸缘2524的光阵列2542的一部分 的功能性。以这种方式，反射传感器便于在相对于患者操作装置 2500之前检测装置2500相对于口件2510的凸缘2522、2544中的每 一个的任何错误操作。为了确定光阵列2542的光发射器2544正在适 当地工作，可以建立合适的反射阈值以测量反射。装置2500可以被配置为当反射传感器检测从口腔软组织的光反射时和/或当电容检测 系统检测阈值电容变化时发起对口腔组织的照射(即，开始治疗疗 程)。在一些实施例中，反射传感器或者电容检测系统中的至少一个 被配置为当反射传感器检测从口腔软组织的光反射(例如，在预定阈 值处或者高于预定阈值)时或者当电容传感器2549检测阈值电容变 化时向喙形件2560中的微控制器2572传输信号以发起治疗疗程。
反射传感器还可以被配置为跟踪患者对治疗程序的依从性。例 如，反射传感器可以被配置为每当反射传感器检测在指示口件2510 设置在患者嘴中的合适反射阈值处的光反射时向微控制器2572传输 信号。以这种方式，微控制器2572可以基于由反射传感器传输的信 号跟踪患者将口件放置到患者嘴中时的事件。
除基于嘴内的移动和/或定位控制设备2500的操作以外，微控 制器2572还可以基于设备各种区域和/或患者解剖结构的温度控制设 备2500和/或光发射器2544的操作。特别地，如此处讨论的，规范 要求和/或行业标准可以对患者嘴中的医疗器件的温度设定限制。光 疗法装置2500被配置为确保装置遵照适用的规范要求和/或行业标准。 温度传感器2577(在图74中示意性地示出)(诸如热电偶传感器) 设置在喙形件2560中并且被配置为与微控制器2572通信。温度传感 器2577耦合至设置在口件2510的柔性电路板2546上的一个或者多 个接触件2545、2547。如图73和74中示意性示出的，接触件2545、 2547可以通过通路2543e、2543f耦合至温度传感器2577。
温度传感器2577被配置为在光疗法治疗疗程期间(例如，通过 接触件2545、2547)测量口件2510的温度。温度传感器被配置为向 微控制器2572传输与所测量的温度相关联的电信号等等。在一些实 施例中，温度传感器或者其接触件2545、2547相对于柔性电路板2546的位置可以不同于规则或者行业标准中阐述的位置。照此，装 置2500可以被配置为执行温度算法(例如，通过微控制器2572)， 该温度算法配置为基于传感器实际位置与规则或者标准中阐述的位置 之间的差校正和/或调节如由温度传感器测量的温度，从而计算用于控制光疗法装置2500的操作的调节的温度。
在一些实施例中，光疗法装置2500被配置为当所测量的温度或 者调节的温度达到第一预定温度阈值或者超过第一预定温度阈值时暂 时地停止光照射。第一预定温度阈值可以是足够高到引起患者不适但 是小于规范(或者行业标准)限制的温度。在使用中，当达到或者超 过第一预定温度时，关闭光发射器2544，并且暂停治疗疗程。例如， 可以在冷却周期暂停治疗疗程以允许装置2500的温度降低到至少预 定温度，或者低于第一预定温度阈值的温度。例如，在三分钟治疗疗 程期间，冷却周期可以为大约20秒钟或者大约30秒钟。如果装置 2500的温度充分地降低，则接通光发射器2544(例如，通过微控制 器2572)并且重新开始治疗疗程。
在一些实施例中，光疗法装置2500被配置为当所测量的温度或 者调节的温度的至少一个达到第二预定温度阈值或者超过第二预定温 度阈值时停止光照射，第二预定温度阈值大于第一预定温度阈值。第 二预定温度阈值可以是相当于规范(或者行业标准)限制的温度。在 一些实施例中，第二预定温度阈值在大约45摄氏度至大约55摄氏度 的范围内。在一些实施例中，第二预定温度阈值为大约48摄氏度。 如果达到或者超过第二预定温度阈值，则关闭光发射器2544，并且 结束治疗疗程。在这种实施例中，当装置2500的所测量温度或者调 节的温度中的至少一个达到或者超过第二预定温度阈值时，装置 2500不自动地重新开始治疗程序。
光疗法装置2500被配置为跟踪患者对光疗法治疗疗程的处方治 疗程序的依从性。照此，装置250被配置为存储与患者对装置2500 的使用历史相关联的数据。装置2500可以被配置为存储包括(1)使 用装置发起和/或完成的光疗法治疗疗程的总数量、(2)使用装置施 用光疗法治疗疗程的总天数、(3)使用装置对上颌还是下颌施用光 疗法(例如，每个治疗疗程)、(4)由装置在特定日期和时间施用 光的持续时间(例如，如果患者完成了少于完整治疗疗程的治疗疗程， 则装置可以存储施用光的持续时间)以及(5)使用装置2500施用光 的日期和时间中的一个或者多个或者上述的任何组合的数据。
微控制器2572被配置为向外部设备传输所存储的数据(即，患 者依从性信息)。例如，光疗法装置2500可以被配置为将患者依从 性信息传输至移动电话、个人数字助理、计算机、便携式电子设备、 外部站2580等等。装置2500可以包括设置在喙形件2560中的发射器2576。在一些实施例中，发射器2576是配置为向外部设备无线地 传输数据的无线发射器2576。无线发射器2576可以被配置为通过 
或者另一个合适的无线机构和/或协议传输数据。在一些 实施例中，装置2500被配置用于例如通过发射器2576对外部设备进 行单向数据传输。然而，在其它实施例中，发射器是收发器，并且因 此配置用于与外部设备进行双向数据通信。
如此处讨论的，光疗法装置2500可以具有任何合适数量的一个 或者多个操作状态。例如，在一些实施例中，光疗法装置2500可以 具有睡眠状态和唤醒状态。在睡眠状态中，阻止装置2500在光疗法 治疗疗程照射光。装置2500可以在其睡眠状态期间处于低功率状态， 使得存在最小电活性。然而，即使在睡眠状态中，某些电子部件(诸 如系统时钟(未示出))也可以继续工作。另外，在睡眠状态中，装 置2500可以具有充电状态或者通信状态。在充电状态中，尽管装置 2500的电池2568正在充电(或者再充电)，但是装置2500保持休眠。在充电状态中，无线发射器2576或者装置2500的其它无线电机 构被配置为尽管装置保持在其睡眠状态中也向外部设备无线地传输信 息(例如，患者依从性数据)。
在唤醒状态中，装置2500可以被配置为具有就绪状态、错误状 态、等待状态、通告状态、激活状态、冷却状态、暂停状态和完成状 态或它们的任意组合。在一些实施例中，装置2500被配置为在处于 唤醒状态时(而不是在装置处于睡眠状态时或者除在装置处于睡眠状 态时以外)在其通信状态中。
在就绪状态中，装置2500准备开始为治疗疗程照射光，但是还 没有开始照射光。例如，在就绪状态中，装置可以配置为在确认口件 2510适当地设置在患者嘴内时开始光疗法治疗疗程。在错误状态中， 装置2500检测到错误并且阻止装置2500在治疗疗程照射光。像在就 绪状态中一样，等待状态中的装置2500准备开始为治疗疗程照射光， 但是还没有开始照射光。如此处更详细描述的，装置2500被配置为 在就绪状态之后进入等待状态。在通告状态中，装置2500被配置为 对患者产生设备准备好供治疗疗程使用的警告。在激活状态中，装置 2500为治疗疗程照射光。在冷却状态中，中断或者暂停来自装置 2500的光照射预定周期以允许装置冷却。在暂停状态中，由于非温 度相关原因暂时地停止光施用。在完成状态中，装置2500已经完成 对治疗疗程照射光，并且因此停止光施用。在通信状态中，装置 2500被配置为与外部设备通信。
装置2500(例如，通过微控制器2572)被配置为执行控制装置 状态或者状况的各种算法，包括执行各种逻辑序列。例如，如图76 中示意性图示的，装置2500被配置为执行用于确定装置是否可以从 睡眠状态移动至唤醒状态的算法2600。尽管下列描述涉及光疗法设 备2500的特定部分，但是可以由此处描述的的设备中的任何一个执 行此处描述的方法中的任何一个。参照图76，在睡眠状态2602中， 系统时钟工作以计时2604。在2606处，算法2600查询电池2568是 否正在充电。如果电池2568正在充电，则装置2500进入充电状态2608。如果电池2568没在充电，则在2610处算法2600查询(1)加 速度计是否已经移动(或者检测到装置2500的三维移动)，以及(2) 是否没有检测到磁体(例如，在外部站2580中)。如果查询(1)或 者(2)中的任何一个的回答是否定的(即，加速度计没有移动(或 者检测到三维移动)或者检测到磁体)，则装置2500保持在睡眠状 态中。如果查询(1)和(2)两者的回答是肯定的(即，加速度计已 经移动(或者检测到三维移动)并且没有检测到磁体)，则在2612处唤醒装置2500的外围电子设备。当唤醒外围电子设备时，装置 2500通常称为在其唤醒状态中(在图76中未示出)。装置2500随 后被配置为执行自检测以确认外围电子设备的功能性。算法2600在 2614处查询装置2500是否通过自检测。如果装置2500未通过自检 测，则装置2500移动至错误状态2616。如果装置2500通过自检测， 则算法2600在2618处查询是否检测到致命错误。如果检测到致命错 误，则装置2500移动至错误状态2616。如果没有检测到致命错误， 则装置2500移动至就绪状态2620。
参照图77，在充电状态2608中，装置2500(即，通过微控制 器2572)被配置为执行算法2622以在2624处查询电池2568是否已 经完成充电(例如，完全充电或者充电到至少预定充电水平)。如果 未完成对电池的充电，则装置2500保持在充电状态2608中。如果电 池已经完成充电，则装置2500返回至(非充电)睡眠状态2602。
参照图78，在就绪状态2620中，装置2500被配置为执行算法 2626以在2628处查询是否检测到磁体(例如，在外部站2580中)。 如此处讨论的，装置2500可以基于喙形件2560中的磁性开关在其第 一位置中还是其第二位置中确定是否检测到磁体。如果磁性开关在其 第二位置中，则微控制器2572可以确定其内设置磁性开关的电子电 路完成，以及从而确定检测到磁体。如果检测到磁体，则在2630处， 算法查询电池2568是否电量不足或者耗尽并且需要充电。如果电池 2568电量不足或者耗尽，则装置2500进入通告状态2632。装置2500可以被配置为当装置在通告状态2632中时警告患者或者其它用 户电池2568电量不足或者耗尽并且需要充电。例如，在通告状态中， 装置2500可以被配置为提供如此处描述的可听标记或者视觉标记中 的一个或者多个(例如，通过由光指示器2578发射的光色和/或图 案)。如果电池2568没有电量不足或者耗尽，并且因此不需要充电， 则装置2500进入睡眠状态2602。
回到操作2628，如果装置2500确定没有检测到磁体，则算法 2626随后在2634处查询是否已经过去预定时间周期。预定时间周期 旨在表示患者可以将装置2500从外部站2580移除并且将装置设置在 患者嘴中以开始光疗法治疗疗程的充分持续时间。通常，预定时间周 期处于秒或者分钟的数量级。例如，预定周期可以是20秒、30秒、 40秒、50秒、60秒、70秒或者更久。在一些实施例中，预定时间周 期是60秒。如果已经过去预定时间周期，则装置2500进入睡眠状态 2602。以这种方式，装置2500被配置为帮助防止由于装置使自身维持就绪状态2620超出预定时间周期而耗尽电池2568。如果没有过去 预定时间周期，则算法2626在2636处查询电容传感器2549是否接 通。换言之，算法2626查询电容传感器2549是否指示电极2550、 2552在查询时正在检测电容变化。如果电容传感器2549接通，则装 置2500进入等待状态2638。如果电容传感器2549没有接通(换言 之，如果电容电极2550、2552中的至少一个在查询时没有检测电容 变化，即，传感器2549“断开”)，则装置2500保持在就绪状态 2620中。如果装置2500保持在就绪状态2620中，则可以重新执行 算法2626直到装置进入不同状态，诸如通告2632、睡眠2602或者 等待2638状态中的一个。
参照图79，在一些实施例中，装置2500被配置为执行算法 2640以确定装置2500是否已经适当地设置在患者嘴内。更具体地说， 当装置2500在等待状态2638中时，装置被配置为执行算法2640以 在2642处查询电容传感器2549是否接通(例如，传感器2549是否 已经检测到电容变化)。在一些实施例中，电容传感器2549被配置 为当由每个电容电极2550、2552检测的电容变化在预定阈值处或者 超过预定阈值时接通。在2642处，查询旨在确定装置2500是否已经 设置在患者嘴内以准备施用光疗法治疗疗程。如果电容电极2550、 2552中的至少一个没有检测到在预定阈值处或者超过预定阈值的电 容变化，则电容传感器2549断开并且装置2500回到就绪状态2620。
如果确定电容传感器2549接通，则算法2640在2644处查询是 否在确定电容传感器2549接通之后已经过去预定时间周期。在2642 处，查询旨在确定装置2500是否适当地安置在患者嘴内，从而确保 对患者嘴的每侧进行基本上平衡的光施用。通常，预定时间周期是处 于秒的数量级的持续时间。例如，预定时间周期可以是在1秒至5秒 范围内的持续时间。在一个实施例中，预定时间周期是2秒的持续时 间。如果算法2640确定电容传感器2549在预定时间周期没有接通， 则装置2500保持在等待状态2638中。如果电容传感器2549在预定 时间周期保持接通，则装置2500进入激活状态2646。在一些实施例 中，微控制器2572记录在预定时间周期内在预定阈值处或者超过预 定阈值的电容变化的两侧检测。
参照图80，当在激活状态2646中时，装置2500被配置为执行 算法2648以在2650处查询是否检测到温度传感器2577(例如，热 电偶传感器)或者温度传感器2577是否在工作。例如，如果温度传 感器确认它能够基于从柔性电路板2546上的一个或者多个接触件2545、2547接收的信息确定温度，则温度传感器2577可以向微控制 器2572指示它在工作。如果没有检测到温度传感器2577或者温度传 感器2577没在工作，则装置2500进入错误状态2616。如果确定检 测到温度传感器2577或者温度传感器2577在工作，则算法2648被 配置为在2652处查询是否检测到磁体。如果确定检测到磁体，则装 置2500进入错误状态2616。如可以鉴于此处关于装置2500的描述 理解的，装置2500并不旨在在激活状态中(可以发射光的状态)并 且同时设置在外部站2580上使得可以检测到磁体。
如果在2652处确定没有检测到磁体，则算法2648被配置为在 2654处查询装置2500的温度是否超过预定温度阈值。如此处讨论的， 在一些实施例中，装置2500的温度是由温度传感器2577测量的温度。 在其它实施例中，装置2500的温度是由微控制器2572基于所测量的 温度计算的经调节温度。如果确定温度超过预定温度阈值，则装置 2500进入冷却状态2656。
如果确定温度不超过(即，处于或者低于)第一预定温度阈值， 则算法2648被配置为在2658处查询是否剩余任何时间用于施用治疗 疗程。如此处讨论的，例如，治疗疗程可以是大约3分钟的持续时间。 照此，算法2648被配置为确定是否剩余用于治疗疗程的3分钟中的 任何一分钟，即，还没有完成。如果确定在治疗疗程中没有时间剩余， 则装置进入完成状态2660。
如果确定在治疗疗程中剩余时间，则算法2648被配置为在2662 处查询电容传感器2549是否断开。如果电容传感器2549断开，则装 置2500进入暂停状态2664。例如，由于患者从患者的嘴移除了口件 2510或者无意中使口件2510在患者嘴内偏移，使得至少一个电极 2550、2552没有阈值电容电荷，因此电容传感器2549可能已经断开。 如果电容传感器2549接通，则装置2500保持在激活状态2646中， 并且重新执行算法2648。算法2648可以被配置为自动地重新执行直 到装置2500进入除激活状态2646以外的状态，诸如错误状态2616、 冷却状态2656、完成状态2660或者暂停状态2664中的一个。
参照图81，当装置2500在完成状态2660中时，装置2500被配 置为执行配置为确定装置是否应当进入就绪状态的算法2666。具体 地，算法2666被配置为在2668处查询是否从装置2500进入完成状 态2660以后已经过去预定时间周期。预定时间周期可以处于秒的数量级，诸如，例如两秒、三秒、四秒、五秒、六秒或者更久。在一些 实施例中，算法2666被配置为查询是否从装置2500进入完成状态以 后已经过去5秒。算法2666还被配置为查询电容传感器2549是否断 开。算法可以被配置为同时执行是否已经过去预定时间周期以及电容 传感器2549是否断开的查询两者。如果确定(1)已经过去预定时间 周期，以及(2)电容传感器2549断开，则装置2500进入就绪状态 2620。如果没有过去预定时间周期或者电容传感器2549接通，则装 置2500保持在完成状态2660中，以及装置2500可以被配置为重新 执行算法2666直到装置进入不同状态(例如，就绪状态2620)。
参照图82，当装置2500在错误状态2616中时，装置2500被配 置为执行算法2670以确定装置是否应当进入不同状态(诸如通告状 态2632)。算法2670被配置为在2672处查询是否检测到磁体。如 果确定检测到磁体(例如，如果装置2500设置在外部站2580上)， 则装置2500进入通告状态2632。如果确定没有检测到磁体，则装置 2500保持在错误状态2616中。装置2500可以被配置为重新执行算 法2670直到装置进入不同状态(例如，通告状态2632)。
如此处讨论的，当装置2500在冷却状态中时，至少暂时地停止 治疗疗程期间从光阵列2542的光发射以允许装置冷却。装置2500可 以被配置为执行算法以确定装置是否应当从冷却状态2656移动至不 同状态，诸如激活状态2646、完成状态2660或者暂停状态2664。参 照图83，装置2500被配置为执行算法2674以在2676处查询装置的 温度是否低于预定温度阈值。更具体地，在一些实施例中，算法 2674被配置为在2676处查询装置2500的温度是否低于预定温度阈 值减去滞后值。在冷却状态2656中，装置2500的温度应当继续降低 直到装置2500达到其环境的周围温度。照此，装置在2676处确定查 询的回答时装置2500的实时温度可能低于用于确定查询的回答的所 测量的(或者经调节的)温度。滞后值是用于对测量(或者调节)温 度与执行算法之间的时间延迟进行调节的值。如果确定装置2500的 温度低于预定温度阈值，以及在一些实施例中低于预定温度阈值减去 滞后值，则装置进入(或者回到)激活状态2646。
如果确定装置2500的温度不低于预定温度阈值，以及在一些实 施例中不低于预定温度阈值减去滞后值，则算法2674被配置为在 2678处查询从装置2500进入冷却状态2656以后是否已经过去预定 时间周期。预定时间周期可以处于秒的数量级，例如在5秒到30秒 的范围内。在一些实施例中，预定时间周期是20秒。如果确定已经 过去预定时间周期，则装置2500进入完成状态2660。
如果确定没有过去预定时间周期，则算法2674被配置为在2680 处查询电容传感器2549是否断开。如果确定电容传感器2549断开， 则装置2500进入暂停状态。如果确定电容传感器2549接通，则装置 2500保持在冷却状态2656中。装置2500可以被配置为重新执行算 法2674直到装置进入不同状态，诸如激活状态2646、完成状态2660 或者暂停状态2664。
装置2500可以被配置为当在暂停状态2664中时确定装置是否 应当进入不同状态，诸如就绪状态2620、等待状态2638或者通告 2632状态中的一个。参照图84，装置2500可以被配置为当装置在暂 停状态2664中时执行配置为在2684处查询是否从装置2500进入暂停状态以后已经过去预定时间周期的算法2682。预定时间周期可以 处于秒的数量级，例如在5秒到30秒的范围内。在一些实施例中， 预定时间周期是20秒。如果确定已经过去预定时间周期，则装置 2500进入就绪状态2620。如果确定没有过去预定时间周期，则算法 2682被配置为在2686处查询电容传感器2549是否接通。如果确定 电容传感器2549接通，则装置2500进入等待状态2638。如果确定 电容传感器2549没有接通，则算法被配置为在2688处查询是否检测 到磁体。如果确定检测到磁体，则装置2500进入通告状态262。如 果确定没有检测到磁体，则装置2500保持在暂停状态2664中。装置 2500可以被配置为重新执行算法2682直到装置进入不同状态，诸如 就绪状态2620、等待状态2638或者通告状态2632。
装置2500可以被配置为当在通告状态2664中时确定装置是否 应当进入不同状态，诸如睡眠状态2602、通信状态2692、错误状态 2616或者就绪2620状态中的一个。参照图85，装置2500可以被配 置为当装置在通告状态2632中时执行配置为在2694处查询是否检测 到磁体的算法2690。如此处讨论的，例如，如果装置2500设置在外 部站2580上，则可以检测到磁体。如果确定检测到磁体，则算法 2690被配置为在2696处查询是否从装置2500进入通告状态2632以 后已经过去预定时间周期。预定时间周期可以处于秒或者分钟的数量级，例如在20秒到2分钟的范围内。在一些实施例中，预定时间周 期在45秒到75秒的范围内。在一些实施例中，预定时间周期是60 秒。如果确定已经过去预定时间周期，则装置2500进入睡眠状态 2602。如果确定没有过去预定时间周期，则算法2690在2698处查询 外部设备(也称为主机设备，例如，移动电话、个人数字助理、计算 机、便携式电子设备等等)是否连接至装置2500或者与装置2500通 信。如果确定外部设备连接至装置2500或者与装置2500通信，则装 置进入通信状态2692。如果确定外部设备没有连接至装置2500或者 不与装置2500通信，则装置保持在通告状态2632中。装置2500可 以随后重新执行算法2690。
在2694处，回到是否检测到磁体的算法查询，如果没有检测到 磁体，则如在2700处指示的，装置2500被配置为重置其无线发射器 或者其它无线电机构。算法2690被配置为在2702处查询装置2500 是否通过自检测。在一些实施例中，作为查询的部分，算法2690可以被配置为执行自检测。在其它实施例中，算法2690可以被配置为 使得装置2500执行用于进行自检测的不同算法(未示出)。自检测 可以被配置为确定装置2500的无线发射器2576或者其它无线电机构 是否在工作。如果确定装置2500未通过自检测，则装置进入错误状态2616。如果确定装置2500通过自检测，则算法2690被配置为在 2704处查询是否检测到致命错误。如果确定检测到致命错误，则装 置2500进入错误状态2616。如果确定没有检测到致命错误，则装置2500进入就绪状态2620。装置2500可以被配置为重新执行算法 2690的至少一部分直到装置进入不同状态，诸如睡眠状态2602、通 信状态2692、错误状态2616或者就绪状态2620。
装置2500可以被配置为当在通信状态2692中时确定装置是否 应当进入不同状态，诸如通告状态2632、错误状态2616或者就绪状 态2620中的一个。参照图86，装置2500可以被配置为当装置在通 信状态2692中时执行配置为在2708处查询是否检测到磁体的算法2706。如此处讨论的，例如，如果装置2500设置在外部站2580上， 则可以检测到磁体。如果确定检测到磁体，则算法2706被配置为在 2710处查询外部设备(也称为主机设备，例如，移动电话、个人数 字助理、计算机、便携式电子设备等等)是否与装置2500断开连接 或者不与装置2500通信。如果确定外部设备与装置2500断开连接或 者不与装置2500通信，则装置进入通告状态2632。如果确定外部设 备没有与装置2500断开连接或者与装置2500通信，则装置保持在通 信状态2692中。装置2500可以随后重新执行算法2706。
在2708处，回到是否检测到磁体的算法查询，如果没有检测到 磁体，则如在2712处指示的装置2500被配置为重置其无线发射器或 者其它无线电机构。算法2706被配置为在2714处查询装置2500是 否通过自检测。在一些实施例中，算法2706可以被配置为执行自检 测。在其它实施例中，算法2706可以被配置为使得装置执行用于进 行自检测的不同算法(未示出)。如此处描述的，自检测可以被配置 为确定装置2500的无线发射器2576或者其它无线电机构是否在工作。 如果确定装置2500未通过自检测，则装置进入错误状态2616。如果 确定装置通过自检测，则算法2706被配置为在2716处查询是否检测 到致命错误。如果确定检测到致命错误，则装置2500进入错误状态 2616。如果确定没有检测到致命错误，则装置2500进入就绪状态 2620。装置2500可以被配置为重新执行算法2706直到装置进入不同 状态，诸如通告状态2632、错误状态2616或者就绪状态2620。
尽管此处已经将算法(例如，算法2600、2622、2626、2640、2648、2666、2670、2674、2682、2690、2706)图示和描述为以一定 顺序执行某些查询或者步骤，但是，在一些实施例中，某些查询或者 步骤可以不同地排序和/或可以省略某些查询或者步骤。例如，在一 些实施例中，可以省略关于装置2500是否通过自检测的算法查询。 在另一个示例中，在一些实施例中，算法可以在关于是否已经过去预 定时间周期的查询之后(例如，相对于等待状态算法)或者之前(例 如，相对于就绪状态算法)查询电容传感器2549是否接通(或者断开，如适用于特定查询的)。
此外，尽管此处已经将算法(例如，算法2600、2622、2626、 2640、2648、2666、2670、2674、2682、2690、2706)图示和描述为 不同算法，但是，在一些实施例中，可以在单个算法中包括由此处描 述的算法表示的可执行代码。在其它实施例中，由此处描述的算法表 示的可执行代码可以包括在两个或者更多个算法中。另外，装置 2500可以被配置为执行除此处图示和描述的那些算法以外的算法。 例如，装置2500可以被配置为执行配置为允许每天由装置2500施用 最多两个治疗疗程的算法。在另一个实施例中，装置2500可以被配 置为允许每天最多四个治疗疗程(例如，每天，每个上牙弓和下牙弓 两个治疗疗程)。
在一些实施例中，光疗法装置2500可以被配置为提供装置的状 态或者状况的标记。除非上下文另外清楚地指示，此处术语“标记” 用作包括单数(“标记(indicium)”)或者复数(“标记 (indicia)”)。标记可以包括可听标记(例如，音调、嘟嘟声、通 知等等)、触觉标记(例如，振动等等)或者视觉标记(例如，光、 显示的消息等等)中的一个或者多个。喙形件2560包括指示器灯 2578，配置为发射指示光疗法装置2500或者当前由装置施用的治疗疗程的状态的光图案或者光颜色中的至少一个或者两者。更具体地， 例如，指示器灯2578被配置为基于(1)正在发射光的颜色和(2) 正在以固态图案、缓慢闪烁的图案或者快速闪烁的图案发射光的组合 指示设备状态。指示器灯2578可以是或者包括光导管。
例如，指示器灯2578可以被配置为当关断装置2500时不发射 光。在一些实施例中，当指示器灯2578不发射光时，可以指示患者 将装置2500返回到外部站2580。指示器灯2578可以被配置为当装 置2500准备开始治疗疗程时发射绿色固态光。指示器灯2578可以被 配置为当装置2500准备开始治疗疗程并且应当在治疗疗程之后再充 电时发射绿色快速闪烁光。指示器灯2578可以被配置为当装置2500 正在充电时和/或当装置2500与外部设备的应用程序进行无线通信时 发射绿色缓慢闪烁的光。
指示器灯2578可以被配置为当装置2500被激活并且提供治疗 疗程时发射蓝色固态光。指示器灯2578可以被配置为当治疗疗程被 暂停但是可以继续治疗疗程时发射蓝色快速闪烁光。指示器灯2578 可以被配置为当治疗疗程完成并且应当从患者的嘴移除装置2500时 发射蓝色缓慢闪烁光。指示器灯2578可以被配置为当电池2568电量 不足时发射红色闪烁光，指示装置2500应当返回至外部站2580以用 于再充电。指示器灯2578可以被配置为当装置2500已经检测到错误 时发射红色固态光，指示患者应当遵循装置2500的重置协议，该重 置协议可以包括将装置2500放置在外部站2580上和/或联系客户支 持。
在一些实施例中，装置2500可以被配置为向患者提供可听标记。 例如，在一些实施例中，装置2500被配置为发嘟嘟声以警告患者(1) 治疗疗程已经开始、(2)治疗疗程已经暂停、(3)治疗疗程已经结 束中的至少一个。
尽管已经将指示器灯2578描述为被配置为对于特定状态(例如， 准备开始治疗)发射特定颜色和图案(例如，绿色、固态)，但是， 在其它实施例中，装置2500可以被编程以使得指示器灯2578对于各 种状态以任何合适的颜色和图案组合发射光。
光疗法装置2500可以被配置为供正畸治疗(包括此处描述的任 何治疗)使用。
在使用中，如此处描述的，当从装置盒子取出时，光疗法装置2500被配置为自动地从睡眠状态醒来并且进入就绪状态(或者预治 疗模式)。在就绪状态中，装置2500将周期性地检查组织接触。患 者将口件2510放置到他们的嘴中并且舒适地安置装置2500以开始治疗。通过将口件2510放在嘴中央并且将脊2518设置在患者中切牙之 间以实现正确的安置。一旦正确地安置装置2500，则患者将向下咬 到咬合垫2514上。如此处更详细描述的，光疗法装置2500检测何时 实现了组织接触，并且将自动地开始治疗。
在一些实施例中，例如，光疗法装置2500可用于照射患者上颌 的至少一部分大约3分钟、患者下颌的至少一部分大约3分钟或者患 者上颌和下颌中的每一个的至少一部分大约3分钟。更具体地，在一 个治疗程序中，光疗法装置2500可用于施用每天连续地照射与患者 嘴的上牙弓和患者嘴的下牙弓(或者反之亦然)中的每一个相关联的 口腔组织3分钟(对于整个治疗疗程每天6分钟)的光疗法治疗疗程。 在治疗疗程期间，可以从光阵列2542中的所有光发射器2544同时照 射光。同样在治疗期间，光发射器2544可以包括配置为活化并且直 接照射牙槽粘膜和牙槽骨的嵌入式LED。治疗程序的第一光疗法疗 程的施用可以在患者正畸治疗开始的相同日期(例如，托架和金属丝 安装在患者牙齿上的日子，例如，T0)开始。
可以根据此处描述的方法以任何合适的波长或者波长的组合发 射光。在一些实施例中，在治疗疗程期间以大约850nm的波长发射 光。在其它实施例中，在治疗疗程期间以850nm(±5nm)的波长 发射光。在一些实施例中，光发射器2544和/或LED可以以波长的 混合发射光，而不是像激光器那样以单个波长发射光。LED的峰值 光发射波长(λmax)可以是例如855nm。
可以施用治疗疗程任何合适的周期，包括但不限于四到十二个 月的周期。在一些实施例中，持续根据治疗程序使用光疗法装置 2500施用光疗法治疗疗程直到确定此处更详细描述的患者的Little 不规则性指数(“LII”)得分小于1(即，T1)。患者的治疗程序 可以持续到完全地解决患者的牙齿咬合不正(例如患者的LII大约为 零)和/或已经实现可接受临床结果为止，这在一些实施例中在患者 卸载正畸器具(例如，托架和金属丝)的最终正畸预约时进行确定。 在一些实施例中，持续根据治疗程序使用光疗法装置2500施用光疗法治疗疗程直到从患者的牙齿拆卸患者的正畸器具为止(即，T2)。 光疗法装置2500可以被配置为在临床环境或者家庭环境中施用治疗 疗程。
这种治疗程序可以例如减少预计患者需要使用正畸器具(例如， 矫正架)实现期望正畸结果的平均周期的持续时间。例如，可以在治 疗程序期间使用装置2500以将治疗程序的持续时间从两年减少到六 个月。上述治疗程序和/或此处描述的任何治疗程序可以将不用如此 处描述的光疗法施用的正畸治疗的持续时间减少大约百分之50到大 约百分之75。
参照图87-91，光疗法装置2500可以被配置为例如当装置2500 不在患者的使用中时设置在外部站2580上或者以其它方式耦合至外 部站2580。外部站2580可以是例如手提箱、充电盒或者站等等或者 上述的组合。
站2580包括底座2584和盖2582并且当盖在闭合位置中时(如 图87所示)限定由底座2584和盖2582形成并且在底座2584与盖 2582之间形成的空腔(在图87-91中未示出)。可以使用任何合适 的耦合机构(例如，使用如图88和89所示的铰接部2583)将盖 2582耦合至底座2584。以这种方式，盖2582可在其闭合位置与打开 位置(未示出)之间方便地移动。
底座2584可以包括配置为将盖2582固定至底座2584的锁定机 构。例如，底座可以包括闩扣2585，配置为匹配地接合盖2582中的 凹部(未示出)以将盖固定在闭合位置中。底座2584和盖2582可以 由任何合适的材料(包括，例如诸如不合双酚A的聚丙烯的塑料) 构造。在一些实施例中，底座2584和盖2582中的至少一个由抗冲击 和/或抗刮擦的材料构造。
底座2584可以限定配置为容纳口件2510的至少一部分的第一 凹部2586和配置为容纳喙形件2560的至少一部分的第二凹部2587。 在一些实施例中，如图89和图90所示，第一凹部2586与第二凹部 2587相连。第一凹部2586的周界可以例如与口件2510的轮廓互补。第二凹部2587的周界可以例如与喙形件2560的轮廓互补。
外部站2580可以被配置为当装置2500设置在站上或者以其它 方式耦合至站时使装置2500充电。以这种方式，当喙形件2560耦合 至充电站时，可以使电池2568再充电。在一些实施例中，例如，站 2580被配置为例如通过使电池2568通过口件2510的感应接收器线圈2569感应地充电使装置2500感应地充电。更具体地，电子设备组 件2590(在图91中示意性地图示)包括配置为在感应接收器线圈 2569中感生出电磁场的无线充电器(例如，感应发射器线圈)2588， 并且感应接收器线圈配置为将所接收的能量转换成电流以用于使电池2568充电。
在一些实施例中，外部站2580被配置为诸如通过外部站2580 的端口2589中容纳的USB、微型USB或者其它合适电缆(未示出) 耦合至计算机或者其它电子设备。例如，USB电缆可以被配置用于 使外部站2580充电。在其它实施例中，外部站2580可以被配置为通 过任何常规电力供应充电。在一些实施例中，外部站2580被配置为 耦合至医用级别电源供应，诸如由TRUMPower制造的医用级别6W 电源供应。电源供应可以被配置为遵守适用规范标准和/或规则。例 如，电源供应可以被配置为遵守IEC 60601-1和/或其它适用标准。 电子电路2592被配置为将端口2589耦合至感应发射器线圈2588， 从而便于在装置2500与外部站2580之间没有电气连接部的情况下对 装置2500进行感应充电。
在一些实施例中，外部站2580被配置为对光疗法装置2500的 至少一部分进行清洁或者以其它方式消毒。例如，外部站2580可以 包括光发射器2594，配置为当装置2500设置在外部站2580中时发 射紫外光或者其它合适波长的光(诸如蓝光)以对口件2510进行消毒。在一些实施例中，外部站2580的盖2582必须在站的闭合位置中 以发射消毒光。例如，在一些实施例中，当盖2582在其闭合位置中 时，开关(未示出)移动至闭合位置，从而完成包括光发射器2594 的电气电路以使得光发射器2594可以照射光。在一些实施例中，可 以通过外部站2580的电子组件2590控制消毒光的发射。
外部站2580包括磁体2596(在图90中用虚线示意性地图示)。 如上所述，磁体2596被配置为当装置2500设置在外部站2580的底 座2584上时使得喙形件2560的磁性开关2575从其第一位置移动至 其第二位置。
尽管此处已经将光疗法装置2500和外部站2580描述为被配置 为遵守各种行业标准，但是装置2500和/或外部站2580可以被配置 为遵守另外或者替换行业标准。例如，装置2500和外部站2580可以 被配置为遵守下列标准中的一个或者多个或者它们的任何组合：IEC/EN 60601-1Ed.3.1：2012-Medical Electrical Equipment Part 1： Generalrequirements for basic safety and essential performance； IEC/EN 60601-1-2Ed.3：2007-Collateral standard：Electromagnetic compatibility-Requirements andtests；EN 62471：2009- Photobiological safety of lamps and lamp systems；IEC60601-2-57： Ed.1.0：2011-Medical Electrical Equipment Part 2-57：Particularrequirements for the basic safety and essential performance of non- laserlight source equipment intended for therapeutic，diagnostic， monitoring andcosmetic/aesthetic use；EN 60529Ed.2.1：2001- Degrees of protection provided byenclosures；IEC 60601-1-11- Collateral Standard：Requirements for medicalelectrical equipment and medical electrical systems used in the homehealthcare environment；ISO 10993-1：2009-Biological evaluation of medicaldevices-Part 1：Evaluation and testing within risk management process；ISO/BS/EN 14971：2012-Medical Devices-Application of risk management to medicaldevices。
尽管此处已经将光疗法装置(例如，光疗法装置2500)示出和 描述为包括电容检测系统以确定口件(例如，口件2510)是否设置 在患者嘴内(即，以适合于治疗疗程的方式)，但是，在其它实施例 中，光疗法装置可以包括不同机构以确定口件是否设置在患者嘴内。 如图104-105所示，在一些实施例中，光疗法装置3000包括配置为 设置在患者嘴内的口件3010。除了如此处描述的以外，光疗法装置 3000可以与光疗法装置2500相似或者相同，以及口件3010可以与 口件2510相似。例如，口件3010包括咬合托盘3012、横向地耦合至咬合托盘的凸缘3022、3024、包括光阵列3042的电子组件3040 和柔性电路板3046，它们中的每一个都与口件2510的对应部件相似， 并且因此不关于口件3010详细描述。在一些实施例中，口件3010的 至少一个或多个部分由基本上透明的材料(例如，硅树脂)构造，使 得嵌入在口件3010内的一个或者多个部件通过口件3010可见。因此， 为了图示目的，在图104和105中将口件3010的部分(包括第一凸 缘3022、第二凸缘3024和咬合托盘3012的部分)显示为透明以示 出设置在其中的电子设备组件3040和结构的部分。
光疗法装置3000被配置为确定口件3010是否设置在患者嘴内 (即，如此处描述的，以适合于治疗疗程的方式)。以这种方式，光 疗法装置3000可以被配置为仅在装置3000已经确定口件3010设置 在患者嘴中时为治疗疗程照射光。口件3010包括第一光发射器3050 和第二光发射器3052，它们中的每一个被配置和安置为检测或者测 量由患者口腔组织的一部分反射的光量。例如，第一和第二光发射器 3050、3052可以被配置为检测从光阵列3042的光发射器3044发射 的光和由患者口腔软组织反射的光。在一些实施例中，光发射器 3044可以被配置为诸如以闪烁或者脉动方式发射光。光发射器3044 可以被配置为以预定速率闪烁或者脉动。从脉动或者闪烁的光发射器 3044朝患者的口腔软组织发射的光的至少一部分被反射到口件3010 并且从而由第一和第二光发射器3050、3052检测。为了确定光阵列 3042的光发射器3044以及因此口件3010适当地设置在患者嘴中以 用于施用治疗疗程，可以建立合适的反射阈值以测量反射。装置3000可以被配置为当第一和第二光发射器3050、3052检测从口腔软 组织的光反射时发起对口腔组织的照射(即，开始治疗疗程)。
第一和第二光发射器3050、3052中的每一个可以在任何合适位 置中耦合至柔性电路板3046。在一些实施例中，第一和第二光发射 器3050、3052设置在柔性电路板3046上，使得当口件3010设置在 患者嘴内时第一和第二光发射器3050、3052中的每一个靠近患者的 牙龈安置。如图104-105所示，第一和第二光发射器3050、3052各 自偏离光阵列3042的光发射器3044的平行排和/或列设置。第一和 第二光发射器3050、3052中的每一个可以设置在光发射器3044的底 排(在图105所示的装置3000的取向中)与口件3010的咬合托盘3012之间。在一些实施例中，第一和第二光发射器3050、3052与由 口件3010的外面限定的凹槽3032、3033基本上水平。在使用中，当 从光阵列3042的光发射器3044发射光时，第一和第二光发射器 3050、3052各自测量和/或产生与由患者口腔组织(例如，牙龈)反 射的光量相关联的信号。照此，第一和第二光发射器3050、3052充 当配置为检测光反射的传感器。第一和第二光发射器3050、3052中 的每一个包括配置为产生与检测或者接收的光量相关联的电流的二极 管(在图104-105中未示出)。第一和第二光发射器3050、3052和 它们的二极管可以被配置为向光疗法装置3000的控制器(例如，在 口腔外壳体或者喙形件中)发送与所测量的光反射相关联的信号。在 一些实施例中，第一和第二光发射器3050、3052的二极管被配置为 测量以大约855nm反射的光。
第一和第二光发射器3050、3052的至少一部分可以例如以如此 处关于光阵列2542讨论的类似方式嵌入在口件3010的凸缘3022、 3024中。第一和第二光发射器3050、3052在柔性电路板3046上间 隔开。在一些实施例中，如图105所示，第一和第二光发射器3050、 3052相对于柔性电路板3046设置在相对位置处，使得第一光发射器 3050在嵌入第一凸缘3022中的光阵列3042的部分下方以及第二光 发射器3052在嵌入第二凸缘3024中的光阵列3042的部分下方。以 这种方式，装置3000被配置为从两侧检测光反射。
如此处讨论，第一和第二光发射器3050、3052被配置为当口件 3010设置在患者嘴内以为治疗作准备时紧邻于患者的口腔(例如， 牙龈)组织设置。装置3000被配置为仅在已经测量预定光反射之后 照射光。换言之，装置3000以及更具体地控制器被配置为仅在已经测量预定光反射之后为治疗疗程接通光发射器3044。所测量的光反 射由控制器记录，控制器被配置为当(1)由第一和第二光发射器 3050、3052中的每一个(即，从两侧)检测到预定光反射量和/或(2) 在预定持续时间内(例如，在至少2秒钟内)检测到预定光反射量时 执行算法以记录光反射。
在图106-110中图示了根据实施例的口腔内壳体3510(此处还 称为光疗法装置3500的“口件”)。在一些实施例中，口件3510的 至少一个或多个部分由基本上透明的材料(例如，硅树脂)构造，使 得嵌入在口件3510内的一个或者多个部件通过口件3510可见。因此， 为了图示目的，在图106-110中将口件3510的部分(包括第一凸缘 3522和第二凸缘3524的部分)显示为透明以示出设置在其中的电子 组件3540和结构的部分。光疗法装置3500可以包括在在许多方面与 此处关于图62-91描述的光疗法系统相似的光疗法系统中。光疗法装 置3500被配置为以此处描述的任何合适方式照射光，包括，例如， 照射患者的牙槽和/或牙根区域。如类似陈述的，光疗法装置3500被 配置为对患者的牙齿和/或口腔粘膜施用光疗法。更具体地，光疗法 装置3500被配置为当接受正畸治疗时对患者的牙齿和/或口腔粘膜施 用足够的光以加速患者牙齿的正畸移动并且减少患者的总治疗时间。 光疗法装置3500可以在许多方面与此处描述的口腔内装置(包括， 例如，装置2100、装置2500和装置3000)相同或者相似或者包括在 许多方面与此处描述的口腔内装置相同或者相似的部件。
光疗法装置3500(和此处描述的任何光疗法装置)被配置为结 合利用正畸器具(诸如托架和金属丝或者校准器)的传统正畸治疗使 用。此外，在一些实施例中，此处示出和描述的任何光疗法装置可以 与任何合适的正畸器具(包括但不限于，基本上透明的校准器)一起 使用。这种校准器是配置为移动患者牙齿的正畸器具并且通常包括适 配在患者牙齿中的一个或者多个上的一组基本上透明的可移除托盘。 由患者以预定序列或者顺序并且有时在规定时间量或者时间周期内佩 戴托盘组中的每个托盘。在某些实例中，这种校准器或者托盘大体上 符合患者牙齿，但与开始(例如，初始)牙齿构造稍微不对准。以这 种方式，校准器或者托盘可以对牙齿施加力。在一些实施例中，正畸 器具(例如，托架和金属丝或者校准器)被配置为以对使患者牙齿朝 对准移动有效的量(或者大小)对患者牙齿中的一个或者多个施加有 力。在一些实施例中，正畸器具被配置为以对移动患者牙齿(例如，在一个实施例中，为了对准)有效的量(或者大小)对患者牙齿中的 一个或者多个施加力。如类似陈述的，正畸器具被配置为施加力以最 小化或者闭合患者牙齿之间的间隙或者间距。例如，正畸器具可以被 配置为以对牙齿移动(例如，朝对准或者为了最小化或者闭合患者牙 齿之间的间隙)有效的量(或者大小)对患者牙齿中的一个或者多个 施加如此处详细描述的正畸力、不足正畸力或者重的力或者它们的组 合。
光疗法装置3500的口腔内壳体3510被配置为设置在患者口腔 中(例如，在嘴中，在图106-110中未示出)。口腔内壳体3510可 以被配置为电子地和/或物理地耦合至外部控制器。在一些实施例中， 例如，口腔内壳体3510被配置为当口腔内壳体(或者口件)3510设置在患者嘴内时耦合至设置在患者嘴外部的口腔外壳体(或者“喙形 件”，在图106-110中未示出)。口腔外壳体可以在许多方面与此处 关于图62-91描述的口腔外壳体2560相似或者相同，并且因此关于 光疗法装置3500不进行详细描述。在其它实施例中，口腔内壳体3510被配置为通过一个或者多个金属丝或者电缆连接器(在图106- 110中未示出)耦合至控制器。
光疗法装置3500被配置为可用于对患者上颌和/或下颌进行光 疗法。换句话说，光疗法装置3500可以被配置为当装置在直立位置 中时(例如，如图109所示)关于患者的上颌施用光疗法，以及可以 被配置为当装置在倒立位置中时(例如，在图106-110中未示出)关 于患者的下颌施用光疗法。照此，口件3510被配置为相对于患者上 颌和下颌中的每一个设置在患者口腔内。如类似陈述的，口件3510 被配置为匹配地适合于如此处描述的上颌和下颌两者，从而消除对于 每个颌的单独口件的需要。应当注意，尽管可以通常地将光疗法装置 3500以及具体地将口件3510描述为当配置为相对于上颌取向时在直 立位置中以及当配置为相对于下颌取向时在倒立位置中，但是，在其 它实施例中，光疗法装置3500和口件3510在配置为相对于患者下颌 取向时在直立位置中，以及当配置为相对于患者上颌取向时在倒立位 置中。
口件3510可以在一个或者多个方面中与此处描述的口腔内壳体 (包括，例如，此处参照图13-15、图30-37、图43-50、图62-91和 图104-105描述的口腔内壳体或者口件)相似并且包括在一个或者多 个方面中与此处描述的口腔内壳体相似的部件。口件3510包括咬合 托盘3512、凸缘3522、3524、3521、3523、3525、光阵列3542、 3543(参见，例如，图109)。口件3510可以可选地包括与口件 2510的支撑板2554相似或者相同的支撑板(在图106-110中未示 出)。咬合托盘3512被配置为容纳患者上颌和/或下颌的牙齿的至少 一部分。照此，如图109所示，咬合托盘3512通常为U形的。咬合 托盘3512被配置为便于将口件3510适当安置在患者嘴内。咬合托盘 3512通常包括口件3510的下部分。咬合托盘3512包括具有内周界(或者侧壁)3515和外周界(或者侧壁)3517的咬合垫3514(参见 图109)。
此处更详细描述的凸缘3522、3524、3521、3523、3525通常限 定口件3510的上部分。外凸缘3522、3524耦合至咬合垫3514的外 周界3517。内凸缘3521、3523、3525耦合至咬合垫3514的内周界 3515。口件3510的凸缘3522、3524、3521、3523、3525各自沿第一 方向从咬合垫3514延伸和/或突出。照此，当口件3510设置在患者 嘴内时，咬合托盘3512安置在嘴内，使得咬合垫3514邻近一个或者 多个牙齿的咬合表面，外凸缘3522、3524设置在一个或者多个牙齿 与颊组织之间，内凸缘3521、3523、3525设置在一个或者多个牙齿 与舌头和/或腭之间。如类似陈述的，咬合托盘3512被配置为使得当 口件3510设置在嘴内时，一个或者多个牙齿的至少一部分安置在外 凸缘3522、3524与内凸缘3521、3523、3525之间。
咬合托盘3512可以在许多方面与关于图62-91描述的咬合托盘 2512相似或者相同，并且因此不关于口件3510进行详细描述。例如， 咬合垫3514和/或咬合托盘3512可以具有适合于在其上承受咬合力 的任何厚度，包括如关于咬合垫2514描述的恒定厚度或者空间上不 同的厚度。在另一个示例中，咬合托盘3512(和/或咬合垫3514)可 以具有任何合适的尺寸(包括此处关于咬合托盘2512(和/或咬合垫 2514，分别地)描述的那些尺寸)，并且可以由任何合适的材料(包 括此处关于咬合托盘2512(和/或咬合垫2514)描述的那些材料)构 造。
如图106所示，咬合垫3514的上表面包括脊3518。脊3518沿 着口件3510的中线M设置并且相对于咬合托盘3512和/或咬合垫 3514的上表面升高。脊3518可以在咬合垫3514的内周界3515与咬 合垫3514的外周界3517之间延伸。脊3518便于将口件3510安置在 患者口腔内。例如，口件3510被配置为安置在患者口腔内，使得脊 3518设置在患者的前中切牙之间(在上颌或者下颌上)。与牙齿和 牙周组织相关的患者本体感受可以产生患者关于口件3510的脊3518 的位置的感觉反馈。
以这种方式，脊3518便于将口件3510在口腔内居中放置，从 而促进对牙槽或者患者嘴两侧上的其它口腔组织的光疗法治疗的对称 性。换句话说，为了促进对根区域对称施用光疗法，可以利用沿着矢 状平面或者在矢状平面的5度内(即，加或者减5度)安置的口件3510的中线M安置口件3510，以及脊3518可以便于在使用中这样 定位。脊3518可以具有任何合适的形状(包括，例如，倒V形状)， 使得V的尖可以设置在患者的前中切牙之间。
如上所述，口件3510的上部分包括外凸缘和内凸缘。外凸缘包 括第一(或者左)外凸缘3522和第二(或者右)外凸缘3524。内凸 缘包括第一(或者左)内凸缘3521、第二(或者中间)内凸缘3523 和第三(或者右)内凸缘3525。尽管此处将外凸缘和内凸缘示出和 描述为分别地包括两个和三个凸缘，但是，在其它实施例中，口件可 以包括不同数量的外凸缘和/或内凸缘。
口件3510的上部分(即，凸缘3522、3524、3521、3523、3525) 关于咬合板3514横向地设置。凸缘3522、3524、3521、3523、3525 被配置为当口件设置在患者嘴内时设置为使得咬合托盘3512邻近患 者牙齿的咬合表面时邻近患者牙齿侧面的一部分和/或邻近牙槽粘膜。 例如，外凸缘3522、3524可以邻近患者牙齿的颊侧的一部分和/或邻 近牙槽粘膜的颊侧设置。以这种方式，如此处更详细描述的封装在外 凸缘3522、3524中的光阵列3542(此处也称为“第一光阵列”)可 以用于对患者牙齿和/或牙槽粘膜(例如，朝患者牙齿和/或牙槽粘膜 的颊侧)施用光。在另一个示例中，内凸缘3521、3523、3525可以 邻近患者牙齿的舌侧或者腭侧的一部分和/或邻近牙槽粘膜的舌侧或 者腭侧设置。以这种方式，如此处更详细描述的封装在内凸缘3521、 3523、3525中的光阵列3543(此处也称为“第二光阵列”)可以用于对患者牙齿和/或牙槽粘膜(例如，朝患者牙齿和/或牙槽粘膜的舌 侧或者腭侧)施用光。
外凸缘3522、3524共同地包括第一光阵列3542并且各自配置 为设置在颊组织与牙槽之间。因此，在使用中，外凸缘3522和3524 使口腔软组织位移以维持光阵列3542相对于患者解剖结构的期望位 置。更具体地，外凸缘3522、3524被各自配置为使颊组织远离患者 牙槽位移。在一些实施例中，当口件3510设置在患者嘴内并且外凸 缘3522、3524使颊组织位移时，外凸缘3522、3524的内面3526可 以与患者牙槽组织间隔开。在一些实施例中，当口件3510设置在患 者嘴内并且外凸缘3522、3524使颊组织位移时，外凸缘3522、3524 的内面3526的至少一部分可以接触患者牙槽组织。
内凸缘3521、3523、3525共同地包括第二光阵列3543并且各 自配置为设置在患者的舌和/或腭与牙槽之间。因此，在使用中，内 凸缘3521、3523、3525可以使口腔软组织位移以维持第二光阵列 3543相对于患者解剖结构的期望位置。更具体地，内凸缘3521、 3523、3525被各自配置为使舌组织远离患者牙槽位移或者以其它方 式阻止舌组织接触患者牙槽。在一些实施例中，当口件3510设置在 患者嘴内并且内凸缘3521、3523、3525使舌组织位移时，内凸缘 3521、3523、3525的内面3527(参见图107)可以与患者牙槽组织 间隔开。在一些实施例中，当口件3510设置在患者嘴内并且内凸缘 3521、3523、3525使舌组织位移时，内凸缘3521、3523、3525的内 面3527的至少一部分可以接触患者的牙槽组织。
口件3510的凸缘3522、3524、3521、3523、3525被配置为柔 性的和/或可变形的。如类似陈述的，凸缘3522、3524、3521、3523、 3525由材料构造并且具有提供如此处描述的期望柔性的几何尺寸和/ 或构造。另外，第一和第二外凸缘3522、3524和第一、第二和第三 内凸缘3521、3523、3525中的每一个可相对于口件3510和/或彼此 独立地偏转、移动和/或变形。以这种方式，可以容易地将口件3510 设置在具有如此处描述的各种不同解剖结构的各种不同患者的口腔内。
例如，口件3510包括一定的几何特征(例如，应力集中提升部、 具有期望弯曲力矩的惯量的区域等等)以结合构造口件3510的一个或 者多个材料产生期望的柔性、可变形性和耐久性。如图所示，口件 3510限定凹口3530和凹槽3532、3533，配置为允许或者以其它方式 增大外凸缘3522、3524朝牙齿、牙龈、颌等等向内偏转(如上面关 于口件3510和图68描述的)的能力。如图106-109所示，口件 3510限定与口件的中线M对准的凹口3530以及在第一外凸缘3522 与第二外凸缘3524的上部分之间限定凹口3530。凹口3530被配置 为允许第一外凸缘3522和第二外凸缘3524中的每一个例如响应于来 自患者嘴唇或者内脸颊的压力独立和/或向内偏转。特别地，外凸缘3522、3524各自配置为相对于咬合垫3514向内偏转。如类似陈述的， 当口件3510以未变形状态(即，第一构造)位于嘴外面时，第一外 凸缘3522和第二外凸缘3524各自近似垂直于咬合垫3514。当口件 3510设置在嘴内部时，口件3510和/或外凸缘3522、3524的上部分 充分地柔性，使得在每个外凸缘3522、3524与咬合垫3514之间形成 的角(“外凸缘角”)是锐角。该“倾斜”允许外凸缘3522、3524 符合嘴的内表面，从而促进光阵列3542相对于骨骼和/或牙齿的期望 对准。
凹口3530的构造(包括其形状和尺寸)可以在许多方面与此处 (例如，关于图68)描述的凹口2530相似或者相同，并且因此不关 于口件3510进行详细描述。例如，在一个实施例中，形成凹口3530 的相应侧的每个外凸缘3522、3524的边缘朝凹口的V形尖端逐渐变尖，该尖端可以与凹槽3532、3533的上边缘基本上对准。在另一个 示例中，在其它实施例中，限定凹口3530的下边界的口件3510的部 分可以在相对于凹槽3532、3533的任何合适位置中(例如，高于或 者低于凹槽)。
口件3510限定由第一外凸缘3522和第二外凸缘3524中的每一 个的下外(或者前)表面限定的至少一个凹槽3532、3533。例如， 口件3510包括第一凹槽3532和第二凹槽3533，各自由口件3510的 外表面或者前表面3528限定。凹槽3532、3533可以各自在许多方面 与关于口件2510和图62-91描述的凹槽2532、2533相似或者相同。 凹槽3532、3533各自设置在口件3510的咬合垫3514与柔性电路板 3546下边缘之间的高度处(参见，例如，图107和109)。换言之， 凹槽3532、3533可以由第一外凸缘3522和第二外凸缘3524中的每 一个的底座部分限定。凹槽3532、3533各自围绕口件3510的外表面 3528在口件3510的后端部部分与口件3510的前端部部分之间延伸， 使得每个凹槽3532、3533的第一端部3534、3535分别地在口件 3510的后端部部分处或者邻近口件3510的后端部部分以及每个凹槽 3532、3533的第二端部3536、3537分别地在口件3510的前端部处 或者邻近口件3510的前端部。
如图107和图110所示，可以使凹槽3532、3533的第二端部 3536、3537间隔开。换句话说，凹槽3532、3533的第二端部3536、 3537未必在口件3510的前端部处接触。如类似陈述的，凹槽3532、 3533是非邻接的和/或不共享共同边界。例如，凹槽3532、3533的第 二端部3536、3537可以由从口件3510前面延伸的桥3506的宽度间 隔开。在另一个示例中，凹槽3532、3533的第二端部3536、3537可 以由至少与凹口3530的宽度一样大的距离间隔开。凹槽3532、3533 可以具有任何合适形状，包括，例如半圆形或者U形的形状。凹槽 3532、3533产生凸缘3522、3524可以绕着旋转、弯曲和/或偏转的铰 接部状结构(即，“活动铰接部”)。以这种方式，凹槽3532、 3523和凹口3530共同地允许凸缘3522、3524例如响应于来自患者嘴唇或者内脸颊的压力向内偏转。
照此，凹槽3532、3533和凹口3530共同地便于口件3510在第 一构造与第二构造之间转换。当口件3510在第一构造中时，在每个 凸缘3522、3524与咬合垫3514之间形成的角(“外凸缘角”)具有 第一值。当口件3510在第二构造中时，外凸缘角具有不同于第一值 的第二值。特别地，口件3510可以在设置在患者嘴内时移动至第二 构造。在一些实施例中，第二值小于第一值(即，当口件2510插入 嘴中时，外凸缘3522、3524朝咬合板3512向内“倾斜”)。在一些 实施例中，当口件在第一构造中时外凸缘角近似90度以及当口件在 第二构造中时外凸缘角是锐角。在一些实施例中，当口件在第二构造 中时，外凸缘角为大约80度(例如，外凸缘3522、3524朝咬合板 3512向内倾斜大约10度)。在其它实施例中，外凸缘角在大约75 度与大约80度之间(例如，外凸缘3522、3524朝咬合板3512向内 倾斜大约10度与15度之间)。在又其它实施例中，当口件在第二构 造中时，外凸缘角近似85度、75度、70度或者65度(例如，外凸 缘3522、3524分别地朝咬合板向内倾斜大约5度、15度、大约20 度和大约25度)。
如图所示，口件3510还限定凹口3531、3533，配置为允许或者 以其它方式增大内凸缘3521、3523、3525朝咬合板3512向内偏转 (或者沿与上面关于外凸缘3522、3524描述的向内偏转相反的方向 朝牙齿、牙龈、颌等等向外偏转)的能力。如图107-109所示，口件3510在口件的第一内凸缘3521与第二内凸缘3523的上部分之间限 定第一凹口3531，以及在口件的第二内凸缘3523与第三内凸缘3525 的上部分之间限定第二凹口3533。内凸缘3521、3523、3525的每个 凹口3531、3533可以与中线M等距离地安置在口件3510上。第一 内凸缘3521和第二内凸缘3523的边缘形成第一凹口3531的相应侧。 第二内凸缘3523的边缘(不同于形成第一凹口3531的侧面的边缘) 和第三内凸缘3523的边缘形成第二凹口3533的相应侧。
第一凹口3531和第二凹口3533被配置为允许第一内凸缘3521、 第二内凸缘3523、第三内凸缘3525中的每一个例如响应于来自患者 舌头的压力独立和/或向内偏转。特别地，内凸缘3521、3523、3525 被各自配置为相对于咬合垫3514向内偏转。如类似陈述的，当口件 3510以其第一构造(以未变形的状态)位于嘴外面时，第一内凸缘 3521、第二内凸缘3523和第三内凸缘3525各自近似地垂直于咬合垫 3514。当口件3510设置在嘴内部时，口件3510和/或内凸缘3521、 3523、3525的上部分充分地柔性，使得在每个内凸缘3521、3523、3525与咬合垫3514之间形成的角(“内凸缘角”)是锐角。该“倾 斜”允许内凸缘3522、3524符合嘴的内表面，从而促进第二光阵列 3543相对于骨骼和/或牙齿的期望对准。
内凸缘3521、3523、3525的第一凹口3531和第二凹口3533可 以具有任何合适的形状和/或尺寸。如图107和110所示，凹口3531、 3533的上部分可以是U形的。在一些实施例中，凹口3531、3533的 下部分可以是从每个凹口3531、3533的U形上部分延伸的垂直细长开口或者狭缝。在一些实施例中，每个凹口3531、3533的下部分可 以包括邻近U形部分的下端部设置的材料的未断裂部分。每个凹口 3531、3533的下部分具有小于邻近内凸缘(例如，凸缘3521、3523、3525)的厚度的厚度并且被配置为当对内凸缘3521、3523、3525中 的一个或者多个施加偏转力时分离、断裂和/或以其它方式撕裂。以 这种方式，每个凹口3531、3533的下部分可以被配置为当口件以其 第二构造在患者嘴内以形成从凹口的U形部分下端部延伸的垂直细 长开口或者狭缝时分离、断裂和/或以其它方式撕裂。
口件3510可以限定由内凸缘3521、3523、3525的下外(或者 后)表面限定的凹槽3538。例如，如图109所示，口件3510包括由 口件3510的外表面或者后表面限定的凹槽3538。凹槽3538可以在 许多方面与凹槽3532、3533相似或者相同。凹槽3538设置在口件3510的咬合垫3514与柔性电路板3547的下边缘之间的高度处(参 见，例如，图109)。换言之，凹槽3538可以由第一内凸缘3521、 第二内凸缘3523和第三内凸缘3525中的每一个的底座部分共同地限 定，使得凹槽3538的端部各自在口件3510的后端部部分处或者邻近 口件3510的后端部部分。
凹槽3538可以具有任何合适形状，包括，例如半圆形或者U形 的形状。凹槽3538产生内凸缘3521、3523、3525可以绕着旋转、弯 曲和/或偏转的铰接部状结构(即，“活动铰接部”)。以这种方式， 凹槽3528以及第一凹口3531和第二凹口3533共同地允许内凸缘 3521、3523、3525例如响应于来自患者舌头的压力相对于咬合板向 内偏转(或者相对于舌和/或腭向外偏转)。
照此，凹槽3538以及第一凹口3531和第二凹口3533共同地便 于口件3510在其第一构造与其第二构造之间转换。当口件3510在第 一构造中时，在每个内凸缘3521、3523、3525与咬合垫3514之间形 成的角(“内凸缘角”)具有第一值。当口件3510在第二构造中时，内凸缘角具有不同于第一值的第二值。特别地，口件3510可以在设 置在患者嘴内时移动至第二构造。在一些实施例中，第二值小于第一 值(即，当口件2510插入嘴中时，内凸缘3521、3523、3525朝咬合 板向内“倾斜”)。在一些实施例中，当口件在第一构造中时内凸缘 角近似90度以及当口件在第二构造中时内凸缘角是锐角。在一些实 施例中，当口件在第二构造中时，内凸缘角为大约80度(例如，内 凸缘3521、3523、3525朝咬合板向内倾斜大约10度)。在其它实施 例中，内凸缘角在大约75度与大约80度之间(例如，内凸缘3521、 3523、3525朝咬合板向内倾斜大约10度与15度之间)。在又其它 实施例中，当口件在第二构造中时，内凸缘角近似85度、75度、70 度或者65度(例如，内凸缘3521、3523、3525分别地朝咬合板向内倾斜大约5度、15度、大约20度和大约25度)。
口件3510以及凸缘3522、3524、3521、3523、3525的柔性尤 其提供显著优势。例如，与由硬塑料和/或以永久设置(或者形状) 构造的口件相反，当前布置允许更容易地插入以及更好地符合患者的 口腔组织。口件3510的柔性还适应患者解剖结构的变化(无论在两个不同患者之间还是对于与患者解剖结构随时间改变的相同的患者)。 例如，一些患者具有明显的覆咬合并且可能需要比10度向内偏转 (或者“倾斜”)更多或者更少的向内偏转。在这种实例中，口件 3510可以符合患者嘴内的内部结构和/或解剖结构。作为另一个示例，随着患者的正畸随时间起作用，患者的牙齿解剖结构将改变。相应地， 口件3510可以符合患者嘴内的内部结构和/或解剖结构以适应这种改 变而不需要新口件模塑等等。最后，口件3510的柔性设计为患者提 供的舒适度比由硬塑料构造的口件将提供的舒适度大。
另外，口件3510和/或凸缘3522、3524、3521、3523、3525的 柔性性质提供制造益处。特别地，制造和/或模塑在咬合表面与凸缘 侧表面之间具有锐角(即，凸缘的内角或者“凸缘角”)的口件会很 难。然而，口件3510的设计允许以近似九十度(或者更大)的凸缘 角进行模制和/或制造，同时允许使用中的凸缘角为锐角(例如，如 此处描述的，当口件3510在第二构造中时)。
光疗法装置3500的口件3510包括图109中大体示出的电子组 件3540。电子组件3540可以在许多方面与此处(例如，关于图71- 73)描述的口件2510的电子组件2540相似或者相同。如图所示，口 件3510的电子组件3540的第一部分主要地设置在凸缘3522、3524中。电子组件3540的第一部分包括光阵列3542和柔性电路板3546。 电子组件3540的第二部分主要地设置在内凸缘3521、3523、3525中。 电子组件3540的第二部分包括光阵列3543和柔性电路板3547。光 阵列3542、3543各自包括一个或者多个光发射器3544、3545，诸如 多个LED。光发射器3544、3545分别电气地和/或物理地耦合至柔性 电路板3546、3547(在图109中仅示出了柔性电路板3547的一部 分)。柔性电路板3546、3547分别地使光发射器3544、3545分别地 电耦合至口件3510外部的电子电路(例如，在口腔外壳体中或者通 过电连接器电耦合至外部控制器，未示出)。以这种方式，如此处描 述的，光发射器3544、3545可以分别地接收电力和/或信号以产生期 望的光。
参照图109，电子组件3540的第一部分的光发射器3544设置在 电子组件的第一部分的柔性电路板3546的第一腭(或者舌)侧上。 电子组件3540的第二部分的光发射器3545设置在电子组件的第二部 分的柔性电路板3547的颊侧上。以这种方式，当口件3510设置在患 者嘴内时，光发射器3544、3545被配置为朝患者牙齿和/或邻近口腔 组织发射光。换言之，光发射器3544被配置为朝上颌和/或下颌的前 根区域和/或颊牙槽软组织发射光以及光发射器3545被配置为朝上颌 和/或下颌的后根区域和/或舌牙槽软组织发射光。
光发射器3544、3545可以被配置为以此处描述的任何合适强度、 波长和/或频率发射光。例如，在一些实施例中，光发射器3544、 3545可以被配置为在红外线或者近红外波长范围中发射光。例如， 在一些实施例中，光发射器3544、3545被配置为以大约850nm的 波长发射光。在一些实施例中，光发射器3544、3545被配置为以大 约850nm±5nm的波长发射光。光发射器3544、3545可以被配置 为发射足以向患者骨骼传送光能量的光以便于和/或执行此处描述的 方法中的任何一个。光发射器3544、3545可以被配置为以小于150 mW/cm2发射光。
光发射器3544、3545可以分别地以任何合适构造(包括此处描 述的任何构造)分别地设置在柔性电路板3546、3547上和/或分别地 在凸缘3522、3524和内凸缘3521、3523、3525内。例如，在一些实 施例中，光发射器3544、3545是以两个或者更多个平行排和/或列耦 合至柔性电路板3546、3547的LED。在一个实施例中，光发射器 3544以三个平行排耦合至电子组件3540的第一部分的柔性电路板 3546，以及光发射器3545以两个平行排耦合至电子组件的第二部分 的柔性电路板。
电子组件3540的第一部分的光阵列3542可以包括大约54个光 发射器3544或者LED，其中大约27个光发射器嵌入第一凸缘3522 中以及大约27个光发射器3544嵌入第二凸缘3524中。可以以任何 合适的构造(包括例如以每列三个间隔开的光发射器或LED的九个均匀间隔的列)布置27个光发射器3544。电子组件3540的第二部 分的光阵列3543可以包括大约18个或者20个光发射器3545或者 LED，其中大约6个光发射器嵌入第一和第三内凸缘3521、3525中 的每一个中，以及6个光发射器嵌入第二(或者中间)面板3523中。 可以以任何合适的构造(包括例如以每列两个间隔开的光发射器或 LED的三个均匀间隔的列)布置6个光发射器3545。柔性电路板 3546、3547和光发射器3544、3545可以有用于分别地耦合至或者嵌 入口件3510的外凸缘3522、3524和内凸缘3521、3523、3525中的 任何合适尺寸。
尽管已经将口件3510示出为包括嵌入内凸缘3521、3523、3525 中的6个光发射器3545，但是，在其它实施例中，口件可以在内凸 缘中包括不同数量的光发射器，以及每个内凸缘可以包括与另一个内 凸缘不同数量的光发射器。例如，如图111所示，柔性电路板4047包括第一和第三部分4021、4025(各自具有成两个均匀间隔排的六 个(6)光发射器，配置为设置在第一和第三内凸缘(在图111中未 示出)中的每一个中)以及中间部分4023(具有成两个均匀间隔排 的八个(8)光发射器4044并且配置为设置在第二(或者中间)内凸 缘(在图111中未示出)中)。同样如图111所示，柔性电路板4047被配置为使得其第一部分4021与其第二部分4023间隔开，以 及其第二部分与其第三部分4025间隔开，这便于内凸缘的偏转(或 者“倾斜”)。
回到图106-110，尽管将光发射器3544示出为在它们的相应凸 缘3522、3524或者内凸缘3521、3523、3525内均匀地间隔，但是， 在其它实施例中，光发射器可以在它们的相应凸缘3522、3524和/或 内凸缘3521、3523、3525内不均匀地间隔。例如，在一些实施例中，口件可以包括在靠近口件的前部分以第一量间隔开的一系列光发射器 以及在靠近口件的后部分以第二不同量间隔开的一系列光发射器。
口件3510可以由任何合适的材料构造(包括，例如，此处关于 口件2510描述的任何材料)，并且因此不关于口件3510对这种材料 进行详细描述。例如，口件3510可以由弹性体材料(例如，软性硅 树脂)构造。在另一个示例中，口件3510可以由医用级别的注塑的 高柔性和非常低硬度的硅树脂制造。在另一个示例中，口件3510的 硅树脂和/或部分是基本上透明的，使得嵌入在硅树脂内的一个或者 多个部件通过硅树脂可见。另外，以这种方式，口件3510可以提供 适当的光学性质以用于允许由光发射器3544、3545产生和/或传送的光穿过口件3510到期望的目标组织。在一些实施例中，口件3510、 凸缘3522、3524和/或内凸缘3521、3523、3525可以包括一个或者 多个部件，配置为对由光发射器3544、3545产生的光进行过滤、聚 焦和/或以其它方式起作用。在其它实施例中，口件3510可以分别地 在光发射器3544、3545与凸缘3522、3524和内凸缘3521、3523、 3525的表面之间包括空气间隙以便于光聚焦。然而，如图106-110 所示，口件3510被构造为使得光发射器3544、3545完全封装或者嵌 入在模塑硅树脂内使得硅树脂材料与电子组件3540的第一和第二部 分之间不存在空间或者空气间隙。如类似陈述的，口件3510在光发 射器3544、3545与口件3510的材料之间没有空气间隙，从而不需要 空气间隙透镜作用以产生由光发射器3544、3545产生的光的期望光 学性质。
用于调节牙齿移动的方法
此处提供用于调节牙齿移动的方法。这种方法包括对患者施用 有效量的光，其中从本发明装置的发射器照射有效量的光。在一些实 施例中，当施用光时，装置的至少一部分接触牙槽软组织(例如，牙 槽粘膜)。在一些实施例中，当施用光时，装置的至少一部分不接触 牙槽软组织但是在牙槽软组织一定距离内(例如，在0.1cm到3cm 内)。如此处更详细描述的，使用本发明的口腔内装置中的任何一个 施用光。在一些实施例中，方法还包括允许在患者需要力的一个或者 多个牙齿上施加力(在一个实施例中，重的力)，其中在施加力之前、 期间或者之后施用光。
本发明的其它实施例提供用于减少、最小化或者阻止牙根再吸 收(例如，根尖再吸收)的方法，包括对患者施用有效量的光，其中 从本发明装置的发射器照射有效量的光。在一些实施例中，当施用光 时，装置的至少一部分接触牙槽软组织。在一些实施例中，方法还包 括允许在患者需要力的一个或者多个牙齿上施加力(在一个实施例中， 重的力)，其中在施加力之前、期间或者之后施用光。还根据本发明 的另一个方面提供用于减少骨骼再吸收或者牙根或者牙周组织的炎性 牙质或者牙骨质再吸收的方法。这种方法包括对患者施用有效量的光， 其中从本发明装置的发射器照射有效量的光。在一些实施例中，当施 用光时，装置的至少一部分接触牙槽软组织。在一些实施例中，方法 还包括允许在患者需要力的一个或者多个牙齿上施加力(在一个实施 例中，重的力)，其中在施加力之前、期间或者之后施用光。
本发明的另一个方面提供用于防止或者最小化围绕施加或者曾 经施加了一个或多个力(在一个实施例中，重的力)的一个或者多个 牙齿的组织的炎症的方法，包括对患者施用有效量的光，其中从本发 明装置的发射器照射有效量的光。在一些实施例中，当施用光时，装 置的至少一部分接触牙槽软组织。在一些实施例中，方法还包括允许 在患者需要力的一个或者多个牙齿上施加力(在一个实施例中，重的 力)，其中在施加力之前、期间或者之后施用光。
本发明的另一个方面提供用于使上颌或者下颌牙槽骨再生的方 法，包括对患者施用有效量的光，其中从本发明装置的发射器照射有 效量的光。在一些实施例中，当施用光时，装置的至少一部分接触牙 槽软组织。在一些实施例中，方法还包括允许在患者需要力的一个或 者多个牙齿上施加力(在一个实施例中，重的力)，其中在施加力之 前、期间或者之后施用光。
在一些实施例中，方法还包括允许功能性器具在患者需要力的 一个或者多个牙齿上施加力；其中功能性器具在施加力和/或施用光 之前、期间或者之后施加力(在一个实施例中，重的力)。以这种方 式，可以结合或者代替由功能性器具施加的力来施加力。在一些实施 例中，方法还包括对患者施用有效量的维生素D。可以在施加力、功 能性器具施加力和/或施用光之前、期间或者之后施用维生素D。以 这种方式，可以结合或者代替施加力或者功能性器具施加力对患者施 用维生素D。
施加力
如此处指示的，在一些实施例中，允许在患者需要力的一个或 者多个牙齿上施加力。在一些实施例中，允许在从本发明装置施用光 之前、之后或者期间在患者的一个或者多个牙齿上施加力。在一些实 施例中，力可以是矫形力。例如，在一些实施例中，矫形力包括施加 至一个、两个或者更多个牙齿足以使一个或者多个牙齿下面的一个或 者多个骨骼移动的力。在一些实施例中矫形力是具有大于大约300克 力的大小的力。在其它实施例中，矫形力是具有大于或者等于大约 350克力、大于或者等于大约400克力、大于或者等于大约450克力、 大于或者等于大约500克力、大于或者等于大约550克力或者大于或 者等于大约600克力的大小的力。在其它实施例中，矫形力是具有小 于或者等于大约500克力、小于或者等于大约550克力、小于或者等 于大约600克力、小于或者等于大约650克力、小于或者等于大约 700克力、小于或者等于大约800克力、小于或者等于大约900克力 或者小于或者等于大约1000克力的大小的力。在其它实施例中，矫 形力的范围为从大约300克力到大约1000克力。在其它实施例中， 矫形力的下限为大约300克力、大约350克力、大约400克力、大约 500克力、大约600克力或者大约700克力。在其它实施例中，矫形 力的上限为大约500克力、大约550克力、大约600克力、大约650 克力、大约700克力、大约800克力、大约900克力或者大约1000 克力。在其它实施例中，在患者牙齿的一个或者多个上施加小于矫形 力的力。在该实施例中，力具有小于100克力的大小，例如，大约 200克力或者大约300克力的大小。
在一些实施例中，力是不足矫形力。在一些实施例中，不足矫 形力是具有大于大约30克力的大小的力。在其它实施例中，不足矫 形力是具有大于或者等于大约50克力、大于或者等于大约75克力、 大于或者等于大约100克力、大于或者等于大约150克力、大于或者 等于大约200克力或者大于或者等于大约250克力的大小的力。在其 它实施例中，不足矫形力是具有小于或者等于大约50克力、小于或 者等于大约75克力、小于或者等于大约100克力、小于或者等于大 约150克力、小于或者等于大约200克力、小于或者等于大约250克 力或者小于或者等于大约275克力的大小的力。在其它实施例中，不 足矫形力的范围为从大约30克力到大约300克力。在其它实施例中， 不足矫形力的下限为大约30克力、大约50克力、大约75克力、大 约100克力、大约150克力、大约200克力或者大约250克力。在其 它实施例中，不足矫形力的上限为大约50克力、大约75克力、大约 100克力、大约150克力、大约200克力、大约250克力或者大约 275克力。
在一些实施例中，力是重的力。如此处使用的短语“重的力” 指的是范围为从大约150克力到大约1000克力并且施加在牙齿上的 力。例如，在一些实施例中，重的力是具有大于大约150克力的大小 的力。在其它实施例中，重的力是具有大于或者等于大约175克力、大于或者等于大约190克力、大于或者等于大约200克力、大于或者 等于大约210克力、大于或者等于大约225克力或者大于或者等于大 约250克力的大小的力。在其它实施例中，重的力是具有小于或者等 于大约300克力、小于或者等于大约350克力、小于或者等于大约 400克力、小于或者等于大约450克力、小于或者等于大约500克力、 小于或者等于大约550克力、小于或者等于大约600克力等等直到小 于或者等于大约1000克力的大小的力。然而，在其它实施例中，重 的力的范围为从大约150克力到大约600克力。在其它实施例中，重 的力的下限为大约175克力、大约190克力、大约200克力、大约 210克力、大约225克力或者大约250克力。在其它实施例中，重的 力的上限为大约300克力、大约350克力、大约400克力、大约450 克力、大约500克力、大约550克力、大约600克力等等直到大约 1000克力。在一些实施例中，重的力的范围为从大约200克力到大 约500克力。在其它实施例中，重的力的范围为从大约250克力到大 约450克力。在一个实施例中，重的力的范围为从大约150克力到大约300克力。
在一些实施例中，在患者的一个或者多个牙齿上施加重的力。 例如，可以在对患者牙龈的区域(例如，牙槽软组织)施用有效量的 光之前、期间或者之后在患者牙齿的一个或者多个上施加重的力。然 而，在其它实施例中，在患者牙齿的一个或者多个上施加小于重的力 的力。在该实施例中，力具有小于150克力的大小，例如，大约100 克力或者大约125克力的大小。
在一些实施例中，在患者的一个或者多个牙齿上施加的力可以 是不足重的力。可以例如通过功能性器具或者正畸器具施加这种力。 在一些实施例中，不足重的力是具有大于大约10克力的大小的力。 在其它实施例中，不足重的力是具有大于或者等于大约20克力、大 于或者等于大约30克力、大于或者等于大约40克力、大于或者等于 大约50克力、大于或者等于大约75克力、大于或者等于大约100克 力或者大于或者等于大约125克力的大小的力。在其它实施例中，不 足重的力是具有小于或者等于大约30克力、小于或者等于大约40克 力、小于或者等于大约50克力、小于或者等于大约75克力、小于或 者等于大约100克力、小于或者等于大约150克力的大小的力。在其 它实施例中，不足重的力的范围为从大约10克力到大约150克力。 在其它实施例中，不足重的力的下限为大约10克力、大约20克力、 大约30克力、大约50克力、大约75克力、大约100克力或者大约 125克力。在其它实施例中，不足重的力的上限为大约30克力、大 约40克力、大约50克力、大约75克力、大约100克力或者大约 150克力。
如此处使用的短语“力的大小”指的是每个牙齿施加的力的量。 替换地，“力的大小”可以指代多个牙齿上施加的力的量。在后者实 例中，每个牙齿施加的力的大小是力的总大小除以牙齿数量。例如， 如果在两个牙齿上施加大约300克力，则每个牙齿上施加的力为大约 150克。如此处使用的短语“力的克数”指的是等于由9.80665m/s2的力(即，标准重力)在一克质量上施加的力的大小的力的单位。在 一些实施例中，力的大小是在牙齿上施加的力的克数。在其它实施例 中，力的大小是在多个牙齿上施加的力的克数。
在一些实施例中，力是大小足以引起至少一些量的牙根再吸收 的力。在一些实施例中，由力引起的牙根再吸收的量与施加的力的量 相关，使得所施加的力的增大引起牙根再吸收的量增大。在一些实施 例中，当不用任何其它形式的治疗(诸如光治疗)施加力时，力具有 足以具有病理生理效应以产生透明样变区或者组织死亡、引起细胞死 亡或者引起组织炎症的大小。力可以是过度的病理生理力。病理生理 力可以引起坏死或者根再吸收。力还可以在牙周组织上引起压力，该 压力可以引起缺血、血流降低或者细胞死亡。
可以以任何合适方式在牙齿上施加力。例如，在一些实施例中， 相对于一个或者多个牙齿的侧面垂直(例如，正交或者以90度角) 施加力。在一些实施例中，相对于一个或者多个牙齿的侧面以一定角 度施加力。例如，可以相对于一个或者多个牙齿的侧面以大约45度、 大约60度、大约70度、大约75度、大约80度、大约85度、大约 90度、大约95度、大约100度、大约105度、大约110度、大约120度或者大约135度的角施加力。可以以任何角度相对于一个或者 多个牙齿垂直(例如，正交或者以90度角)、向下或者向上施加力。 在一些实施例中，对一个或者多个牙齿施加近端力。在一些其它实施 例中，对一个或者多个牙齿施加远端力。在一些实施例中，力是冠状 压力，例如，沿牙冠的方向或者在牙冠上施加的压力，该压力对侵入 牙齿有用；在其它实施例中，力是根尖压力，例如，沿牙根的方向或 者在牙根上施加的压力，该压力对挤压牙齿有用。在一些实施例中， 在牙齿的近中(例如，牙齿朝向嘴前面的侧面)侧上施加力。在一些 实施例中，在牙齿的远(例如，牙齿朝向嘴后面的侧面)侧上施加力。 可以在牙齿的颊(例如，牙齿朝向脸颊的侧面)侧上施加力，或者可 以在牙齿的舌(例如，牙齿朝向舌头的侧面)侧上施加力。可以在牙 齿的咬合表面上施加力。可以在牙齿的切牙表面上施加力。可以在牙 齿的近端表面(例如，牙齿之间的近中表面或者远端表面)上施加力。 可以在牙齿的根尖(例如，朝向根端部)表面上施加力。在一些实施 例中，将牙齿上施加的力转换为在下颌骨骼或者上颌骨骼上施加。可 以由用于调节口腔或者上颌面骨骼重建的功能性器具施加力。在一些 实施例中，可以由用于调节牙齿移动的正畸器具施加力。
可以引导力朝彼此推动一个或者多个牙齿。可以引导力将一个 或者多个牙齿推开。可以引导力朝侧面移动一个或者多个牙齿。在一 些实施例中，力可以沿着上颌或者下颌使牙齿向侧面偏移。替换地， 力可以相对于上颌或者下颌向前或者向后移动牙齿。在一些实施例中， 可以引导力沿前面方向向前移动下颌骨骼或者上颌骨骼。可以引导力 沿后面方向向后移动下颌骨骼或者上颌骨骼。可以引导力调节下颌骨 骼或者上颌骨骼的角度。例如，可以通过向前或者向后移动下颌骨骼 的右侧或者左侧调节下颌骨骼的角度。如果使下颌骨骼的右侧向前移 动或者加长，而下颌骨骼的左侧维持相同位置或者向后移动或者缩短， 则可以使下颌骨骼更向左成角度(例如，向侧面偏移或者偏移至左 侧)。换句话说，可以引导力朝侧面移动一个或者多个牙齿。
在一些实施例中，沿着一个或者多个牙齿的侧面和/或沿着口腔 或者上颌面骨骼、肌肉或者软组织的侧面在任何点或者区域处施加力。 在一些实施例中，在一个或者多个牙齿顶部(即，与一个或者多个牙 根相对的牙齿的侧面)处或者附近施加力。在一些实施例中，在一个 或者多个牙齿的牙龈上面的临床牙冠的中间(例如，暴露于空气)处 或者附近施加力。在其它实施例中，在一个或者多个牙齿的临床牙冠 底部(即，更靠近牙根的牙齿的临床牙冠)处或者附近施加力。在一 些实施例中，对一个或者多个牙齿的根施加力。可以在此处描述的一 个或者多个牙齿上的点或者区域中的一个或者多个上施加力。在一些 实施例中，沿着牙齿的侧面施加力。根据在何处施加力或者施加多久 的力，牙齿可以发生某种倾斜移动或者不发生倾斜移动。此处对倾斜 移动进行更详细的描述。
然而，在一些实施例中，在颞下颌关节、骨节或者关节窝处或 者附近施加力。在一些实施例中，在右颞下颌关节、右骨节或者右关 节窝中的一个或者多个、左颞下颌关节、左骨节或者左关节窝中的一 个或者多个或者右颞下颌关节和左颞下颌关节两者、右骨节和左骨节 两者以及右关节窝和左关节窝两者中的一个或者多个上施加力。在一 些实施例中，在右颞下颌关节上施加力而不在左颞下颌关节上施加力， 在右骨节上施加力而不在左骨节上施加力，在右关节窝上施加力而不 在左关节窝上施加力，在左颞下颌关节上施加力而不在右颞下颌关节 上施加力，在左骨节上施加力而不在右骨节上施加力或者在左关节窝 上施加力而不在右关节窝上施加力。在一些实施例中，在下颌牙槽骨 或者上颌牙槽骨上施加力。在一些实施例中，在上颌骨骼、下颌骨骼 或者颞骨的前部分上施加力。
根据在何处施加力或者施加多久的力，可以发生某种牙齿倾斜 移动或者不发生牙齿倾斜移动。在一些实施例中，与没有施加力或者 施加较轻力的情况相比，力可以增大牙齿移动的速度。换言之，在这 些实施例中，力减少牙齿移动至其在牙龈内的期望位置花费的时间量。 在上颌骨骼、下颌骨骼、颞骨或者患者牙齿中的一个或者多个上(尤 其在患者对他的或者她的上颌骨骼、下颌骨骼或者一个或者多个牙齿 施用有效量的光的情况)施加力还可以减少患者可能经受的正畸治疗 的时间量。
在一些实施例中，由一个或者多个正畸器具在患者的一个或者 多个牙齿上施加力。相应地，在一个实施例中，正畸器具可以在患者 牙齿的一个或者多个上施加力以便于牙齿移动。在一些实施例中，功 能性器具在口腔或者上颌面骨骼、肌肉、软组织或者一个或者多个牙 齿上施加力。功能性器具可以仅在患者的下颌骨骼上施加力。替换地， 功能性器具可以仅在患者的上颌骨骼上施加力。在一些实施例中，功 能性器具仅在患者的颞骨上施加力。功能性器具可以在患者的下颌骨 骼和上颌骨骼两者上施加力。功能性器具可以通过在患者的一个或者 多个牙齿上施加力可选地在上颌骨骼、下颌骨骼或者颞骨上施加力。功能性器具可以仅在颌肌肉上施加力。功能性器具可以仅在颌软组织 上施加力。
在一些实施例中，正畸器具可以存在于患者的其它口腔区域或 者患者的头或者脸、患者牙齿的一个或者多个上。在一些实施例中， 患者佩戴两个或者更多个正畸器具并且不是所有这些器具都在患者牙 齿的一个或者多个上施加力。例如，正畸器具可以仅在患者的一个牙 齿上施加力，或者替换地正畸器具可以在患者的多个牙齿上施加力。 在另一个实施例中，正畸器具可以选择性地在少于患者所有牙齿的牙 齿上施加力。施加力的正畸器具还可以包括其它口腔内器具和/或口 腔外器具。
在一些实施例中，用于施加力的正畸器具可以用于外部锚具， 并且可以是临时锚固设备的形式或者以口外弓的形式。例如，使用口 腔内装置的患者可以在短暂时间周期(例如，在夜晚)同时佩戴第二 正畸器具(例如，以口外弓形式)。在一些实施例中，外部佩戴的口 外弓可以与口腔内装置物理地或者电子地通信以便于牙齿移动。外部 锚具可以用于便于施加力以阻止在使用力期间锚固牙齿的不良移动。
如此处更详细描述的，患者可以佩戴在发起光施用之后施加力 的正畸器具。例如，患者可以佩戴在使用口腔内装置的同时完成一个 或者多个光治疗疗程之后施加力的正畸器具。以这种方式，可以在通 过口腔内装置发起光施用之后通过一个或者多个正畸器具在患者的一 个或者多个牙齿上施加力。然而，在一些实施例中，在施用光之前或 者期间在患者的一个或者多个牙齿上施加力。在这种实施例中，患者 佩戴正畸器具并且同时使用口腔内装置。在其它实施例中，在施用光 之前和期间在患者的一个或者多个牙齿上施加力。在一些实施例中， 在患者的一个或者多个牙齿上施加力并且在正畸治疗的对准阶段期间 口腔内装置发射光。在另一个实施例中，患者使用施用光和施加力两 者的单个口腔内装置。在其它实施例中，在发起光施用之前在患者的 一个或者多个牙齿上施加力。例如，患者可以在开始光治疗之前佩戴 他的或者她的正畸器具任何时间长度。
在一些实例中，重的力可以使得牙周韧带压缩，这最终会导致 缺血或者细胞死亡。为了防止缺血或者最终的细胞死亡，与如此处描 述的光治疗一起施加重的力。然而，在一个实施例中，在光治疗已经 开始之后施加重的力。在一些实施例中，在光治疗已经开始之后施加 重的力数分钟、数小时或者数天。以这种方式，光治疗可以向由于重 的力将受到应激并且可能变得缺血的组织细胞提供额外的腺苷-5′-三 磷酸(ATP)能量。此处描述了由口腔内装置使用的光治疗的例示性 频率。在一些实施例中，与光施用同时施加重的力。在其它实施例中， 在施用光之后施加重的力。
如此处描述的，可以在一个或者多个牙齿上从任何方向施加重 的力。更具体地，在一些实施例中，力将两个或者更多个牙齿推挤在 一起或者推开，或者将一个或者多个牙齿推到患者嘴的一侧或者一个 区域。例如，在一些实施例中，力可以朝患者嘴的前面将两个或者更 多个牙齿推到患者嘴的后面、患者嘴的左边或者患者嘴的右边。
调节口腔或者上颌面骨骼重建可以包括改变下颌骨骼或者上颌 骨骼相对于彼此或者相对于患者头骨的位置。调节口腔或者上颌面骨 骼重建还可以包括控制下颌骨骼或者上颌骨骼的位置(例如，向前、 向后、向侧面或者成角度的)、加长或者缩短下颌骨骼或者上颌骨骼、 加长或者缩短下颌骨骼或者上颌骨骼的侧面、改变下颌骨骼或者上颌 骨骼的形状或者尺寸或者调节(例如，增大、减小或者维持)下颌骨 骼或者上颌骨骼相对于彼此移动的速度。例如，调节口腔或者上颌面 骨骼重建可以包括增大口腔或者上颌面骨骼重建的速度。
通过向前或者向后重新定位下颌骨骼，可以在下颌骨骼的关节 区域或者下颌骨骼的其它部分上引起肌肉张力。该张力可以刺激成骨 活性或者骨骼重建，其可以通过头骨的颞骨的髁头和关节窝上的骨沉 积加长下颌骨骼。此外，张力可以影响在整个下牙弓前面的牙齿移动。 在一些情况下，上颌骨骼上的对抗力可以延迟上颌骨骼的生长并且向 后引起重建和牙齿移动。这在调节口腔或者上颌面骨骼重建以向后重 建上颌骨的情况下可以是期望的。当存在牙齿不对准或者上牙弓和下 牙弓没有排成一行时会存在咬合不正。上颌骨骼上的对抗力可以根据 咬合不正的严重度以及上颌骨骼是否突出查不到是期望的。如果上颌 骨突出，则延迟上颌向前生长或者甚至使上颌牙齿和颌骨骼后移可以 是期望的。上颌口外弓可以用于延迟或者减小上颌向前生长。在一个 示例中，可以在利用上牙或者上颌骨骼作为锚具的同时使用功能性器 具向前重新定位下颌骨骼。可以在上颌骨骼上施加相同或者相反的力， 这可以在上颌骨骼上引起牙齿正畸移动以及骨骼重建。
一些功能性器具(例如，Bionator或者Frankel)可以阻止对抗 肌在骨骼和牙齿上推压。这可以允许相对的主动肌在骨骼和牙齿上推 压。从而，在一些实施例中，允许在口腔或者上颌面骨骼、肌肉或者 软组织或者一个或者多个牙齿上施加力可以包括阻止第一组肌肉在口 腔或者上颌面骨骼、肌肉或者软组织或者一个或者多个牙齿上施加力， 从而允许第二组肌肉施加力。力可以被阻止的肌肉的一些示例包括脸 颊和嘴唇(口周)肌肉。这种肌肉的示例可以包括咬肌、颊肌、颏肌 和轮匝肌。这可以允许其它肌肉(诸如舌头)在口腔或者上颌面骨骼、 肌肉或者软组织或者一个或者多个牙齿上施加力。在一些情况下，阻 止舌头抵触牙齿并且在牙齿上推压可以是期望的，因此可以插入功能 性器具或者正畸器具以阻止舌头在吞咽期间在前面牙齿上推压。这可 以允许脸颊肌肉和嘴唇肌肉在牙齿和骨骼上推压以缩回牙齿并且允许 牙齿长到先前由过度活跃并且定位差的舌头指示的正常位置中。在一 个示例中，Frankel器具可以保持脸颊和嘴唇肌肉远离牙齿以允许它 们生长到校正位置中的空间。尽管保持脸颊和嘴唇肌肉(相对肌肉) 远离牙齿，但是舌头(从内部推压牙齿的主动肌)可以在牙齿上推压， 从而允许下牙弓、上牙弓或者下牙弓和上牙弓两者扩张而不会干扰相 对的脸颊和嘴唇肌肉。
在一些实施例中，由功能性器具施加的力可以阻止第一组肌肉 施加第一力或者可以基本上减少第一力的量，允许第二组中的肌肉施 加第二力，这可以导致由第二力引起的骨骼重建。第一组中的肌肉和 第二组中的肌肉可以典型地沿不同方向施加力。例如，肌肉可以向前、 向后、横向地向左、横向地向右、径向地向内、径向地向外、向上或 者向下施加力。在一些实施例中，第一组的肌肉和第二组的肌肉可以 沿基本上相反的方向施加力。第一组中的肌肉和第二组中的肌肉可以 沿不同方向施加力。替换地，由功能性器具施加的力可以通过增大第 二力的相对作用改变施加至区域的总力的角度，这可以导致由第二力上相对于第一力增大的大小引起的骨骼重建。任何数量的肌肉组(例 如，1、2、3、4、5、6或者更多个)可以以任何方向施加力。由功 能性器具施加的力可以阻止肌肉组中的一个或者多个施加力或者可以 减少由一个或者多个组施加的力的量。
在一些实施例中，功能性器具可以保持肌肉远离牙齿，使得对 抗通过功能性器具缩回的那些牙齿的肌肉随后可以在牙齿上施加力以 引起由于先前平衡的肌肉压力的“不平衡”的牙齿移动以及可能的骨 骼重建。在一些实施例中，功能性器具在口腔或者上颌面肌肉或者软 组织上施加力以保持肌肉远离。
如此处使用的短语“调节牙齿移动”指代并且包括下列功能和/ 或操作中的一个或者多个。例如，调节牙齿移动可以包括相对于支持 组织调节(在一个实施例中，对准)一个或者多个牙齿的位置。调节 牙齿移动还可以包括增大、减小或者维持相对于支持组织的牙齿移动 速度。例如，调节牙齿移动可以包括增大牙齿移动的速度或者速率。 调节牙齿移动还可以包括(例如，相对于倾斜移动的程度)增大、减 小或者维持一个或者多个牙齿的整体移动的程度。调节牙齿移动可以 包括整体地移动一个或者多个牙齿。“整体”移动意指相对于支持组 织大体上垂直的牙齿移动。“倾斜”移动意指牙齿的牙冠或者冠状区 域比牙齿的根或者根尖区域前进得更快速。整体牙齿移动可以在没有 引起牙齿显著倾斜移动的情况下发生。“显著倾斜移动”意指牙齿的 大约20％没有沿与剩余的大约80％相同的横向方向移动；在另一个 实施例中，牙齿的大约10％没有沿与剩余的大约90％相同的横向方 向移动；在另一个实施例中，牙齿的大约5％没有沿与剩余的大约95％ 相同的横向方向移动。牙齿移动可以包括一个或者多个牙齿的横向位 移、旋转、挤压或者入侵。调节牙齿移动可以包括诱导一个或者多个 牙齿的倾侧或者倾斜移动、最小化或者阻止一个或者多个牙齿的侧斜 或者倾斜移动或者维持或者诱导一个或者多个牙齿的对准或者取向。 调节牙齿移动还可以包括稳定、放慢牙齿移动的速率或者阻止牙齿移 动。在一些实例中，调节牙齿移动可以包括使得一个或者多个牙齿维 持它们的位置。在一些实施例中，调节牙齿移动可以包括引起(i) 一个或者多个牙齿的位移和(ii)一个或者多个其它牙齿维持在它们 的位置中的一个或者两者。在一些实施例中，调节牙齿移动在利用正 畸器具的正畸治疗之前、之后或者期间发生。在一些实施例中，调节 牙齿移动在正畸治疗的对准阶段之前、之后或者期间发生。在一些实 施例中，牙齿移动在骨骼重建期间发生。
在一些实施例中，调节牙齿移动在正畸治疗的对准阶段期间发 生。该阶段期间的牙齿移动可以包括一个或者多个牙齿的倾斜移动、 一个或者多个牙齿的旋转和/或一个或者多个牙齿的挤压或者入侵。 一个或者多个牙齿的挤压或者入侵可以是对准阶段期间发生的整体移 动。然而，一般地，整体移动通常不在正畸治疗的对准阶段期间发生。 相反地，当对准牙齿并且使牙齿拥挤最小化时，整体移动典型地在正 畸治疗的对准阶段之后发生。在一些实施例中，调节牙齿移动在正畸 治疗的对准阶段之后发生。在其它实施例中，调节牙齿移动在正畸治 疗的对准阶段之前发生。
在一些实施例中，正畸器具中使用的金属丝的类型或者形状可 以帮助调节牙齿移动。例如，由患者在正畸治疗的对准阶段期间佩戴 的包括圆形金属丝的正畸器具可以施加增大一个或者多个牙齿的倾斜 移动、旋转、挤压或者入侵的速度的力。通常在对准阶段之后(例如， 在修整阶段或者细节阶段和/或保持阶段期间或者当患者的一个或者 多个牙齿在相同水平面内对准以使得拥挤最小时)佩戴包括矩形金属 丝的正畸器具。矩形金属丝通常比圆形金属丝硬并且可以便于一个或 者多个牙齿的整体移动。
在一些实施例中，通过Little不规则性指数(LII)的变化测量 牙齿移动。LII测量牙齿之间的差异程度并且是从六个(6)前牙的 一个接触点到相邻接触点的五个(5)线性距离的总和。LII分数为 零(0)指示牙齿完全地对准。在一些实施例中，上牙弓或者下牙弓 中的一个或者两者的一个或者多个牙齿移动至对准到上牙弓LII或者 下牙弓LII中的一个或者两者的范围为从零(0)mm到小于1mm 的程度。1mm或者更大的LII分数指示牙齿未对准并且需要牙齿移 动以矫正。0(零)mm的接触点测量值指示两个相邻牙齿完全对准。 例如0.22mm的接触点测量值指示两个相邻牙齿之间有0.22mm的 差异。一般地，LII分数越高，牙齿越不对准。例如，大于10mm 的LII分数一般指示严重不对准。可以在下列公开中找到关于LII以 及其计算的另外细节，该公开的全部内容通过引用合并于此：Little， R.M.，“Theirregularity index：a quantitative score of mandibular anterior alignment，”Am.J.Orthod.，1975Nov，68(5)：554-63。可以 使用精尖数字卡尺(诸如，可从中国的Guanglu Measuring Instrument Co.，Ltd.商业上购得的
Point DigitalCaliper， Series SC02)获得接触点测量值。卡尺可以被配置为测量精确到0.1 mm的接触点。可以使用患者牙齿的模型获得接触点测量值。
正畸器具
可以在与一个或者多个功能性器具和/或正畸器具一起施加之前、 在患者佩戴一个或者多个功能性器具和/或正畸器具的时间期间或者 在已经从患者移除一个或者多个功能性器具和/或正畸器具之后对患 者执行本方法。除口腔内装置(例如，此处描述的任何光疗法装置， 包括但不限于，光疗法装置2500和3500)，可以使用一个或者多个 功能性器具和/或正畸器具。功能性器具或者正畸器具可以相对于患 者牙齿和/或口腔内装置固定或者移动。如此处公开的，正畸器具可 以包括例如固定有源器具(诸如销状和管状器具)、使用金属丝或者 托架或者弹簧的器具、带状弓器具、Begg轻金属丝器具、沿边器具、 预先调节沿边器具、自锁沿边器具、双螺旋、三螺旋、四螺旋、快速 上颌扩展器具(RME)；可拆卸有源器具(诸如扩展和唇节对准器 具INVISALIGNTM)；基本上透明的校准器；正畸口外弓(包括反 向口外弓和常规口外弓)；以及其它类型的正畸装置。在一个实施例 中，正畸器具包括金属丝和托架(此处关于标题为“示例”的章节对 金属丝和托架的示例进行了描述)。
在一个实施例中，正畸器具是固定的。固定正畸器具的示例包 括销状和管状器具、带状弓器具、Begg轻金属丝器具、沿边器具、 预调节沿边器具、自锁沿边器具、双螺旋器具、三螺旋器具、四螺旋 器具、快速上颌扩展器具(RME)或者细条纹器具。可以在正畸治 疗期间将固定正畸器具固定至患者牙齿。在一个实施例中，正畸器具 是固定的并且包括金属丝和托架。在另一个实施例中，正畸器具是可 拆卸的。可拆卸正畸器具的示例包括ActiveHawley器具、Invisalign 校准器、校准器、扇形扩张器或者矢状器具。
在一些实施例中，功能性器具是下颌重定位器或者重新定位下 颌以在组织上产生张力以刺激骨骼重建或者牙齿移动的任何其它口腔 内装置。下颌重定位器的一些示例是Herbst、Twin Block、Fixed Twin Block、Bonded Twin Block、Biobloc、Forsus Fatigue(例如， EZ2)、Xbow(Crossbow)、下颌前部重定位器具(Mara)、Bass Dynamax、Bionator、Open Face Activator、Activator、Woodside Activator、Frankel(例如，Frankel I、II、III、IV、V)、 Teuscher器具、Andreson器具、3-Way Sagittal、Lower Schwartz、 3WayExpander、颌重定位器具、可拆卸矫正器具、Series
BioPedic Appliance、Rick-A-NatorTM、Ritto Appliance、Eureka SpringTM、Twin Force Bite CorrectorTM、AlpernClass II Closer、 Rapid腭扩张器、TandemTM、面罩、反向牵引口外弓和常规正畸口 外弓。
在一个实施例中，功能性的器具是固定的。固定功能性器具可 以例如粘合在一个或者多个牙齿上。固定功能性器具的一些示例包括 Herbst、Fixed Twin Block、BondedTwin Block、Forsus Fatigue (例如，EZ2)、Xbow(Crossbow)、Series
BioPedicAppliance、Rick-A-NatorTM、Ritto Appliance、Eureka SpringTM、 Twin Force BiteCorrectorTM、Alpern Class II Closers和Rapid腭扩 张器。在另一个实施例中，功能性的器具是可拆卸的。可拆卸功能性 器具的一些示例包括Twin Block、Biobloc、下颌前部重定位器具 (Mara)、Bass Dynamax、Bionator、Open Face Activator、 Activator、WoodsideActivator、Frankel(例如，Frankel I、II、III、 IV、V)、Teuscher器具、Andreson器具、3-Way Sagittal、Lower Schwartz、3Way Expander、颌重定位器具和可拆卸矫正器具。在 一些实施例中，功能性器具是组合固定-可拆卸功能性器具。组合固 定-可拆卸功能性器具可以包括固定至患者牙齿的一个或者多个部件 和可从固定部件拆卸的一个或者多个部件。组合固定-可拆卸功能性 器具的一些示例包括TandemTM、面罩、反向牵引口外弓和常规正畸口外弓。
在一些实施例中，功能性器具是II类矫正器。II类矫正器的一 些示例包括Herbst、Twin Block，Forsus Fatigue和Mara。在其它 实施例中，功能性器具是可用于引起拥挤的下牙弓的骨骼和牙齿扩张 的I类矫正器。在其它实施例中，功能性器具是可用于刺激上颌向前 生长或者后移或限制下颌生长的III类矫正器。
在一些实施例中，功能性器具向前重新定位患者的下颌骨骼。 功能性器具可以是固定功能性下颌重定位器。这种功能性器具的示例 是Herbst、Twin Block、Bonded TwinBlock、Biobloc和Bass Dynamax。在一些实施例中，功能性器具使颌扩张(例如，使用肌 肉压力或者缺乏允许牙齿移动和/或骨骼重建的肌肉力)。这种功能 性器具的示例可以包括Bionator、Open Face Activator、Activator、 Woodside Activator或者Frankel。由于这些器具可以引起牙齿的正 畸移动以及骨骼重建，因此可以对牙槽软组织和/或牙槽骨和牙齿施 用光。在一些实施例中，功能性器具控制上颌骨骼或者下颌骨骼的生 长。这种功能性器具的示例可以包括面罩或者反向牵引口外弓。可以 对颌的根尖区域施用光，这可以引起某种正畸移动，但是主要地重建 上颌骨骼和提供上颌骨骼的向前移动。在一些实施例中，功能性器具 在患者的颞下颌关节、骨节或者关节窝上施加力或者在患者的颞下颌 关节、骨节或者关节窝处引起骨骼重建。
功能性器具通过施加导致肌肉或者组织在例如牙齿上直接施加 力以使得牙齿的某个方面由于来自肌肉或者组织的所述力而改变的力 起作用。在一个具体示例中，患者可以佩戴功能性器具以重新定位他 的或者她的颌，以及颌的结果位置在周围组织上施加力，从而允许重 建发生。功能性变化可以包括上颌骨骼、下颌骨骼、牙齿位置、咬合 和颌功能以及咀嚼的变化。与功能性器具相反，正畸器具通过在例如 牙齿上直接施加力以改变牙齿的某个方面(例如，改变牙齿相对于另 一个牙齿的位置)来起作用。
正畸器具是商业上可购得的并且可以包括详细说明器具能够在 一个或者多个牙齿上施加的力的大小的说明书(或者其它文件)。在 一些实施例中，正畸器具包括钢金属丝、镍钛金属丝或者钛钼金属丝。 在一些实施例中，正畸器具包括具有高规格的金属丝或者弹簧。正畸 器具可以包括的金属丝的一些示例是具有下列中的一个的金属丝尺寸 的不锈钢或者镍-钛金属丝：
| 0.0160”的平方 | 0.406mm的平方 |
| 0.0160”×0.0220” | 0.406mm x 0.559mm |
| 0.0170”的平方 | 0.432mm的平方 |
| 0.0170”×0.0220” | 0.432mm×0.559mm |
| 0.0170”×0.0250” | 0.432mm×0.635mm |
| 0.0180”的平方 | 0.457mm的平方 |
| 0.0180”×0.0220” | 0.457mm×0.559mm |
| 0.0180”×0.0250” | 0.457mm×0.635mm |
| 0.0190”的平方 | 0.483mm的平方 |
| 0.0190”×0.0250” | 0.483mm×0.635mm |
| 0.0200”的平方 | 0.508mm square |
| 0.0210”×0.0250” | 0.533mm×0.635mm |
将金属丝安装在患者牙齿上的从业医师可以为患者的正畸治疗程序选 择一个或者多个适当的金属丝。在一些实施例中，在最初将托架接合 至患者牙齿时安装具有第一尺寸和/或第一强度的第一金属丝，以及 在接合托架之后(诸如在对从业医师的回访期间以及例如在已经用安 装在其上的正畸器具对患者牙齿施用了一个或者多个光疗法治疗疗程之后)的时间安装具有第二尺寸和/或第二强度的第二金属丝。
正畸器具可以包括托架和金属丝。商业上可购得的托架包括由 SPEED System(www.speedsystem.com)、DENTSPLY GAC International(www.gacinovation.com)提供的那些托架、由Ormco Corporation(www.ormco.com)提供的托架(例如，Mini-
托架)、In-Ovation L Straightwire系统托架或者由 Orthodontic Designand Production公司提供的托架(例如， 
自锁托架)。金属丝可以是镍钛并且可以具有0.012英寸、 0.014英寸或者0.016英寸的直径。在一些实施例中，金属丝是正方 形的或者矩形的。在一个实施例中，金属丝是正方形的并且具有 0.015英寸×0.015英寸的尺寸。在一个实施例中，金属丝具有0.016 英寸×0.016英寸的尺寸。在另一个实施例中，金属丝是矩形的并且 具有0.017英寸×0.025英寸的尺寸。在一些实施例中，金属丝是 0.016英寸的Supercable镍钛金属丝。
可以使用镍-钛闭合型或者开放型螺旋弹簧。一些示例可以包括 弹性体动力链，该弹性体动力链能够提供100-800克的力或者牙弓内 弹力。在一些实施例中，正畸器具包括弹性材料。除在一个或者多个 牙齿上施加力的口腔内装置以外或者代替在一个或者多个牙齿上施加 力的口腔内装置，正畸器具可以在患者的一个或者多个牙齿上施加力。 例如，在一些实施例中，除在一个或者多个牙齿上施加重的力的口腔 内装置以外或者代替在一个或者多个牙齿上施加重的力的口腔内装置， 正畸器具可以或者可以被配置为在患者的一个或者多个牙齿上施加重 的力。正畸器具可以使得一个或者多个牙齿移动或者维持其位置。在 一些实施例中，正畸器具促使口腔或者上颌面骨骼或者一个或者多个 牙齿(诸如下颌骨骼、上颌骨骼或者颞骨)的骨骼重建。在一些实施 例中，本发明的装置不对患者牙齿施加力。在一些实施例中，本发明 的装置不对患者牙齿施加重的力。
可以使用测力计或者任何类似设备测量力(诸如重的力)。例 如，测力计可以测量来自正畸器具的金属丝、弹簧或者类似机构在一 个或者多个牙齿或者牙龈上施加的力。在一个示例中，测力计(或者 类似设备)可以测量来自图3A中描绘的口腔内装置的金属丝12在 一个或者多个牙齿或者牙龈上施加的力。所测量的力可以取决于任何 数量的参数，诸如，例如金属丝的规格或者金属丝的硬度。以这种方 式，在一些实施例中，可以部分地通过测量器具的金属丝(或者弹簧 或者类似机构)的张力或者硬度来计算力(例如，当在一个或者多个 牙齿上施加这种力时)。此外，在一些实施例中，器具的金属丝(或 者弹簧或者类似机构)由对温度敏感的材料构造以使得金属丝的硬度 以及因此由该金属丝施加的重的力可以基于金属丝的温度变化。例如， 在一些实施例中，金属丝(或者弹簧或者类似机构)的硬度在金属丝 温度增大时增大，以及在金属丝温度减小时减小。从而，在一些这种 实施例中，可以部分地通过测量金属丝(或者弹簧或者类似机构)的 温度或者估计其温度(当存在于患者口腔中时)来计算力。关于金属 丝的规格，通常在本领域中众所周知，增大金属丝的规格(或者截面) 可以增大金属丝的硬度，增大金属丝的硬度最终增大金属丝在一个或 者多个牙齿上施加的重的力。
尽管此处将方法描述为可(1)在对患者施加一个或者多个功能 性器具和/或正畸器具之前、(2)在患者佩戴一个或者多个功能性器 具和/或正畸器具时的时间期间或者(3)在已经从患者移除一个或者 多个功能性器具和/或正畸器具之后对患者执行，但是在一些实施例 中，可以独立于或者不使用功能性器具和/或正畸器具对患者执行此 处描述的方法。
在一个实施例中，患者可以在患者佩戴正畸器具的时间之前、 之后或者期间使用本发明的口腔内装置。在一些实施例中，患者在与 在患者牙齿上安装正畸器具相同的日期开始使用口腔内装置。正畸器 具安装可以包括将托架接合至患者牙齿并且与托架一起安装金属丝。 在其它实施例中，患者在安装正畸器具之前或者之后一天或者多天 (例如，一天、两天或者三天)或者一周或者多周(例如，一周或者 两周)内结束口腔内装置的使用。在一些实施例中，患者在与从患者 牙齿拆卸正畸器具相同的日期结束口腔内装置的使用。在其它实施例 中，患者在拆卸正畸器具之前或者之后一天或者多天(例如，一天、 两天或者三天)或者一周或者多周(例如，一周或者两周)内结束口 腔内装置的使用。
在一些实施例中，本发明提供用于调节牙齿移动、维持口腔组 织健康或者改善口腔组织健康的方法，包括对需要这些的患者施用来 自本发明口腔内装置的发射器的有效量的光。在一些实施例中，装置 的至少一部分被配置为接触患者的牙槽软组织。在一些实施例中，患 者佩戴在患者的一个或者多个牙齿上施加力的正畸器具。在一些实施 例中，在正畸治疗的对准阶段期间施用光。在一些实施例中，仅在正 畸治疗的对准阶段期间施用光。在一些实施例中，牙槽软组织是牙槽 粘膜。在一些实施例中，力是重的力。在一些实施例中，患者佩戴在 正畸治疗的保持阶段期间在患者的一个或者多个牙齿上施加力的相同或者不同的正畸器具。在一些实施例中，在保持阶段期间施加的力是 重的力。
在一些实施例中，本发明提供用于正畸治疗的方法，包括对需 要正畸治疗的患者施用来自本发明口腔内装置的发射器的有效量的光。 在一些实施例中，装置的至少一部分被配置为接触患者的牙槽软组织。 在一些实施例中，患者佩戴在患者的一个或者多个牙齿上施加力的正 畸器具。在一些实施例中，在正畸治疗的间距或者间隙闭合阶段期间 施用光。在一些实施例中，在正畸治疗的对准阶段期间施用光。在一 些实施例中，仅在正畸治疗的对准阶段期间施用光。在一些实施例中， 牙槽软组织是牙槽粘膜。在一些实施例中，力对调节牙齿移动、维持 口腔组织健康或者改善口腔组织健康有效。在一些实施例中，力是重的力。在一些实施例中，患者佩戴在正畸治疗的保持阶段期间在患者 的一个或者多个牙齿上施加力的相同或者不同的正畸器具。在一些实 施例中，在保持阶段期间施加的力是重的力。
在一些实施例中，本发明提供用于正畸治疗的方法，包括对佩 戴正畸器具或者需要正畸治疗的患者施用来自本发明口腔内装置(例 如，光疗法装置2500或者3500)的发射器的有效量的光。在一些实 施例中，装置的至少一部分被配置为接触患者的牙槽软组织。在一些 实施例中，患者佩戴在患者的一个或者多个牙齿上施加力的正畸器具。 在一些实施例中，在正畸治疗的对准阶段期间施用光。在一些实施例 中，仅在正畸治疗的对准阶段期间施用光。在一些实施例中，牙槽软 组织是牙槽粘膜。在一些实施例中，力对调节牙齿移动、维持口腔组 织健康或者改善口腔组织健康有效。在一些实施例中，力是重的力。 在一些实施例中，患者佩戴在正畸治疗的保持阶段期间在患者的一个 或者多个牙齿上施加力的相同或者不同的正畸器具。在一些实施例中， 在保持阶段期间施加的力是重的力。
在一些实施例中，本发明提供用于正畸治疗的方法，包括对佩 戴正畸器具并且需要正畸治疗的患者施用来自本发明口腔内装置的发 射器的有效量的光。在一些实施例中，装置的至少一部分被配置为接 触患者的牙槽软组织。在一些实施例中，正畸器具在患者的一个或者 多个牙齿上施加力。在一些实施例中，在正畸治疗的间距或者间隙闭 合阶段期间施用光。在一些实施例中，在正畸治疗的对准阶段期间施 用光。在一些实施例中，仅在正畸治疗的对准阶段期间施用光。在一 些实施例中，牙槽软组织是牙槽粘膜。在一些实施例中，力对调节牙 齿移动、维持口腔组织健康或者改善口腔组织健康有效。在一些实施 例中，力是重的力。在一些实施例中，患者佩戴在正畸治疗的保持阶 段期间在患者的一个或者多个牙齿上施加力的相同或者不同的正畸器 具。在一些实施例中，在保持阶段期间施加的力是重的力。
维生素D
如此处描述的，当前方法还可以包括对患者施用维生素D。维 生素D对于正常骨骼代谢是必不可少的-它促进钙吸收和骨骼再吸收 并且为骨骼形成维持必要的钙和磷酸盐水平。缺乏维生素D的患者 有增大的骨质丢失和骨折的风险以及许多其它风险。不足的维生素D 水平还可以干扰对牙齿移动必不可少的破骨活性，导致较慢的牙齿移 动。因此，施用维生素D可以是正畸治疗的重要部分。
维生素D可以是例如维生素D1、D2、D3、D4、D5、1，25二羟 胆钙化醇或者它们的混合物。在一些实施例中，维生素D为患者补 充其它维生素D源。
可以以任何合适的方式施用维生素D。例如，可以口服、通过 透皮凝胶、通过贴剂、通过霜剂、通过注射、通过电泳或者通过日晒 施用维生素D。其中当前方法还包括施用维生素D，在一些实施例中， 不通过日晒施用维生素D。在一些实施例中，通过维生素D运输工 具施用维生素D。例如，维生素D可以存在于适合于口腔施用的组 合物中，例如、丸剂、胶囊、片剂、咀嚼片、凝胶或者液体。在其它 实施例中，透皮施用维生素D。在一个示例中，可以通过可以涂敷至 皮肤、牙龈或者任何软组织的透皮凝胶、霜剂、软膏剂、液体或者糊 剂透皮施用维生素D。在另一个示例中，可以通过日晒(诸如暴露于 来自太阳的紫外(UV)射线或者人为地通过晒黑床)透皮施用维生 素D。还可以通过贴剂或者微针在患者的皮肤、牙龈或者其它软组织 上透皮地施用维生素D。在一些实施例中，通过使用注射器或者针在 患者的皮肤、牙龈或者其它软组织(诸如，例如，口腔组织)处进行 注射以施用维生素D。注射剂可以是皮内的、皮下的、肌肉内的、静 脉内的、骨内的或者腹膜内的。在一些实施例中，电泳地施用维生素 D。可以将维生素D涂敷至例如皮肤、牙龈或者任何其它软组织的表 面，以及弱电流可以驱使化合物通过组织。
可以采用此处描述的各种维生素D施用技术的任何组合。例如， 患者可以口服施用维生素D并且还接受维生素D的注射作为施用过 程的一部分。在一些实施例中，所施用的维生素D增大或者维持维 生素D血清水平。在其它实施例中，所施用的维生素D在施用维生素D的位置处增大或者维持局部维生素D水平。
在一些实施例中，对区域或者在区域附近施用维生素D。区域 可以是例如口腔区域。区域可以例如在口腔或者上颌面骨骼、肌肉或 者软组织上或者附近。区域可以在一个或者多个牙齿、下颌骨骼、上 颌骨骼或者颞骨上或者附近。在一些实施例中，例如通过包括维生素 D的口腔组合物口服施用维生素D。在其它实施例中，对区域局部地 施用维生素D。区域可以在覆盖患者面部、颌骨、嘴唇、脸颊或者下 巴的患者的皮肤上。区域可以在患者身体(诸如，例如，患者面部) 的右侧、左侧、中心区域或者它们的任何组合上。区域可以在患者口 腔内。例如，区域可以是患者的牙龈或者任何其它口腔软组织。区域 不必是口腔区域；相反地，区域可以例如在患者的颈部、手臂、腿部 或者躯干上。在一些实施例中，可以对患者全身地施用维生素D。例 如，可以通过围绕患者身体的晒黑床借助于日晒施用维生素D。区域 可以包括先前描述的任何区域。
在一些实施例中，对与施用光的区域相同或者在施用光的区域 附近的区域施用维生素D。在一些实施例中，对施用光的相同区域施 用维生素D。在一些其它实施例中，对具有与施用光的区域相同、比 施用光的区域大或者小的大小的区域施用维生素D。可以对与施用光 的区域相邻的区域施用维生素D。在一些实施例中，对距离施用光的 区域大约1mm、大约2mm、大约3mm、大约5mm、大约7mm、 大约10mm、大约15mm、大约20mm、大约25mm、大约30mm、 大约40mm、大约50mm、大约60mm、大约70mm、大约10cm、 大约15cm、大约20cm、大约30cm、大约50cm内的区域施用维 生素D。在其它实施例中，对与施用光的区域不同的区域施用维生素 D。在一些实施例中，不对施用光的区域施用维生素D。在一些实施 例中，对除了施用光的区域以外的区域施用维生素D。在一些实施例 中，全身地施用维生素D，其可以包括施用光的区域。在一些实例中， 全身地施用维生素D，提高总体维生素D水平，其可以包括施用光 的区域中的维生素D水平。
在一些实施例中，对邻近在其上施加力的区域的区域施用维生 素D。力可以是例如重的力、由正畸器具施加的力或者由功能性器具 施加的力。在一些实施例中，对其上施加力的相同区域施用维生素D。 在一些实施例中，施用维生素D的区域和其上施加力的区域是相同 大小。然而，在其它实施例中，施用维生素D的区域的大小不同于 其上施加力的区域的大小。施用维生素D的区域可以例如比其上施 加力的区域小或者大。在一些实施例中，对与其上施加力的区域相邻 的区域施用维生素D。可以对例如在其上施加力的区域的大约1mm、 大约2mm、大约3mm、大约5mm、大约7mm、大约10mm、大 约15mm、大约20mm、大约25mm、大约30mm、大约40mm、 大约50mm、大约60mm、大约70mm、大约10cm、大约15cm、 大约20cm、大约30cm、大约50cm内的区域施用维生素D。
在一些实施例中，对与其上施加力的区域不同的区域施用维生 素D。换句话说，不对其上施加力的区域施用维生素D。在一些实施 例中，全身地施用维生素D并且可以包括其上施加力的区域。例如， 在一些实例中，全身地施用维生素D并且提高总体维生素D水平，包括其上施加力的区域中的维生素D水平。
当前方法可以包括对需要维生素D的患者施用有效量的维生素 D，以及对例如患者的牙槽软组织或者任何其它口腔或者上颌面骨骼、 肌肉或者软组织或者一个或者多个牙齿施用有效量的光。在一些实施 例中，对患者的口腔区域施用有效量的维生素D。替换地，可以对患 者全身地施用有效量的维生素D。在一些实施例中，方法还包括对患 者进行测试以确定他的或者她的维生素D水平。例如，患者可以接 受血液测试以确定患者的维生素D水平。如有必要，患者可以接受 维生素D补充或者治疗。可以结合正畸治疗和正常或者较高维生素 D水平对牙槽软组织和/或牙齿施用光，这可以加速正畸牙齿移动。
当前方法可以包括对患者施用有效量的维生素D以及提供此处 参照图1-8描述的任何口腔内光疗法装置。方法可以可选地包括确定 患者是否缺乏维生素D。方法可以可选地包括测量患者的维生素D 血清水平。在一些实施例中，如果患者的维生素D血清水平低于预 定阈值，则患者可以施用一剂维生素D或者对患者施用一剂维生素 D。在一些实施例中，基于患者的血清水平确定维生素D的剂量并且 对患者进行施用。可以例如基于患者的血清水平确定要对患者施用的 维生素D的剂量，使得对患者施用有效量的维生素D。例如，如果患者非常缺乏维生素D(即，具有非常低的维生素D血清水平)， 则相比如果患者仅稍微缺乏维生素D(即，具有较高维生素D血清 水平)的情况，患者可以接受更大剂量的维生素D。在其它实施例中， 不无论维生素D血清水平如何，如果患者缺乏维生素D，则患者接 受相同的维生素D剂量。在又其它实施例中，即使患者不缺乏维生 素D也对患者施用一剂维生素D。在患者缺乏维生素D的实施例中， 维生素D治疗的长度可以根据维生素D缺乏的程度而变化。
可以以一个或者多个剂量施用维生素D。如此处描述的，在一 些实施例中，一剂维生素D是有效量的维生素D。在其它实施例中， 单个剂量的维生素D可以大于或者小于有效量的维生素D。可以在 一段时间内提供一剂维生素D。例如，可以每天施用维生素D。在一 些实施例中，每小时、一天若干次、一天一次、每隔若干天一次、一 星期一次、每隔几周一次、一个月一次、每隔几个月一次、一季度一 次或者以任何其它频率施用维生素D。可以定期地(例如，每6小时、 每天、每10天)施用维生素D或者可以不定期地(例如，一天两次、 跳过一天、第二天一次)提供维生素D。在一些实施例中，根据需要 施用维生素D。
在一些实施例中，剂量大于、小于或者是大约100IU、大约 200IU、大约400IU、大约500IU、大约600IU、大约800IU、大 约1000IU、大约1200IU、大约1500IU、大约1600IU、大约2000 IU、大约2500IU、大约3000IU、大约4000IU、大约5000IU、大 约6000IU、大约7000IU、大约8000IU、大约9000IU、大约 10000IU、大约12000IU、大约15000IU、大约17000IU、大约20000IU、大约25000IU、大约30000IU、大约40000IU、大约 50000IU、大约70000IU、大约100000IU、大约150000IU、大约 200000IU、大约300000IU、大约400000IU、大约500000、大约600000IU或者大约800000IU。在一些实施例中，每次对患者施用 维生素D，剂量的量都变化。在其它实施例中，剂量量是对患者施用 的维生素D的每日量。在其它实施例中，剂量量是为治疗方案施用 的总维生素D量。例如，维生素D的每日口服剂量的范围可以为从 每天400IU到每天6000IU。在另一个示例中，维生素D的每日口 服剂量的范围可以为从每天2000IU到每天6000IU。成人每日口服 补充2000IU到6000IU的维生素D已经被表明为在3个月内将维生 素D的血液水平提高到40ng/mL。在一些方案中，已经表明较高的 初始维生素D剂量提高维生素D血液水平。维生素D的剂量可以是 单个剂量600000IU的口服维生素D。基于一个临床试验，单个剂量 600000IU的口服维生素D相当于在30天内每天一剂20000IU的口 服维生素D。在另一个实施例中，剂量是在30天内每天20000IU的 口服维生素D。
维生素D的剂量可以足以将静脉血的维生素D血液水平从大约 40ng/mL提高到大约60ng/mL。维生素D的剂量可以足以将维生素 D血液水平提高到至少大约、不超过大约或者大约20ng/mL、大约 30ng/mL、大约35ng/mL、大约40ng/mL、大约45ng/mL、大约 50ng/mL、大约55ng/mL、大约60ng/mL、大约65ng/mL、大约 70ng/mL、大约75ng/mL、或者大约80ng/mL。在一些实施例中， 维生素D的剂量足以使维生素D血液水平提高任意量。例如，维生 素D的剂量可以足以使维生素D血液水平提高大约5ng/mL、大约 10ng/mL、大约15ng/mL、大约20ng/mL、大约25ng/mL、大约 30ng/mL、大约35ng/mL、大约40ng/mL、大约45ng/mL、大约50ng/mL、大约55ng/mL、大约60ng/mL。可以在一段时间内将维 生素D血液水平提高到期望水平或者提高期望量。例如，时间周期 可以在一天或者多天、一周或者多周、一个月或者多个月或者一年或 者多年内。例如，每日施用的维生素D的剂量可以在30天内或者在 3个月内将维生素D血清水平提高到期望水平。
可以在对患者施用光疗法之前、同时或者之后对患者施用维生 素D。可以在发起光疗法施用之前或者在完成光疗法施用之前对患者 施用维生素D。在一些实施例中，在发起光疗法施用之前或者在完成 光疗法施用之前的一段时间(例如，数秒钟、数分钟、数小时、数天、 数周、数月)施用一剂维生素D。在一些实施例中，在发起光疗法施 用之后或者在完成光疗法施用之后的一段时间(例如，数秒钟、数分 钟、数小时、数天、数周、数月)施用一剂维生素D。在一些实施例 中，在发起光疗法施用之前或者在完成光疗法施用之前发起或者完成 维生素D治疗方案(其可以跨越一剂或者多剂维生素D)。在其它 实施例中，在发起光疗法施用之后或者在完成光疗法施用之后发起或 者完成维生素D治疗方案。维生素D治疗方案可以在光疗法施用期 间进行。
可以在使口腔内光疗法装置与患者接合之前、同时或者之后对 患者接施用维生素D。口腔内光疗法装置可以是图1-8中描绘的装置 中的任何一个。还可以在从患者移除口腔内光疗法装置之前对患者施 用维生素D。在一些实施例中，可以在使口腔内光疗法装置与患者接 合之前或者在从患者移除口腔内光疗法装置之前的一段时间(例如， 数秒钟、数分钟、数小时、数天、数周、数月)施用一剂维生素D。 在一些实施例中，可以在使口腔内光疗法装置与患者接合之后或者在 从患者移除口腔内光疗法装置之后的一段时间(例如，数秒钟、数分 钟、数小时、数天、数周、数月)施用一剂维生素D。在一些实施例 中，在使口腔内光疗法装置与患者接合之前或者在从患者移除口腔内 光疗法装置之前发起或者完成维生素D治疗方案(其可以跨越一剂 或者多剂维生素D)。在其它实施例中，在使口腔内光疗法装置与患 者接合之后或者在从患者移除口腔内光疗法装置之后发起或者完成维 生素D治疗方案。维生素D治疗方案可以在光疗法施用期间进行。
可以在对患者的一个或者多个牙齿施加力之前、同时或者之后 对患者施用维生素D。力可以是例如重的力、由正畸器具施加的力或 者由功能性器具施加的力。在一些实施例中，力可以小于重的力。在 一些实施例中，在发起对患者的一个或者多个牙齿施加力之前或者在 完成对患者的一个或者多个牙齿施加力之前，对患者施用维生素D。 在一些实施例中，在发起对患者的一个或者多个牙齿施加力之前或者 在完成对患者的一个或者多个牙齿施加力之前的一段时间(例如，数 秒钟、数分钟、数小时、数天、数周、数月)施用一剂维生素D。在 其它实施例中，在发起对患者的一个或者多个牙齿施加力之后或者在 完成对患者的一个或者多个牙齿施加力之后的一段时间(例如，数秒 钟、数分钟、数小时、数天、数周、数月)施用一剂维生素D。在一 些实施例中，在发起对患者的一个或者多个牙齿施加力之前或者在完 成对患者的一个或者多个牙齿施加力之前发起或者完成维生素D治 疗方案(其可以跨越一剂或者多剂维生素D)。在其它实施例中，在 发起对患者的一个或者多个牙齿施加力之后或者在完成对患者的一个 或者多个牙齿施加力之后发起或者完成维生素D治疗方案。可以在 对患者的一个或者多个牙齿施加力的同时进行维生素D治疗方案。
可以在将一个或者多个正畸器具安装在患者牙齿上或者将功能 性器具安装在患者口腔中之前、同时或者之后对患者施用维生素D。 在一些实施例中，在从患者的牙齿移除一个或者多个正畸器具之前对 患者施用维生素D。在一些实施例中，在将一个或者多个正畸器具安 装在患者牙齿上之前或者在从患者牙齿移除一个或者多个正畸器具之 前的一段时间(例如，数秒钟、数分钟、数小时、数天、数周、数月) 施用一剂维生素D。在其它实施例中，在将一个或者多个正畸器具安 装在患者牙齿上之后或者在从患者牙齿移除一个或者多个正畸器具之 后的一段时间(例如，数秒钟、数分钟、数小时、数天、数周、数月) 施用一剂维生素D。在一些实施例中，在将一个或者多个正畸器具安 装在患者牙齿上之前或者在从患者牙齿移除一个或者多个正畸器具之 前发起或者完成维生素D治疗方案(其可以跨越一剂或者多剂维生 素D)。在其它实施例中，在将一个或者多个正畸器具安装在患者牙 齿上之后或者在从患者牙齿移除一个或者多个正畸器具之后发起或者 完成维生素D治疗方案。可以在将正畸器具安装在患者牙齿上的同 时进行维生素D治疗方案。
与不施用维生素D的治疗方法相比，施用维生素D可以增大牙 齿移动量。与不施用维生素D的治疗方法相比，施用维生素D还可 以提高牙齿移动速率。在一些实施例中，相对于不包括施用维生素D 的用于调节牙齿移动的治疗方法，施用维生素D使牙齿移动的速度提高大约5％、大约10％、大约15％、大约20％、大约25％、大约 30％、大约40％、大约50％、大约60％、大约70％、大约80％、 大约90％或者落在大约1％到大约90％内的任何百分比。在一些实 施例中，与不施用维生素D的治疗方法相比，施用维生素D提高骨 骼重建速率。在一些实施例中，相对于不包括施用维生素D的用于 调节骨骼重建的治疗方法，施用维生素D使骨骼重建的速度提高大 约5％、大约10％、大约15％、大约20％、大约25％、大约30％、 大约40％、大约50％、大约60％、大约70％、大约80％、大约90％ 或者落在大约1％到大约90％内的任何百分比。
施用维生素D可以减少患者经受正畸治疗的时间量。施用维生 素D还可以减少在患者的一个或者多个牙齿上施加力的时间量。在 一些实施例中，相对于不包括施用维生素D的治疗方法，施用维生 素D使患者经受正畸治疗的时间量或者在患者的一个或者多个牙齿 上施加力的时间量减少大约5％、大约10％、大约15％、大约20％、 大约25％、大约30％、大约40％、大约50％、大约60％、大约 70％、大约80％、大约90％或者落在大约1％到大约90％内的任何 百分比。
与不施用维生素D的治疗方法相比，施用维生素D可以提高骨 骼重建速率。与不施用维生素D的治疗方法相比，施用维生素D还 可以提高骨骼沉积和再吸收中的一个或者两者的速率。在一些实施例 中，相对于不包括施用维生素D的治疗方法，施用维生素D使骨骼沉积或者再吸收中的一个或者两者的速率提高大约5％、大约10％、 大约15％、大约20％、大约25％、大约30％、大约40％、大约 50％、大约60％、大约70％、大约80％、大约90％或者落在大约1％ 到大约90％内的任何百分比。
在一个示例中，在成年患者的常规正畸检查和记录预约期间测 量成年患者的维生素D3血清水平。实验室结果可以表明患者的维生 素D3血清水平处于20ng/ml，这被认为是缺乏的和异常的。在该示 例中，患者的正畸诊断是I类轻度拥挤，在上牙弓上的拥挤为4mm 以及在下牙弓上的拥挤为4mm。正畸治疗计划可以制定为包括安装 固定正畸器具，对上牙弓和下牙弓进行一些轻度扩张。
在该示例中，患者在3个月内以每天6000IU的量自施用口服 油基维生素D3胶囊以提高他的维生素D3血清水平并且使他的维生 素D3血清水平正常化。可以可选地在3个月的维生素D3补充之后 再次进行实验室血清测试。患者可以基于他的后续实验室结果维持或者调节他的维生素D3口服剂量。应当理解，维生素D施用有若干可 以遵循以达到类似结果的替换口服给药和/或全身性给药方案。上面 概述的给药方案仅仅是许多方法中的一个。
在该示例中，正畸治疗可以在3个月周期之后或者提前在三个 月内开始。正畸治疗可以包括放置在患者牙齿上的常规固定正畸托架 和带。可以每天例如使用诸如图1所示口腔内光疗法装置以大约 850nm的波长对患者施用50mW/cm2强度的光20分钟。一旦牙弓已经扩张，则正畸治疗可以继续修整牙齿。在该示例中，应当相信，由 于每日施用光和维生素D3补充的组合，主动正畸治疗将在比不用光 疗法的正畸治疗少50％到75％的时间内完成。
在正畸治疗的被动阶段(即，保持阶段)，可以将固定保持正 畸器具安装在患者牙齿上。在一个实施例中，将Hawley保持器安装 在患者前牙上，Hawley保持器是设计为维持前牙的牙齿位置的可拆 卸器具。在一些实施例中，将固定保持器器具(诸如包括正畸托架的 固定保持器器具)接合到前牙的上6颗、下6颗或者上6颗和下6颗。 患者可以继续维生素D3补充。在一些示例中，患者每天通过口服自 施用2000IU到12000IU。可以基于维生素D血清水平确定剂量， 可以周期性地测量该维生素D血清水平以确定剂量。因此，可以在 被动阶段期间提高牙齿周围的牙槽骨密度。在被动阶段期间，可以在 上牙弓和下牙弓的区域中使用口腔内光疗法装置(诸如，图1和/或 图6所示光疗法装置)每周一次对患者施用具有大约625nm的波长 的光。
施用光治疗
可以以下列方式中的任何一个使用口腔内装置(包括但不限于， 此处描述的任何口腔内装置或者光疗法装置，诸如装置2500、3500) 对患者施用光。
可以对患者嘴的区域施用光。这些区域的一些示例包括，但不 限于，一个或者多个牙齿(例如，切牙、犬齿、前臼齿或者臼齿，诸 如上颌中切牙、上颌侧切牙、上颌犬齿、上颌第一前臼齿、上颌第二 前臼齿、上颌第一臼齿、上颌第二臼齿、上颌第三臼齿、下颌中切牙、下颌侧切牙、下颌犬齿、下颌第一前臼齿、下颌第二前臼齿、下颌第 一臼齿、下颌第二臼齿或者下颌第三臼齿)、一个或者多个牙根(例 如，牙根可以包括支持牙齿的一个或者多个根的一部分、支持牙齿的 一个根、支持牙齿的多个根或者支持牙齿的所有根)、支持一个或者多个牙齿的组织、上颌的一部分(例如，患者上颌牙槽骨的部分)、 下颌的一部分(例如，患者下颌牙槽骨的部分)、牙槽、基底组织、 牙龈(例如，牙槽软组织)、牙周韧带、牙骨质、牙周组织、颌骨骼 或者组织的区域或者患者其它口腔软组织或者骨骼组织的至少一部分。 区域可以位于患者嘴的左侧或者右侧上。在一些实施例中，一个或者 多个区域位于患者嘴的左侧和右侧两者上。在一些实施例中，区域可 以位于患者嘴的前面。区域可以包括一个、两个、三个、四个、五个、 六个、七个、八个或者更多个牙齿或者围绕或者支持牙齿的组织。区域可以包括一个、两个、三个、四个、五个、六个、七个、八个或者 更多个牙齿的一个或者多个根或者牙齿的牙周组织。区域可以包括具 体描述的包括或者不包括牙齿本身的围绕或者支持牙齿中的任何一个 的组织(例如，牙槽或者基底组织)。区域可以包括由上颌支撑的牙 齿或者组织或者由下颌支撑的牙齿。一个或者多个区域可以彼此相邻、 彼此相连或者彼此分开。此处对区域或者区域的示例的任何描述可以 适用于此处提供的任何其它区域或者治疗区域的示例。
在一些实施例中，光照射可以包括组织(例如，骨骼组织或者 软组织)的一部分的区域或者患者口腔内的其它区域而不照射患者口 腔的一个或者多个其它部分。例如，光可以照射患者口腔右侧上的下 颌第一臼齿而不照射也位于患者口腔右侧上的下颌第三臼齿。在一些 实施例中，仅对一个牙齿的一个或者多个根以及仅对一个牙周组织施 用光。替换地，对多个牙齿的一个或者多个根以及对多个牙周组织施 用光。可以对患者口腔中所有牙齿和牙周组织的一个或者多个根或者 少于患者口腔中所有牙齿和牙周组织的牙齿和牙周组织的一个或者多 个根施用光。可以用光照射一个或者多个所选择的牙齿、根或者牙周组织。例如，可以照射患者口腔右侧上的下颌第一臼齿和下颌第三臼 齿而不照射下颌第二臼齿。
在一些实施例中，对患者牙槽软组织施用光，其中从本发明装 置的一个或者多个发射器照射有效量的光。在一个实施例中，牙槽软 组织是牙槽粘膜。
在一些实施例中，来自口腔内装置的光可以以比它照射患者嘴 内的组织的其它部分大得多的强度照射包括组织(例如，骨骼组织或 者软组织)的一部分的区域。例如，光可以以比照射患者组织的任何 其它区域或者部分(例如，由图1所示其余面板1和3-6覆盖的组织 区域)的强度大3倍、5倍、10倍、20倍、50倍或者100倍的强度 照射第一组织区域(例如，由图1所示面板2覆盖的组织区域)。在 一个实施例中，光可以以比照射患者牙齿中的任何一个的光的强度大 的强度照射患者牙槽软组织的一部分。在另一个实施例中，相对于未在其上施加重的力的一个或者多个牙齿，光可以以更大强度照射或者 聚焦在可选地在其上施加重的力的一个或者多个牙齿(期望移动的牙 齿)。可以选择性地使具有较小力的牙齿或者锚固牙齿避开光或者以 较小光强度进行照射，使得它们可以移动得较小并且可以增强锚固效 果。在一些实施例中，这通过将如参照图5描述的为一个或者多个非 区域屏蔽光的一个或者多个罩应用至口腔内装置或者在口腔内装置内 进行调节来实现。在一些实施例中，到达区域的光可以具有大于阈值 的强度。在一些实施例中，这通过将如参照图19描述的与一个或者 多个区域相邻的发射器的密度应用至口腔内装置或者在口腔内装置内进行调节来实现。在一些实施例中，阈值可以具有如本文别处描述的 强度。
在一些实施例中，区域可以接近于患者嘴内的表面或者在软组 织或者骨骼组织内。区域可以在距患者嘴内的表面的一定深度处。例 如，区域可以距离患者嘴内的表面大约1μm、大约1μm、大约 10μm、大约50μm、大约100μm、大约200μm、大约300 μm、大约500μm、大约750μm、大约1mm、大约2mm、大 约3mm、大约4mm、大约5mm、大约7mm、大约10mm、大 约15mm、大约20mm、大约25mm、大约30mm、大约40mm、 大约50mm、大约60mm或者大约70mm。光可以照射可以具有 大于、小于或者为大约1nm2、大约1μm2、大约0.1mm2、大约0.2 mm2、大约0.3mm2、大约0.4mm2、大约0.5mm2、大约0.7mm2、 大约1mm2、大约10mm2、大约0.2cm2、大约0.5cm2、大约1cm2、 大约2cm2、大约3cm2、大约5cm2、大约7cm2、大约10cm2、大约 15cm2、大约20cm2、大约25cm2、大约30cm2、大约35cm2、大 约40cm2、大约50cm2、大约60cm2、大约80cm2、大约100cm2、大约120cm2、大约140cm2、大约160cm2、大约180cm2或者大约 200cm2的面积的区域。光可以照射一个区域、多个区域、一个点或 者多个点。在一些实施例中，光照射特定区域而不以显著强度照射周 围区域。例如，光可以照射特定牙齿或者牙齿组而不用大量光照射相 邻牙齿。在一个实施例中，照射牙齿包括照射牙齿的暴露表面、牙根 或者牙齿的牙周组织(参见，例如，图4和关联描述)。
可以从多个光源(例如，图3A所示发射器32)发射由口腔内 装置施用的光。光可以基于如此处描述的口腔内装置内的光源或者发 射器的位置照射连续区域或者一个或者多个离散区域。光可以从不同 方向照射各种区域。例如，可以从患者嘴的右侧(例如，从图1所示 面板1)以及患者嘴的左侧(例如，从图1所示面板3)施用光。可 以在口腔内装置内调节光源或者发射器，使得所使用的光朝区域向上 成角度或者朝区域向下成角度。可以在口腔内装置内使光源或者发射 器位移、成角度、旋转或者它们的任意组合。
如此处描述的，可以通过口腔内装置施用有效量的光。有效量 的光是对调节牙齿移动、减少、防止或者最小化牙根再吸收、减少骨 骼再吸收、炎性牙质再吸收或者牙骨质再吸收、防止或者最小化炎症 或者围绕在其上施加或者曾经施加了重的力的一个或者多个牙齿重建 组织、再生上颌或者下颌牙槽骨或者此处公开的其它方法有效量的光。 光的性质可以包括，但不限于：其强度、波长、相干性、范围、发射 的峰值波长、能量密度、连续性、脉冲、占空比、频率或者持续时间。
在一些实施例中，用于调节牙齿移动的方法还可以包括确定有 效量的光。可以基于预期的牙齿移动调节效果进行确定。方法还可以 包括选择提供有效量的光的一个或者多个光性质。方法还可以包括从 控制器接收指令以及发射具有特定性质的光。控制器可以是例如图7 所示的控制器430、参照图17描述的外部电子设备或者此处描述的 任何其它控制器。控制器可以实现此处描述的步骤中的任何一个。
可以从口腔内装置内能够照射具有预期性质的光的一个或者多 个光源施用光。如此处描述的，口腔内装置可以从一个或者多个光发 射器(诸如发射器32、132、232和/或332)发射光。在一些实施例 中，口腔内装置包括大约10个到大约15个发射器、大约15个到大 约20个发射器、大约20个到大约30个发射器、大约30个到大约 40个发射器、大约40个到大约50个发射器、大约50个到大约70 个发射器或者大约70个发射器到大约100个发射器。例如，可以从 下列发射器中的一个或者多个施用光：可以以阵列存在的发光二极管(LED)；以及激光器，例如，垂直空腔表面发射激光器(VCSEL) 或者其它合适的光发射器(诸如磷化铟-镓-铝(InGaAIP)激光器、 磷化镓-砷/磷化镓(GaAsP/GaP)激光器或者砷化镓-铝/砷化镓 (GaAIAs/GaAs)激光器)。在一个实施例中，口腔内装置包括多 个激光器。多个光发射器可以以一个或者多个不同波长发射光。替换 地，一个或者多个光发射器可以以相同波长发射光。一个或者多个光 发射器可以以任何方式(诸如线性阵列或者此处描述的另一种布置) 布置在口腔内装置上或者内。
有效量的光可以具有对调节牙齿移动有效的强度。在一个实施 例中，光强度是至少大约10mW/cm2。在其它实施例中，光强度是 大约1mW/cm2或者更大、大约3mW/cm2或者更大、大约5 mW/cm2或者更大、大约7mW/cm2或者更大、大约12mW/cm2或者 更大、大约15mW/cm2或者更大、大约20mW/cm2或者更大、大约 30mW/cm2或者更大、大约50mW/cm2或者更大、大约75mW/cm2或者更大、大约100mW/cm2或者更大、大约200mW/cm2或者更大、 大约500mW/cm2或者更大或者大约1W/cm2或者更大。在其它实施 例中，光强度是大约20mW/cm2或者更小、大约30mW/cm2或者更 小、大约50mW/cm2或者更小、大约75mW/cm2或者更小、大约 100mW/cm2或者更小、大约200mW/cm2或者更小、大约500 mW/cm2或者更小、大约1W/cm2或者更小、大约2W/cm2或者更小、 大约5W/cm2或者更小、大约10W/cm2或者更小。在一个实施例中， 光强度的范围为从大约1W/cm2到大约10W/cm2。在另一个实施例 中，光强度的下限是大约3mW/cm2、大约5mW/cm2、大约7 mW/cm2、大约12mW/cm2、大约15mW/cm2、大约20mW/cm2、 大约30mW/cm2、大约50mW/cm2、大约75mW/cm2、大约100 mW/cm2、大约200mW/cm2、大约500mW/cm2或者大约1W/cm2。在另一个实施例中，光强度的上限是大约20mW/cm2、大约30 mW/cm2、大约50mW/cm2、大约75mW/cm2、大约100mW/cm2、 大约200mW/cm2、大约500mW/cm2、大约1W/cm2、大约2W/cm2、 大约5W/cm2或大约10W/cm2。在又另一个实施例中，光强度为15 mW/cm2。可以施用具有落在由此处描述的强度中的任何一个确定的 范围内的强度的光。在一些实施例中，强度是平均强度。在一些实施 例中，光具有在大约10mW/cm2到大约60mW/cm2或者大约20 mW/cm2到大约60mW/cm2的范围中的强度。在这种实施例中，峰 值光强度可以为大约50mW/cm2或者更大。峰值波长是发射最高光 强度的波长。在一些实施例中，光可以脉动。在其它实施例中，光输出是连续的。在一些实施例中，光强度可以以周期性或者非周期性方 式随时间变化。光强度可以随脉动或者不随脉动变化。在一些实施例 中，脉冲宽度调制可以用于影响期望光强度。如果施用一个或者多个 波长的光，则可以以它自己的强度施用每个波长。在一些实施例中， 有效量或者剂量的光可以包括施用具有大约15mW/cm2的强度的光 小于或者高达三分钟的持续时间。此处描述了关于有效量或者剂量的 光的另外细节。
在一些实施例中，有效量的光可以包括具有特定范围内的波长 的光或者一定波长范围的光。光不一定是可见光。例如，光可以包括 红外光或者近红外光。还可以在可见光区域中提供光。可以施用具有 范围为从大约620nm到大约1000nm的一个或者多个波长的光。在 一些实施例中，所施用的光具有范围为从大约585nm到大约665nm、 大约815nm到大约895nm、大约640nm到大约680nm、或者大约 740nm到大约780nm的一个或者多个波长或者那些范围内的任何给 定波长或者波长范围，诸如，例如，大约625nm或者大约855nm 或者大约605nm到大约645nm或者大约835nm到大约875nm。 在一些实施例中，所施用的光具有从大约605nm到大约645nm或 者从大约835nm到大约875nm的一个或者多个波长。在一些实施 例中，所施用的光具有从大约615nm到大约635nm或者从大约845 nm到大约865nm的一个或者多个波长。在一些实施例中，所施用 光的波长是大约625nm或者大约855nm。在另外的实施例中，所施 用的光具有范围为从大约400nm到大约1200nm的一个或者多个波 长。在特定实施例中，所施用的光具有范围为从大约500nm到大约 700nm、大约585nm到大约665nm、大约605nm到大约630nm、 或者大约620nm到大约680nm、大约815nm到大约895nm、大约 820nm到大约890nm、大约640nm到大约680nm或者大约740 nm到大约780nm的一个或者多个波长。在一些实施例中，所施用 的光具有下列波长范围中的一个或者两者中的一个或者多个波长：大 约820到大约890nm以及大约620到大约680nm。在一些实施例中， 所施用的光具有在大约820nm到大约890nm以及大约620nm到大 约680nm的范围中的一个或者多个波长。在一些实施例中，所施用 的光具有在大约815nm到大约895nm以及大约585nm到大约665 nm的范围中的一个或者多个波长。所施用的光可以替换地具有下列 范围中的一个或者多个中的一个或者多个波长：大约613nm到大约 624nm、大约667nm到大约684nm、大约750nm到大约773nm、 大约812nm到大约846nm。在一个实施例中，光波长的下限是大约 400nm、大约450nm、大约500nm、大约550nm、大约585nm、 大约595nm、大约605nm、大约613nm、大约615nm、大约620 nm、大约624nm、大约625nm、大约640nm、大约650nm、大约 667nm、大约680nm、大约710nm、大约740nm、大约750nm、 大约770nm、大约812nm、大约815nm、大约820nm、大约835nm、大约845nm或者大约860nm。在另一个实施例中，光波长的 上限是大约585nm、大约605nm、大约624nm、大约630nm、大 约635nm、大约645nm、大约655nm、大约660nm、大约665nm、大约680nm、大约684nm、大约700nm、大约725nm、大约755 nm、大约773nm、大约780nm、大约795nm、大约815nm、大约 830nm、大约846nm、大约855nm、大约865nm、大约875nm、 大约890nm、大约895nm、大约935nm、大约975nm、大约1000 nm、大约1050nm、大约1100nm或者大约1200nm。
所施用光的波长包括此处描述的波长值或者由此处描述的波长 值组成。
例如，在一些实施例中，对区域施用的光不包括超过下列中的 一个或者多个的一个或者多个波长：大约585nm、大约605nm、大 约624nm、大约630nm、大约635nm、大约645nm、大约655nm、 大约660nm、大约665nm、大约680nm、大约684nm、大约700 nm、大约725nm、大约755nm、大约773nm、大约780nm、大约 795nm、大约815nm、大约830nm、大约846nm、大约855nm、大约865nm、大约875nm、大约890nm、大约895nm、大约905 nm、大约910nm、大约915nm、大约920nm、大约935nm、大约 975nm、大约1000nm、大约1050nm、大约1100nm或者大约 1200nm。例如，在一些实施例中，不对所选择区域施用超过大约 585nm、大约605nm、大约624nm、大约630nm、大约635nm、 大约645nm、大约655nm、大约660nm、大约665nm、大约680 nm、大约684nm、大约700nm、大约725nm、大约755nm、大约 773nm、大约780nm、大约795nm、大约815nm、大约830nm、 大约846nm、大约855nm、大约865nm、大约875nm、大约890 nm、大约895nm、大约905nm、大约910nm、大约915nm、大约920nm、大约935nm、大约975nm、大约1000nm、大约1050nm、 大约1100nm或者大约1200nm的光。在一些实施例中，对区域施 用的光不包括低于下列中的一个或者多个的一个或者多个波长：大约 400nm、大约450nm、大约500nm、大约550nm、大约585nm、 大约595nm、大约605nm、大约613nm、大约615nm、大约620 nm、大约624nm、大约625nm、大约640nm、大约650nm、大约 667nm、大约680nm、大约710nm、大约740nm、大约750nm、 大约770nm、大约812nm、大约815nm、大约820nm、大约835 nm、大约845nm或者大约860nm。例如，在一些实施例中，不对 所选择区域施用低于大约400nm、大约450nm、大约500nm、大 约550nm、大约585nm、大约595nm、大约605nm、大约613nm、 大约615nm、大约620nm、大约624nm、大约625nm、大约640 nm、大约650nm、大约667nm、大约680nm、大约710nm、大约 740nm、大约750nm、大约770nm、大约812nm、大约815nm、 大约820nm、大约835nm、大约845nm或者大约860nm的光。在 一些实施例中，所施用的光不包括大约600nm或者更小的波长。在 一些实施例中，所施用的光不包括大约1000nm或者更大的波长。 在一些实施例中，所施用的光不包括大约600nm或者更小的波长以 及不包括大约1000nm或者更大的波长。
在一些实施例中，对区域施用的具有足够强度以成为当前方法 中的有效量的光不包括超过下列中的一个或者多个的一个或者多个波 长：大约585nm、大约605nm、大约624nm、大约630nm、大约 635nm、大约645nm、大约655nm、大约660nm、大约665nm、 大约680nm、大约684nm、大约700nm、大约725nm、大约755 nm、大约773nm、大约780nm、大约795nm、大约815nm、大约 830nm、大约846nm、大约855nm、大约865nm、大约875nm、 大约890nm、大约895nm、大约905nm、大约910nm、大约915 nm、大约920nm、大约935nm、大约975nm、大约1000nm、大 约1050nm、大约1100nm或者大约1200nm。例如，在一些实施例 中，不对所选择区域施用具有足够强度以成为用于口腔或者上颌面骨 骼重建的有效量并且超过大约585nm、大约605nm、大约624nm、 大约630nm、大约635nm、大约645nm、大约655nm、大约660 nm、大约665nm、大约680nm、大约684nm、大约700nm、大约 725nm、大约755nm、大约773nm、大约780nm、大约795nm、 大约815nm、大约830nm、大约846nm、大约855nm、大约865 nm、大约875nm、大约890nm、大约895nm、大约905nm、大约 910nm、大约915nm、大约920nm、大约935nm、大约975nm、大约1000nm、大约1050nm、大约1100nm或者大约1200nm的光。 在一些实施例中，对区域施用的具有足够强度以成为当前方法中的有 效量的光不包括超过下列中的一个或者多个的一个或者多个波长：大 约400nm、大约450nm、大约500nm、大约550nm、大约585nm、 大约595nm、大约605nm、大约613nm、大约615nm、大约620 nm、大约624nm、大约625nm、大约640nm、大约650nm、大约 667nm、大约680nm、大约710nm、大约740nm、大约750nm、 大约770nm、大约812nm、大约815nm、大约820nm、大约835 nm、大约845nm或者大约860nm。例如，在一些实施例中，不对 所选择区域施用具有足够强度以成为当前方法中的有效量并且低于大 约400nm、大约450nm、大约500nm、大约550nm、大约585nm、 大约595nm、大约605nm、大约613nm、大约615nm、大约620 nm、大约624nm、大约625nm、大约640nm、大约650nm、大约 667nm、大约680nm、大约710nm、大约740nm、大约750nm、 大约770nm、大约812nm、大约815nm、大约820nm、大约835 nm、大约845nm或者大约860nm的光。在一些实施例中，所施用 的光不包括具有足够强度以成为用于当前方法的有效量的大约600 nm或者更小的波长。在一些实施例中，所施用的光不包括具有足够 强度以成为用于当前方法的有效量的大约1000nm或者更大的波长。 在一些实施例中，所施用的光不包括具有足够强度以成为用于当前方 法的足够强度的大约600nm或者更小的波长以及不包括具有足够强 度以成为用于当前方法的有效量的大约1000nm或者更大的波长。
在一些实施例中，某些治疗更好地响应特定波长范围。例如， 在一些实施例中，牙齿移动(或者，更具体地，快速牙齿移动)在所 施用量的光具有从大约700nm到大约900nm的波长时更有效。例 如，有效量的光可以具有大约850nm的波长。在一个实施例中，口 腔内装置照射具有大约850nm的波长以及具有小于100mW/cm2连 续波的强度的光。在一些实施例中，骨愈合或者骨移植在所施用量的 光具有从大约600nm到大约700nm的波长时更有效。
在一些实施例中，以足以对患者牙齿和/或口腔粘膜产生杀菌和/ 或抑菌效应的波长施用光。换句话说，可以以足以杀灭和/或阻止患 者牙齿和/或口腔粘膜上的细菌繁殖的波长施用光。例如，可以以蓝 光波长或者类似波长(诸如从大约450nm到大约495nm的波长) 施用光。在一些实施例中，可以在施用对加速牙齿移动有效的光的同 时施用杀菌和/或抑菌有效光。例如，在一些实施例中，可以同时以 蓝光波长对患者施用光以用于产生杀菌和/或抑菌效应，以及以红光 波长或者红外波长对患者施用光以加速牙齿移动(例如，朝对准)。 在一些实施例中，可以在施用对加速牙齿移动有效的光之前施用杀菌 和/或抑菌有效光。在一些实施例中，可以在施用对加速牙齿移动有 效的光之后施用杀菌和/或抑菌有效光。
在一些实施例中，按照所描述的一个、两个或者更多个光范围 施用光。在一些实例中，不施用所描述的一个、两个或者更多个光范 围外的光。在其它实施例中，如特定应用所期望的，所施用的光具有 其它波长。在一些实施例中，可以对第一区域(例如，图1所示面板 1处的区域)施用具有第一组特性(例如，波长、强度、脉动、计时) 的光，以及可以对第二区域(例如，图1所示面板3处的区域)施用 具有第二组特性的光。第一区域和第二区域可以是相同区域，可以部 分地重叠或者不可以重叠。第一组特性可以与第二组特性相同，可以与第二组部分地重叠或者可以与第二组完全不同。在一个实施例中， 颌的一个区域可以接收第一波长范围内的光，而颌的另一个区域可以 接收第二波长范围内的光。第一波长和第二波长可以重叠。替换地， 在其它实施例中，第一波长和第二波长不重叠。
在一些实施例中，可以对患者顺序地或者同时施用一个或者多 个波长的光。例如，本发明的口腔内装置可以包括发射具有大约850 nm波长的光的第一发射器以及顺序地或者同时地发射具有大约620 nm波长的光的第二发射器。在一些实施例中，第一发射器可以被配 置为在第一时间周期期间发射光以及第二发射器可以被配置为在第一 时间周期之后的第二时间周期期间发射光。换言之，在第一发射器开 始发射具有620nm波长的光之后第二发射器发射具有大约850nm 波长的光，或者在第一发射器开始发射具有大约850nm波长的光之 后第二发射器发射具有大约620nm波长的光。在一些实施例中，每 天对患者施用具有大约850nm波长的光直到下列正畸治疗阶段中的 一个或者多个完成或者几乎完成：对准阶段、间距闭合阶段、修整或 者细节阶段或者保持阶段。一旦这些阶段中的一个或者多个完成或者 几乎完成，则患者可以开始接受混合光治疗，该混合光治疗包括施用 具有例如大约850nm和大约620nm的波长的光。可以与大约620 nm波长的光相继地或者同时地对患者施用大约850nm波长的光。 一旦牙齿已经移动到它们的最终位置，则正畸治疗的被动阶段可以开 始以及患者可以开始仅接收具有大约620nm的波长的光。
尽管下面为不同应用提供了光波长范围的示例，但是可以为那 些应用施用具有任何其它光波长值(可以包括此处描述的那些光波长 值)的光。
在一些实施例中，施用具有大约815nm到大约895nm(诸如 大约835nm到大约875nm或者大约855nm)的范围中的波长的光 在当前方法中有用(在一个实施例中，用于提高牙齿移动速率)。在 一个实施例中，提高牙齿移动速率不会将牙齿倾斜运动增大到超过没 有通过口腔内装置为其提供光的正畸患者经受的牙齿倾斜运动。在一 些实施例中，施用具有大约585nm到大约665nm(诸如大约605 nm到大约645nm或者大约625nm)的范围中的波长的光在当前方 法中同样有用(在一个实施例中，用于提高牙齿移动速率)。在一些 实施例中，结合使用功能性器具、施加重的力和/或施用维生素D施 用具有前述波长中的任何一个的光在当前方法中有用(在一个实施例 中，用于提高牙齿移动速率)。
在一个实施例中，施用具有大约585nm到大约665nm的范围 中的波长的光将整体牙齿移动的量或者程度增大到比施用具有大约 815nm到大约895nm的范围中的波长的光更大的程度。在这种实施 例中，结合使用功能性器具、施加重的力和/或施用维生素D施用具有前述范围中的波长的光还可以将整体牙齿移动的量或者程度增大到 比仅仅施用光更大的程度。施用具有大约585nm到大约665nm(例 如，大约625nm)的范围中的波长的光可以引起比施用具有大约 815nm到大约895nm(例如，大约855nm)的范围的波长的光小 大约10％到大约50％的倾斜移动。例如，可以发生小大约10％、大 约15％、大约20％、大约25％、大约30％、大约35％、大约40％、 大约45％或者大约50％的倾斜移动。特定波长的光可以使倾斜移动 最小化。在一些实施例中，结合使用功能性器具、施加重的力和/或 施用维生素D施用的特定波长还可以使牙齿的倾斜移动最小化。
因此，在一个实施例中，施用具有大约605nm到大约645nm (诸如大约625nm)范围中的波长的光在当前方法中有用(在一个 实施例中，用于便于正畸治疗中牙齿的整体移动以及可选地提高骨骼 再生)。在一些实施例中，方法还包括提高骨骼再生。在另一个实施例中，施用具有大约835nm到大约875nm(诸如大约855nm)范 围中的波长的光在当前方法中有用(在一个实施例中，用于提高需要 或者可接受一定程度倾斜移动的牙齿的移动速率以及可选地提高骨骼 再生)。在上述实施例中，结合使用功能性器具、施加重的力和/或 施用维生素D施用这些相应范围的光可以用于例如便于正畸治疗中 牙齿的整体移动以及可选地提高骨骼再生。
在其它实施例中，施用具有如此处描述的波长(在一个实施例 中，在大约605nm到大约645nm的范围中，诸如大约625nm)的 光可用于提高骨骼重建的质量或者程度。相应地，本发明还涉及用于 提高骨骼重建质量或者程度的方法，包括对患者施用有效量的光，其中从本发明装置的发射器照射有效量的光。在一些实施例中，当施用 光时，装置的至少一部分接触牙槽软组织。在一些实施例中，用于提 高骨骼重建质量或者程度的方法还包括允许在需要方法的一个或者多 个牙齿上施加重的力和/或对患者施用维生素D。
骨骼重建可以包括任何骨骼特性的变化，诸如，但不限于，骨 骼形状、骨骼体积、骨骼密度或者骨骼矿物质含量。在一些实施例中， 骨骼重建可以包括骨骼生长或者再吸收。影响骨骼生长或者骨骼再吸 收可以导致骨骼形状或者位置改变(即，牙齿移动)。提高骨骼重建 的质量或者程度可以帮助调节骨骼形状或者位置(诸如下颌骨骼或者 上颌骨骼)或者可以帮助增强牙齿在特定位置中(例如，在由正畸治 疗产生的位置中，诸如一个或者多个正畸器具中的器具)的保持、减 小牙齿移动回先前位置(例如，在正畸治疗之前的位置，诸如一个或 者多个正畸器具中的任何器具)的可能性。因此，施用具有大约585 nm到大约665nm或者大约605nm到大约645nm或者大约615nm 到大约635nm或者大约625nm范围中的波长的光可选地还施用815 nm到895nm范围中的光可以在当前方法中有用，例如，用于在正畸治疗之前、之后或者同时稳定牙齿移动。相应地，在其它实施例中， 当前方法还包括在通过口腔内装置施用光之前、之后或者同时执行正 畸治疗，诸如将一个或者多个正畸器具安装在患者上。口腔内装置可 以被配置为在施用光期间戴在正畸器具上或者戴在正畸器具的至少一 部分上。在一个实施例中，正畸器具是保持器设备或者被动正畸器具。 其它合适正畸器具可以包括例如可拆卸保持器(诸如Hawley保持器 或者真空成型的保持器)或者固定保持器(诸如粘合舌保持器)。这 些器具可以在施用光之前、之后或者同时例如通过刺激骨骼再生或者 重建帮助来维持牙齿位置。在一些实施例中，当前方法还包括在施用 光之前、之后或者同时调节口腔或者上颌面骨骼重建(诸如，为患者 安装一个或者多个功能性器具)。施用具有大约815nm到大约895 nm或者大约835nm到大约875nm或者大约845nm到大约865nm 或者大约855nm范围中的波长的光还可以在一个实施例中用于在正 畸治疗之前、之后或者同时稳定牙齿移动。在一个实施例中，施用具 有大约585nm到大约665nm范围中的波长的光将骨骼再生或者重 建增大到比施用具有大约815nm到大约895nm范围中的波长的光 更大的程度或者范围。
牙根再吸收可以包括牙齿根结构的断裂或者破坏或者后续损失。 可以通过巨噬细胞分化成破骨细胞在周围组织中引起牙根再吸收，如 果该周围组织非常接近于根表面则可以再吸收根表面牙骨质和下层根 牙质。可以由在牙周组织上施加高于正常生理毛细管和间质压力的压 力的重的或者超级生理正畸力加剧牙根再吸收。这阻止正常血液流动，其可以引起缺血(缺乏血液供应)以及最终引起牙周组织中软组织和 骨骼的细胞死亡。通过多核细胞和潜在呼吸过程去除这些死亡组织 (也称为“玻璃样变区”)，以及在很多情况下，通过该过程再吸收 健康骨骼、牙骨质和牙质。
相应地，施用具有特定波长的光可用于调制牙齿移动速率、质 量和类型(例如，整体对倾斜)以及用于增强或者稳定牙齿移动。在 一些实施例中，稳定牙齿移动可以包括利用较小的倾斜移动来移动一 个或者多个牙齿。稳定牙齿移动还可以包括以特定方式延迟或者阻止 牙齿移动。例如，这可以包括最小化歪斜(或者倾斜移动)的量或者 消除歪斜。施用光还可以用于增强(或者诱导)骨骼再生或者重建。 施用光还可以用于减小、最小化或者阻止牙根再吸收、骨骼再吸收、 炎性牙质或者牙骨质再吸收或者组织炎症。结合使用功能性器具、施 加重的力和/或施用维生素D，施用光还可以用于这些目的。
在一些实施例中，可以对患者牙槽软组织或者其它口腔组织的 至少一部分或者对其整体施用光。替换地，使用口腔内装置，可以对 患者牙槽软组织的不同选择区域施用一个或者多个特定波长的光以影 响患者嘴的一个或者多个区域中的牙齿移动(例如整体地锚定(没有 移动)或者倾斜)。例如，如此处参照图5描述的，期望牙齿不移动 或者牙齿充当锚具以便于牙齿在患者的颌的其它选择区域中移动的一 个或者多个区域可以被可选地屏蔽或者掩盖以使得它们不接收光。替 换地，期望牙齿不移动或者牙齿充当锚具以便于牙齿在患者的颌的其 它选择区域中移动的一个或者多个区域由于这种区域上的光发射器被关闭而不接收光。可以对期望牙齿整体移动的区域施用具有大约585 nm到大约665nm范围、大约605nm到大约645nm范围、大约 615纳米到大约635nm或者大约625nm范围中的波长的光。可以对 期望增强牙齿移动但允许一定的牙齿倾斜移动的区域施用具有大约 815nm到大约895nm范围、大约835nm到大约875nm范围、大 约845nm到大约865nm或者大约855nm范围中的波长的光。可以 通过对患者牙槽软组织的一个或者多个选择区域施用具有一个波长的 有效量的光以及通过对粘膜的一个或者多个不同选择区域施用具有不 同波长的有效量的光选择性地调节牙齿移动。
在一些实施例中，可以在窄波长范围(例如，50nm或者更小、 30nm或者更小、20nm或者更小、10nm或者更小、5nm或者更小) 内或者以单个波长施用光。在一些实施例中，可以以有限波长范围 (例如，1000nm或者更小、700nm或者更小、600nm或者更小、 500nm或者更小、400nm或者更小、300nm或者更小、250nm或 者更小、200nm或者更小、150nm或者更小、100nm或者更小或 者75nm或者更小)施用光。在一些实施例中，所施用的光不包括 超出窄波长范围或者有限波长范围的波长。窄波长范围或者有限波长 范围可以具有如先前描述的波长的上限或者下限中的任何一个。然而， 在一些实施例中，所施用的光不包括具有足够强度以构成具有超出窄 波长范围或者有限波长范围的波长的有效量的光。
在一些实施例中，可以以一个、两个或者更多个发射峰值波长 发射光。峰值波长是发射最高光强度的波长。在一些实施例中，可以 以包括具有范围内的最高强度的峰值波长的波长范围施用光。在一些 实施例中，峰值波长可以是大约620nm、大约640nm、大约650nm、大约655nm、大约660nm、大约665nm、大约670nm、大约680nm、大约690nm、大约800nm、大约820nm、大约830nm、 大约835nm、大约840nm、大约845nm、大约850nm、大约860 nm、大约870nm、大约890nm、大约910nm或者大约930nm。 在一些实施例中，所施用的光不具有与峰值波长相差超过大约1nm、 大约2nm、大约3nm、大约5nm、大约10nm、大约15nm、大约 20nm、大约30nm、大约40nm、大约50nm、大约75nm、大约 100nm、大约150nm、大约200nm、大约250nm、大约300nm、 大约400nm或者大约500nm的波长。
在施用两个或者更多个光波长的位置，可以按照每个波长强度 的任何比率施用光。例如，以第一波长施用的光可以具有以第二波长 施用的光的大约1.1倍、1.2倍、1.3倍、1.5倍、1.7倍、2.0倍、2.5 倍、3.0倍、3.5倍、4.0倍、5.0倍、10倍、12倍、15倍、20倍、30 倍、50倍、100倍的强度。在一些实施例中，从一个或者多个光发射 器发射所施用的光，在另一个实施例中，从具有第一组性质的一个或 者多个光发射器以及可选地从具有第二组性质的第二组光发射器发射 所施用的光。在其它实施例中，具有第一组特性的光发射器的数量超过具有第二组特性的光发射器的数量。例如，具有第一组特性的光发 射器的数量可以是具有第二组特性的光发射器的数量的大约1.1倍、 1.2倍、1.3倍、1.5倍、1.7倍、2.0倍、2.5倍、3.0倍、3.5倍、4.0 倍、5.0倍、10倍、12倍、15倍、20倍、30倍、50倍、100倍或者 反之亦然。
光可以可选地是单色的或者基本上单色的，例如，具有从小于 特定波长大约10nm到大于特定波长大约10nm的波长。当光是 “基本上单色的”时，它由单个波长组成或者包括以对当前方法(包 括在允许或者不允许功能性器具在口腔或者上颌面骨骼、肌肉或者软组织或者患者的一个或者多个牙齿上施加力的情况下当对口腔或者上 颌面骨骼、肌肉或者软组织或者患者的一个或者多个牙齿施用时调节 口腔或者上颌面骨骼重建)无效的强度发射的其它波长。在一些实施 例中，以窄波长范围发射基本上单色的光而不以范围外的其它波长发 射或者不以范围外的其它波长发射有效强度的光。在一些实施例中， 在大约5nm或者更小、大约10nm或者更小或者大约20nm或者更 小的波长范围内发射基本上单色的光而不以范围外的其它波长发射或 者不以范围外的其它波长发射有效强度的光。从以多个波长发射的光 发射器施用光可以允许在多个波长内的照射或者施用中的更大选择性和精度。光可以可选地包括非相干光。在一些实施例中，可以以单个 频率施用光，光可以具有相对较快漂移的相位，光波的脉冲可以具有 快速变化的幅度或者光波可以包括宽范围的频率。
可以从光发射器直接对患者嘴中的区域施用光。在一些实施例 中，光可以在到达或者穿过患者嘴内的表面(例如，牙槽软组织)之 前通过光学器件进行修改。例如，可以在发射光之后以及在光到达或 者穿过患者嘴内的表面之前使光漫射、聚焦、平行、反射、重定向或 者过滤。可以例如通过将箔或者其它合适材料与口腔内装置一起使用 (诸如图3A中描绘的反射性背衬20)来实现这种修改。在一个实施 例中，可以在光到达患者嘴内的表面之前选择性地阻挡或者部分地过 滤一个或者多个波长的光。在一些实施例中，光可以在到达区域之前 相对于发射源发散或者会聚。例如，光可以以具有在大约45-60°范 围中的夹角θ的射束发散。所发射的光发散为具有0到大约15°、0 到大约30°、0到大约45°、0到大约60°、0到大约75°、0到大 约90°或者0到大约120°的夹角θ。
在一些实施例中，使用行业标准的LED产生光。LED可以包 括布置在一系列治疗阵列上的一个或者多个发射器阵列以覆盖上颌和 下颌两者的牙槽的目标区域。
照射区域的光可以可选地具有与发射的光相同或者大约相同的 特性。在一些实施例中，到达区域的光不具有与发射的光相同的特性。 在施用光之前或者当光穿过患者口腔组织时，可以可选地改变光特性 中的一个或者多个。当光穿过光学器件(诸如耦合至口腔内装置或者 设置在口腔内装置内的一个或者多个透镜或者镜)时，可以可选地改 变光特性中的一个或者多个。例如，光特性中的一个或者多个可以在 大约±20％或者更小、大约±15％或者更小、大约±10％或者更小、 大约±5％或者更小、大约±3％或者更小、大约±1％或者更小、大 约±0.5％或者更小或者大约±0.1％或者更小的范围中改变。
从例如光发射器照射的光的剂量或者有效量的范围可以为从大 约24J/cm2到大约200J/cm2。可以施用有效光剂量一次或者重复地 施用有效光剂量。在一些实施例中，有效量可以具有从大约30J/cm2到大约100J/cm2的照射的光能量密度。在其它实施例中，有效量可 以是大约5J/cm2或者更小、大约10J/cm2或者更小、大约20J/cm2或者更小、大约30J/cm2或者更小、大约50J/cm2或者更小、大约 75J/cm2或者更小、大约100J/cm2或者更小、大约125J/cm2或者更 小、大约150J/cm2或者更小、大约175J/cm2或者更小或者大约200 J/cm2或者更小。所照射光的有效量可以是大约1J/cm2或者更大、 大约5J/cm2或者更大、大约10J/cm2或者更大、大约20J/cm2或者 更大、大约25J/cm2或者更大、大约30J/cm2或者更大、大约40 J/cm2或者更大、大约50J/cm2或者更大、大约60J/cm2或者更大、 大约75J/cm2或者更大、大约100J/cm2或者更大、大约125J/cm2或者更大、大约150J/cm2或者更大或者大约175J/cm2或者更大。 所照射光的有效量可以在由此处描述的能量密度值中的任何一个限制 的范围中。可以例如通过使用发射具有相对较高平均强度的光的光源 或者通过增加施用光的持续时间以增大所照射光的有效量。
光的有效量可以具有到达区域(诸如下颌骨骼或者上颌骨)的 能量密度。例如，到达区域的光的有效量可以是从大约0.5J/cm2到 大约100J/cm2。可以施用到达区域的光的有效量一次或者重复地施 用到达区域的光的有效量。在一些其它实施例中，有效量具有从大约 1J/cm2到大约50J/cm2的照射的光能量密度。在其它实施例中，光 的有效量是大约0.5J/cm2或者更小、大约1J/cm2或者更小、大约2 J/cm2或者更小、大约5J/cm2或者更小、大约10J/cm2或者更小、 大约15J/cm2或者更小、大约20J/cm2或者更小、大约30J/cm2或 者更小、大约40J/cm2或者更小、大约50J/cm2或者更小、大约70 J/cm2或者更小、大约80J/cm2或者更小、大约90J/cm2或者更小或 者大约100J/cm2或者更小。光的有效量可以是大约0.5J/cm2或者更 大、大约1J/cm2或者更大、大约2J/cm2或者更大、大约3J/cm2或 者更大、大约5J/cm2或者更大、大约10J/cm2或者更大、大约15 J/cm2或者更大、大约20J/cm2或者更大、大约30J/cm2或者更大、 大约40J/cm2或者更大、大约50J/cm2或者更小、大约60J/cm2或 者更大、大约70J/cm2或者更大或者大约80J/cm2或者更大。到达 区域的光的有效量可以在由此处描述的能量密度值中的任何一个限制 的范围中。
通过口腔内装置施用有效量(其可选地为重复性的)的持续时 间的范围可以从大约10分钟到大约40分钟。在其它实施例中，在大 约30秒或者更长、大约1分钟或者更长、大约2分钟或者更长、大 约3分钟或者更长、大约5分钟或者更长、大约7分钟或者更长、大 约10分钟或者更长、大约15分钟或者更长、大约20分钟或者更长、 大约25分钟或者更长、大约30分钟或者更长、大约40分钟或者更 长、大约50分钟或者更长、大约1小时或者更长、大约1小时15分 钟或者更长、大约1小时30分钟或者更长或者大约2小时或者更长 的时间周期内施用剂量。可以在大约3分钟或者更短、大约5分钟或 者更短、大约10分钟或者更短、大约15分钟或者更短、大约20分 钟或者更短、大约25分钟或者更短、大约30分钟或者更短、大约35分钟或者更短、大约40分钟或者更短、大约50分钟或者更短、 大约1小时或者更短、大约1小时15分钟或者更短、大约1小时30 分钟或者更短、大约2小时或者更短或者大约4小时或者更短的时间 周期内施用有效量。可以在此处描述的时间值中的任何一个内的时间 范围中施用有效量。在一些实施例中，一个或者多个光阻挡罩或者遮 光物可以与口腔内装置一起使用。口腔罩可以阻挡一个或者多个波长 的光或者可以减小一个或者多个波长的光的强度以免到达由口腔罩覆 盖的区域。这可以包括上牙弓(例如，上颌齿)或者下牙弓(例如，下颌齿)。在一些实施例中，口腔罩接触患者的口腔组织或者一个或 者多个牙齿。
可以在光剂量之间提供任何时间周期。例如，剂量之间的时间 周期可以处于秒、分钟、小时、天、周、月、季度或者年的数量级。
可以以任何期望频率(例如，每天四次、每天三次、每天两次、 每天、每隔一天、每周、每两周、每月或者每季度)施用在一些实施 例中重复的有效量。在一些实施例中，可以定期(例如，每天)施用 剂量，而在其它实施例中，不定期施用剂量(例如，施用可以一周发生2次(在一周期间的任何时间))。在一个实施例中，可以在早上 或者晚上施用光。可以在患者经受骨骼重建或者牙齿移动的整个时间 周期期间施用光。在一些实施例中，除经受骨骼重建或者牙齿移动以 外，患者还经受正畸治疗。正畸治疗可以在口腔或者上颌面骨骼重建 之前、之后或者同时发生。可以在患者经受正畸治疗的整个时间周期 期间或者在治疗之后施用光以稳定牙齿移动。例如，如此处描述的， 可以在施加、移除、调节功能性器具或者正畸器具之后、在预约之后 或者在主动阶段之后施用光。当患者经受正畸治疗时，可以期望以较 大频率(例如，每天四次、每天三次、每天两次、每天或者每隔一天) 施用光。在正在施用光以例如稳定牙齿移动或者减小牙根再吸收的位 置，减小频率(例如，每周、每两周、每月或者每季度)的治疗可以 用于最小化对患者的不便。在一些实施例中，有效量的光维持组织细 胞(例如，缺血性组织细胞)的ATP能量水平以防止如此处描述的 细胞死亡。在一些实施例中，不少于大约每隔一天施用光。在一些实 施例中，患者一周至少三次或者四次接受光治疗。
可以施用光任何时间长度。在一些实施例中，可以以秒、分钟、 小时、天、周、月、季度或者年的数量级施用光。例如，可以在正畸 器具或者功能性器具施加力的同时施用光。可以在患者经受口腔或者 上颌面骨骼重建的时间周期内施用一个或者多个剂量的光，在患者经 受口腔或者上颌面骨骼重建期间正畸器具或者功能性器具施加力。在 一些实施例中，可以在对一个或者多个牙齿施加力的时间周期内施用 一个或者多个剂量的光，在对一个或者多个牙齿施加力期间患者佩戴 本身可以施加力(诸如重的力)的正畸器具或者患者经受正畸治疗， 在患者经受正畸治疗期间可以施加力(诸如重的力)。在一些实施例 中，当患者经受正畸治疗或者佩戴辅助器具时，患者通过口腔内装置 施用光。例如，口腔内装置的一部分(例如，口件)可以被配置为设 置在正畸器具(诸如可以在光施用期间施加对移动一个或者多个牙齿 有效的力的正畸器具)上。在其它实施例中，口腔内装置在一个或者 多个牙齿上施加重的力，使得不需要辅助器具。光施用(其可以包括 定期、不定期、连续或者间断的光施用)可以处于天、周、月、季度 或者年的数量级。在一些实施例中，在多天、多周、多个月、多个季 度或者多年内施用光。在一些实施例中，在多个疗程内施用光。在一 些实施例中，在疗程之间存在一个或者多个小时、天、周、月、季度 或者年。
如果光发射器是脉冲调制的，则可以根据需要调节它们的占空 比；例如，可以以大约10％、大约20％、大约30％、大约40％、大 约50％、大约60％、大约70％、大约80％或者大约90％的占空比 施用光。可以以任何频率发生脉冲调制。例如，可以每皮秒、纳秒、 微秒、毫秒、秒、多秒或者分钟对光进行脉冲调制。频率可以包括， 但不限于大约1mHz、大约10mHz、大约50mHz、大约100mHz、 大约500mHz、大约1Hz、大约2Hz、大约5Hz、大约10Hz、大 约15Hz、大约20Hz、大约25Hz、大约30Hz、大约35Hz、大约 40Hz、大约50Hz、大约70Hz、大约100Hz、大约200Hz、大约 500Hz或者大约1kHz。可以改变或者维持前述光发射特征中的任何一个(例如，光是亮还是灭、连续的还是脉冲调制的、占空比、频率、 强度、波长)。在从具有控制器的源发射光的情况下，可以根据来自 其控制器的指令改变或者维持光发射的任何特性。
在一些实施例中，可以控制口腔内装置的发射器以使得可以单 独地控制在给定周期接通或者断开的灯的数量。例如，可以相对于其 它光源或者发射器(诸如，例如，图19中描绘的装置)接通或者断 开光源或者发射器。可以单独地调制各种光源(例如，可以改变特定 光源的一个或者多个性质)或者以其它方式单独地控制各种光源以使 患者牙槽软组织的单个区段或者其它区域暴露于期望能量密度。当期 望对不同区域施用光(例如，通过口腔内装置的各种面板)时这可以 是合乎需要的。因此，可以改变当前施用的光的位置。在另一个实施 例中，可以相对于其它光发射器接通或者断开不同类型的光源。例如， 在一些时间处，可以在可以断开以第二波长范围发射的光的同时接通 以第一波长范围发射的光，反之亦然，或者可以接通或者断开两种类 型的光发射器。因此，可以改变当前施用的光的波长。在一些实施例 中，可以(例如，通过接通或者断开一些光源或者改变由光源发射的强度)改变当前施用的光的强度。选择性地施用光可以使能没有暴露 于任何光的牙齿的增大的锚固效果(由于下齿移动性)，这可以从而 允许更精确的骨骼重建或者被施用光的牙齿的移动。
在一些实施例中，尤其在对患者施用红外光的情况下，当前方 法还包括提供可见光发射。在一个实施例中，可见光足够亮以帮助装 置定位(如果由除了患者以外的人执行装置定位)。可见光可以但并 不一定具有对光治疗或者调节牙齿移动有益的波长或者波长范围。在 一些实施例中，光的可见分量和红外分量的强度比率是1部分或者更 少的可见光比5部分或者更多的红外光。在其它实施例中，可见分量 和红外分量的强度比率是大约1部分或者更多的可见光比5部分或者 更多的红外光、1部分或者更多的可见光比3部分红外光、1部分或 者更多的可见光比2部分红外光、1部分或者更多的可见光比1部分 红外光、2部分或者更多的可见光比1部分红外光、3部分或者更多 的可见光比1部分红外光、5部分或者更多的可见光比1部分红外光、 10部分或者更多的可见光比1部分红外光或者基本上没有红外光。 在一些实施例中，可以在可以包括相对于彼此小一个数量级的波长的 范围内发射光。替换地，范围可以包括以相对于彼此一个、两个、三 个或者更多个数量级发射的波长。
区域和期望光特性可以在患者之间不同。医师、牙科医生、其 它健康护理提供者或者患者可以为佩戴口腔内装置的患者确定光治疗 方案。
在一些实例中，可以期望对小于患者牙槽软组织的所有区域的 区域施用光，例如，如果期望其它区域中的牙齿不需要移动(例如可 以期望仅调节患者上牙或者下牙的移动或者当通过不对锚定牙齿施用 光(例如，为锚定牙齿阻挡光)调节其它牙齿移动时使用某些牙齿作 为锚具)。对患者牙槽软组织的所选择区域施用光可以包括使得光通 过组织或者粘膜照射一个或者多个选择的牙根。
在一个实施例中，在施加重的力之前、期间或者之后，对小于 患者牙槽软组织的所有区域的区域选择性地施用光。在一个实施例中， 不对锚定牙齿施用光。在该实施例中，辅助器具(例如功能性器具) 位于锚定区域或者牙齿与寻求重建的一个或者多个选择的骨骼区域之 间。辅助器具可以在所选择的骨骼区域(例如，在另一个牙齿上)施 加力。在一些实施例中，力是重的力。在一些实施例中，通过口腔内 装置对所选择的骨骼区域或者其它牙齿施用有效量的光以及不对锚定 区域或者经锚定的牙齿施用有效量的光。光施用可以增大所选择的骨 骼重建区域的速率或者其它牙齿的速度(或者移动速率)并且减小、 最小化或者阻止其它牙齿的根再吸收，同时不增大非选择区域的骨骼 重建速率或者锚定牙齿的速度。
如此处描述的，如果期望区别地操纵患者牙齿的移动，则还可 以期望对患者牙槽软组织的不同区域施用不同波长的光。例如，可以 对第一区域施用第一波长的光以及可以对第二区域施用第二波长的光。 第一波长和第二波长可以包括本文别处描述的任何波长，诸如，例如， 大约585nm到大约665nm或者大约815nm到大约895nm。
可以在区(此处也称为“光照射区”)上施用光。例如，可以 对具有区的区域施用光。在一些实施例中，光特性(例如，光强度) 可以在区上保持均匀。在其它实施例中，光特性可以在区上变化。例 如，光强度可以在区域的区上均匀或者变化。光施用的区可以具有任 何形状或者大小。
可以对任何大小和形状的光照射区施用光。例如，区域(诸如， 患者牙槽软组织的指定区域)可以具有任何大小或者形状。光照射区 可以具有一个或者多个尺寸(例如，长度、宽度、直径)，该一个或 者多个尺寸的范围为从大约1mm到大约80mm或者从大约1mm 到大约70mm。在一些实施例中，光照射区的一个或者多个尺寸 (例如，长度、宽度、直径)的范围可以从大约1mm到大约3mm、 大约3mm到大约5mm、大约5mm到大约7mm、大约7mm到大 约10mm、大约10到大约15mm、大约15mm到大约20mm、大 约20mm到大约25mm、大约25mm到大约30mm、大约30mm 到大约35mm、大约35mm到大约40mm、大约40mm到大约50 mm、大约50mm到大约60mm或者大约60mm到大约80mm。
光照射区可以具有任何形状，可以包括，但不限于，基本上矩 形形状、正方形形状、三角形形状、六角形形状、八角形形状、梯形 形状、圆形形状、椭圆形形状、月牙形形状、圆柱形形状或者半圆形。 在一些实施例中，光发射器的尺寸可以与光照射区的尺寸大约相同。 在其它实施例中，光源的尺寸可以大于光照射区的尺寸。替换地，光 源的尺寸可以小于光照射区的尺寸。光源与光照射区的相关区可以取 决于发射光的任何角度，其可以是平行角、会聚角或者发散角。
在一些实施例中，可以使用口腔内装置在治疗方案中提供有效 量的光。治疗方案可以用于当前方法。
在一个实施例中，典型治疗方案每天提供一剂光。当患者正在 使用口腔内装置时，可以在从几分钟持续到大约一小时的周期内施用 每天光剂量中的每一个。例如，每天1/2小时的光剂量可以是有效的 并且不会对患者过度地不便。单个每日剂量可以与将相同剂量划分成 在一天间的不同时间施用的多个疗程一样有效。一些治疗方案可以包 括在12周内每周5次治疗中施用光。每次治疗可以持续1/2小时并 且以具有660nm和840nm波长的光照射患者的口腔组织。660nm 的光可以在皮肤表面处具有大约20mW/cm2的强度。840nm的光可 以在皮肤表面处具有大约10mW/cm2的强度。这些治疗方案可以增 强骨骼密度。
其它治疗方案可以包括在每日治疗中施用光21天。每次治疗从 大约20分钟持续到大约一个小时并且以具有618nm的波长和在皮 肤表面处20mW/cm2的强度的光照射患者嘴的组织。这些治疗方案 可以加速骨骼移植物的愈合。
另一个治疗方案可以包括在六个月内每日两次施用光。可以通 过口腔内装置以大约660nm或者大约840nm的波长或者以大约660 nm和大约840nm的波长两者施用光。光的强度可以在患者嘴内的 目标表面处为大约20mW/cm2。正畸器具或者功能性器具可以在施用光的同时存在于患者嘴中。在第一6个月周期之后，可以提供每隔 一天施用一次光的第二6个月周期。此时，相同的功能性器具或者一 个或者多个正畸器具可以存在于患者嘴中。光施用可以可选地变得较 不频繁或者根据治疗进展以较低强度进行施用。在一些实施例中，在 整个治疗方案期间使用相同的口腔内装置。然而，在其它实施例中， 在整个治疗方案期间使用一个或者多个不同的口腔内装置。
另一个治疗方案可以包括对具有正畸器具或者功能性器具的患 者施用光，然后接着对器具进行调节。在一个这种实施例中，患者使 用口腔内装置和器具(例如，矫正架)两者。口腔内装置可以例如适 配在辅助器具上，使得可以同时使用口腔内装置和正畸器具。在一些 实施例中，两个或者更多个其它正畸器具可以与口腔内装置一起使用。 在其它实施例中，正畸器具和功能性器具与口腔内装置一起使用。正 畸器具可以在安装功能性器具之前、之后或者同时安装在患者牙齿上。 在一些实施例中，所佩戴和调节的正畸器具是口腔内装置，该口腔内 装置也施用光。在一些实施例中，调节正畸器具可以增大或者改变施 加在一个或者多个牙齿上的力的大小。调节正畸器具可以改变施加在 一个或者多个牙齿上的力的方向。可以在调节正畸器具之前对一个或 者多个选择的牙齿施用光高达一小时。调节正畸器具可以使得在一个 或者多个牙齿上施加重的力。调节器具可以改变所施加力的大小或者 方向或者两者。调节器具可以包括紧固、放松或者替换器具金属丝、 弹簧或者弹性设备中的一个或者多个。可以使用这种部件的不同大小、 材料或者形状。随后可以每天对一个或者多个选择的牙齿施用光直到 下次调节器具。该光施用可以减小、最小化或者阻止牙根再吸收、骨 骼再吸收、组织炎症、牙周组织再吸收或者牙骨质再吸收。
另一个治疗方案可以包括对患者施用维生素D；对牙槽软组织 的区域或者下颌骨骼、上颌骨骼或者一个或者多个牙齿施用光；安装 功能性器具或者正畸器具；以及随后调节正畸器具或者功能性器具。 在一些实施例中，调节功能性器具或者正畸器具增大或者减小施加在 一个或者多个牙齿、下颌骨骼、上颌骨骼或者颞骨上的力的大小。调 节功能性器具还可以改变所施加力的方向。可以在调节功能性器具或 者正畸器具之前对一个或者多个所选择区域施用光高达一小时。调节 功能性器具或者正畸器具可以使得在一个或者多个牙齿、下颌骨骼、 上颌骨骼或者颞骨上施加力。调节功能性器具或者正畸器具可以改变所施加力的大小或者方向或者两者。调节功能性器具或者正畸器具可 以包括紧固、放松或者替换器具的金属丝、弹簧或者弹性设备中的一 个或者多个。可以使用这种部件的不同大小、材料或者形状。随后可 以例如每天对一个或者多个所选择区域施用光直到下次调节功能性器 具或者正畸器具。该光施用可以调节口腔或者上颌面骨骼重建。在一 些实施例中，光施用调节牙齿移动。例如，施用维生素D和施用光 可以增大骨骼重建或者牙齿移动的速率。这可以减小患者佩戴或者需 要患者佩戴功能性器具或者正畸器具的时间量。
当前方法还可以包括控制本发明装置、患者的嘴、患者牙槽软 组织的或者向患者的嘴或者患者嘴的区域引导或者接触患者的嘴或者 患者嘴的区域的任何光源的温度。如此处描述的，口腔内装置可以包 括监测患者嘴、患者牙槽软组织和/或光发射器的温度的温度传感器 (或者其它类似传感器)。方法可以包括冷却、加热或者维持患者嘴 处的温度。可以使患者的嘴(例如，患者牙槽软组织)与温度控制机 构接触，该温度控制机构可以引起热量排除或者供应。在一些实施例 中，这种温度控制机构耦合至口腔内装置或者设置在口腔内装置内。 在一些实施例中，可以控制光源的温度。温度控制机构可以与光源通 信。可以从光源排除热量或者向光源提供热量。可以在方法内使用此 处描述的温度调节的任何实施例。方法还可以包括测量患者嘴的温度、 测量患者嘴内特定表面区域(例如，牙槽软组织)处的温度或者测量 光发射器中的一个或者多个处的温度。可以响应于所进行的一个或者 多个温度测量可选地发生温度调节。
在一个实施例中，在患者的正畸治疗之前、之后或者同时执行 当前方法。在一个实施例中，光施用是重复性的。
可以在下颌骨骼、上颌骨骼或者颞骨处发生口腔或者上颌面骨 骼重建。在一些实施例中，可以在关节(诸如颞下颌关节)处发生口 腔或者上颌面骨骼重建。在一些实施例中，可以在骨节或者关节窝处 发生口腔或者上颌面骨骼重建。调节口腔或者上颌面骨骼重建可以引 起下颌骨骼或者上颌骨骼的重新定位、下颌骨骼或者上颌骨骼的加长 或者缩短或者下颌骨骼或者上颌骨骼的角度、形状或者尺寸的改变。
口腔或者上颌面骨骼重建可以包括在患者中安装功能性器具。 功能性器具可以存在于患者的一个或者多个牙齿上。方法可以包括在 患者体内安装功能性器具(诸如在一个或者多个牙齿、患者的牙龈、 患者的上颌骨骼或者下颌骨骼或者患者的其它口腔或者上颌面构造上 安装器具)、调节患者的功能性器具，或者可以包括从患者移除功能 性器具。口腔或者上颌面骨骼重建的治疗可以包括在患者体内安装功 能性器具的时间周期。在一些实施例中，口腔或者上颌面骨骼重建的 治疗可以包括已经在患者体内安装功能性器具或者从患者移除功能性 器具之后的时间周期。在一些实施例中，口腔或者上颌面骨骼重建的 治疗可以包括在患者体内安装功能性器具之前的时间周期。在其它实 施例中，口腔或者上颌面骨骼重建的治疗包括在口腔或者上颌面骨骼、 肌肉、软组织或者一个或者多个牙齿(诸如下颌骨骼、上颌骨骼、颞 骨)上或者在一个或者多个口腔肌肉上施加力(其可以阻止口腔肌肉 在一个或者多个牙齿、下颌骨骼、上颌骨骼、颞骨上施加力)之前、 期间或者之后的时间周期。口腔或者上颌面骨骼重建的治疗可以包括 患者拜访或者咨询正畸医生或者其它牙科专家的时间周期。
口腔或者上颌面骨骼重建的治疗(包括用于调节这种重建的方 法)可以包括主动阶段和被动阶段。主动阶段可以包括在患者体内和 /或身上安装功能性器具的若干时间。在一些实施例中，主动阶段包 括在牙齿、下颌骨骼、上颌骨骼、颞骨上施加力的时间。主动阶段可 以包括患者经受对患者的功能性器具的一个或者多个调节的周期。在 一些实施例中，主动阶段包括正畸治疗的对准阶段。被动阶段可以包 括已经从患者移除功能性器具之后的周期。在一些实施例中，被动阶 段包括安装功能性器具但不再经受调节的周期。在一些实施例中，被 动阶段包括当功能性器具就位时颌或者牙齿上不再有进一步的肌肉张 力(这典型地在一段时间的治疗和骨骼重建之后发生)的周期。在一 些实施例中，被动阶段包括功能性器具不提供影响骨骼重建的力的周 期。作为替代，被动阶段可以包括功能性器具安装在患者体内并且将 上颌骨骼或者下颌骨骼维持在其位置中的周期。可以以天、周、月、季度或者年为数量级持续口腔或者上颌面骨骼重建的任何阶段。
正畸治疗可以使得一个或者多个牙齿相对于支撑上颌或者下颌 移动或者维持其位置或者可以包括牙齿移动的调节。在一些实施例中， 正畸治疗可以包括减小或者闭合牙齿之间例如由损伤、拔出等等产生 的间距或者间隙。在一些实例中，正畸治疗可以包括对准牙齿。正畸 治疗可以包括治疗当牙齿不适当地配合在一起时可以发生的咬合不正， 例如，由于当它们彼此相关时它们的个体位置或者下面颌骨的位置。 可以根据此处描述的方法利用光治疗或者牙齿移动调节来治疗咬合不 正。相应地，本发明还涉及用于治疗或者阻止咬合不正的方法，包括 对患者施用有效量的光，其中从本发明装置的发射器照射有效量的光。 在一些实施例中，当施用光时，装置的至少一部分接触牙槽软组织。 在一些实施例中，方法还包括允许在需要方法的患者的一个或者多个 牙齿上施加重的力。在一些实施例中，在施加重的力之前、期间或者 之后施用光。
正畸治疗可以包括在患者体内安装正畸器具。正畸器具可以存 在于患者的一个或者多个牙齿上。方法可以包括在患者体内安装正畸 器具(诸如将器具安装到患者的一个或者多个牙齿)、调节患者的正 畸器具，或者可以包括从患者移除正畸器具。在一些实施例中，可以 在安装或者移除功能性器具之前、之后或者同时安装或者移除正畸器 具。正畸治疗可以包括对患者施加正畸器具的时间周期。在一些实施 例中，正畸治疗可以包括在已经施加正畸器具或者从患者移除正畸器 具之后的时间周期。在一些实施例中，正畸治疗可以包括在施加正畸 器具之前的时间周期。在其它实施例中，正畸治疗包括在一个或者多 个牙齿上施加重的力之前、期间或者之后的时间周期。正畸治疗可以 包括患者拜访或者咨询正畸医生的时间周期。
在一些实施例中，正畸治疗可以包括主动阶段和被动阶段。主 动阶段可以包括在患者体内安装正畸器具的时间。在一些实例中，主 动阶段可以包括对一个或者多个牙齿施加力以影响牙齿移动的时间。 在一些实施例中，在主动阶段期间对一个或者多个牙齿施加的力是重 的力。主动阶段可以包括患者经受对患者的器具的一个或者多个调节 的周期。在一些实施例中，主动阶段包括正畸治疗的下列阶段中的一 个或者多个：对准阶段、间距闭合阶段和修整或者细节阶段。此处描 述了对准阶段。如果需要对准阶段，则间距闭合阶段典型地在对准阶 段之后发生。一般地，在间距闭合阶段期间，移动一个或者多个牙齿 以使得牙齿之间的任何间隙最小化。如果需要间距闭合阶段，则修整 或者细节阶段典型地在间距闭合阶段之后发生。一般地，在修整或者 细节阶段期间，方形或者矩形金属丝安装在患者的一个或者多个牙齿 上(在一些实施例中，作为包括托架的正畸器具的一部分)并且用于 扭转牙齿中的一个或者多个使得牙齿被设置到最终矫正的位置。一个 或者多个牙齿的整体移动典型地在间距闭合阶段和修整或者细节阶段 中的一个或者两者期间发生。可以在主动阶段的阶段中的任何一个或 者多个期间或者在被动阶段期间对患者施用光治疗。
被动阶段(包括保持阶段)可以包括已经从患者移除器具之后 的周期。在一些实例中，被动阶段可以包括安装器具但不再经受调节 的周期。在一些实例中，被动阶段可以包括正畸器具不再在牙齿上施 加力的周期。在一些实施例中，被动阶段可以包括例如正畸器具不提 供影响牙齿移动的力的周期。作为替代，被动阶段可以包括器具安装 在患者体内并且将一个或者多个牙齿维持在其位置中的周期。在一些 实施例中，正畸治疗的任何阶段以天、周、月、季度或者年为数量级 持续。
在一些实施例中，正畸治疗可以引起骨骼重建。在一些实施例 中，正畸治疗和骨骼重建或者牙齿移动同时发生。在一些实施例中， 除光治疗之外，可以在一个或者多个牙齿、颌的任何区域或者嘴或者 头的任何其它区域上施加力。可以通过口腔内装置和/或正畸器具施 加力。在一些实施例中，力是重的力。骨骼重建可以包括改变骨骼 (包括颌骨)的位置或者形态。例如，可以使颌骨向前移动或者可以 使颌骨加长。如此处公开的骨骼重建的其它示例也可以是适用的。在 一些实施例中，骨骼重建可以与调节牙齿移动结合发生。相应地，当 前方法对骨骼重建有用以及在一个实施例中引起骨骼重建。可以对区 域(诸如任何口腔骨骼或者组织)施用光并且光对骨骼重建有用。相 应地，本发明还提供用于诱导骨骼重建的方法，包括对患者施用有效 量的光，其中从本发明装置的发射器照射有效量的光。在一些实施例 中，当施用光时，装置的至少一部分接触牙槽软组织。在一些实施例 中，方法还包括允许在需要方法的患者的一个或者多个牙齿上施加重 的力。在一些实施例中，在施加重的力之前、期间或者之后施用光。 光治疗可以提高骨骼重建速率并且可以结合用于骨骼重建的力提供光 治疗。例如，施用如当前方法中描述的有效量的光可以将在没有光的 情况下实现相同程度骨骼重建的时间量减少大约10％、大约20％、 大约30％、大约40％、大约50％、大约60％、大约70％、大约80％ 或者大约90％。光治疗可以促进骨骼重建，骨骼重建可以提高牙齿 移动速率。这可以允许使用较重的力，较重的力可以比较轻的力更加 速牙齿移动。可以通过一个或者多个正畸器具施加这种力。
正畸器具的安装、调节或者移除可以发生在通过口腔内装置施 用有效量的光之前或者之后。在一些实施例中，有效量的光可以帮助 在利用正畸器具的正畸治疗期间调节或者加速牙齿移动或者在利用功 能性器具的口腔或者上颌面骨骼重建期间调节或者加速骨骼重建。有 效量的光可以用于减少在正畸治疗期间佩戴正畸器具的时间量或者在 口腔或者上颌面骨骼重建的治疗期间佩戴功能性器具的时间量。换句 话说，与没有施用有效量的光的正畸治疗时间相比，有效量的光可以 用于减少患者的正畸治疗时间。例如，根据本发明的方法，施用光可 以将治疗时间(例如，佩戴功能性器具或者正畸器具)减少高达治疗时间的大约10％、大约20％、大约30％、大约40％、大约50％、 大约60％、大约70％、大约75％、大约80％、大约85％或者大约 90％。例如，施用具有大约585nm到大约665nm(例如，大约625 nm)范围中的波长的光可以将患者佩戴正畸器具或者功能性器具的 时间量减少大约5％到大约90％，例如，大约5％、大约10％、大约 20％、大约30％、大约40％、大约50％、大约60％、大约70％、 大约75％、大约80％、大约85％或者大约90％。施用具有大约815 nm到大约895nm(例如，大约855nm)范围中的波长的光可以将 患者佩戴正畸器具或者功能性器具的时间量减少大约5％到大约90％， 例如，大约5％、大约10％、大约20％、大约30％、大约40％、大 约50％、大约60％、大约70％、大约75％、大约80％、大约85％ 或者大约90％。
在一些实施例中，施用具有期望光特性的有效量的光导致治疗 所需时间量的总体减少。例如，治疗可以包括安装功能性器具、移除 功能性器具以及安装或者移除正畸器具。通过结合功能性器具和正畸 器具的使用，可以减少总治疗时间。此外，可以传递对骨骼重建和牙 齿移动的增大控制。这可以在患者的青少年生长阶段期间尤其有利。
施用具有大约585nm到大约665nm(例如，大约625nm)范 围中的波长的光可以引起比不施用光的牙齿移动速率快大约5％到大 约90％的牙齿移动速率。例如，牙齿移动速率可以比不施用光的牙 齿移动速率快大约5％、大约10％、大约20％、大约30％、大约 40％、大约50％、大约60％、大约70％、大约75％、大约80％、 大约85％或者大约90％。
施用具有大约815nm到大约895nm(例如，大约855nm)范 围中的波长的光可以引起比由施用具有585nm到大约665nm(例如， 大约625nm)范围中的波长的光产生的牙齿移动速率快大约5％到 大约60％的牙齿移动速率。例如，牙齿移动速率可以比由施用具有 585nm到大约665nm(例如，大约625nm)范围中的波长的光产 生的牙齿移动速率快大约5％、大约10％、大约20％、大约30％、 大约40％、大约50％、大约55％或者大约60％。
施用具有大约815nm到大约895nm(例如，大约855nm)范 围中的波长的光可以引起比不施用光的牙齿移动速率快5％到大约95％ 的牙齿移动速率。例如，牙齿移动速率可以比不施用光的牙齿移动速 率快大约5％、大约10％、大约20％、大约30％、大约40％、大约50％、大约60％、大约70％、大约75％、大约80％、大约85％、 大约90％或者大约95％。
在一些实施例中，除光治疗以外，正畸治疗(尤其是包括使用 正畸器具的那些正畸治疗)可以在一个或者多个牙齿上施加力(诸如， 重的力)。这可以引起比不施加重的力的牙齿移动速率快大约5％到 大约80％的牙齿移动速率。例如，在一个或者多个牙齿中施加重的 力可以将牙齿移动速率提高大约5％、大约10％、大约20％、大约 30％、大约40％、大约50％、大约60％、大约70％、大约75％或 者大约80％。重的力可以引起牙根再吸收、骨骼再吸收、炎性牙质 再吸收、牙骨质再吸收或者组织炎症。
在一些实施例中，当允许在一个或者多个牙齿上施加重的力时， 施用有效量的光可以帮助减少、阻止或者最小化牙根再吸收。与允许 在一个或者多个牙齿上施加重的力而不施用有效量的光时相比，有效 量的光可以用于减少牙根再吸收的量。例如，根据本发明的方法，施 用光可以将牙根再吸收(例如，根尖再吸收)减少高达大约1％、大 约2％、大约3％、大约5％、大约7％、大约10％、大约15％、大 约20％、大约25％、大约30％、大约40％、大约50％、大约60％、 大约70％、大约80％或者大约90％。减少牙根再吸收(尤其在施加 重的力时)可以允许减少正畸治疗的时间量或者患者佩戴正畸器具的 时间量。施用有效量的光可以将患者佩戴正畸器具的时间量减少大约 5％到大约90％，例如，大约5％、大约10％、大约20％、大约 30％、大约40％、大约50％、大约60％、大约70％、大约75％、 大约80％、大约85％或者大约90％。
在一些实施例中，施用有效量的光可以帮助减少、阻止或者最 小化骨骼再吸收或者牙根或者牙周组织的炎性牙质或者牙骨质再吸收。 与允许在一个或者多个牙齿上施加重的力而不施用有效量的光时相比， 有效量的光可以用于减少骨骼再吸收或者牙根和牙周组织的炎性牙质 或者牙骨质再吸收。例如，根据本发明的方法，施用光可以将骨骼再 吸收或者牙根或者牙周组织的炎性牙质或者牙骨质再吸收减少高达大 约1％、大约2％、大约3％、大约5％、大约7％、大约10％、大约 15％、大约20％、大约25％、大约30％、大约40％、大约50％、 大约60％、大约70％、大约80％或者大约90％。在施加重的力的同 时减少骨骼再吸收或者牙根或者牙周组织炎性牙质再吸收或者牙骨质 再吸收可以减少正畸治疗的时间量或者患者佩戴正畸器具的时间量。 施用有效量的光可以将患者佩戴正畸器具的时间量减少大约5％到大 约90％，例如，大约5％、大约10％、大约20％、大约30％、大约 40％、大约50％、大约60％、大约70％、大约75％、大约80％、 大约85％或者大约90％。
在一些实施例中，施用有效量的光可以帮助减少、阻止或者最 小化在其上施加或者曾经施加重的力的一个或者多个牙齿周围组织的 炎症。与允许在一个或者多个牙齿上施加重的力而不施用有效量的光 时相比，有效量的光可以用于减少在其上施加或者曾经施加重的力的 一个或者多个牙齿周围的组织的炎症量。在一个实施例中，根据本发 明的方法，光施用可以将在其上施加重的力或者曾经施加重的力的一 个或者多个牙齿的周围组织的炎症减少高达大约1％、大约2％、大 约3％、大约5％、大约7％、大约10％、大约15％、大约20％、大 约25％、大约30％、大约40％、大约50％、大约60％、大约70％、 大约80％或者大约90％。在施加重的力的同时减少在其上施加或者 曾经施加重的力的一个或者多个牙齿的周围组织的炎症可以减少正畸 治疗的时间量或者患者佩戴正畸器具的时间量。施用有效量的光可以 将患者佩戴正畸器具的时间量减少大约5％到大约90％，例如，大约 5％、大约10％、大约20％、大约30％、大约40％、大约50％、大 约60％、大约70％、大约75％、大约80％、大约85％或者大约 90％。
可以根据治疗方案通过口腔内装置施用光。在一些实施例中， 当结合口腔内装置使用功能性器具或者正畸器具时，可以在通过口腔 内装置施用光之前安装功能性器具或者正畸器具，可以与通过口腔内 装置施用光同时安装功能性器具或者正畸器具，可以在通过口腔内装 置施用光之后安装功能性器具或者正畸器具，或者它们的任意组合。 在一些实施例中，可以在通过口腔内装置施用光之前移除功能性器具 或者正畸器具，可以与通过口腔内装置施用光同时移除功能性器具或 者正畸器具，可以在通过口腔内装置施用光之后移除功能性器具或者 正畸器具，或者它们的任意组合。在一些实施例中，可以在通过口腔 内装置施用光之前调节功能性器具或者正畸器具，可以与通过口腔内 装置施用光同时调节功能性器具或者正畸器具，可以在通过口腔内装 置施用光之后调节功能性器具或者正畸器具，或者它们的任意组合。
除在一个或者多个牙齿上施加力的口腔内装置以外或者代替在 一个或者多个牙齿上施加力的口腔内装置，功能性器具或者正畸器具 可以在患者的一个或者多个牙齿上施加力。可以在通过口腔内装置施 用光之后、同时或者之前施加力(例如，通过功能性器具和/或正畸 器具)。可以在发起光施用之后、同时或者之前施加力。可以在发起 涉及口腔内装置的光治疗方案之后、同时或者之前施加力。可以在发 起涉及口腔内装置的光治疗疗程之后、同时或者之前施加力。在一些 实施例中，可以在施用光之后施加力一秒或者多秒、一分钟或者多分 钟、一小时或者多小时、一天或者多天或者一周或者多周和/或在施 用光之后施加力一天或者更少天、一周或者更少周或者一周或者更少 周。可以通过口腔内装置施用光任何长度的时间。在一些实施例中， 可以在发起光施用之后施加力一秒或者多秒、一分钟或者多分钟、一 小时或者多小时、一天或者多天或者一周或者多周和/或在发起光施用之后施加力一天或者更少天、一周或者更少周或者一周或者更少周。 在一些实施例中，可以在结束光施用之后施加力一秒或者多秒、一分 钟或者多分钟、一小时或者多小时、一天或者多天或者一周或者多周 和/或在结束光施用之后施加力一天或者更少天、一周或者更少周或 者一周或者更少周。力可以是例如重的力。
可以在施加重的力之前、期间或者之后施用光任何时间周期。 例如，可以在施加力(诸如重的力)之前、期间或者之后施用光大约 1分钟、大约2分钟、大约3分钟、大约5分钟、大约10分钟、大 约15分钟、大约20分钟、大约30分钟、大约45分钟、大约1小时、 大约90分钟、大约2小时、大约3小时、大约4小时或者大约6小 时。在一些实施例中，施用光大约5分钟到大约10分钟。在一些实 施例中，在发起力的施加之前、期间或者之后以任何时间量施用光。 例如，可以在发起力的施加之前、期间或者之后施用光大约1分钟、 大约2分钟、大约3分钟、大约5分钟、大约10分钟、大约15分钟、 大约20分钟、大约30分钟、大约45分钟、大约1小时、大约90分 钟、大约2小时、大约3小时、大约4小时、大约6小时、大约12 小时、大约1天、大约36小时、大约2天、大约3天、大约4天、 大约1周、大约2周或者大约1个月。在一些实施例中，施用光大约 5分钟到大约10分钟。
如此处描述的在发起或者施加力之前施用光可以是预治疗方案 的一部分。然而，在一些实施例中，在施用任何光之前不发生这种预 治疗，并且功能性器具或者正畸器具施加力。功能性器具或者正畸器 具可以在施用光之前施加力例如一秒或者多秒、一分钟或者多分钟、 一小时或者多小时、一天或者多天或者一周或者多周和/或在施用光 之前施加力一天或者更少、一周或者更少或者一周或者更少。因此， 可以在施加力之后提供后续光治疗。在一些实施例中，在光施用期间 或者在光施用的一个或者多个阶段处施加力。
在一些实施例中，功能性器具或者正畸器具在与施用光的区域 相同的区域处施加力。在其它实施例中，功能性器具或者正畸器具在 与施用光的区域不同的区域上施加力。在一些实施例中，允许功能性 器具或者正畸器具在除了施用光的区域以外的区域上施加力可以使得 允许对施用光的区域施加力。
在一个实施例中，光剂量或者有效量的光具有范围为从大约24 J/cm2到大约200J/cm2的密度并且具有大约585nm到大约665nm 或者大约815nm到大约895nm范围中的波长。施用具有大约585 nm到大约665nm范围中的波长的光可以对当前方法有用，在一个 实施例中，用于促进牙齿整体移动或者最小化牙齿的倾斜移动或者两 者。施用具有815nm到大约895nm范围中的波长的光也可以对当 前方法有用，例如，用于提高牙齿通过患者骨骼的速度。在一些其它 实施例中，有效剂量的光可以具有如本文别处描述的光特性中的任何一个。患者的上颌或者下颌牙槽骨的区域中没有施用光的牙齿可以被 用作锚具以便于牙齿在所选择的区域中移动。如此处描述的，使用口 腔内装置对患者嘴的特定区域(例如，患者的牙槽软组织)直接施用 光。
在一些实施例中，当前方法包括对需要当前方法的患者通过口 腔内装置对所选择的患者嘴的第一区域(例如，牙槽软组织的第一区 域)施用具有第一波长的有效量的光并且还包括通过口腔内装置对所 选择的患者嘴的第二区域(例如，牙槽软组织的第二区域)施用具有 第二波长的有效量的光。在一个实施例中，具有第一波长的光的有效 量是重复性剂量。在另一个实施例中，具有第二波长的光的有效量是 重复性剂量。除牙槽软组织以外的区域可以接收第一波长或者第二波 长的光。在一个实施例中，光的有效量可以在24J/cm2到200J/cm2的范围中。第一波长可以在大约585nm到大约665nm的范围中， 以及第二波长可以在大约815nm到大约895nm的范围中。在其它 实施例中，有效量的光可以具有如本文别处描述的光特性中的任何一 个。
在一些实施例中，方法还包括安装口腔内装置和/或辅助器具 (诸如，例如，功能性器具或者正畸器具)、移除口腔内装置和/或 辅助器具，或者调节口腔内装置和/或辅助器具。在其它实施例中， 方法包括通过口腔内装置施用光直到正畸治疗完成。在完成与正畸专 家的预约之后、在已经使一个或者多个牙齿的移动稳定以保持在基本 上相同的位置中(例如，在特定位置的大约1毫米到大约3毫米内) 而不用任何类型正畸器具的辅助之后或者在如此处更详细描述的正畸 治疗的被动阶段期间可以认为正畸治疗完成。可以在安装、调节或者 移除辅助器具之前、期间、之后或者它们的任意组合对区域施用光。 可以在通过口腔内装置施加光之前、期间、之后或者它们的任意组合 施加、调节或者移除辅助器具。在一些实施例中，可以在安装或者调 节正畸器具时或者在这种安装或者调节之后一段时间内施加力(诸如 重的力)。
如此处描述的，可以通过施用光以调节牙齿移动的速率(例如， 通过骨骼)或者该移动的质量(“整体”或者“倾斜”移动)。在一 个实施例中，当前方法可用于影响骨骼再生，其可以与当前方法同时 发生。可以通过根据当前方法施用光以增强骨骼再生。在执行正畸治 疗的情况下，可以在正畸治疗之前、期间或者之后使用口腔内装置施 用光。可以以此处描述的任何方式从口腔内光疗法装置发射光。骨骼 再生可以包括骨骼生长或者骨骼再吸收。这可以包括成骨细胞或者破 骨细胞活化。牙齿移动可以需要破骨细胞活性和成骨细胞活性。在一 个实施例中，根据当前方法的光施用刺激破骨细胞或者成骨细胞以及 相应地刺激破骨细胞活性和成骨细胞活性。光施用可以提高牙齿移动 的速率，牙齿移动可以伴随骨骼重建。
例如，当前方法(在一个实施例中，用于调节牙齿移动)还可 以包括施加、调节或者移除牙罩或者其它口腔罩。罩可以耦合至口腔 内装置、设置在口腔内装置内或者以其它方式作为口腔内装置的一部 分。在一些实施例中，口腔内装置的面板中的一个或者多个可以包括 罩。在其它实施例中，罩与口腔内装置分离但被配置为当患者佩戴口 腔内装置时接触口腔内装置。可以在施用光之前、期间或者之后施加 或者移除牙罩。可以在施加、调节或者移除口腔罩或者牙罩之前、期 间、之后或者它们的任意组合对区域施用光。在一些实施例中，可以 用可以阻挡光中的至少一些的罩至少部分地覆盖患者牙齿中的一个或 者多个或者患者嘴的其它区域。罩可以阻挡一个或者多个波长的光。 在一些实施例中，罩可以完全地阻挡一个或者多个波长的光，以及在 其它实施例中，罩可以减少到达牙齿或者患者嘴的其它区域的光的量 或者强度。在一些实施例中，对牙齿或者患者嘴的其它区域施用的光 的强度可以是零或者可以小于从光源发射的光的强度。
根据本发明的另一个方面，当前方法(在一个实施例中，用于 牙齿移动调节)可以调节骨骼再生。例如，当前方法可以提高骨骼再 生速率。在一些实施例中，骨骼再生可以便于牙齿移动调节(例如， 可以提高移动速度或者质量)或者可以稳定牙齿移动。例如，可以在 牙齿移动之前、期间或者之后发生骨骼再生。骨骼再生可以包括骨骼 生长、骨骼强化或者骨骼再吸收。例如，在骨骼再生期间，骨骼矿物 质密度(BMD)可以增大，骨骼体积(BV)可以增大，骨骼矿物质 含量(BMC)可以增大以及骨骼体积与总体积的比率(BV/TV)或 者骨骼密度可以增大。较高的BV/TV可以表明较少发生骨骼再生的 较致密骨骼，这在已经发生牙齿移动之后对于增强牙齿稳定性是合乎 需要的。具体地，相比在较不致密骨骼中，牙齿较慢地移动通过较致 密并且较矿化的骨骼，并且维持它们的位置较久。牙齿因此不太可能恢复原状并且移动回到它们原始的、不对准的状态。以这种方式，光 治疗可以提高骨骼质量或者更具体地增大骨骼的矿物质密度以防止正 畸治疗之后恢复原状。在一些这种实施例中，在对患者的一个或者多 个牙齿施加力之后(即，当不再对患者牙齿施加力时)发生光治疗。 在一个实施例中，在这种光治疗期间患者佩戴正畸器具。在另一个实 施例中，在这种光治疗期间患者不佩戴正畸器具。
可以在骨骼再生期间被影响的参数的其它示例可以包括小梁骨 表面、骨骼质量、破骨细胞活性(例如，破骨细胞和破骨细胞前体计 数)和骨骼再吸收。光治疗可以增强现有细胞过程。可以在任何骨组 织或者口腔区域中发生骨骼再生。例如，可以在上颌牙槽骨中的一部 分或者全部中、在下颌牙槽骨中或者在一个或者多个牙齿周围发生骨 骼再生。在一些实施例中，可以在一个或者多个牙齿周围(其可以包 括牙周组织)发生骨骼再生。在一些实施例中，一个或者多个牙齿周 围的区域可以在距牙齿表面大约1mm、大约2mm或者大约3mm 内。
在一些实施例中，根据当前方法的光治疗还可以使得治疗或者 防止颌骨坏死。相应地，当前方法对治疗或者防止颌骨坏死有用。相 应地，本发明还提供用于治疗或者防止颌骨坏死的方法，包括对患者 施用有效量的光，其中从本发明装置的发射器照射有效量的光。在一 些实施例中，当施用光时，装置的至少一部分接触牙槽软组织。方法 可选地包括允许在需要方法的患者的一个或者多个牙齿上施加重的力。 当适用时，可以在施加重的力之前、期间或者之后施用光。治疗或者 防止颌骨坏死可以包括通过使用根据此处描述的方法的光治疗逆转骨 坏死。可以关于任何骨组织发生颌骨坏死。例如，可以关于下颌牙槽 骨或者一个或者多个牙齿、上颌牙槽骨中的一部分或者全部发生颌骨 坏死。在一些实施例中，用于治疗或者防止颌骨坏死的方法还包括对 患者施用有效量的维生素D。
在一些实施例中，根据当前方法的光治疗还可以使得减小、最 小化或者阻止牙根再吸收、骨骼再吸收、炎性牙质或者牙骨质再吸收 或者组织炎症。相应地，当前方法可用于减小、最小化或者阻止牙根 再吸收、骨骼再吸收、炎性牙质或者牙骨质再吸收或者组织炎症。相 应地，本发明还提供用于减小、最小化或者阻止牙根再吸收(例如， 根尖再吸收)、骨骼再吸收、炎性牙质或者牙骨质再吸收或者组织炎 症的方法，包括对患者施用有效量的光，其中从本发明装置的发射器 照射有效量的光，以及可选地，允许在需要方法的患者的一个或者多 个牙齿上施加重的力。在一些实施例中，当施用光时，装置的至少一 部分接触牙槽软组织。当适用时，可以在施加重的力之前、期间或者 之后施用光。可以与施加至一个或者多个牙齿的重的力结合使用这种 光治疗方法或者这种光治疗方法可以用于与施加至一个或者多个牙齿 的重的力结合使用。
在一些实施例中，光治疗在正畸治疗的对准阶段期间调节牙齿 移动。在另一个实施例中，光治疗在除正畸治疗的对准阶段以外的阶 段(包括但不限于，正畸治疗的间隙或者间距闭合阶段)期间调节牙 齿移动。在又另一个实施例中，光疗法在正畸治疗的对准阶段之后调 节牙齿移动。
在一些实施例中，施用光的区域是任何口腔组织，诸如软组织 或者骨骼组织，包括牙槽软组织以及在一些实施例中牙槽粘膜。在一 些实施例中，口腔组织是执行了口腔外科手术的口腔组织。在一些实 施例中，口腔组织包括患者口腔内的口腔外科手术部位处的硬组织和 软组织中的一个或者两者。当前方法可用于在口腔外科手术、上颌面 外科手术、颅面外科手术和正颌外科手术中的一个或者多个之后治疗 组织和促进软组织愈合中的至少一个。口腔外科手术可以包括牙周外 科手术；正畸目的的外科手术；非正畸目的的外科手术；放置一个或 者多个牙齿种植体；与骨骼移植物相关的外科手术；与口腔癌症相关 的外科手术；异常细胞生长或者肿瘤；用于牙齿移除的外科手术；牙 龈外科手术；以及与结缔组织移植物、牙龈移植物或者其它软组织移 植物相关的外科手术。更具体地，口腔外科手术可以包括出于正畸原 因的牙齿移除的外科手术和出于非正畸原因移除一个或者多个牙齿的 外科手术，包括但不限于，由于下列情况中的一个或者多个的牙齿移 除：多生牙、异位牙(例如，其中犬齿嵌塞在患者腭中)、阻生智齿、 牙周疾病、折裂牙或者以其它方式损伤的牙、未受感染的根管治疗的 牙齿、不可恢复的牙齿或者受感染牙齿。口腔组织可以包括下列中的 一个或者多个：支撑一个或者多个牙的组织的一部分或者全部、牙龈 (即，齿龈)、牙槽软组织、上颌牙槽骨、下颌牙槽骨或者一个或者 多个牙。相应地，本发明还提供用于在口腔外科手术之后治疗口腔组 织的方法，包括对患者施用有效量的光，其中从本发明装置的发射器 照射有效量的光。在一些实施例中，治疗包括愈合。
在一些实施例中，对口腔组织的光施用在执行口腔外科手术 (包括，例如，放置牙齿种植体)的大约24小时内开始。在一些实 施例中，对口腔组织的光施用在执行口腔外科手术(包括，例如，放 置牙齿种植体)的大约6小时内开始。在一些实施例中，对口腔组织 的光施用在执行口腔外科手术(包括，例如，放置牙齿种植体)的大 约1小时内开始。在一些实施例中，在一个或者多个治疗疗程中对口 腔组织施用光。在一些实施例中，在治疗疗程期间对口腔组织施用光 大约1分钟到大约10分钟。在一些实施例中，在治疗疗程期间施用 光大约6分钟。在一些实施例中，在治疗疗程期间施用光大约3分钟。 在一些实施例中，每天在一个治疗疗程期间对患者施用光。在一些实 施例中，每天在两个治疗疗程期间对患者施用光。
在一些实施例中，当施用光时，装置的至少一部分接触患者牙 槽软组织的执行外科手术的区域。在一些实施例中，方法还包括允许 在需要方法的患者的一个或者多个牙齿上施加重的力。当适用时，可 以在施加重的力之前、期间或者之后施用光。当前方法还对提高口腔 外科手术之后口腔组织的愈合速率有用。相应地，本发明还提供用于 提高口腔外科手术之后口腔组织的愈合速率的方法，包括对患者施用 有效量的光，其中从本发明装置的发射器照射有效量的光。在一些实 施例中，当施用光时，装置的至少一部分接触患者牙槽软组织打算执 行外科手术的区域。在一些实施例中，方法还包括允许在需要方法的 患者的一个或者多个牙齿上施加重的力。当适用时，可以在施加重的 力之前、期间或者之后施用光。
在一些实施例中，方法还包括对口腔组织执行口腔外科手术。 可以在施用根据当前方法的光治疗之前或者之后执行口腔外科手术。 在一些实施例中，光施用的区域可以是牙槽骨或者牙槽软组织。在一 些实施例中，施用发生大约20分钟。在一些实施例中，所施用光的 波长是大约625nm。在一些实施例中，所施用光的波长是大约850 nm。在一些实施例中，以大约100mW/cm2的强度施用光。在一些 实施例中，可以在口腔外科手术之后、在口腔外科手术之前或者在口 腔外科手术期间施用光。在一些实施例中，可以在口腔外科手术之前 或者在口腔外科手术期间对执行了口腔外科手术的组织施用光。在一 些实施例中，组织将愈合或者需要愈合(例如，由于口腔外科手术)。 在一些实施例中，本发明涉及用于治疗神经损伤或者麻木(其可以作 为口腔外科手术(例如，在患者的颌上)的结果发生)的方法。在一 些实施例中，本发明还涉及用于治疗或者防止牙周炎的方法，包括对 患者施用有效量的光，其中从本发明装置的发射器照射有效量的光。
在一些实施例中，本发明涉及用于治疗口腔外科手术的部位的 方法，包括对患者施用有效量的光，其中从本发明装置的发射器照射 有效量的光。在一些实施例中，治疗包括愈合。在一些实施例中，本 发明涉及用于愈合邻近一个或者多个牙齿种植体(例如，骨内牙齿种 植体)的口腔组织的方法。更具体地，方法可以包括愈合外科手术放 置一个或者多个牙齿种植体的部位处的口腔组织，其中部位包括硬组 织和软组织中的一个或者两者。愈合口腔组织可以包括加速钻入颌中 用于放置牙齿种植体的孔与牙齿种植体表面之间的骨骼生长和加速骨 内牙齿种植体的骨整合中的一个或者两者。用于愈合外科手术部位口 腔组织的方法包括对患者施用有效量的光，其中从本发明装置的发射 器照射有效量的光。在一些实施例中，当施用光时，装置的至少一部 分接触牙槽软组织。在一些实施例中，方法还包括允许在需要方法的 患者的一个或者多个牙齿上施加重的力。当适用时，可以在施加重的 力之前、期间或者之后施用光。在一个实施例中，可以根据此处公开 的用于调节牙齿移动的方法的教导执行这些方法。
在一些实施例中，当前方法还可以包括在施用光之前、期间或 者之后对区域(诸如口腔区域(例如，牙槽软组织))或者在区域附 近施加物质。可以在口腔内装置在患者嘴内之前、期间或者之后施加 物质。在一些实施例中，方法不包括在施用光之前、期间或者之后或 者在施加重的力之前、期间或者之后对区域或者在区域附近施加物质。 在一些实例中，物质可能已经天然地存在于区域处。物质可以增强或 者抑制光施用的效应。在一个实施例中，物质可以是可见光或者红外 光吸收物质，诸如染料。可以响应于物质的存在或者施加选择一个或 者多个光特性(诸如波长)。
尽管此处已经在一些实施例中将用于治疗口腔外科手术部位的 方法描述为提高或者加速口腔外科手术之后的口腔组织愈合速率，但 是在其它实施例中，延迟口腔外科手术部位处的口腔组织愈合可以是 合乎需要的。例如，正畸治疗程序可以包括患者牙齿对准和齐平的第 一阶段以及牙齿之间的间隙或者间距闭合(例如，通过一个或者多个 前牙的回缩和/或一个或者多个后牙的近中移动)的第二阶段。在一 些治疗程序中，在安装正畸器具之前以及在正畸治疗的第一阶段之前 拔掉患者牙齿中的一个或者多个(例如，拥挤牙弓中的一个或者多个 前臼齿)。如此处在各种实施例中描述的光疗法治疗可以在一些情况下刺激和加速拔出部位处口腔组织的愈合。加速的愈合可以包括随着 拔出部位(例如，牙槽)愈合提高的骨骼生长速率。然而，由于较高 骨骼密度可以减慢间隙或者间距闭合需要的牙根移动，因此拔出部位 处较高的骨骼密度(与在没有光疗法的情况下的正常愈合速率的期望 骨骼密度相比)可能对于正畸治疗程序包括用于间隙或者间距闭合的 第二阶段的患者是不可取的。换句话说，相比将在没有用于第一对准 阶段期间的牙齿移动的光疗法的情况下以其它方式出现的情况，拔出 部位处的牙槽可以包括更致密和更成熟的骨骼并且因此放慢在正畸治 疗的间隙闭合阶段期间的骨骼再吸收和牙根移动。相应地，在根据实施例的方法中，在拔出牙齿之后将屏障种植体2798(参见，例如， 图92)种植在拔出部位E处。在一些实施例中，在拔出牙齿之后 (诸如在相同的口腔外科手术疗程期间)立即种植屏障种植体2798。 照此，还在施用光疗法之前种植屏障种植体2798。屏障种植体2798 被配置为在正畸治疗的对准阶段期间阻止拔出部位E处由于光疗法 施用的加速愈合。屏障种植体2798可以是例如可再吸收胶原蛋白栓 塞。胶原蛋白栓塞2798可以被配置为随着在拔出部位E处形成新骨 骼而再吸收，以及使得相比将由于光疗法施用以其它方式发生的加速 愈合，新骨骼形成较慢。
本发明一个方面提供光治疗套件，包括如此处描述的口腔内光 疗法装置和供当前方法使用的指令。套件还可以包括与口腔内光疗法 装置分离的光源。单独光源和/或口腔内光疗法装置的光源可以是可 拆卸的和可弃式的，使得可以在给定使用量之后容易地更换它们。在 一些实施例中，光疗法装置和单独光源可以单独地封装或者可以封装 在一起。单独光源可以与口腔内光疗法装置的光源结合工作以帮助光 施用。单独光源可以以此处描述的任何方式发射光并且还可以具有此 处描述的特性的任何波长。
套件还可以包括如此处描述的可编程控制器。套件还可以包括 对控制器工作有用的任何部件。例如，套件可以包括为控制器或者口 腔内光疗法装置供电的部件。套件还可以包括允许控制器与口腔内光 疗法装置可操作地连接的部件。
套件还可以包括可以向控制器提供指令的软件、算法或者一组 计算机可读介质。软件、算法或者计算机可读介质组可以设置在存储 器介质上。存储器介质可以是可拆卸的或者便携式的，诸如CD、 USB闪存驱动器或者外部硬盘驱动器。
套件可以方便地封装并且可以从市场上购得。套件还可以包括 其中物品的使用或者维修的书面说明。
如此处描述的，根据本发明实施例的光疗法装置可以与外部设 备(诸如移动电话，包括智能手机(例如，
或者基于 AndroidTM的设备)、个人数字助理、计算机、平板、便携式电子设 备等等)电子地链接或者配对。以这种方式，装置可以被配置用于 (诸如通过
或者其它无线连接)与外部设备进行无线单 向或者无线双向通信中的至少一个。在一些实施例中，装置(例如， 装置2500)被配置为向外部设备传输与患者对处方治疗程序的依从 性相关联的数据，在处方治疗程序期间患者将使用装置对患者牙齿施 用光疗法。照此，在一些实施例中，光疗法系统包括外部设备。外部 设备可以例如由牙科从业医师使用以接收、存储和分析除如此处描述 的其它患者信息以外的患者依从性数据。
参照图93-102，外部设备可以被配置为执行代码以对由光疗法 装置传输的患者依从性数据进行接收、存储或者处理中的至少一个。 例如，可以将包括可执行代码的应用加载到外部设备上。可执行代码 可以被配置为在外部设备上显示一个或者多个屏幕以使牙科从业医师 能够输入与一个或者多个患者相关联的信息并且访问患者依从性数据。
外部设备可以被配置用于从业医师(或者指定的依从性管理员) 创建新账号。例如，如图93所示，外部设备可以要求输入从业医师 的姓名、电子邮件地址和密码(并且可以包括密码重置性能)。如图 94所示，外部设备可以被配置为要求输入访问应用的登录凭证(诸 如，通过登录屏幕)以维护患者信息的安全性。如图95所示，外部 设备可以被配置为显示患者信息已经输入到外部设备上的患者的列表。
如图96-98所示，外部设备可以被配置为显示可以将与新患者 相关联的信息添加至外部设备的屏幕。例如，外部设备可以被配置为 接收患者信息，诸如患者的姓名、出生日期、性别、联系信息(例如， 电子邮件地址)。外部设备还可以被配置为接收与用于患者的正畸治 疗程序相关联的信息。例如，外部设备可以被配置为接收关于患者的 咬合不正、患者的正畸治疗是否包括拔牙以及患者的估计治疗时间的 信息。外部设备还可以被配置为接收关于患者的光疗法治疗程序(包 括每天要施用的治疗疗程数量)以及要在治疗疗程期间施用光疗法的 一个或者多个牙弓(即，上牙弓、下牙弓或者上牙弓和下牙弓)的信 息。
如图99所示，外部设备被配置为与光疗法装置(例如，根据此 处描述的实施例的光疗法装置)配对。在一些实施例中，外部设备被 配置为在配对屏幕上显示用于使外部设备与光疗法装置配对的指令。 外部设备可以被配置为如图100所示显示指示外部设备与光疗法装置 是否成功配对的确认。外部设备还可以被配置为如图96-98所示提供 例如辅助从业医师输入患者信息的教程。外部设备可以被配置为在将 患者信息输入外部设备中之前或者之后与光疗法装置配对。在外部设 备与光疗法装置配对之后，外部设备可以从光疗法装置接收患者依从 性数据。
外部设备可以被配置为显示患者依从性数据的至少一部分。例 如，如图101和102所示，外部设备可以被配置为显示由患者完成的 以及为患者处方的治疗疗程的数量(例如，“10个中的9个”)和/ 或由患者完成的处方治疗疗程的总数的百分比(例如，90％)。外部设备可以被配置为显示由患者完成的连续治疗疗程的数量(例如， “所完成的7天连续治疗”)。外部设备可以被配置为显示从光疗法 装置接收患者依从性数据的最近发生(例如，日期和时间)。换句话 说，外部设备可以显示外部设备上存储的患者依从性数据与光疗法装 置上存储的患者依从性数据最近何时同步。如图98所示，外部设备 可以被配置为使患者依从性数据与光疗法装置同步(如果例如这种同 步没有已经由光疗法装置本身发起)。
外部设备还可以被配置为显示患者使用光疗法装置的日志，包 括使用光疗法装置施用治疗疗程的日期、治疗疗程的时间、治疗疗程 的持续时间、关于患者上牙弓还是下牙弓施用治疗疗程以及治疗疗程 或者光疗法设备的状态中的一个或者多个的列表。如图102所示，外 部设备还可以被配置为显示与光疗法装置本身相关联的日志，包括设 备的状态以及状态的日期和时间。状态日志可以例如列出指示装置在 此处描述的设备状态(或者状况)中的一个或者多个(诸如睡眠、就 绪、充电、通信或者错误状态)中的每个时间的光疗法装置的状态历 史。最后，如图103所示，外部设备可以被配置为提供注销选项以退 出应用。外部设备还可以被配置为如图103所示显示(诸如光疗法装 置的制造商的)联系信息。
如图112所示，根据实施例的方法4100可以包括确定患者应当 从使用施加至患者的一个或者多个牙齿的一个正畸器具转换为使用施 加至患者的一个或者多个牙齿的另一个正畸器具的速率。例如，用于 患者的正畸治疗方案可以包括使用多个正畸器具(一次一个并且以预 定序列或者正畸处方序列)。换言之，方案可以规定将来自多个正畸 器具的每个正畸器具顺序地可拆卸地耦合至患者的一个或者多个牙齿。 更具体地，在一些实施例中，每个正畸器具可以是来自多个校准器或 者一组校准器的校准器，配置为以预定顺序或者序列可拆卸地耦合至 患者的牙齿。多个校准器可以包括至少一个基本上透明的校准器。多 个校准器中的每个校准器可以是基本上透明的。在其它实施例中，多 个正畸器具可以包括此处描述的任何其它合适的正畸器具。正畸器具 (例如，第一校准器)耦合至患者牙齿的时间周期关于该方法被称为 治疗方案期间的治疗“周期”。患者不需要佩戴正畸器具和/或在周 期期间连续地使正畸器具安装在患者牙齿上。例如，对于可拆卸正畸 器具，周期可以跨越若干天或者周，在此期间患者可以在周期内移除 器具(例如，为了刷他们的牙齿等等)。
通常，方法4100的第一阶段包括评估基于正畸器具何时移除并 且由序列中的下一个正畸器具替换(此处还称为“切换”器具)的预 定时间表将来自多个正畸器具的正畸器具的一部分顺序地施加至患者 牙齿的周期期间患者牙齿移动的个体速率，以及方法4100的第二阶 段包括确定来自序列中的多个正畸器具的剩余正畸器具的正畸器具切 换的修改速率或者加速速率(与预定时间表相比)。正畸器具切换的 修改速率或者加速速率可以基于患者牙齿移动的自然速率和/或在使 用来自多个正畸器具的正畸器具的部分期间的牙齿移动速率。照此， 正畸器具切换的修改速率或者加速速率(即，为患者确定的周期)对于患者是特定的并且可以优化患者在正畸治疗期间的牙齿移动以及减 少患者的总正畸治疗时间。
在4110处，方法4100包括接收与正畸器具与患者口腔内的组 织之间的接触相关联的指示。更具体地，指示可以与由可拆卸地在患 者口腔内的正畸器具施加的压力和/或与耦合至患者牙齿或者曾经耦 合至患者牙齿的正畸器具相关联的感知的疼痛中的至少一个所引起的 一个或者多个感觉相关联或者可以包括由患者对指示的评估。例如， 在一个实施例中，指示包括当正畸器具耦合至患者牙齿时牙齿与正畸 器具之间存在的以及由患者通过视觉评估感知的空气间隙数量。在另 外的实施例中，指示包括空气间隙和一个或者多个另外的感觉的前述 评估。感觉可以包括压力和疼痛中的一个或者两者，以及在一个实施 例中，一个或者多个感觉(例如，压力和疼痛)由患者自我评估。在 一个实施例中，自我评估包括按照1到3等级的疼痛评估，其中“1” 指示没有疼痛或者几乎没有疼痛，“2”指示一些疼痛以及“3”指示 非常疼痛。在另一个实施例中，自我评估包括按照1到3等级评估由 正畸器具施加的压力，其中“1”指示没有压力或者几乎没有压力， “2”指示中等压力以及“3”指示高水平的压力(参见，例如，图 113)。在一些实施例中，接收包括接收与由正畸器具在口腔内的组 织上施加的压力相关联的压力指示和与正畸器具耦合至患者牙齿相关 联的疼痛指示。在其它实施例中，接收包括接收与由正畸器具施加的 压力的减小和/或不存在和与正畸器具耦合至患者牙齿相关联的疼痛 指示的减小和/或不存在相关联的指示。
可以例如在正畸器具外部的设备(此处还称为“外部设备”) (诸如移动电话，包括智能手机(例如，
或者基于 AndroidTM的设备)、个人数字助理、计算机、平板、便携式电子设 备等等)处接收指示。以这种方式，例如，正畸医生(或者牙科从业 医师)可以远离患者地访问与一个或者多个所接收的指示相关联的数 据。照此，正畸医生可以查看和/或评估数据并且处方包括多个正畸 器具的剩余部分的正畸治疗程序的剩余部分的正畸器具切换的加速的 速率或者以其它方式修改的速率。对指示数据的这种远距访问允许患 者和正畸医生避免有多个办公室拜访。在一些实施例中，如下面更详 细描述的，正畸医生和/或患者可以执行代码以进行一个或者多个所 接收指示数据的评估和/或基于评估确定修改或者加速的正畸器具切 换的至少一部分。
可以每天或者按照另一个合适的间隔接收指示。例如，在一个 实施例中，由患者和/或正畸医生每天评估疼痛、压力和/或配合。在 一个实施例中，在利用一个或者多个正畸器具治疗的疗程期间每天接 收指示。在一些实施例中，在预定天数内每天接收指示。例如，在一 些实施例中，预定天数从大约四天到大约十天。在另一个示例中，在 一些实施例中，预定天数是六天。尽管在预定天数内每天接收指示， 但是指示中包括的数据可以在预定天数的疗程内变化。换句话说，并 且仅作为示例，在预定天数的第一天接收的指示可以包括压力感觉但 没有疼痛的指示，而预定天数的第二天接收的指示可以包括压力感觉 和疼痛感觉的指示。然而，在其它实施例中，指示在预定天数的疗程 内不变化(例如，每天评估疼痛、压力和配合)。
在一些实施例中，如此处更详细描述的，由患者输入指示。例 如，患者可以将他或者她对与患者使用正畸器具相关的一系列问题的 回答输入到电子设备中。换言之，外部设备可以被配置为接收与输入 到患者电子设备的一个或者多个患者输入相关联的数据，包括患者对 电子问卷的回答，诸如图113所示问卷(例如，用于评估如上所述的 疼痛、压力和/或配合)。参照图113，患者可以输入他的或者她的首 字母(或者其它标识信息)并且可选地指示完成问卷的正畸器具使用 的日期。患者可以指示在对患者牙齿中的一个或者多个施加正畸器具 之后患者感受的疼痛水平。例如，指示可以是对患者牙齿中的一个或 者多个施加校准器之后患者感受的疼痛和/或压力水平。在一些实施 例中，指示基于上牙弓或者下牙弓中的较疼痛牙弓。示例疼痛指示包 括(1)没有疼痛或者几乎没有疼痛、(2)一些疼痛和(3)非常疼 痛。患者可以指示在对患者牙齿中的一个或者多个施加正畸器具之后患者感受的压力水平。例如，指示可以是对患者牙齿中的一个或者多 个施加校准器之后患者感受的压力水平。在一些实施例中，指示基于 上牙弓或者下牙弓中的配合较紧的牙弓。示例压力指示包括(1)没 有压力或者几乎没有压力、(2)中等压力和(3)高水平的压力。在一些实施例中，指示涉及牙齿与校准器之间存在的按1-3等级记分的 空气间隙数量，其中1指示没有空气间隙。患者可以指示当前对患者 牙齿中的一个或者多个施加的或者在完成问卷的正畸器具使用的日期 对患者牙齿中的一个或者多个施加的正畸器具。例如，患者可以指示 来自多个校准器或者一组校准器的特定校准器的校准器编号。患者可 以近似地指示在最近一天(或者24小时周期)中患者有多少小时没 有佩戴来自多个正畸器具的任何正畸器具。外部设备还可以可选地被 配置为通过患者使用电子设备对问卷的输入从患者接收另外的意见。
在一些实施例中，正畸器具是多个正畸器具的第一正畸器具 (例如，校准器)，预定天数是第一预定天数和/或指示是第一指示。 在这种实施例中，方法4100可选地包括在4120处接收与由患者感受 的以及由来自多个正畸器具的第二正畸设备引起的感觉相关联的第二 指示。指示可以是患者牙齿与校准器之间存在的空气间隙数量、感觉 (诸如校准器引起的压力或者疼痛)或者三个的组合。更具体地，第 二指示可以与由可拆卸地施加至患者牙齿和/或在患者口腔内的第二 正畸器具施加的压力或者与施加至患者牙齿的第二正畸器具相关联的 感知的疼痛中的至少一个相关联。在一些实施例中，接收包括接收与 由第二正畸器具施加的压力相关联的压力指示和与第二正畸器具相关 联的疼痛指示。在其它实施例中，接收包括接收与由正畸器具施加的 压力的减小和/或不存在和与正畸器具耦合至患者牙齿相关联的疼痛 指示的减小和/或不存在相关联的指示。可以在第二预定天数内每天 接收第二指示。
在4130处，方法4100包括基于指示(例如，第一指示和/或第 二指示)确定与来自多个正畸器具的每个正畸器具相关联的治疗周期。 在一些实施例中，基于第一指示、第二指示或者第一指示和第二指示 两者确定治疗周期。例如，在第一指示与校准器与患者牙齿之间的一 个或者多个空气间隙或者一个或者多个感觉(例如，疼痛或者配合 (压力))相关联的情况下，多个正畸器具的第一正畸器具的治疗周 期是直到疼痛被评估为没有疼痛或者几乎没有疼痛、压力被评估为没 有压力或者几乎没有压力以及不存在空气间隙为止的天数。在另一个 实施例中，在治疗方法中使用多个正畸器具的情况下，相应多个正畸 器具中的每一个的治疗周期是直到疼痛被评估为没有疼痛或者几乎没 有疼痛、压力被评估为没有压力或者几乎没有压力以及不存在空气间 隙为止的天数。在一些实施例中，可以基于每天的指示和正畸器具在 患者口腔内或者曾经在患者口腔内(例如，施加至患者的一个或者多 个牙齿)的小时数确定加权转换因子。例如，由外部设备接收的指示 可以包括正畸器具曾经施加至患者一个或者多个牙齿的小时数的指示。 如此处更详细描述的，可以由患者输入这种信息。在一些实施例中， 基于每天的指示确定牙齿移动因子。牙齿移动因子与患者牙齿中的一 个或者多个的移动量至少部分地相关联。在一些实施例中，基于每天 的指示和与患者是否已经在正畸器具在患者口腔内或者曾经在患者口 腔内的周期期间接受光疗法相关联的光指示来确定加权光因子。加权 光因子可以包括与光疗法相关联的任何其它参数(诸如每天光疗法的 持续时间、光疗法的波长、光疗法期间使用的光的功率等等)和/或 与光疗法相关联的任何其它参数相关联。
在4140处，方法4100包括产生与治疗周期相关联的信号。例 如，可以在确定治疗周期之后产生信号(例如，第一信号)。在一些 实施例中，由外部设备产生信号。信号可以包括电子信号，包括但不 限于，文本消息、视觉指示器、图形描绘。在一些实施例中，将信号发送至与患者相关联的电子设备，包括，例如，移动电话，包括智能 手机(例如，
设备或者基于AndroidTM的设备)、 个人数字助理、计算机、平板、便携式电子设备等等。
在4150处，方法4100可选地包括基于指示确定与多个正畸器 具相关联的总治疗持续时间。总治疗持续时间是多个正畸器具可拆卸 地耦合至患者牙齿的治疗方案的总持续时间。
在4160处，方法4100还可选地包括产生与总治疗持续时间相 关联的第二信号。例如，第二信号可以包括配置为发送至患者设备的 电子信号。第二信号可以被配置为向患者指示患者对于他们的处方的 正畸治疗顺序地具有多个正畸器具或者将使用多个正畸器具的总时间 周期(持续时间)。照此，第二信号还可以被配置为指示患者的正畸 治疗或者包括正畸器具序列的使用的正畸治疗的至少部分将何时结束 或者已经在何时结束。
在一些实施例中，外部设备可以被配置为执行代码以进行一个 或者多个指示的接收、治疗周期的确定和一个或者多个信号的产生中 的至少一个。例如，可以将包括可执行代码的应用加载到外部设备上。 可执行代码可以被配置为执行下列算法：
T＝(N×D)-(A×D)
T2＝(N×M)-(A×M)
其中：N＝具有最高数量的处方的正畸器具的患者的牙弓的多个 正畸器具中的正畸器具总数；
D＝在天数中，根据预定时间表的正畸器具切换频率；
M＝在天数中，在预定天数期间的评估周期之后正畸器具切换的 自然速率；
A＝由患者关于正畸器具在多个正畸器具的序列中的放置使用的 正畸器具的数量(例如，1...n...12个正畸器具的序列中正畸器具的 数量n)；
T＝基于正畸器具切换的预定时间表的正畸器具切换的剩余的时 间；
T2＝基于正畸器具切换的修改或者加速速率的正畸器具切换剩 余的时间。
可执行代码可以被配置为基于下列算法确定使用正畸器具切换 的修改或者加速速率的患者的正畸治疗时间的百分比减小：(T-T2) /T。
方法可选地包括当多个正畸器具的一个或者多个正畸器具顺序 地耦合至患者的一个或者多个牙齿时施用光疗法。例如，可以在第一 时间处以及在第一时间周期内将第一正畸器具施加至患者牙齿中的一 个或者多个。在第一时间周期的至少一部分期间当第一正畸器具施加 至患者牙齿中的一个或者多个时对患者牙齿中的一个或者多个施用光。 例如，如此处描述的，可以根据此处描述的任何合适方法施用光，包 括以任何合适的波长、强度或者在任何合适的持续时间内。在一些实 施例中，当施用光时，在第一正畸器具的一部分周围或者上设置光疗 法装置。在一些实施例中，光疗法装置被配置为检测施加至患者牙齿 中的一个或者多个的正畸器具在多个正畸器具的序列内的号码。例如， 光疗法装置可以被配置为使用射频识别(“RFID”)检测正畸器具 的号。在这种实施例中，例如，光疗法装置可以在光疗法装置的口腔 内壳体或者口腔外壳体中的至少一个中包括RFID读取器。在另一个 示例中，光疗法装置包括光学条形码读取器，配置为读取可以指示正 畸器具号码的正畸器具的光学条形码。
根据实施例用于对准患者牙齿中的一个或者多个的方法。方法 包括将第一正畸器具设置在患者口腔内以使得正畸器具可拆卸地耦合 至患者牙齿。第一正畸器具可以是此处描述的任何合适的正畸器具， 包括但不限于，校准器。方法包括确定特定于患者的时间周期。正畸 器具(例如，第一正畸器具，诸如第一校准器)耦合至患者牙齿的时 间周期关于该方法被称为治疗方案期间的“周期”。方法包括在周期 内将第一正畸器具维持在口腔内。尽管此处将正畸器具描述为在周期 期间维持在口腔内，但是，在一些实施例中，患者在周期期间不需要 佩戴正畸器具和/或使正畸器具绝对连续地安装在患者牙齿上。例如， 对于可拆卸正畸器具，周期可以跨越若干天或者周，在此期间患者可 以在短期内移除器具(例如，为了刷他们的牙齿等等)，然后将器具 重新安装在口腔内。在周期之后，将第二正畸器具设置在口腔内以使 得第二正畸器具可拆卸地耦合至患者牙齿。
方法可以包括使来自多个正畸器具的正畸器具依次耦合直到实 现患者牙齿中的一个或者多个的对准。例如，在一些实施例中，患者 可以顺序地设置来自多个正畸器具的第一、第二、第三...直到第n正 畸器具(其中n是任何合适的整数，例如，从四到三十)直到实现 对准。在使用中，例如，患者可以佩戴第一正畸器具一段时间周期， 然后用在后续时间周期内佩戴的第二正畸器具替换第一正畸器具，然 后用在后续时间周期内佩戴的第三正畸器具替换第二正畸器具，诸如 此类重复地替换正畸器具(例如，移除最近佩戴的器具以及安装序列 中的下一个器具)直到实现对准。在一些实施例中，当上牙弓LII分 数或者下牙弓LII分数中的一个或者两者在零(0)mm到小于(1) mm的范围内时，实现上牙弓或者下牙弓中的一个或者两者的一个或 者多个牙齿的对准。换句话说，当患者当前测量的牙弓的LII分数小 于1mm时，患者的牙齿可以确定为对准。LII分数为零(0)可以 指示牙齿完全地对准。
在一些实施例中，将来自多个正畸器具的每个正畸器具设置在 患者口腔内以使得由患者在一段时间周期内按顺序将每个正畸器具可 拆卸地耦合至患者的牙齿(此处也称为“佩戴”)。时间周期可以是 例如几天(例如，2、3、4、5或者6天)或者一周或者多周(例如， 1、2或者3周)。患者佩戴来自多个正畸器具的一个正畸器具的时 间周期可以不同于患者佩戴来自多个正畸器具的另一个正畸器具的时 间周期。换句话说，可以由患者在独立于或者无关于由患者佩戴来自 多个正畸器具的另一个正畸器具的时间周期的时间周期内佩戴来自多 个正畸器具的每个正畸器具。例如，可以在第一时间周期内佩戴第一 正畸器具，随后可以在持续时间小于或者大于第一时间周期的第二时 间周期内佩戴第二正畸器具。在一些实施例中，在第二正畸器具之后 在持续时间小于或者大于第一时间周期或者第二时间周期中的至少一 个的第三时间周期内佩戴第三正畸器具。在其它实施例中，在第二正畸器具之后在持续时间基本上等于第一时间周期或者第二时间周期的 第三时间周期内佩戴第三正畸器具。另外，可以在基本上相同的时间 周期内佩戴多个正畸器具的第一部分或者子集，以及可以在不同于佩 戴多个正畸器具的第一部分的时间周期的一个或者多个时间周期内佩 戴多个正畸器具的第二部分或者子集。
在一些实施例中，使来自多个正畸器具的正畸器具耦合的方法 可以包括使用此处示出和描述的光疗法设备中的任何一个施用光疗法。 换言之，在一些实施例中，更换正畸器具的方法(用第二未使用的正 畸器具替换第一正畸器具)可以包括使用此处示出和描述的光疗法设 备中的任何一个的光疗法。例如，在一些实施例中，方法可以包括将 第一正畸器具设置在患者口腔内以使得第一正畸器具可拆卸地耦合至 患者的牙齿。第一正畸器具可以是如此处描述的来自一组可拆卸正畸 器具的任何合适的正畸器具。方法还包括当来自正畸器具组的第一正 畸器具在患者口腔内时施用光疗法。可以使用此处示出和描述的光疗 法设备中的任何一个施用光疗法。
确定特定于患者的周期。如此处描述的，周期是根据治疗方案 要佩戴来自正畸器具组的正畸器具的时间周期。可以使用此处描述的 方法中的任何一个确定周期。例如，在一些实施例中，可以基于与所 施用的光疗法相关联的光指示确定周期。在其它实施例中，如此处描 述的，可以基于与疼痛减小、感觉减小、牙齿与正畸器具之间的空气 间隙是否存在的评估和/或与第一正畸器具相关联的压力减小相关联 的指示确定周期。在周期内将第一正畸器具维持在口腔内。
方法还包括在周期之后将第二正畸器具设置在患者口腔内以使 得第二正畸器具可拆卸地耦合至患者牙齿。
此处描述的一些实施例涉及具有永久计算机可读介质(也可以 称为永久处理器可读介质)的计算机存储产品，该永久计算机可读介 质在其上具有用于执行各种计算机实现的操作的指令或者计算机代码。 计算机可读介质(或者处理器可读介质)是永久的，这意味着它本身 不包括暂时传播信号(例如，在传输介质(诸如空间或者电缆)上承 载信息的传播电磁波)。介质和计算机代码(也可以称为代码或者算 法)可以是针对一个或者多个特定目的设计和构造的那些介质和计算 机代码。永久计算机可读介质的示例包括，但不限于，磁存储介质， 诸如硬盘、软盘和磁带；光存储介质，诸如致密盘/数字视频盘 (CD/DVD)、致密盘只读存储器(CD-ROM)和全息照相设备；磁 光存储介质，诸如光盘；载波信号处理模块；以及专门地配置为存储 和执行程序代码的硬件设备，诸如专用集成电路(ASIC)、可编程 逻辑设备(PLD)、只读存储器(ROM)和随机存取存储器(RAM) 设备。此处描述的其它实施例涉及计算机程序产品，该计算机程序产 品可以包括例如此处讨论的指令和/或计算机代码。
可以由软件(在硬件上执行的)、硬件或者它们的组合执行此 处描述的一些实施例和/或方法。硬件模块可以包括例如通用处理器 (或者微处理器或者微控制器)、现场可编程门阵列(FPGA)和/或 专用集成电路(ASIC)。软件模块(在硬件上执行的)可以用各种软件语言(例如，计算机代码)表达，包括C、C++、
Ruby、 Visual
和/或其它面向对象、过程的语言或者其它编程语言和 开发工具。计算机代码的示例包括，但不限于微代码或者微指令、机 器指令(诸如由编译器产生)、用于产生网络服务的代码和包括由计算机使用解释器执行的较高水平指令的文件。计算机代码的附加示例 包括，但不限于控制信号、加密代码和压缩代码。
示例1
在患者常规正畸检查和记录预约期间测量男性成年患者的 Vitamin D3血清水平。实验室结果可以表明患者的维生素D3血清水 平处于20ng/ml，这被认为是缺乏的和异常的。患者的正畸诊断是I 类轻度拥挤，在上牙弓上的拥挤为4mm以及在下牙弓上的拥挤为4 mm。正畸治疗计划可以制定为包括安装固定正畸器具，进行上牙弓 和下牙弓的一些轻度扩张。
患者在3个月内以每天6000IU的量自施用口服油基维生素D3 胶囊以提高他的维生素D3血清水平并且使他的维生素D3血清水平 正常化。可选地在3个月的维生素D3补充之后再次进行实验室血清 测试。患者可以基于他的后续实验室结果维持或者调节他的维生素 D3口服剂量。
在3个月周期之后或者提前在三个月内开始正畸治疗。正畸治 疗包括使用用硅树脂结扎线绑在适当位置的初始0.016英寸NiTi金 属丝将常规固定正畸托架和箍环放置在患者牙齿上。每天使用诸如图 1所示的口腔内光疗法装置以大约850nm的波长对患者施用50 mW/cm2强度的光20分钟。一旦牙弓已经扩张，则正畸治疗继续修 整牙齿。应当相信，由于每日施用光和维生素D3补充的组合，主动 正畸治疗将在比不用光疗法的正畸治疗少50％到75％的时间内完成。
在正畸治疗的被动阶段(即，保持阶段)，可以将固定保持正 畸器具安装在患者牙齿上。在一个实施例中，将Hawley保持器安装 在患者前牙上，Hawley保持器是设计为维持前牙的牙齿位置的可拆 卸器具。在一些实施例中，将固定保持器器具(诸如包括正畸托架的 固定保持器器具)接合到下6颗前牙。患者继续维生素D3补充。在 一些示例中，患者每天通过口服自施用2000IU到12000IU。可以基 于维生素D血清水平确定剂量，可以周期性地测量该维生素D血清 水平以确定剂量。因此，可以在被动阶段期间提高牙齿周围的牙槽骨 密度。在被动阶段期间，在上牙弓和下牙弓的区域中使用口腔内光疗 法装置(诸如，图1和/或图6所示光疗法装置)每周一次对患者施 用具有大约625nm波长的光。
示例2
在一个研究中，在正畸治疗的对准阶段期间使用图38中描绘的 本发明的例示性口腔内光疗法设备照射三个(3)患者的上颌前牙。 口腔内光疗法设备包括具有嵌入在口腔内壳体的硅树脂颊部凸缘和硅 树脂舌部或者腭部凸缘中的每一个中的发光织物面板的口腔内壳体和 设置在患者嘴外部的LED光源。通过将丙烯酸光学纤维编织成垫来 制造发光面板的织物。每个患者装备有他或者她自己的口腔内光疗法 设备，该口腔内光疗法设备与常规颊部固定正畸托架治疗方案结合使 用。此处详细描述了患者中的三个-患者A、患者B和患者C的治疗 和结果。
在研究期间，由每个患者每天使用口腔内光疗法设备直到他或 者她实现1mm或者更小的LII值。在使用时，口腔内光疗法设备接 触每个患者的上颌牙槽软组织并且每天用具有大约850nm波长的光 照射组织大约六分钟。
在研究期间，患者每两(2)周拜访一次临床医生。在每次拜访 时，临床医生执行定期正畸程序、收集包括口腔内照片和研究模型的 数据、记录患者依从性以及检查口腔内光疗法设备的功能性。为了评 估治疗的有效性，临床医生使用LII分级系统对每次预约时产生的模 型记分。每天持续上颌前部口腔内光疗法直到临床医生确定患者的 LII分数减小到1mm或者更小。
基于至少下列标准选择患者参加该研究：(1)患者适合于上牙 弓的全口固定正畸治疗以矫正拥挤、不对准和扭转牙；(2)存在恒 牙列(即，恒齿或者成年齿)；(3)上牙弓牙齿具有从5mm到 12mm的LII，条件是没有牙齿被阻挡脱离对准；和(4)患者为从 12岁到45岁。该研究排除下列类型的个体：(1)怀孕妇女；(2) 登记参加另一个牙周地涉及牙齿的研究的个体；(3)使用双膦酸盐 的个体；或者(4)具有任何受损牙齿或者医疗状况的个体。
患者A
患者A是在她的正畸治疗的对准阶段期间佩戴SPEED SystemTM托架和0.016英寸Supercable镍钛金属丝的十三(13)岁 女性。在研究的第1天，患者A的上牙弓LII为大约5.1mm。图39 是患者A在研究第1天的上牙弓照片。在与SPEED SystemTM托架 和金属丝结合使用用于光治疗的口腔内光疗法设备仅30天之后，患 者A的LII减小至0.5mm。该周期期间患者A的牙齿移动速率为大 约1.07mm/周。图40是示出了在研究的第30天患者A上牙弓中的牙齿的矫正取向的照片。
与对照的比较
患者A的结果与来自在她的正畸治疗的对准阶段期间也佩戴 SPEED SystemTM托架和0.016英寸Supercable镍钛金属丝但没有接 受光疗法的13岁对照患者的结果进行比较。对照患者在第1天具有 大约5.2mm的上牙弓LII。与患者A的牙齿移动时间相反，对照患 者的上牙弓LII减小到1mm或者更小花费了78天。该周期期间对 照患者的牙齿移动速率仅为大约0.42mm/周。
患者B
患者B也是在她的正畸治疗的对准阶段期间佩戴SPEED SystemTM托架和0.016英寸Supercable镍钛金属丝的十三(13)岁 女性。在研究的第1天，患者B的上牙弓LII为大约9.3mm。图41 是患者B在研究第1天的上牙弓照片。在与SPEED SystemTM托架 和金属丝结合使用用于光治疗的口腔内光疗法设备仅41天之后，患 者B的LII减小至0.8mm。该周期期间患者B的牙齿移动速率为大 约1.45mm/周。图42是示出了在研究的第41天患者B上牙弓中的牙齿的矫正取向的照片。
与对照的比较
患者B的结果与来自在她的正畸治疗的对准阶段期间也佩戴 SPEED SystemTM托架和0.016英寸SupercBble镍钛金属丝但没有接 受光疗法的相似年龄的对照患者的结果进行比较。对照患者在第1天 具有大约8.8mm的上牙弓LII。与患者B的牙齿移动时间相反，对照患者的上牙弓LII减小到0.3mm花费了129天。该周期期间对照 患者的牙齿移动速率仅为大约0.46mm/周。
患者C
患者C是在他的正畸治疗期间佩戴In-Ovation L Straightwire 系统托架以及0.012英寸和0.016英寸镍钛金属丝两者的十八(18) 岁男性。在研究的第1天，患者C的上牙弓LII为大约5.02mm。在 与In-Ovation L Straightwire system托架和金属丝结合使用用于光治 疗的口腔内光疗法设备仅42天之后，患者C的LII减小至零。该周 期期间患者C的牙齿移动速率为大约0.84mm/周。
示例3
在一个研究中，在正畸治疗的对准阶段期间使用图43-44中描 绘的本发明的口腔内光疗法设备照射九个(9)患者(口腔内组)的 上颌和下颌前牙中的一个或者两者。口腔内光疗法设备包括具有安装 在柔性电路上并且嵌入口腔内壳体的软的柔性颊部凸缘中的LED的 柔性口腔内壳体。每个患者装备有他或者她自己的口腔内光疗法设备， 该口腔内光疗法设备与常规颊部固定正畸托架治疗方案结合使用。
在研究期间，每个患者最初佩戴与0.014或者0.016英寸镍钛金 属丝对准的0.018狭缝
托架(从Ormco公司商业上 获得，Orange，CA)，然后发展到使用0.016英寸乘0.016英寸(也称为“16×16”)镍钛金属丝。
在研究期间，由每个患者每天使用口腔内光疗法设备直到他或 者她实现1mm或者更小的LII值(其中没有大于0.25mm的单个 LII接触点)。在使用时，口腔内光疗法设备用具有大约850nm(± 5nm)波长的光照射组织。除非此处另有说明，每天以从大约60 mW/cm2到大约100mW/cm2的光输出强度对每个患者的上颌弓或者 下颌弓中的一个或者两者施用光疗法大约三分钟。对于口腔内组所照 射光的平均强度为大约70mW/cm2。
在研究期间，患者每两(2)到三(3)周拜访一次临床医生。 在每次拜访时，临床医生执行定期正畸程序、收集包括口腔内照片和 研究模型的数据、记录患者依从性以及检查口腔内光疗法设备的功能 性。为了评估治疗的有效性，临床医生使用LII分级系统对每次预约 时产生的模型记分。每天持续光疗法直到临床医生确定患者的LII分 数减小到1mm或者更小，其中没有大于0.25mm的单个LII接触点。 临床医生还在T0(即，第1天)处以及在T1处收集牙印模和模型， T0表示上颌接合的日子、正畸治疗的开始(例如，将托架和/或金属丝安装在患者牙齿上的日期)、为患者分配口腔内光疗法设备的日期 以及患者每天使用口腔内光疗法设备的开始，以及T1表示临床医生 确定患者实现1mm或者更小的LII值(其中没有大于0.25mm的单 个接触点)的日子。
基于至少下列标准选择患者参加该研究：(1)患者适合于上牙 弓(和/或下牙弓)的全口固定正畸治疗以矫正拥挤、不对准和扭转 牙；(2)存在恒牙列(即，恒齿或者成年齿)；(3)上牙弓(和/ 或下牙弓)牙齿具有从3mm到12mm的LII，条件是没有牙齿被阻 挡脱离对准；和(4)患者为从11岁到27岁。该研究排除下列类型 的个体：(1)怀孕妇女；(2)登记参加另一个牙周地涉及牙齿的研 究的个体；(3)使用双膦酸盐的个体；或者(4)具有任何受损牙齿 或者医疗状况的个体。
如此处描述的，在研究周期期间对于九个患者使用口腔内光疗 法设备与常规颊部固定正畸托架治疗方案结合的牙齿移动的平均速率 为每周大约1.32mm。九个患者的平均对准时间为41天。如图59和 60所示，在研究周期期间九个患者当中的牙齿移动速率的范围为从 每周0.42mm到每周2.35mm。此处详细描述了九个患者-患者D、 患者E、患者F、患者G、患者H、患者I、患者J、患者K和患者 L的治疗和结果。
对于此处表示到最接近的小数点后一位的任何年龄，年龄以年 和年的小数指示年龄。
患者D
患者D是12.8岁的男性。在研究的第1天(即，T0)，患者D 的上牙弓LII为大约5.7mm。每天以大约67mW/cm2的光输出强度 对患者D的上颌弓施用光疗法大约三分钟。患者每天接受12.1J/cm2的光疗法剂量。在与
托架和金属丝结合使用用于光 治疗的口腔内光疗法设备仅17天之后，患者D的LII减小至0mm。 在研究周期期间患者D的牙齿移动速率为大约2.35mm/周。
患者E
患者E是12.6岁的女性。在研究的第1天(即，T0)，患者E 的上牙弓LII为大约6.0mm。每天以大约78mW/cm2的光输出强度 对患者E的上颌弓施用光疗法大约三分钟。患者每天接受14.0J/cm2的光疗法剂量。在与
托架和金属丝结合使用用于光 治疗的口腔内光疗法设备仅21天之后，患者E的LII减小至0mm。 在研究周期期间患者E的牙齿移动速率为大约2.0mm/周。
患者F
患者F是13.2岁的女性。在研究的第1天(即，T0)，患者F 的上牙弓LII为大约3.6mm。每天两次以大约61mW/cm2的光输出 强度对每个牙弓施用光疗法大约三分钟。患者每天接受22.0J/cm2的 光疗法剂量。在与
托架和金属丝结合使用用于光治 疗的口腔内光疗法设备仅40天之后，患者F的LII减小至0mm。 在研究周期期间患者F的牙齿移动速率为大约0.63mm/周。注意， 患者F在第21天漏掉与临床医生预定的拜访，这可能已经导致上述 对准速率被大大低估。
患者G
患者G是14.3岁的男性。在研究的第1天(即，T0)，患者G 的上牙弓LII为大约12.1mm。每天以大约78mW/cm2的光输出强 度施用光疗法大约三分钟。患者每天接受14.1J/cm2的光疗法剂量。 在与
托架和金属丝结合使用用于光治疗的口腔内光 疗法设备仅50天之后，患者G的LII减小至0mm。在研究周期期 间患者G的牙齿移动速率为大约1.69mm/周。
患者H
患者H是16.5岁的女性。在研究的第1天(即，T0)，患者H 的上牙弓LII为大约5.5mm。每天以大约63mW/cm2的光输出强度 对患者H的上颌弓施用光疗法大约三分钟。患者每天接受11.3J/cm2的光疗法剂量。在与
托架和金属丝结合使用用于光 治疗的口腔内光疗法设备92天之后，患者H的LII减小至0mm。 在研究周期期间患者H的牙齿移动速率为大约0.42mm/周。注意， 患者H在第74天漏掉与临床医生预定的拜访，这可能已经导致上述 对准速率被大大低估。
患者I
患者I是14.2岁的女性。在研究的第1天(即，T0)，患者I 的上牙弓LII为大约11.0mm。每天以大约78mW/cm2的光输出强 度对患者I的上颌弓施用光疗法大约三分钟。患者每天接受14.0 J/cm2的光疗法剂量。在与
托架和金属丝结合使用用于光治疗的口腔内光疗法设备53天之后，患者I的LII减小至不到 1mm。在研究周期期间患者I的牙齿移动速率为大约1.45mm/周。 注意，患者I在第21天漏掉与临床医生预定的拜访，这可能已经导 致上述对准速率被大大低估。
患者J
患者J是12.4岁的女性。在研究的第1天(即，T0)，患者J 的上牙弓LII为大约5.5mm。每天两次以大约57mW/cm2的光输出 强度对患者J的上颌弓施用光疗法大约三分钟。患者每天接受20.4 J/cm2的光疗法剂量。在与
托架和金属丝结合使用用 于光治疗的口腔内光疗法设备49天之后，患者J的LII减小至0 mm。在研究周期期间患者J的牙齿移动速率为大约0.79mm/周。
患者K
患者K是13.9岁的男性。在研究的第1天(即，T0)，患者K 的上牙弓LII为大约14.2mm。每天两次以大约58mW/cm2的光输 出强度对患者K的上颌弓施用光疗法大约三分钟。患者每天接受 20.7J/cm2的光疗法剂量。在与SPEED SystemTM托架和金属丝结合 使用用于光治疗的口腔内光疗法设备50天之后，患者K的LII减小 至0.8mm。在研究周期期间患者K的牙齿移动速率为大约1.88mm/ 周。
患者L
17.7岁女性。在研究的第1天(即，T0)，患者L的下牙弓 LII为大约3.0mm。每天以大约80mW/cm2的光输出强度对患者L 的下颌弓施用光疗法大约三分钟。患者每天接受14.4J/cm2的光疗法 剂量。在与
托架和金属丝结合使用用于光治疗的口 腔内光疗法设备22天之后，患者L的LII减小至0.8mm。在研究周 期期间患者L的牙齿移动速率为大约0.70mm/周。
与对照的比较
将患者D-J的结果与来自如这里标识的对照A和对照B的两个 对照患者的结果相比较。对照A和B部分地选择为具有与患者D-J 相似的年龄和上牙弓初始LII。相同的临床医生对患者D-J以及对照 A和B进行评估。
对照A是在其正畸治疗的对准阶段期间如对患者D-J描述的佩 戴SPEED SystemTM托架和金属丝但没有接受光疗法的14岁女性对 照患者。对照A在第1天具有大约5.9mm的上牙弓LII。与患者D- L的牙齿移动时间相比，对照A的上牙弓LII减小至0mm花费了92天。该研究周期期间对照A的牙齿移动速率仅为大约0.45mm/周。
对照B是在其正畸治疗的对准阶段期间如对患者D-J描述的也 佩戴SPEEDSystemTM托架和金属丝中的一个但没有接受光疗法的 11岁女性。对照B在第1天具有大约6.6mm的上牙弓LII。与患者 D-L的牙齿移动时间相比，对照B的上牙弓LII减小至1mm或者更小(即，对照B的LII减小至0.7mm)花费了105天。在研究周期 期间对照B的牙齿移动速率仅为大约0.39mm/周。
注意，一个或者多个患者可能已经在患者进展到使用16×16镍 钛金属丝之前达到了1mm或者更小的LII值。
示例4
将示例3的口腔内组的结果与口腔外组和对照组的结果相比较。 具体地，将关于口腔内组的牙齿移动速率(也称为“对准速率”)的 数据与对照组的牙齿移动速率相比较，对照组包括在他的或者她的正 畸治疗的对准阶段期间如此处在示例3中描述的也佩戴常规颊部固定 正畸托架(即，SPEED SystemTM托架或者
自锁托架(可在 市场上从Orthodontic Design and Production公司购得)中的一个和 金属丝但没有接受光疗法的八个(8)患者。八个对照组患者中的两 个是示例3的对照A和B。对照组是来自多场所多研究者研究的患 者的对照组的子集。汇集的对照组患者具有每周大约0.50mm的平 均牙齿移动速率。比较地，在研究周期期间患者D-L的平均牙齿移 动速率为每周大约1.32mm，其大于基于所汇集对照组患者数据的牙 齿移动速率预计的平均牙齿移动速率大约2.64倍。八个的对照组患 者具有每周0.32mm的平均牙齿移动速率。比较地，在研究周期期 间口腔内组的平均牙齿移动速率大于基于对照组患者数据的牙齿移动 速率预计的平均牙齿移动速率大约3.6倍。另外，虽然口腔内组的平 均对准时间是41天，但是对照组具有115天的平均对准时间，从而 证明口腔内设备的显著改进。
还将关于口腔内组和对照组的牙齿移动速率的数据与口腔外组 的牙齿移动速率相比较，口腔外组包括接收与正畸治疗结合的口腔外 光疗法的十三(13)个患者。
具体地，在口腔外组中，十三个患者中的每一个使用用于光治 疗的口腔外设备(国际专利公开No.WO 2012/0075584的图21A中 描绘的，该国际专利公开的全部内容通过引用合并于此并且这里如图 61再现的)并且佩戴常规固定托架，即，与0.014英寸或者0.016英 寸镍钛金属丝和至少0.017英寸乘0.025英寸(也称为“17×25”) 镍钛金属丝的最终矩形对准金属丝对准的SPEED SystemTM托架或者 
自锁托架中的一个。由每个患者使用的口腔外设备包括一组 四个口腔外光阵列，四个口腔外光阵列中的每一个包括柔性印刷电路 板和一组LED。光阵列被口外安置成与每个患者的面部接触。光阵 列通过导电电缆耦合至手持式控制器。设备的耳机包括用于安置在患 者面部上以使得光阵列被引导至目标口腔组织的附接和调节机构。
使用以大约850nm(±5nm)的近红外波长和范围为从大约60 mW/cm2到大约100mW/cm2的强度照射光的口腔外设备对口腔外组 施用光。对于口腔外组所照射光的平均强度为大约70mW/cm2。口 腔外组中的患者随机分成分别地接受20分钟/天、30分钟/天或者1 小时/星期的光治疗的三组中的一个。在研究期间，口腔外组和对照 组中的患者在从研究周期开始的六周周期内每两周拜访一次临床医生， 然后每四周拜访一次临床医生直到实现对准(如此处示例3中定义 的)。在每次拜访时，临床医生执行定期正畸程序、收集包括表示患 者牙列的咬合视图和颊部视图的照片的数据并且记录由口腔外设备的 控制器中的微处理器监测的患者依从性。以与示例3中描述的方式类 似的方式，使用LI1分级系统评估治疗的有效性。
应当注意，口腔外组和对照组中的患者是多场所和多研究员研 究的较大组患者的子集；然而，由于口腔内组的患者来自与示例3中 描述的患者相同的单个场所并且分配给相同的研究员，因此选择子集 用于与口腔内组进行比较。
总的来说，来自口腔内组、口腔外组和对照组的数据的比较包 括二十三(23)个上颌弓和七(7)个下颌弓的数据。在总共三十(30)个牙弓中，十八(18)个是女性患者的牙弓以及十二(12)个 是男性患者的牙弓，并且二十三(23)个是高加索人患者的牙弓以及 七(7)个是各种其它种族的非高加索人患者的牙弓。患者的年龄范 围从11岁到27岁，平均年龄为14岁。每个患者具有范围为从3 mm到12mm的初始LII(即，在对每个患者的研究周期的第1天)。
在图59中的柱状图中表示个体患者的上颌齿移动的速率，其中 在x轴上示出个体患者以及在y轴上示出以mm/周为单位的牙齿移 动速率。如所图示的，口腔内组的上颌齿移动的个体速率的范围为从 0.42mm/周到2.35mm/周，口腔外组的上颌齿移动的个体速率的范 围为从0.26mm/周到1.72mm/周以及对照组的上颌齿移动的个体速 率的范围为从0.14mm/周到0.45mm/周。
在图60中的柱状图中表示个体患者的下颌齿移动的速率，其中 在x轴上示出个体患者及在y轴上示出以mm/周为单位的牙齿移动 速率。如所图示的，口腔内组的下颌齿移动的个体速率的是0.79 mm/周，口腔外组的下颌齿移动的个体速率的范围为从0.34mm/周 到0.99mm/周以及对照组的下颌齿移动的个体速率的范围为从0.42 mm/周到0.47mm/周。
如上所述，在研究周期期间口腔内组的平均牙齿移动速率为大 约1.32mm/周。口腔外组具有大约0.73mm/周的平均牙齿移动速率， 其中标准偏差为0.37mm。对照组具有大约0.37mm/周的平均牙齿 移动速率，其中标准偏差为0.12mm。
比较研究中的数据分析显示当与在研究周期期间没有患者接受 光疗法的对照组的对准速率结果相比时口腔内组中实现的对准速率结 果(即，由患者结合使用施用光疗法的口腔内光疗法设备和常规正畸 托架产生的)在统计上是显著的(在p＜0.01处)。比较研究中的数 据分析显示当与在研究周期期间没有患者接受光疗法的对照组的对准 速率结果相比时口腔外组中实现的对准速率结果(即，由患者结合使 用施用光疗法的口腔外设备和常规正畸托架产生的)在统计上是显著 的(在p＜0.1处)，尽管显著性小于口腔内组中实现的对准速率结果。
示例5
在一个研究中，在手术后周期期间使用图44中描绘的本发明的 下颌前部口腔内光疗法设备照射患者下颌的根区域。口腔内光疗法设 备包括具有安装在柔性印刷电路板上的LED的口腔内壳体，柔性印 刷电路板设置在口腔内壳体的软的柔性颊部凸缘的内部区域中。在相 对的外表面之间形成颊部凸缘的内部区域，其中第一外表面设置在凸 缘的颊侧上以及第二外表面设置在凸缘的舌侧或者腭侧上。具体地， 在制造过程期间，将印刷电路板从颊部凸缘底部插入到左侧颊部凸缘 和右侧颊部凸缘中的每一个的内部区域中，然后使用粘合剂将颊部凸 缘的底部耦合至咬合平面部分，从而将安装在柔性印刷电路板上的 LED密封在颊部凸缘内。
在研究的第1天，将六(6)颗牙齿种植体放置在患者下颌的前 部部分中。在研究的第2天，将临时牙冠装载在六颗种植体中的每一 个上。在手术后由患者每天使用口腔内光疗法设备七(7)天，从第 1天开始并且在第1天，在放置牙齿种植体的大约1小时内。在使用时，口腔内光疗法设备用具有大约850nm(±5nm)波长的光照射 下颌的根组织。每天以大约100mW/cm2的光输出强度对患者下颌的 根组织施用光疗法大约六分钟。
在外科手术时(即，在第1天)使用OsstellTM Mentor设备 (可在市场上从OsstellAB购得)测量种植体的稳定性以及在第7天 再次测量种植体稳定性的任何相对变化。Mentor设备使用谐振频率 分析测量如种植体稳定性系数(ISQ)呈现的稳定性。在第7天测量 的稳定性显示六个种植体的稳定性与从第1天测量的它们的稳定性相 比没有净减少。更具体地，第7天测量的平均ISQ值与第1天测量 的平均ISQ值相比没有变化。这种结果与继它们放置之后并且可以 此后在种植体重新获得与种植体在它们放置那天的稳定性相当的稳定 性之前持续高达90天的牙齿种植体的稳定性的典型降低形成鲜明对 比。在不受理论约束的情况下，稳定性的典型降低被认为是由于支撑 牙齿种植体的骨骼的炎性再吸收以及被认为由钻进骨骼中的外科手术 过程产生。注意，患者具有来自患者下颌的右后象限和左后象限的先 前种植体的外科手术的非常差的术后软组织愈合历史，包括下面骨骼 不必要的暴露。然而，在该情况下，与患者从先前对两个下后牙齿象 限的种植体外科手术所感受的相比，在第7天愈合的患者软组织最佳。
示例6
在一个研究中，在正畸治疗的间距闭合阶段期间使用本发明的 例示性口腔内光疗法设备照射具有总共六十七(67)个拔出象限的二 十三(23)个患者(“口腔内组”)的上颌弓和/或下颌弓。口腔内 光疗法设备包括类似于图72所示口腔内壳体的口腔内壳体，该口腔 内壳体包括嵌入在口腔内壳体的医用级硅树脂颊部凸缘中的LED光 发射器的光阵列的柔性电路。口腔内壳体通过连接器电子地耦合至设 置在口腔内壳体外部的手持式控制器。控制器包括微处理器、LCD 屏幕和处理器可执行的代码。控制器使口腔内壳体与电源耦合。每个 患者装备有他或者她自己的口腔内光疗法设备，该口腔内光疗法设备 与如此处描述的常规固定正畸器具结合使用。将口腔内组中的患者的 治疗和结果与对照组中的患者的治疗和结果相比较，对照组包括在他 的或者她的正畸治疗的间距闭合阶段期间佩戴如此处描述的常规固定 器具但没有接受光疗法的具有五十六(56)个拔出象限的二十二(22)个患者。此处详细描述了来自口腔内组和对照组的患者的治疗和结果。
在研究期间以及在开始治疗之前，为每个患者提供全口刮垢和 抛光并且给予适当的口腔卫生指导。获得包括研究铸模、照片、全景 射线照片(OPG)和头颅侧位片的常规正畸记录。当每个患者到达 他的或者她的正畸治疗的主动间距闭合阶段时，获得印模以构造新模 型(T1)。
用具有0.022×0.028狭缝大小(MBT处方)的常规固定器具 治疗所有患者。使用接合粘合剂复合物Transbond XT(可从3M Unitek购得)使接合方法在所有患者中标准化。通过滑动具有由图8 钢结扎线保持在一起的后锚固段的机构闭合拔出间距以确保单个锚固单元。使用镍钛诺(NiTi)闭合型螺旋弹簧(可从G&H Wire公司 购得)使从第一臼齿的钩件到起作用的金属丝(19×25不锈钢)的 钩件的拔出间距闭合。在整个间距闭合持续时间期间施加一百五十 (150)克力。无论拔出间距的量如何，通过使用测力计和制造准则 维持该水平的力。在具有钩件的0.019×0.025英寸不锈钢金属丝上完 成主动间距闭合。利用微螺钉用于一些患者的间距闭合，然而实施随 机化使得在每个组中有相同数量的利用微螺钉的患者。
在研究期间，由口腔内组中每个患者每天使用口腔内光疗法设 备直到实现间距闭合。在使用时，口腔内光疗法设备每天用具有大约 850nm的波长以及大约33mW/cm2的功率输出对每个治疗的牙弓照 射患者的口腔组织大约三分钟以产生大约6J/cm2的牙龈剂量。控制 器的微处理器跟踪口腔内光疗法设备的使用。预计患者在整个间距闭 合持续时间期间维持75％的依从性或者更大。如果错过一个或者两 个疗程，则建议患者在接下来的一天弥补几个错过的疗程。
在研究期间，患者在前三次拜访内每两(2)周拜访一次临床医 生，然后基于患者的依从性水平和关于正畸器具断裂的任何并发症每 两(2)到四(4)周拜访一次临床医生。在每次拜访时，临床医生执 行定期间距闭合召回程序、取回患者依从性数据、检查口腔内光疗法 设备的功能性以及在视觉上针对间距闭合观察患者。如在临床上通过 视觉观察确定的，当剩余的间距是2mm或者更小时或者当在临床医 生的判断下臼齿锚固丢失时，主动间距闭合被认为完成(T2)。当 到达T2时，为每个患者获得印模以构造T2模型，拍摄口腔内照片， 将光疗法装置归还临床医生以及患者从研究退出。
使用具有高达0.01精度的数字卡尺在T1模型(最小为3mm) 上测量主动间距闭合之前拔牙间距的量。基准点是拔牙间距的每个端 部的自由牙龈边缘。测量患者犬齿(或者多个犬齿)近中存在的间距 并且将该间距添加到要在两侧闭合的拔牙间距。由不知道模型用于口 腔内组中的患者还是对照组中的患者的检查者进行每个测量。在可能 的情况下，检查者也不知道模型是T1模型还是T2模型。随机地测 量研究模型以使得不会连续地测量相同患者的T1和T2模型。在隔 开的间隔处对每个模型进行两次测量以及两次测量的平均值用作最终 值。
基于至少下列标准选择患者参加该研究：(1)存在恒牙列(即， 恒齿或者成年齿)；(2)患者参与综合正畸疗法，该疗法包括拔出 患者上牙弓或者下牙弓中的至少一个中或者两个牙弓的第一或者第二 前臼齿的拔牙治疗计划；(3)患者在患者的上牙弓和/或下牙弓的至 少一个象限中有最少3mm的拔出间距要闭合；(4)患者表明优良 的口腔卫生；(5)患者没有经受辅助正畸治疗，诸如包括口腔外器 具或者口腔内器具的正畸治疗；和(6)患者为从12岁到40岁。该 研究排除下列类型的个体：(1)具有乳牙列或者混合牙列的个体； (2)具有活跃的牙周疾病或者水平骨质损失迹象的个体；(3)不能 在使用口腔内光疗法装置中维持75％的最小依从率的个体；或者(4) 具有任何全身性疾病或者使用可能影响骨骼代谢的任何药物的个体， 诸如长期使用NSAID或者双膦酸盐以及其它药物。
口腔内组中的患者具有在0.41mm/月到2.80mm/月范围中的间 距闭合速率，其中标准偏差为0.49mm/月。口腔内组具有1.07mm/ 月的平均间距闭合速率。对照组中的患者具有在0.12mm/月到1.79 mm/月范围中的间距闭合速率，其中标准偏差为0.37mm/月。在图114A、114B、115A和115B中分别地示出了对照组和口腔内组中的 每一个的个体患者数据。在图114A-B和115A-B中，研究中每个患 者的数据包括拔出的牙齿编号、T1模型中以毫米为单位的总拔出间 距、T2模型中以毫米为单位的总拔出间距和以天数为单位实现所标 识牙齿编号和患者的间距闭合的时间。图114A-B和115A-B所示牙 齿编号基于ISO和FDI世界牙科联盟编号系统。对照组具有0.85 mm/月的平均间距闭合速率。口腔内组中的平均间距闭合速率在统计 上明显比对照组的平均间距闭合速率快(p-值＜0.05，即，0.0047)。
还按照每个组的年龄分析关于患者间距闭合速度的结果。具体 地，在每个组内，按照青年(11-19岁)和成人(20-42岁)分开间 距闭合速率数据。口腔内组中的青年患者具有在0.53mm/月到2.80 mm/月范围中的间距闭合速率，其中标准偏差为0.49mm/月。对照 组中的青年患者具有在0.44mm/月到1.79mm/月范围中的间距闭合 速率，其中标准偏差为0.36mm/月。对照组中的青年患者的平均间 距闭合速率是0.93mm/月，以及口腔内组中的青年患者的平均间距 闭合速率是1.20mm/月。口腔内组中的青年患者的平均间距闭合速 率在统计上明显比对照组中的青年患者的平均间距闭合速率快(p-值 ＜0.05，即，0.0068)。口腔内组中的青年患者示出当与对照组中的 青年患者相比时间距闭合速率提高28％。
口腔内组中的成人患者具有在0.56mm/月到1.67mm/月范围中 的间距闭合速率。对照组中的成人患者具有在0.12mm/月到0.87 mm/月范围中的间距闭合速率。对照组中的成人患者的平均间距闭合 速率是0.52mm/月，以及口腔内组中的成人患者的平均间距闭合速 率是0.77mm/月。口腔内组中的成人患者的平均间距闭合速率在统 计上明显比对照组中的成人患者的平均间距闭合速率快(p-值＜0.05， 即，0.0426)。口腔内组中的成人患者示出当与对照组中的成人患者 相比时间距闭合速率提高48％。
在结论中，研究的结果示出结合常规正畸治疗的光疗法的使用 在统计上对成人和青年群体两者中的上颌牙弓和下颌牙弓两者中的拔 牙情况的间距闭合速率的加速显著有效。
示例7
该示例提供来自旨在按照通过
(Align Technology 公司)校准器的患者进展的速率以及因此校准器治疗期间的牙齿移动 速率观察此处描述的光疗法设备或者
的临床疗效的前瞻 性、交叉、单中心试点研究的结果。
通过利用交叉设计，患者成为他或者她自己的对照，允许患者 的自然牙齿移动速率与具有使用干预光疗法设备时患者的校准器切换 速率的校准器切换进行比较。在该研究中，干预与此处描述的光疗法 设备或者AcceleDent设备一起进行。当将患者非干预(对照)周期 期间的校准器切换速率与干预周期(交叉设计)期间的校准器切换速 率进行比较时，可以基于切换校准器的速率确定干预设备的效应。
该示例提供用于为每个个体患者确定校准器切换的定制速率的 方法。研究利用对校准器配合、压力和疼痛的每天自评估，这允许患 者基于它们的自然牙齿移动速率切换校准器。
基于下列标准在研究中包括患者或者从研究排除患者：
包括
恒牙列的存在
适合于并且计划全口固定正畸治疗。
如由合格研究员正畸医生确定的优良口腔卫生。
年龄12-60
非吸烟者
排除：
怀孕女性
当前参与另一个临床研究的患者
在研究期间使用非甾体抗炎药(NSAID)(可接受对乙酰氨基 酚)
牙周牵连牙齿
使用双膦酸盐
两个
研究组如下：
研究组1：为患者处方一系列常规
校准器，这些校 准器中的每一个被编程以在14天(在此时替换校准器)周期期间横 向地平移牙齿1/4mm。
研究组2：为患者处方一系列常规
校准器，这些校 准器中的每一个被编程以在7天(在此时替换校准器)周期期间横向 地平移牙齿1/8mm。相应地，“1/8mm”校准器是与“1/4mm校准 器”相同的校准器，但被处方为每7天进行更换而不是每14天。如 果两个患者在相同的总时间量内循环通过校准器以及两个患者遵循正 畸医生的处方分别地每7天或者每14天更换校准器，则1/4mm组 中的患者使用1/8mm研究组中患者一半的校准器。由患者进行校准 器更换并且假设他或者她对正畸医生指令的依从性。
3个干预组如下：
干预组1(OPx1)：图110的光疗法设备，(OrthoPulseTM)5 分/牙弓＝10分每天。
干预组2(OPx2)：图110的光疗法设备，(OrthoPulseTM) 10分/牙弓＝20分每天。
干预组3(AD)：AcceleDent 20分每天，两个牙弓。
每个患者通过在没有干预的情况下进展通过校准器以充当他或 者她自己的对照，建立对照周期。患者在每个对照周期进展通过至少 6个校准器(±1校准器)。在对照周期期间，患者每天基于压力、 疼痛和存在的气泡数量自评估校准器配合(参见下面对自评估方法的 讨论)。这为每个个体患者建立基线校准器变化间隔。在对照周期之 后，在患者继续进展通过校准器的同时每天使用干预设备，建立干预 周期(参见上面三个干预组)。患者在每个干预周期进展通过至少6 个校准器(±1校准器)。在光疗法设备患者完成第一干预周期之后 (例如，OPx1或者OPx2)，给患者完成后续光疗法干预周期的机 会。尽管推荐OPx1患者完成OPx2干预周期作为后续周期，但是给 予光疗法患者关于后续干预周期的干预治疗方案的选项(即，OPx1 或者OPx2)。类似地，推荐OPx2患者完成OPx1干预周期作为后续周期。将每个个体患者的基线校准器变化间隔(对照周期)与干预 期间他的或者她的校准器变化间隔相比较。如下所述，通过自评估方 法更换校准器。
通过每日在线问卷，每个患者通过自评估方法进展通过每个校 准器。每天，患者评估：(A)疼痛水平：1(没有疼痛或者几乎没 有疼痛)、2(一些疼痛)和3(非常疼痛)；(B)校准器在牙齿上 的配合/压力：1(没有压力或者几乎没有压力)、2(中等压力)、3 (高水平压力)；(C)校准器与牙齿之间存在的空气间隙：按1-3 评级，其中1指示没有空气间隙。每个患者在疼痛分数为1、校准器 配合分数为1以及不存在空气间隙时进展到后续校准器。
将对照(没有干预)周期期间使用校准器的平均天数与干预周 期期间使用校准器的平均天数相比较。将使用校准器的平均天数的百 分比减小与对照、OPx1、OPx2和AcceleDent周期的中的每一个的 常规Invisalign校准器变化频率相比较。
结果
十三个患者已经完成对照周期以及至少一个干预周期(用1/4 mm invisalign校准器治疗6个患者以及用1/8mm Invisalign校准器 治疗7个患者)。
在图116-118中提供了研究的结果。在这些图中的每一个中， 每个对照柱上的百分数值表示常规Invisalign切换频率上的提高。每 个干预柱(OP1、OP2、AD)上的百分数值表示相同患者的对照周 期上的提高。在干预柱上报告了Mann-Whitney U检验结果，在每个患者内将干预与对照进行比较(＊＝p＜0.05)。
所有AcceleDent患者的每个校准器的天数与它们的对照相比较， 以及光疗法患者还与每个个体患者他们自己的对照相比较(图116- 118)。将
研究组(即，(i)1/4mm组和(ii)1/8mm 校准器组)中的每一个的校准器切换速率的百分比减小汇集，并且在 表格1中呈现。使用双尾T检验对比较的显著性水平进行比较。
结果指示通过使用校准器配合和压力的患者自评估，能够确定 每个患者切换校准器的自然速率。OrthoPulse OPx1和OPx2治疗使 得与每个患者自己的对照相比每个校准器需要的天数显著减少： OPx1减少51％以及OPx2减少56％。与AcceleDent患者相比，观 察到OPx1和OPx2患者每个校准器需要的天数的减少更大。
尽管此处已经描述了本发明的各种实施例，但是应当理解，它 们仅仅通过示例的方式而不是通过限制的方式给出。例如，尽管此处 已经将装置(例如，装置2100)描述为包括陀螺仪，但是，在其它 实施例中，装置可以包括用于检测装置的侧斜和/或空间取向的任何 合适机构以使得机构可以帮助确定装置在直立位置还是倒立位置中。
在另一个示例中，尽管此处已经将装置(例如，装置2100)图 示和描述为包括配置为安置在患者嘴内以用于一次对上颌和下颌中的 一个施用光的口腔内壳体，但是，在其它实施例中，装置包括具有各 自包括耦合至其中或者嵌入在其中的LED阵列的上凸缘和下凸缘的 口腔内壳体。以这种方式，装置被配置为关于上颌和下颌中的每一个 同时施用光疗法。
尽管上面将咬合垫2514描述为具有在前部部分(较薄)与后部 部分(较厚)之间变化的厚度，但是在其它实施例中，此处示出和描 述的咬合垫的前部部分可以比后部部分的厚度厚。另外，在一些实施 例中，此处示出的咬合垫中的任何一个的厚度可以沿着任何方向变化， 例如从舌部部分(或者内部部分)到颊部(或者脸颊侧)部分。
尽管将口件2510示出为包括凹口2530、第一凹槽2532和第二 凹槽2534，但是在其它实施例中，此处示出和描述的口件中的任何 一个可以包括产生用于放置光阵列的期望柔性的任何合适的几何特征 和/或材料的组合。例如，在一些实施例中，口件2510和此处示出和 描述的口件中的任何一个可以包括沿着凸缘2522、2524的上部分的 一系列凹口、围绕颊部分(即，脸颊侧)和/或舌(即，内部)部分 的一系列圆周穿孔等等。
其中此处描述的示意图和/或实施例指示布置在某些取向或者位 置中的某些部件，部件的布置可以修改，除非上下文另外清楚地指示。 类似地，尽管上面描述的方法和/或事件指示以某个顺序发生的某些 事件和/或程序，但是可以修改某些事件和/或程序的排序，除非上下 文另外清楚地指示。虽然各种实施例已经描述为具有特定部件和/或 组件的组合，但是其它实施例可以具有来自适当实施例中的任何一个 的任何部件和/或组件的组合。
Claims (1)
1.一种装置，包括：
配置为适配在患者嘴内的口件，口件包括咬合托盘和耦合至咬合托盘的凸缘，凸缘的内面与咬合托盘的上表面形成第一角度，口件的凸缘能够相对于咬合托盘偏转以使得当口件设置在嘴内时在凸缘的内面与咬合托盘的上表面之间形成第二角度，第二角度小于第一角度；以及
设置在凸缘内的光发射器，光发射器配置为当口件设置在嘴内时向患者的口腔组织发射光。
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