CN111321435A - 一种酸性电镀锡液及其制备方法与应用 - Google Patents

一种酸性电镀锡液及其制备方法与应用 Download PDF

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Abstract

本发明属于电镀锡技术领域,具体涉及一种酸性电镀锡液及其制备方法与应用。所述的酸性电镀锡液包括如下原料组分:亚锡盐、酸、表面活性剂、电流分散剂和晶体调节剂;所述的晶体调节剂为具有式Ⅰ结构式的化合物。本发明提供的酸性电镀锡液制得的电镀锡层更加致密,溶液更加稳定、走位性能良好;抗氧化能力强,溶液不容易出现浑浊;镀液极化小,不容易析氢,镀层表现为较少的孔洞。
Figure DDA0002454841240000011

Description

一种酸性电镀锡液及其制备方法与应用
技术领域
本发明属于电镀锡技术领域,具体涉及一种酸性电镀锡液及其制备方法与应用。
背景技术
锡是一种银白色金属,具有抗变色、抗腐蚀、无毒、易钎焊、柔软和延展性好等优点,用途甚广。电镀锡早在1843年就提出了第一个专利,1930年之后才具备工业实用性。起初主要是作为钢铁金属的防护镀层,随着科学技术的发展不断进步和20世纪第三次工业革命的兴起,锡(及其合金)镀层由于其较低的熔点和稳定的化学性能,具有抗氧化、易焊接等优点,逐渐地应用到半导体器件、连接器、晶圆和电阻电容等电子行业中作为焊接镀层。
目前,电镀锡溶液主要有酸性和碱性两大类,传统工业生产上,较多采用硫酸盐体系的酸性电镀锡溶液进行电镀,尽管硫酸亚锡成本较低,电导率高,但是其存在较多缺陷和不足:镀层外观粗糙、空隙较多、抗蚀性差,具有一定的腐蚀性和毒性,且环境不友好。随着社会对环保的要求,甲基磺酸亚锡逐渐取代了硫酸亚锡成为行业发展的趋势。
酸性电镀锡溶液中主锡以Sn2+的形式存在,镀液在储存和电镀过程中易被空气中和水中溶解的氧气氧化为Sn4+,Sn4+水解形成高度分散的氧化锡颗粒,导致锡泥的形成,镀液的不不稳定导致电镀时得不到光亮致密的锡镀层,对镀层的耐蚀性造成不良影响,为了解决上述问题研究人员通常会添加抗氧化剂解决上述问题,例如:CN109666954A公开了一种镀锡添加剂,该镀锡添加剂引入以苯二酚为作用成分的抗氧化剂,进一步使Sn2+在溶液中更不易被氧化。CN109594107A公开了一种电镀锡添加剂,该电镀锡添加剂则是引入间苯二酚为抗氧化剂,防止槽液中二价锡氧化成四价锡。但是,无论是苯二酚还是间苯二酚等,这类酚类添加剂的含量太多会降低阴极电流效率,同时过多的酚类添加剂在镀液中的氧化又会加速镀锡液的浑浊。
除了必要的亚锡盐、酸外,酸性电镀锡溶液中多会采用色素、染料、含双键类化合物等组分,该类物质多数为油性物质,需要采用诸多表面活性剂来提高溶解度,但是,表面活性剂如果选择不恰当,造成电镀液粘度增加、极化增加等诸多问题。
此外,酸性电镀锡溶液镀锡时有着较快的电镀速度,因此镀层也容易出现厚度不均匀(走位差)、溶液不稳定(易氧化、变浑浊)、致密性差、容易产生孔洞等问题。
酸性电镀锡溶液的选择,决定镀锡层的致密性、抗氧化性、可焊性和走位性能,为了提高酸性电镀锡溶液的稳定性、镀锡层的致密性、抗氧化性、可焊性和走位性能,酸性电镀锡溶液组分的选择至关重要。
发明内容
为了克服现有技术的不足和缺点,本发明的首要目的在于提供一种酸性电镀锡液,该酸性电镀锡液能改善电镀锡层致密性、抗氧化性、可焊性和走位性能等。
本发明的另一目的在于提供上述酸性电镀锡液的制备方法。
本发明的再一目的在于提供上述酸性电镀锡液的应用。
本发明的目的通过下述技术方案实现:
一种酸性电镀锡液,包括如下原料组分:亚锡盐、酸、表面活性剂、电流分散剂和晶体调节剂;所述的晶体调节剂,为具有式Ⅰ结构式的化合物;
Figure BDA0002454841220000021
其中,R1、R2、R3为H、OH、CHO、COOH、SO3或CaHb,其中a,b为1~9的整数;
所述的酸性电镀锡液,包含如下浓度的原料组分:
Figure BDA0002454841220000022
Figure BDA0002454841220000031
所述的酸性电镀锡液,优选包含如下浓度的原料组分:
Figure BDA0002454841220000032
所述的酸性电镀锡液,进一步优选包含如下浓度的原料组分:
Figure BDA0002454841220000033
所述亚锡盐为有机酸的亚锡盐;
所述亚锡盐优选为取代或未取代的烷基或烷醇基磺酸亚锡;
所述亚锡盐进一步优选为甲基磺酸亚锡;
所述的酸为无机酸和有机酸中的至少一种;
所述的无机酸优选为硫酸、盐酸、硝酸或硼酸;
所述的有机酸优选为取代或未取代的烷基或烷醇基磺酸;
所述的有机酸进一步优选为甲基磺酸、乙基磺酸或苯酚磺酸;
所述的表面活性剂为结构式为R1COO(C2H4O)n(C3H6O)mH、R2S(C2H4O)x(C3H6O)yH的非离子表面活性剂中的至少一种,其中R1、R2为C4-C20的烷基,n、m、x、y为1~20的整数;其中,本发明选择包含聚氧丙烯和聚氧乙烯嵌段的表面活性剂,亲水性和亲油性更好,有机物溶解速度快,获得的镀层更连续,镀液的走位性能得到较大提高;
所述表面活性剂优选为椰子油聚氧乙烯聚氧丙烯酯(可购自南通德益化工有限公司)、苯酚聚氧乙烯聚氧丙烯酯(可购自南通德益化工有限公司)、辛酸聚氧乙烯聚氧丙烯酯(可购自南通德益化工有限公司)、戊酸聚氧乙烯聚氧丙烯酯(可购自南通德益化工有限公司)、月桂酸聚氧乙烯聚氧丙烯酯(可购自南通德益化工有限公司)、辛烷硫醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚(可购自Sigma-Aldrich)、月桂硫醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚(Sigma-Aldrich)中的至少一种;
所述的电流分散剂为羧酸类衍生物或其盐;
所述含羧酸类衍生物为戊二酸、柠檬酸和苹果酸中的至少一种,该类型的含羧酸类衍生物除了降低电镀过程的极化外,还可以抑制Sn2+的氧化;
所述的酸性电镀锡液的制备方法,包含如下步骤:
将上述酸性电镀锡液的原料组分混合,得到酸性电镀锡液;
所述的酸性电镀锡液在元器件、连接器、晶圆和电阻电容等领域中的应用;
本发明的原理及优点如下:
本发明提供的酸性电镀锡液通过采用亚锡盐、酸、表面活性剂、电流分散剂和晶体调节剂提高镀锡层的致密性、可焊性、光亮性等参数,其中晶体调节剂可以有效控制颗粒尺寸。
本发明提供的酸性电镀锡液各组分的作用原理如下:
(1)亚锡离子:亚锡离子在镀锡电镀液提供锡离子,优选采用有机酸的亚锡盐,优选取代或者未取代的烷基或者烷醇基磺酸亚锡(例如:甲基磺酸亚锡、乙基磺酸亚锡等),特别优选甲基磺酸亚锡,含量(以Sn2+含量计,g/L)为1~100g/L,优选20~55g/L,进一步优选40~55g/L。
(2)酸:酸的作用是提高溶液的电导率,调整阳极金属锡块的溶解速度。适宜的酸包括无机酸和有机酸,无机酸可以为硫酸、盐酸、硝酸、硼酸;有机酸可以为取代或者未取代的烷基或者烷醇基磺酸(例如:甲基磺酸、乙基磺酸等),特别优选甲基磺酸、乙基磺酸或苯酚磺酸,酸的含量为1~300g/L,优选为100~250g/L,进一步优选为150~210g/L。
(3)表面活性剂:选用结构式为R1COO(C2H4O)n(C3H6O)mH、R2S(C2H4O)x(C3H6O)yH的化合物作为表面活性剂(例如:椰子油聚氧乙烯聚氧丙烯酯、苯酚聚氧乙烯聚氧丙烯酯、辛酸聚氧乙烯聚氧丙烯酯、戊酸聚氧乙烯聚氧丙烯酯、月桂酸聚氧乙烯聚氧丙烯酯、辛烷硫醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、月桂硫醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚),在溶液中主要作用为增大极化,提高镀锡层的走位性能,含量为1~20g/L,优选为1~10g/L,进一步优选5~10g/L。表面活性剂的含量过高会造成电镀液极化增加,电压过高,提高气体析出量、降低电镀效率,及造成镀锡层产生蝌蚪状孔洞,情况严重将造成镀层疏松、可焊性变差等不良后果。表面活性剂的含量过低则无法形成均匀的电镀锡层。
(4)电流分散剂:含羧酸类衍生物或其盐,可以降低电镀过程的极化。含量为0.01~2g/L,优选为0.01~0.5g/L,进一步优选0.2~0.5/L。
(5)晶体调节剂:常规晶体调节剂主要调节镀锡层颗粒尺寸,这是因为晶体调节剂可以控制晶核的数量,从而达到控制晶体尺寸的效果,可以使镀层致密。本发明选用的晶体调节剂包含磺酸基团和酚类结构,其中,磺酸基团可以促进酚在水溶液的溶解性,使锡离子更容易穿过双电层,从而达到持续稳定的镀层结构,同时酚类结构可以促进锡离子在双电层附近的浓度,使镀锡过程受传质控制较小,使镀锡过程持续稳定。本发明中晶体调节剂含量为0.01~50g/L,优选为0.01~5g/L,进一步优选1g/L。
本发明相对于现有技术具有如下的优点及效果:
(1)本发明选择包含磺酸基团和酚类结构的化合物作为晶体调节剂,其中,磺酸基团可以促进酚在水溶液的溶解性,使锡离子更容易穿过双电层,从而达到持续稳定的镀层结构,同时酚类结构可以促进锡离子在双电层附近的浓度,使镀锡过程受传质控制较小,使镀锡过程持续稳定。
(2)本发明选择包含聚氧丙烯和聚氧乙烯嵌段的表明活性剂,亲水性和亲油性更好,有机物溶解速度快,获得的镀层更连续,镀液的走位性能得到较大提高。
(3)本发明选择戊二酸、柠檬酸和苹果酸作为电流分散剂,该类型的含羧酸类衍生物除了降低电镀过程的极化外,还可以抑制Sn2+的氧化,不会造成溶液不稳定、易氧化、变浑浊、变色等问题。
(4)本发明提供的酸性电镀锡液制得的电镀锡层更加致密,溶液更加稳定、走位性能良好;抗氧化能力强,溶液不容易出现浑浊;镀液极化小,不容易析氢,镀层表现为较少的孔洞。
附图说明
图1是实施例1制得的镀锡层的扫描电镜图。
图2是实施例2制得的镀锡层的扫描电镜图。
图3是实施例3制得的镀锡层的扫描电镜图。
图4是Hull Cell镀片示意图,其中,□为光亮区,
Figure BDA0002454841220000051
为烧焦区。
图5是电镀产品及测量点位置示意图。
图6是实施例12制得的镀锡层的扫描电镜图。
具体实施方式
下面结合实施例及附图对本发明作进一步详细的描述,但本发明的实施方式不限于此。
实施例1
一种酸性电镀锡液,包括如下原料组分:
Figure BDA0002454841220000061
其中,铁钛试剂的结构式如下所示:
Figure BDA0002454841220000062
具体电镀过程如下:
(1)将上述酸性电镀锡液的原料组分混合均匀,得到酸性电镀锡液;
(2)采用过滤机(滤芯不超过5μm)和冷冻机对步骤(1)制得的酸性电镀锡液进行过滤、循环、冷冻;
(3)控制电镀温度25℃、电流密度1A/dm2,在经过活化的基材导线框架上挂镀金属锡层,其中,电流强度为0.5A,电镀时间为7min。
实施例2(对比实施例)
实施例2的酸性电镀锡液的原料组成如表1所示,电镀条件与实施例1相同。
实施例3(对比实施例)
实施例3的酸性电镀锡液的原料组成如表1所示,电镀条件与实施例1相同。
实施例4
实施例4的酸性电镀锡液的原料组成如表1所示,电镀条件与实施例1相同。
实施例5
实施例5的酸性电镀锡液的原料组成如表1所示,电镀条件与实施例1相同。
实施例6
实施例6的酸性电镀锡液的原料组成如表1所示,电镀条件与实施例1相同。
实施例7
实施例7的酸性电镀锡液的原料组成如表1所示,电镀条件与实施例1相同。
实施例8
实施例8的酸性电镀锡液的原料组成如表1所示,电镀条件与实施例1相同。
实施例9
实施例9的酸性电镀锡液的原料组成如表1所示,电镀条件与实施例1相同。
实施例10
实施例10的酸性电镀锡液的原料组成如表1所示,电镀条件与实施例1相同。
实施例11(对比实施例)
实施例11的酸性电镀锡液的原料组成如表1所示,电镀条件与实施例1相同。
实施例12(对比实施例)
实施例12的酸性电镀锡液的原料组成如表1所示,电镀条件与实施例1相同。
表1实施例1~10提供的酸性电镀锡液的原料组成
Figure BDA0002454841220000071
Figure BDA0002454841220000081
效果实施例
(1)Hull Cell测试
对实施例1~12制得的锡层进行Hull Cell测试,具体方法为:采用1A电流,250mL溶液测试并记录光亮区间(图4);
(2)扫描电镜测试(SEM)
分别对实施例1~3制得的锡层进行扫描电镜测试;
(3)锡层厚度
采用X-ray测试检测实施例1~12制得的锡层厚度,具体方法为:采用X-ray测厚仪,取30pcs样品测试a、b、c位置的厚度,如图5所示;
(4)电压
检测电镀过程中的电压变化。
表2实施例1~12制得的锡层性能
Figure BDA0002454841220000082
Figure BDA0002454841220000091
Hull Cell测试结果表示光亮和亚光亮区的长度,光亮区和亚光亮区范围越大表示电流窗口越宽;镀层厚度范围在4~10μm为合格,a、b、c厚度越接近表示均镀能力越好;
通过实施例1~3发现,采用铁钛试剂的镀层较好,而采用4-羟基苯甲酸的镀层颗粒比较松散,而且镀层中存在较多的孔洞,这也和赫尔槽测试相吻合,实施例2的烧焦区较大,因此实施例2无法得到优良的镀锡层。晶粒细化剂的组份不同会影响晶体的尺寸,实施例1的颗粒尺寸较小,而实施例3的晶体尺寸较大(图1~3)。
通过实施例4~7发现,甲基磺酸的浓度提高有利于降低电压,并且有利于电镀的走位性能,甲基磺酸可以提高溶液的导电性,从而有利于电流分布,当然过高的甲基磺酸含量会增加成本和腐蚀电镀基材,因此需要选择合适的浓度范围。
通过实施例8~10发现表面活性剂月桂酸聚氧乙烯((C2H4O)10)聚氧丙烯((C3H6O)2)酯、椰子油聚氧乙烯((C2H4O)8)聚氧丙烯((C3H6O)4)酯、苯酚聚氧乙烯((C2H4O)15)聚氧丙烯((C3H6O)4)酯也对走位性能有较大的影响,为此选择合适的表面活性剂比例至关重要,一般认为应该将表面活性剂的HBL值控制在10.0左右比较合适,表面活性剂的浓度提高意味着阻碍锡离子沉积的因素增加,为此导致电压升高。
通过实施例1和11、12发现要达到与表面活性剂月桂酸聚氧乙烯((C2H4O)10)聚氧丙烯((C3H6O)2)酯的相同外观效果,需要加入更多的壬基酚聚氧乙烯((C2H4O)7醚和蔗糖聚氧丙烯((C3H6O)4)醚。但是,进一步观察实施例12制得的镀锡层的扫描电镜图,可发现,该镀层围观结构并不好,有孔洞,致密性差,容易导致镀层出现焊性不良(图6)。
上述实施例为本发明较佳的实施方式,但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制,其他的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化,均应为等效的置换方式,都包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种酸性电镀锡液,其特征在于包括如下原料组分:亚锡盐、酸、表面活性剂、电流分散剂和晶体调节剂;所述的晶体调节剂,为具有式Ⅰ结构式的化合物;
Figure FDA0002454841210000011
其中,R1、R2、R3为H、OH、CHO、COOH、SO3或CaHb,其中a,b为1~9的整数。
2.根据权利要求1所述的酸性电镀锡液,其特征在于包含如下浓度的原料组分:
Figure FDA0002454841210000012
3.根据权利要求2所述的酸性电镀锡液,其特征在于包含如下浓度的原料组分:
Figure FDA0002454841210000013
4.根据权利要求1~3任一项所述的酸性电镀锡液,其特征在于:
所述亚锡盐为有机酸的亚锡盐。
5.根据权利要求1~3任一项所述的酸性电镀锡液,其特征在于:
所述的酸为无机酸和有机酸中的至少一种。
6.根据权利要求1~3任一项所述的酸性电镀锡液,其特征在于:
所述的表面活性剂为结构式为R1COO(C2H4O)n(C3H6O)mH、R2S(C2H4O)x(C3H6O)yH的非离子表面活性剂中的至少一种,其中R1、R2为C4-C20的烷基,n、m、x、y为1~20的整数。
7.根据权利要求6所述的酸性电镀锡液,其特征在于:
所述表面活性剂为椰子油聚氧乙烯聚氧丙烯酯、苯酚聚氧乙烯聚氧丙烯酯、辛酸聚氧乙烯聚氧丙烯酯、戊酸聚氧乙烯聚氧丙烯酯、月桂酸聚氧乙烯聚氧丙烯酯、辛烷硫醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、月桂硫醇聚氧乙烯醚中的至少一种。
8.根据权利要求1~3任一项所述的酸性电镀锡液,其特征在于:
所述的电流分散剂为羧酸类衍生物或其盐。
9.根据权利要求8所述的电镀锡液,其特征在于:
所述含羧酸类衍生物为戊二酸、柠檬酸和苹果酸中的至少一种。
10.权利要求1~9任一项所述的酸性电镀锡液在元器件、连接器、晶圆和电阻电容等领域中的应用。
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