CN111308862B - 曝光装置用光源、曝光装置和抗蚀剂的曝光方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种曝光装置用光源，能配合抗蚀剂的特性，精确地照射需要的波长的光，另外，能将基准线以下的光量抑制在最小限度，进而，在对特性不同的别的抗蚀剂进行曝光时能使进行照射的光的波长适当变化。利用照射单波长光的多个光源组件(102)来构成曝光装置用光源(100)。而且，将从多个光源组件(102)照射的单波长光设为至少2种。

Description

曝光装置用光源、曝光装置和抗蚀剂的曝光方法

技术领域

本发明涉及例如在半导体基板等的曝光装置中使用的多灯式的曝光装置用光源。

背景技术

从以往，采用多个放电灯的光源用于曝光装置(例如，专利文献1)。

在专利文献1所涉及的光源中，使所采用的多个放电灯中的水银的封入量不同。由此，使从光源照射的光的波长区域变化。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：JP特开2008-191252号公报

发明内容

(发明要解决的课题)

一般而言，从水银灯照射的光的波长中，如图21所示，存在多个峰值波长、以及给定的波长范围内的最小限度的分光强度(以下，称为“基准线”)。

然而，要想进行精度良好的曝光，期望仅以与进行曝光的抗蚀剂的特性相应的波长的光来进行曝光，而不需要与对作为对象的抗蚀剂的曝光没有帮助的峰值波长。例如，对于特定的抗蚀剂，图21中的长波长侧的峰值(405nm以及436nm)没有抗蚀剂灵敏度，因此不需要。

基于同样的理由，扩展至给定的波长范围的基准线以下的光也不需要。

如此，在现有的采用放电灯的曝光用光源中，连对抗蚀剂的曝光没有帮助的峰值波长的光也要照射从而消耗无用的能量，除了该问题以外，还有如下问题：扩展至给定的波长范围的基准线以下的光虽然对曝光的贡献小但是赋予给抗蚀剂的能量自身大，因此接受大能量的抗蚀剂有时会剥离。

本发明鉴于上述问题而提出，其目的在于，提供一种曝光装置用光源、采用该曝光装置用光源的曝光装置以及曝光装置用光源的控制方法，能够配合抗蚀剂的特性来精确地照射需要的波长的光，另外，能将基准线以下的光量抑制在最小限度，进而，在对特性不同的别的抗蚀剂进行曝光时能使进行照射的光的波长适当变化。

(用于解决课题的技术方案)

根据本发明的一方案，提供一种曝光装置用光源，具备照射单波长光的多个光源组件，从多个所述光源组件照射的单波长光至少有2种。

优选地，所述曝光装置用光源还具备光源组件支架，所述光源组件支架保持多个所述光源组件。

优选地，在一次连续曝光期间中的第一曝光时间与第二曝光时间，照射的光的照射强度变化。

优选地，在一次连续曝光期间中的第一曝光时间与第二曝光时间，各所述单波长光的照射强度的平衡变化。

优选地，一次连续曝光期间至少被划分为第一曝光时间、第二曝光时间和第三曝光时间。

优选地，对照射各所述单波长光的各所述光源组件的数量以及来自各所述光源组件的光的照射强度当中的至少一者进行调整，来实施各所述单波长光的照射强度的平衡调整。

优选地，低灵敏度的所述光源组件配置于中心侧或者外周侧，所述低灵敏度的所述光源组件照射进行曝光的抗蚀剂的受光灵敏度低的所述单波长光，高灵敏度的所述光源组件与低灵敏度的所述光源组件相反地配置于外周侧或者中心侧，所述高灵敏度的所述光源组件照射所述受光灵敏度高的所述单波长光。

优选地，各所述光源组件具有判别部件，所述判别部件用于进行正品判定。

优选地，所述判别部件是白炽灯。

优选地，从多个所述光源组件照射的光的照射强度至少有2种。

根据本发明的另一方案，提供一种曝光装置，具备所述曝光用光源。

根据本发明的又一方案，提供一种曝光装置用光源的控制方法，所述曝光装置用光源具备照射波长不同的单波长光的多个光源组件，从多个所述光源组件照射的单波长光至少有2种，在所述曝光装置用光源的控制方法中，使光的照射强度在一次连续曝光期间中的第一曝光时间与第二曝光时间变化。

优选地，为了减少曝光对象物中的照度不均或曝光不均，使从多个所述光源组件照射的光的照射强度变化。

(发明效果)

根据本发明，能提供一种曝光装置用光源、采用该曝光装置用光源的曝光装置以及曝光装置用光源的控制方法，能配合抗蚀剂的特性，精确地照射需要的波长的光，另外，能将基准线以下的光量抑制在最小限度，进而，在对特性不同的别的抗蚀剂进行曝光时，使进行照射的光的波长适当变化。

附图说明

图1是表示实施方式所涉及的曝光装置10的图。

图2是实施方式所涉及的曝光装置用光源100的点亮电路图。

图3是实施方式所涉及的光源组件102的剖视图。

图4是实施方式所涉及的光源组件102的主视图。

图5是实施方式所涉及的光源112的立体图。

图6是实施方式所涉及的光源112的剖视图。

图7是表示发光二极管126的一例的图。

图8是表示光源组件支架104的一例的图。

图9是表示连续曝光时间中的光的照射强度的变化的一例的图。

图10是表示连续曝光时间中的光的照射强度的变化的一例的图。

图11是表示连续曝光时间中的光的照射强度的变化的一例的图。

图12是表示连续曝光时间中的光的照射强度的变化的一例的图。

图13是表示连续曝光时间中的光的照射强度的变化的一例的图。

图14是表示连续曝光时间中的各单波长光的照射强度的平衡的变化的一例的图。

图15是表示连续曝光时间中的各单波长光的照射强度的平衡的变化的一例的图。

图16是表示变形例1所涉及的光源组件102的主视图。

图17是表示变形例1所涉及的光源组件102的立体图。

图18是图16中的沿A-A箭头的剖视图。

图19是图16中的沿B-B箭头的剖视图。

图20是图16中的沿C-C箭头的剖视图。

图21是表示一般从水银灯照射的光的分光特性和特定的抗蚀剂的灵敏度特性的图。

具体实施方式

(曝光装置10的构造)

以下，按照附图来说明本发明。图1是表示本发明所涉及的嵌入有曝光装置用光源100的曝光装置10的概要的图。在此，曝光装置10用于对曝光对象物X(在本实施方式中，将在作为印刷线路板的基部的绝缘板P上形成的抗蚀剂X作为一例进行说明)进行曝光，大致由如下构成：曝光装置用光源100；支承台12，其支承曝光对象物X；光学系统14，其进行引导，以将从曝光装置用光源100照射的光作为平行光而从支承台12的正上方进行照射；以及点亮装置16，其控制曝光装置用光源100的点亮。

以下，首先，说明曝光装置用光源100以外的构件等，然后，详细说明该曝光装置用光源100。

支承台12支承曝光对象物X，能酌情采用迄今为止公知的构成。

光学系统14用于进行引导使得以从曝光装置用光源100照射的光作为照度均匀的平行光而从支承台12的正上方进行照射，且大致由如下构成：积分器透镜20(作为积分器透镜20的具体例，例如已知称为复眼透镜或棒状透镜的透镜，在本实施方式中，采用了复眼透镜)，其使从曝光装置用光源100照射的光的照度均匀化；曝光控制用快门22，其配置于积分器透镜20的前面侧，对从曝光装置用光源100照射的光(在本实施方式中，经过积分器透镜20后的照度均匀的光)的照射光路进行开闭控制；以及曝光用反射镜24，其使经过曝光控制用快门22后的均匀光的照射光路发生折射。

此外，在此示出的光学系统14的构成只是一例，不限于本实施方式的构成。例如，还可以构成为在使从曝光装置用光源100照射的光在曝光用反射镜24折射后入射至积分器透镜20，能根据目的光学路径来酌情变更其构成。

点亮装置16是用于根据曝光条件来使曝光装置用光源100选择性地点亮的装置，图2的点亮电路如图所示，与各个曝光装置用光源100连接的电力供给线30连接至点亮装置16。而且，控制装置40控制点亮装置16的导通和截止，由此能对应于曝光对象物X来选择性地点亮各曝光装置用光源100。此外，各曝光装置用光源100与点亮装置16经由连接器(省略图示)进行连接，能将各曝光装置用光源100和点亮装置16简单地从连接器的部分进行电气拆装。

(曝光装置用光源100的构造)

接下来，针对曝光装置用光源100的构造的一例进行说明。该曝光装置用光源100如图1所示，大致由多个光源组件102和光源组件支架104构成。此外，光源组件支架104并非本发明中的必要构成要素。故而，也可以不设置光源组件支架104而将各光源组件102固定于给定的位置等。

各光源组件102如图3以及图4所示，大致由碗状的反射镜110和光源112构成。

反射镜110具有：反射面114，其形成于反射镜110的内侧；开口116，其将由反射面114反射的光放出；以及大致圆筒状的中央安装筒部118，其在与该开口116对置的位置处设置于反射面114的底部中央。另外，将经过反射镜110的中心且与开口116正交的直线设为反射镜110(以及反射面114)的中心轴C。

使用玻璃或者铝等作为反射镜110的材质，在铝的情况下，在反射面114进行金属蒸镀，在玻璃的情况下，除了金属蒸镀以外，多层膜的反射面114形成于碗状部分的内表面(也就是，形成反射面114的面)。

尤其在光源组件102，来自构成光源112的发光二极管126(后述)的热量由支柱124(后述)高效地放射，因此还能将耐热能力比玻璃或铝等更弱的树脂等也用作反射镜110的材料。

此外，在本实施方式中，虽然安装有对反射镜110的开口116进行覆盖的聚碳酸酯制的前面盖120，但该前面盖120并非光源组件102的必要构成要素。另外，若是透明材料，还能使用玻璃等其他材料来作为前面盖120的材料。

反射面114由以上述中心轴C为中心的旋转面界定，在反射镜110的内侧的该中心轴C上设定有焦点F。基于在反射镜110的内侧收容的光源112中的发光二极管126的大小、个数等要素，将该焦点F的位置设定为最佳的位置。例如，在发光二极管126大或者发光二极管126的个数多的情况下，焦点F的位置被设定为离反射面114的底部隔开少许距离，反之，在发光二极管126小或者发光二极管126的个数少的情况下，焦点F的位置被设定为靠近反射面114的底部。此外，在界定反射面114的旋转面是旋转楕圆面或旋转抛物面的情况下，界定它们的楕圆或抛物线的焦点成为反射面114的焦点F。

在参照图3以及图4的基础上再参照图5，光源112构成为包括4个发光体122以及将它们保持于给定的位置的支柱124。此外，发光体122的数量不限于4个，通过使用2个以上的发光体122，能起到本发明的效果。

发光体122如图6所示，构成为包括发光二极管126、透镜128和透镜保持构件130。在本实施方式中使用的4个发光体122在从反射面114的底部沿中心轴C延伸的大致四棱柱状的支柱124的前端部分别以反射面114的焦点F为中心在周向上以均等间隔配设为放射状。

发光二极管126如图7所示，构成为包括多个发光二极管元件132。此外，在本实施方式中，将9个发光二极管元件132排列成棋盘格状来构成1个发光二极管126。构成发光二极管126的发光二极管元件132的数量不限于此，只要利用1个以上的发光二极管元件132来构成1个发光二极管126即可。

发光二极管元件132是通过流经给定的电流来例如以120°的光放射角(光放射角θ当然不限于此)放射特定波长的光的电子部件。在本实施方式中，构成1个发光二极管126的多个发光二极管元件132全部放射相同的波长的光。另外，构成1个光源组件102的多个发光二极管126也全部放射相同的波长的光。进而，从各光源组件102放射的光的波长至少有2种。

当然不限于此，也可以将从构成1个光源组件102的多个发光二极管126放射的光的波长设为彼此不同的波长。进一步讲，还可以将从构成1个发光二极管126的多个发光二极管元件132放射的光的波长设为彼此不同的波长。

另外，关于从各发光二极管126放射的光的波长，可以将紫外光、可见光或者红外光等任意波长的光进行组合。

回到图3以及图6，透镜128是在发光二极管126和反射面114之间与发光二极管126对置分离配设的聚碳酸酯制的弯月凸透镜(具有大致长条形状的截面、且一个面呈凸面而另一个面呈凹面的透镜)，是使从发光二极管126放射的光朝反射面114折射的光学部件。当然，透镜128的材质不限于聚碳酸酯，能使用玻璃等材料。另外，透镜128不是本发明必要构成要素，也可以是不设置透镜128的形态。

透镜保持构件130是由金属、不透明树脂或者透光性树脂等形成的环状体，围绕发光二极管126，其一端安装于支柱124的表面，并且在另一端部嵌入有透镜128(或者，可以与透镜128一体形成)。在透镜保持构件130由金属、不透明树脂形成的情况下，从发光二极管126放射的全部光经过透镜128进行放射。另外，在透镜保持构件130由透光性树脂形成的情况下，该光的大部分经过透镜128进行放射，但一部分经过透光性树脂制的透镜保持构件130进行放射。

支柱124是从反射面114的底部沿中心轴C延伸的铝制(若是热传导性高的材料，也可以使用铜等其他材料)的四棱柱材料(例如，若发光体122的数量为3个，则优选使用三棱柱材料，若为5个，则优选使用五棱柱材料)，4个发光体122分别以反射面114的焦点F为中心在周向上以均等间隔放射状地配设于支柱124的前端部。

如此，支柱124由热传导性高的铝形成，因此能从发光二极管126快速地接受发光二极管126在发光的同时产生的热。也就是，支柱124不仅保持发光二极管126、透镜128，而且还具有作为发光二极管126的散热材料的作用。另外，支柱124的另一端部在被插入反射镜110的中央安装筒部118后，通过硅系粘接剂等而被粘接至反射镜110(图3)。

在支柱124中的4个侧面，分别配设有用于向发光二极管126供电的供电构件134(图6)，通过该供电构件134向发光二极管126供给电力。在本实施方式中，支柱124是铝制的，因此支柱124与供电构件134之间需要绝缘。此外，向供电构件134的供电是从外部的电源(未图示)经由引线(未图示)来进行的。另外，可以使用引线来向发光二极管126直接供电。

光源组件支架104如图8所示，是形成有多个凹部136的大致长方体状的构件，在多个凹部136安装有多个光源组件102。

(关于曝光装置10所执行的对曝光对象物X的曝光)

若使点亮装置16启动，则曝光装置用光源100发光，从曝光装置用光源100放射的光朝前方进行照射。从曝光装置用光源100出来的光经过积分器透镜20而成为照度均匀的光。从点亮装置16的启动起经过给定时间，在估计为出光量达到给定值的时间点，使曝光控制用快门22打开。然后，若该均匀光经过曝光控制用快门22，则其光路基于曝光用反射镜24而向支承台12侧弯曲，平行光经由形成有电路图案的遮罩而从支承台12的正上方照射至载置于支承台12上的曝光对象物X。若曝光结束，则曝光控制用快门22闭合，将遮罩下的曝光对象物X交换成未处理物。在此通过控制所述曝光控制用快门22的开闭时间，来适当地调整曝光对象物X的曝光时间。

(本实施方式所涉及的曝光装置用光源100的特征)

如上所述，在本实施方式所涉及的曝光装置用光源100中，使用了发光二极管126作为光源组件102的光源112。另外，在以曝光装置用光源100整体观察时，为了能照射至少2种单波长光，在多个光源组件102当中的一部分的光源组件102中使用了能照射一个单波长光的发光二极管126，在另一部分的光源组件102中使用了能照射其他单波长光的发光二极管126。

发光二极管126与放电灯相比，能精确地照射特殊化为特定的波长的单波长光。由此，根据本实施方式所涉及的曝光装置用光源100，能照射与用于曝光对象物X的抗蚀剂的灵敏度特性相适合的至少2种波长，且能将放电灯的情况下的基准线以下的光量抑制在最小限度，因此不会使用对曝光无用的能量，另外，能使接受大能量的抗蚀剂发生剥离的可能性极小化。

(与曝光装置10所执行的对曝光对象物X的曝光有关的变形例1)

一般而言，在对曝光对象物X进行曝光时，在其曝光时间内，将从曝光装置用光源100照射的光的照射强度设为恒定。也可以取代该方案，如图9所示，将连续曝光时间例如划分为2个(“第一曝光时间”和“第二曝光时间”)，且使从曝光装置用光源100照射的光的照射强度在第一曝光时间与第二曝光时间有所变化。

例如，在图9中示出了如下例子：在第一曝光时间使照射强度强，在第二曝光时间使照射强度弱于在第一曝光时间的照射强度。当然，如图10所示，也可以在第一曝光时间使照射强度弱，而在第二曝光时间使照射强度强于在第一曝光时间的照射强度。另外，如图11所示，可以在第一曝光时间使照射强度逐渐增大，并在第二曝光时间使照射强度恒定。进一步讲，可以将连续曝光时间划分为3段以上，例如，如图12所示，可以在第一曝光时间使照射强度逐渐增大，在第二曝光时间使照射强度恒定，并在第三曝光时间使照射强度逐渐减小。另外，如图13所示，可以在第一曝光时间使照射强度急剧逐渐增大，在第二曝光时间使照射强度最初急剧减小后保持恒定，并在第三曝光时间使照射强度最初急剧增加后按照二次函数方式逐渐减小。

(与曝光装置10所执行的对曝光对象物X的曝光有关的变形例2)

另外，例如可以将连续曝光时间划分为2段，并在这第一曝光时间与第二曝光时间，使从曝光装置用光源100照射的各单波长光的照射强度的平衡变化。例如，在图14中示出了从曝光装置用光源100照射的4种单波长(302nm、313nm、334nm以及365nm)的照射强度的平衡为“365nm＞313nm＞334nm＞302nm”的第一曝光时间。在图15所示的第二曝光时间，使其变化为“302nm＞313nm＞334nm＝365nm”。当然，在该变形例2的情况下，也可以将连续曝光时间划分为3段以上。

(与曝光装置10所执行的对曝光对象物X的曝光有关的变形例3)

进而，可以不仅配合抗蚀剂的灵敏度特性来选择从各光源组件102照射的光的单波长，而且对从曝光装置用光源100照射的各单波长光的分光强度进行调整。关于各单波长光的分光强度的调整，例如，既可以通过照射该单波长光的光源组件102的数量进行调整，也可以对来自各光源组件102的光的照射强度进行调整。当然，可以将这些调整方法进行组合，还可以使用其他手段来进行各单波长光的分光强度的调整。

(与曝光装置10所执行的对曝光对象物X的曝光有关的变形例4)

另外，可以着眼于各单波长光与进行曝光的抗蚀剂的受光灵敏度的关系，例如，将低灵敏度的光源组件102配置于光源组件支架104中的中心侧，并将高灵敏度的光源组件102与低灵敏度的光源组件102相反地配置于光源组件支架104中的外周侧，其中，低灵敏度的光源组件102照射抗蚀剂的受光灵敏度低的单波长光，高灵敏度的光源组件102照射受光灵敏度高的单波长光。

也可以与之相反，将低灵敏度的光源组件102配置于光源组件支架104中的外周侧，而将高灵敏度的光源组件102配置于光源组件支架104中的中心侧，其中，低灵敏度的光源组件102照射抗蚀剂的受光灵敏度低的单波长光，高灵敏度的光源组件102照射受光灵敏度高的单波长光。

一般而言，从配置于光源组件支架104的外周侧的光源组件102照射的光，其一部分成为偏离曝光对象物X的杂散光，对曝光没有贡献。利用这样的特征，将高灵敏度的光源组件102配置于光源组件102组的外周侧，或者反之将低灵敏度的光源组件102配置于光源组件102组的外周侧，能调整抗蚀剂的曝光速度。

(其他变形例1)

在上述实施方式中的光源组件102中说明了将光源112与反射镜110进行组合来使用的情况，但也可以取代反射镜110，如图16至图20所示，使用别的透镜(第二透镜140)。

该变形例1的实施方式所涉及的光源组件102大致具备主体142、上述发光体122、散热器144以及第二透镜140。

主体142是具有从顶端起至底端为止的内部空间146的棱柱筒状体。此外，该主体142的材质不作特别限定，但优选是来自发光体122的光不会非期望地透过的不透明材质，能传导来自发光体122的热。

发光体122配设于主体142的内部空间146中的底端部，与上述实施方式同样，构成为包括发光二极管126、透镜128和透镜保持构件130。关于针对它们的说明，援用上述实施方式中的说明。此外，在该变形例1的实施方式中，使用了双凸透镜作为透镜128，具有使来自发光二极管126的光平行化的作用。当然，透镜128不限于双凸透镜，只要起到满足来自发光体122的光的利用效率的最佳化和平行化的作用，则还可以是平凸透镜、菲涅尔透镜等。另外，在进一步追求平行化的精度的情况下，可以使用非球面透镜。

此外，在变形例1中的发光二极管126的发光面侧的附近，配设有用于使从发光二极管126放射的光的配光角缩窄的前面透镜127，但也可以没有该前面透镜127。

散热器144以与上述发光体122的底面(与安装有发光二极管126的面为相反一侧的面)抵接的方式安装于主体142的内部空间146中的底端部，具有使发光二极管126点亮时的热发散(散热)的作用。故而，散热器144优选由热传导率高的材质形成。

第二透镜140是与发光体122分离的、配设于主体142的内部空间146中的顶端部的平凸透镜，在仅通过透镜128而不能满足来自发光体122的光的利用效率的最佳化和平行化的情况下，使用该第二透镜140来进一步使该光的利用效率的最佳化和平行化得以满足。第二透镜140也不限于双凸透镜，还可以是双凸透镜、菲涅尔透镜等。另外，与透镜128同样，在进一步追求平行化的精度的情况下，可以使用非球面透镜。

进一步讲，即使在加入第二透镜140也不能满足来自发光体122的光的利用效率的最佳化和平行化的情况下，可以追加未图示的第三、第四透镜。

(其他变形例2)

在上述实施方式中说明了使用发光二极管126作为光源112的例子，但只要基本上能放射单波长光，就不限于发光二极管126，例如可以使用激光器。

(其他变形例3)

另外，可以在各光源组件102中附加用于判定该光源组件102是否为正品的判别部件。该判别部件例如考虑被输入给定的信息的IC芯片、RFID等。另外，该判别部件既可以嵌入光源组件102内，也可以以与光源组件102中的反射镜110或光源112分离的状态进行安装。

进而，可以使用白炽灯作为判别部件。在判定是否为正品时，向白炽灯供给给定的电力来使该白炽灯点亮。然后，通过测量点亮中的白炽灯的电压，来判定光源组件102是否为正品。

若具体说明，则在向白炽灯供给恒定电流给定时间后(例如从开始供给起约10秒后)，测量该白炽灯的两端电压。将该测量电压与预先测量和登记的多个正品判定用的白炽灯的电压分布范围进行比较。然后，若测量电压处于登记电压范围内，则将附加有该白炽灯的光源组件102判定为正品。反之，若测量电压处于登记电压范围外，则将附加有该白炽灯的光源组件102判定为非正品。

还可以使用与上述判定方法不同的判定方法。例如，在刚开始向白炽灯供给恒定电流后测量该白炽灯的两端电压。然后，在从第一次电压测量起给定时间后(例如约10秒后)，再次测量该白炽灯的两端电压(第二次)。其后，确认第一次的测量电压与第二次的测量电压之差是否处于预先测量和登记的多个正品判定用的白炽灯中的两次测量电压的电压差范围内。若处于登记电压差范围内，则将附加有该白炽灯的光源组件102判定为正品。反之，若处于登记电压差范围外，则将附加有该白炽灯的光源组件102判定为非正品。

(其他变形例4)

虽然设为了从各光源组件102照射单波长光，但也可以如已经描述的那样，取代该方案，而使从构成1个发光二极管126的多个发光二极管元件132放射的光的波长为彼此不同的波长，且仅以一个光源组件102来构成曝光装置用光源100。

(其他变形例5)

为了减少曝光对象物X中的照度不均或曝光不均，可以调整以及变更来自多个光源组件102中的每一个光源组件102的光的照射强度。例如，在曝光对象物X的被照射面中的中央部的照度或曝光强度大的情况下，考虑使来自配置于多个光源组件102中的中央部的光源组件102的光的照射强度下降。

应该认为，本次公开的实施方式在全部方面只是例示，并不用于限制。本发明的范围不是由上述说明而是由权利要求书示出，旨在包含与权利要求的范围均等的含义以及范围内的全部变更。

(标号说明)

10…曝光装置、12…支承台、14…光学系统、16…点亮装置

20…积分器透镜、22…曝光控制用快门、24…曝光用反射镜、30…电力供给线、40…控制装置

100…曝光装置用光源、102…光源组件、104…光源组件支架

110…反射镜、112…光源、114…反射面、116…开口、118…中央安装筒部、120…前面盖、122…发光体、124…支柱、126…发光二极管、127…前面透镜、128…透镜、130…透镜保持构件、132…发光二极管元件、134…供电构件、136…凹部、140…第二透镜、142…主体、144…散热器、146…内部空间

X…曝光对象物(抗蚀剂)、C…(反射镜110的)中心轴、P…绝缘板。

Claims (10)

1.一种曝光装置用光源，具备照射单波长光的多个光源组件、以及保持多个所述光源组件的光源组件支架，

从多个所述光源组件照射的所述单波长光至少有2种，

照射一种所述单波长光的所述光源组件配置于所述光源组件支架的中心侧，

照射另一种所述单波长光的所述光源组件与照射一种所述单波长光的所述光源组件相反地配置于所述光源组件支架的外周侧，

在一次连续曝光期间中的第一曝光时间与第二曝光时间，照射的光的照射强度变化。

2.一种曝光装置用光源，具备照射单波长光的多个光源组件、以及保持多个所述光源组件的光源组件支架，

从多个所述光源组件照射的所述单波长光至少有2种，

照射一种所述单波长光的所述光源组件配置于所述光源组件支架的中心侧，

照射另一种所述单波长光的所述光源组件与照射一种所述单波长光的所述光源组件相反地配置于所述光源组件支架的外周侧，

在一次连续曝光期间中的第一曝光时间与第二曝光时间，各所述单波长光的照射强度的平衡变化。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置用光源，其中，

一次连续曝光期间至少被划分为第一曝光时间、第二曝光时间和第三曝光时间。

4.根据权利要求2所述的曝光装置用光源，其中，

对照射各所述单波长光的各所述光源组件的数量以及来自各所述光源组件的光的照射强度当中的至少一者进行调整，来实施各所述单波长光的照射强度的平衡调整。

5.根据权利要求1或2所述的曝光装置用光源，其中，

各所述光源组件具有判别部件，所述判别部件用于进行正品判定。

6.根据权利要求5所述的曝光装置用光源，其中，

所述判别部件是白炽灯。

7.根据权利要求1或2所述的曝光装置用光源，其中，

从多个所述光源组件照射的光的照射强度至少有2种。

8.一种曝光装置，具备权利要求1或2所述的曝光装置用光源。

9.一种抗蚀剂的曝光方法，其特征在于，

使用曝光装置用光源使光的照射强度在一次连续曝光期间中的第一曝光时间与第二曝光时间变化来进行所述抗蚀剂的曝光，

所述曝光装置用光源具备照射单波长光的多个光源组件，

从多个所述光源组件照射的所述单波长光至少有2种，

照射进行曝光的抗蚀剂的受光灵敏度低的一方的所述单波长光的低灵敏度的所述光源组件配置于对多个所述光源组件进行保持的光源组件支架的中心侧或外周侧，

照射所述受光灵敏度高的另一方的所述单波长光的高灵敏度的所述光源组件与低灵敏度的所述光源组件相反地配置于所述光源组件支架的外周侧或中心侧。

10.一种抗蚀剂的曝光方法，其特征在于，

使用曝光装置用光源使各单波长光的照射强度的平衡在一次连续曝光期间中的第一曝光时间与第二曝光时间变化来进行所述抗蚀剂的曝光，

所述曝光装置用光源具备照射所述单波长光的多个光源组件，

从多个所述光源组件照射的所述单波长光至少有2种，

照射进行曝光的抗蚀剂的受光灵敏度低的一方的所述单波长光的低灵敏度的所述光源组件配置于对多个所述光源组件进行保持的光源组件支架的中心侧或外周侧，

照射所述受光灵敏度高的另一方的所述单波长光的高灵敏度的所述光源组件与低灵敏度的所述光源组件相反地配置于所述光源组件支架的外周侧或中心侧。

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