TW202022504A - 曝光裝置用光源、用於其之曝光裝置及曝光裝置用光源之控制方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種曝光裝置用光源，能配合光阻劑的特性，精確地照射需要的波長的光，另外，能將基準線以下的光量控制在最小限度，進而，在對特性不同的別的光阻劑進行曝光時能使進行照射的光的波長適當變化。利用照射單波長光的多個光源組件（102）來構成曝光裝置用光源（100）。而且，將從多個光源組件（102）照射的單波長光設為至少2種。

Description

曝光裝置用光源、用於其之曝光裝置及曝光裝置用光源之控制方法

本發明係關於例如一種在半導體基板等的曝光裝置中使用的多燈式的曝光裝置用光源。

從以往，採用多個放電燈的光源用於曝光裝置（例如，專利文獻1）。

在專利文獻1有關的光源中，使所採用的多個放電燈中的水銀的封入量不同。由此，使從光源照射的光的波長區域變化。 在先技術文獻 專利文獻

專利文獻1：JP特開2008-191252號公報

（發明要解決的課題）

一般而言，從水銀燈照射的光的波長中，如圖21所示，存在多個峰值波長、以及給定的波長範圍內的最小限度的分光強度（以下，稱為“基準線”）。

然而，要想進行精度良好的曝光，期望僅以與進行曝光的光阻劑的特性相應的波長的光來進行曝光，而不需要與對作為對象的光阻劑的曝光沒有幫助的峰值波長。例如，對於特定的光阻劑，圖21中的長波長側的峰值（405nm以及436nm）沒有光阻劑靈敏度，因此不需要。

基於同樣的理由，擴展至給定的波長範圍的基準線以下的光也不需要。

如此，在現有的採用放電燈的曝光用光源中，連對光阻劑的曝光沒有幫助的峰值波長的光也要照射從而消耗無用的能量，除了該問題以外，還有如下問題：擴展至給定的波長範圍的基準線以下的光雖然對曝光的貢獻小但是賦予給光阻劑的能量自身大，因此接受大能量的光阻劑有時會剝離。

本發明鑒於上述問題而提出，其目的在於，提供一種曝光裝置用光源、採用該曝光裝置用光源的曝光裝置以及曝光裝置用光源的控制方法，能夠配合光阻劑的特性來精確地照射需要的波長的光，另外，能將基準線以下的光量控制在最小限度，進而，在對特性不同的別的光阻劑進行曝光時能使進行照射的光的波長適當變化。 （用於解決課題的技術方案）

根據本發明的一方案，提供一種曝光裝置用光源，具備照射單波長光的多個光源組件，從多個所述光源組件照射的單波長光至少有2種。

優選地，所述曝光裝置用光源還具備光源組件支架，所述光源組件支架保持多個所述光源組件。

優選地，在一次連續曝光期間中的第一曝光時間與第二曝光時間，照射的光的照射強度變化。

優選地，在一次連續曝光期間中的第一曝光時間與第二曝光時間，各所述單波長光的照射強度的平衡變化。

優選地，一次連續曝光期間至少被劃分為第一曝光時間、第二曝光時間和第三曝光時間。

優選地，對照射各所述單波長光的各所述光源組件的數量以及來自各所述光源組件的光的照射強度當中的至少一者進行調整，來實施各所述單波長光的照射強度的平衡。

優選地，低靈敏度的所述光源組件配置於中心側或者外周側，所述低靈敏度的所述光源組件照射進行曝光的光阻劑的受光靈敏度低的所述單波長光，高靈敏度的所述光源組件與低靈敏度的所述光源組件相反地配置於外周側或者中心側，所述高靈敏度的所述光源組件照射所述受光靈敏度高的所述單波長光。

優選地，各所述光源組件具有判別部件，所述判別部件用於進行正品判定。

優選地，所述判別部件是白熾燈。

優選地，從多個所述光源組件照射的光的照射強度至少有2種。

根據本發明的另一方案，提供一種曝光裝置，具備所述曝光用光源。

根據本發明的又一方案，提供一種曝光裝置用光源的控制方法，所述曝光裝置用光源具備照射波長不同的單波長光的多個光源組件，從多個所述光源組件照射的單波長光至少有2種，在所述曝光裝置用光源的控制方法中，使光的照射強度在一次連續曝光期間中的第一曝光時間與第二曝光時間變化。

優選地，為了減少曝光對象物中的照度不均或曝光不均，使從多個所述光源組件照射的光的照射強度變化。 （發明效果）

根據本發明，能提供一種曝光裝置用光源、採用該曝光裝置用光源的曝光裝置以及曝光裝置用光源的控制方法，能配合光阻劑的特性，精確地照射需要的波長的光，另外，能將基準線以下的光量控制在最小限度，進而，在對特性不同的別的光阻劑進行曝光時，使進行照射的光的波長適當變化。

（曝光裝置10的構造） 以下，按照附圖來說明本發明。圖1是表示本發明有關的嵌入有曝光裝置用光源100的曝光裝置10的概要的圖。在此，曝光裝置10用於對曝光對象物X（在本實施方式中，將在作為印刷電路板的基部的絕緣板P上形成的光阻劑X作為一例進行說明）進行曝光，大致由如下構成：曝光裝置用光源100；支承台12，其支承曝光對象物X；光學系統14，其進行引導，以將從曝光裝置用光源100照射的光作為平行光而從支承台12的正上方進行照射；以及點亮裝置16，其控制曝光裝置用光源100的點亮。

以下，首先，說明曝光裝置用光源100以外的構件等，然後，詳細說明該曝光裝置用光源100。

支承台12支承曝光對象物X，能酌情採用迄今為止公知的構成。

光學系統14用於進行引導使得以從曝光裝置用光源100照射的光作為照度均勻的平行光而從支承台12的正上方進行照射，且大致由如下構成：積分器透鏡20（作為積分器透鏡20的具體例，例如已知稱為複眼透鏡或棒狀透鏡的透鏡，在本實施方式中，採用了複眼透鏡），其使從曝光裝置用光源100照射的光的照度均勻化；曝光控制用快門22，其配置於積分器透鏡20的前面側，對從曝光裝置用光源100照射的光（在本實施方式中，經過積分器透鏡20後的照度均勻的光）的照射光路進行開閉控制；以及曝光用反射鏡24，其使經過曝光控制用快門22後的均勻光的照射光路發生折射。

此外，在此示出的光學系統14的構成只是一例，不限於本實施方式的構成。例如，還可以構成為在使從曝光裝置用光源100照射的光在曝光用反射鏡24折射後入射至積分器透鏡20，能根據目的光學路徑來酌情變更其構成。

點亮裝置16是用於根據曝光條件來使曝光裝置用光源100選擇性地點亮的裝置，圖2的點亮電路如圖所示，與各個曝光裝置用光源100連接的電力供給線30連接至點亮裝置16。而且，控制裝置40控制點亮裝置16的導通和截止，由此能對應於曝光對象物X來選擇性地點亮各曝光裝置用光源100。此外，各曝光裝置用光源100與點亮裝置16經由連接器（省略圖示）進行連接，能將各曝光裝置用光源100和點亮裝置16簡單地從連接器的部分進行電氣拆裝。

（曝光裝置用光源100的構造） 接下來，針對曝光裝置用光源100的構造的一例進行說明。該曝光裝置用光源100如圖1所示，大致由多個光源組件102和光源組件支架104構成。此外，光源組件支架104並非本發明中的必要構成要素。故而，也可以不設置光源組件支架104而將各光源組件102固定於給定的位置等。

各光源組件102如圖3以及圖4所示，大致由碗狀的反射鏡110和光源112構成。

反射鏡110具有：反射面114，其形成於反射鏡110的內側；開口116，其將由反射面114反射的光放出；以及大致圓筒狀的中央安裝筒部118，其在與該開口116對置的位置處設置於反射面114的底部中央。另外，將經過反射鏡110的中心且與開口116正交的直線設為反射鏡110（以及反射面114）的中心軸C。

使用玻璃或者鋁等作為反射鏡110的材質，在鋁的情況下，在反射面114進行金屬蒸鍍，在玻璃的情況下，除了金屬蒸鍍以外，多層膜的反射面114形成於碗狀部分的內表面（也就是，形成反射面114的面）。

尤其在光源組件102，來自構成光源112的發光二極管126（後述）的熱量由支柱124（後述）高效地放射，因此還能將耐熱能力比玻璃或鋁等更弱的樹脂等也用作反射鏡110的材料。

此外，在本實施方式中，雖然安裝有對反射鏡110的開口116進行覆蓋的聚碳酸酯制的前面蓋120，但該前面蓋120並非光源組件102的必要構成要素。另外，若是透明材料，還能使用玻璃等其他材料來作為前面蓋120的材料。

反射面114由以上述中心軸C為中心的旋轉面界定，在反射鏡110的內側的該中心軸C上設定有焦點F。基於在反射鏡110的內側收容的光源112中的發光二極管126的大小、個數等要素，將該焦點F的位置設定為最佳的位置。例如，在發光二極管126大或者發光二極管126的個數多的情況下，焦點F的位置被設定為離反射面114的底部隔開少許距離，反之，在發光二極管126小或者發光二極管126的個數少的情況下，焦點F的位置被設定為靠近反射面114的底部。此外，在界定反射面114的旋轉面是旋轉楕圓面或旋轉抛物面的情況下，界定它們的楕圓或抛物線的焦點成為反射面114的焦點F。

在參照圖3以及圖4的基礎上再參照圖5，光源112構成為包括4個發光體122以及將它們保持於給定的位置的支柱124。此外，發光體122的數量不限於4個，通過使用2個以上的發光體122，能起到本發明的效果。

發光體122如圖6所示，構成為包括發光二極管126、透鏡128和透鏡保持構件130。在本實施方式中使用的4個發光體122在從反射面114的底部沿中心軸C延伸的大致四棱柱狀的支柱124的前端部分別以反射面114的焦點F為中心在周向上以均等間隔配設為放射狀。

發光二極管126如圖7所示，構成為包括多個發光二極管元件132。此外，在本實施方式中，將9個發光二極管元件132排列成棋盤格狀來構成1個發光二極管126。構成發光二極管126的發光二極管元件132的數量不限於此，只要利用1個以上的發光二極管元件132來構成1個發光二極管126即可。

發光二極管元件132是通過流經給定的電流來例如以120°的光放射角（光放射角θ當然不限於此）放射特定波長的光的電子部件。在本實施方式中，構成1個發光二極管126的多個發光二極管元件132全部放射相同的波長的光。另外，構成1個光源組件102的多個發光二極管126也全部放射相同的波長的光。進而，從各光源組件102放射的光的波長至少有2種。

當然不限於此，也可以將從構成1個光源組件102的多個發光二極管126放射的光的波長設為彼此不同的波長。進一步講，還可以將從構成1個發光二極管126的多個發光二極管元件132放射的光的波長設為彼此不同的波長。

另外，關於從各發光二極管126放射的光的波長，可以將紫外光、可見光或者紅外光等任意波長的光進行組合。

回到圖3以及圖6，透鏡128是在發光二極管126和反射面114之間與發光二極管126對置分離配設的聚碳酸酯制的彎月凸透鏡（具有大致長條形狀的截面、且一個面呈凸面而另一個面呈凹面的透鏡），是使從發光二極管126放射的光朝反射面114折射的光學部件。當然，透鏡128的材質不限於聚碳酸酯，能使用玻璃等材料。另外，透鏡128不是本發明必要構成要素，也可以是不設置透鏡128的形態。

透鏡保持構件130是由金屬、不透明樹脂或者透光性樹脂等形成的環狀體，圍繞發光二極管126，其一端安裝於支柱124的表面，並且在另一端部嵌入有透鏡128（或者，可以與透鏡128一體形成）。在透鏡保持構件130由金屬、不透明樹脂形成的情況下，從發光二極管126放射的全部光經過透鏡128進行放射。另外，在透鏡保持構件130由透光性樹脂形成的情況下，該光的大部分經過透鏡128進行放射，但一部分經過透光性樹脂制的透鏡保持構件130進行放射。

支柱124是從反射面114的底部沿中心軸C延伸的鋁制（若是熱傳導性高的材料，也可以使用銅等其他材料）的四棱柱材料（例如，若發光體122的數量為3個，則優選使用三棱柱材料，若為5個，則優選使用五棱柱材料），4個發光體122分別以反射面114的焦點F為中心在周向上以均等間隔放射狀地配設於支柱124的前端部。

如此，支柱124由熱傳導性高的鋁形成，因此能從發光二極管126快速地接受發光二極管126在發光的同時產生的熱。也就是，支柱124不僅保持發光二極管126、透鏡128，而且還具有作為發光二極管126的散熱材料的作用。另外，支柱124的另一端部在被插入反射鏡110的中央安裝筒部118後，通過矽系粘接劑等而被粘接至反射鏡110（圖3）。

在支柱124中的4個側面，分別配設有用於向發光二極管126供電的供電構件134（圖6），通過該供電構件134向發光二極管126供給電力。在本實施方式中，支柱124是鋁制的，因此支柱124與供電構件134之間需要絕緣。此外，向供電構件134的供電是從外部的電源（未圖示）經由引線（未圖示）來進行的。另外，可以使用引線來向發光二極管126直接供電。

光源組件支架104如圖8所示，是形成有多個凹部136的大致長方體狀的構件，在多個凹部136安裝有多個光源組件102。

（關於曝光裝置10所執行的對曝光對象物X的曝光） 若使點亮裝置16啟動，則曝光裝置用光源100發光，從曝光裝置用光源100放射的光朝前方進行照射。從曝光裝置用光源100出來的光經過積分器透鏡20而成為照度均勻的光。從點亮裝置16的啟動起經過給定時間，在估計為出光量達到給定值的時間點，使曝光控制用快門22打開。然後，若該均勻光經過曝光控制用快門22，則其光路基於曝光用反射鏡24而向支承台12側彎曲，平行光經由形成有電路圖案的遮罩而從支承台12的正上方照射至載置於支承台12上的曝光對象物X。若曝光結束，則曝光控制用快門22閉合，將遮罩下的曝光對象物X交換成未處理物。在此通過控制所述曝光控制用快門22的開閉時間，來適當地調整曝光對象物X的曝光時間。

（本實施方式有關的曝光裝置用光源100的特徵） 如上所述，在本實施方式有關的曝光裝置用光源100中，使用了發光二極管126作為光源組件102的光源112。另外，在以曝光裝置用光源100整體觀察時，為了能照射至少2種單波長光，在多個光源組件102當中的一部分的光源組件102中使用了能照射一個單波長光的發光二極管126，在另一部分的光源組件102中使用了能照射其他單波長光的發光二極管126。

發光二極管126與放電燈相比，能精確地照射特殊化為特定的波長的單波長光。由此，根據本實施方式有關的曝光裝置用光源100，能照射與用於曝光對象物X的光阻劑的靈敏度特性相適合的至少2種波長，且能將放電燈的情況下的基準線以下的光量控制在最小限度，因此不會使用對曝光無用的能量，另外，能使接受大能量的光阻劑發生剝離的可能性極小化。

（與曝光裝置10所執行的對曝光對象物X的曝光有關的變形例1） 一般而言，在對曝光對象物X進行曝光時，在其曝光時間內，將從曝光裝置用光源100照射的光的照射強度設為恒定。也可以取代該方案，如圖9所示，將連續曝光時間例如劃分為2個（“第一曝光時間”和“第二曝光時間”），且使從曝光裝置用光源100照射的光的照射強度在第一曝光時間與第二曝光時間有所變化。

例如，在圖9中示出了如下例子：在第一曝光時間使照射強度強，在第二曝光時間使照射強度弱於在第一曝光時間的照射強度。當然，如圖10所示，也可以在第一曝光時間使照射強度弱，而在第二曝光時間使照射強度強於在第一曝光時間的照射強度。另外，如圖11所示，可以在第一曝光時間使照射強度逐漸增大，並在第二曝光時間使照射強度恒定。進一步講，可以將連續曝光時間劃分為3段以上，例如，如圖12所示，可以在第一曝光時間使照射強度逐漸增大，在第二曝光時間使照射強度恒定，並在第三曝光時間使照射強度逐漸減小。另外，如圖13所示，可以在第一曝光時間使照射強度急劇逐漸增大，在第二曝光時間使照射強度最初急劇減小後保持恒定，並在第三曝光時間使照射強度最初急劇增加後按照二次函數方式逐漸減小。

（與曝光裝置10所執行的對曝光對象物X的曝光有關的變形例2） 另外，例如可以將連續曝光時間劃分為2段，並在這第一曝光時間與第二曝光時間，使從曝光裝置用光源100照射的各單波長光的照射強度的平衡變化。例如，在圖14中示出了從曝光裝置用光源100照射的4種單波長（302nm、313nm、334nm以及365nm）的照射強度的平衡為“365nm＞313nm＞334nm＞302nm”的第一曝光時間。在圖15所示的第二曝光時間，使其變化為“302nm＞313nm＞334nm＝365nm”。當然，在該變形例2的情況下，也可以將連續曝光時間劃分為3段以上。

（與曝光裝置10所執行的對曝光對象物X的曝光有關的變形例3） 進而，可以不僅配合光阻劑的靈敏度特性來選擇從各光源組件102照射的光的單波長，而且對從曝光裝置用光源100照射的各單波長光的分光強度進行調整。關於各單波長光的分光強度的調整，例如，既可以通過照射該單波長光的光源組件102的數量進行調整，也可以對來自各光源組件102的光的照射強度進行調整。當然，可以將這些調整方法進行組合，還可以使用其他手段來進行各單波長光的分光強度的調整。

（與曝光裝置10所執行的對曝光對象物X的曝光有關的變形例4） 另外，可以著眼於各單波長光與進行曝光的光阻劑的受光靈敏度的關係，例如，將低靈敏度的光源組件102配置於光源組件支架104中的中心側，並將高靈敏度的光源組件102與低靈敏度的光源組件102相反地配置於光源組件支架104中的外周側，其中，低靈敏度的光源組件102照射光阻劑的受光靈敏度低的單波長光，高靈敏度的光源組件102照射受光靈敏度高的單波長光。

也可以與之相反，將低靈敏度的光源組件102配置於光源組件支架104中的外周側，而將高靈敏度的光源組件102配置於光源組件支架104中的中心側，其中，低靈敏度的光源組件102照射光阻劑的受光靈敏度低的單波長光，高靈敏度的光源組件102照射受光靈敏度高的單波長光。

一般而言，從配置於光源組件支架104的外周側的光源組件102照射的光，其一部分成為偏離曝光對象物X的雜散光，對曝光沒有貢獻。利用這樣的特徵，將高靈敏度的光源組件102配置於光源組件102的外周側，或者反之將低靈敏度的光源組件102配置於光源組件102的外周側，能調整光阻劑的曝光速度。

（其他變形例1） 在上述實施方式中的光源組件102中說明了將光源112與反射鏡110進行組合來使用的情況，但也可以取代反射鏡110，如圖16至圖20所示，使用別的透鏡（第二透鏡140）。

該變形例1的實施方式有關的光源組件102大致具備主體142、上述發光體122、散熱器144以及第二透鏡140。

主體142是具有從頂端起至底端為止的內部空間146的棱柱筒狀體。此外，該主體142的材質不作特別限定，但優選是來自發光體122的光不會非期望地透過的不透明材質，能傳導來自發光體122的熱。

發光體122配設於主體142的內部空間146中的底端部，與上述實施方式同樣，構成為包括發光二極管126、透鏡128和透鏡保持構件130。關於針對它們的說明，援用上述實施方式中的說明。此外，在該變形例1的實施方式中，使用了雙凸透鏡作為透鏡128，具有使來自發光二極管126的光平行化的作用。當然，透鏡128不限於雙凸透鏡，只要起到滿足來自發光體122的光的利用效率的最佳化和平行化的作用，則還可以是平凸透鏡、菲涅爾透鏡等。另外，在進一步追求平行化的精度的情況下，可以使用非球面透鏡。

此外，在變形例1中的發光二極管126的發光面側的附近，配設有用於使從發光二極管126放射的光的配光角縮窄的前面透鏡127，但也可以沒有該前面透鏡127。

散熱器144以與上述發光體122的底面（與安裝有發光二極管126的面為相反一側的面）抵接的方式安裝於主體142的內部空間146中的底端部，具有使發光二極管126點亮時的熱發散（散熱）的作用。故而，散熱器144優選由熱傳導率高的材質形成。

第二透鏡140是與發光體122分離的、配設於主體142的內部空間146中的頂端部的平凸透鏡，在僅通過透鏡128而不能滿足來自發光體122的光的利用效率的最佳化和平行化的情況下，使用該第二透鏡140來進一步使該光的利用效率的最佳化和平行化得以滿足。第二透鏡140也不限於雙凸透鏡，還可以是雙凸透鏡、菲涅爾透鏡等。另外，與透鏡128同樣，在進一步追求平行化的精度的情況下，可以使用非球面透鏡。

進一步講，即使在加入第二透鏡140也不能滿足來自發光體122的光的利用效率的最佳化和平行化的情況下，可以追加未圖示的第三、第四透鏡。

（其他變形例2） 在上述實施方式中說明了使用發光二極管126作為光源112的例子，但只要基本上能放射單波長光，就不限於發光二極管126，例如可以使用雷射光儀。

（其他變形例3） 另外，可以在各光源組件102中附加用於判定該光源組件102是否為正品的判別部件。該判別部件例如考慮被輸入給定的信息的IC芯片、RFID等。另外，該判別部件既可以嵌入光源組件102內，也可以以與光源組件102中的反射鏡110或光源112分離的狀態進行安裝。

進而，可以使用白熾燈作為判別部件。在判定是否為正品時，向白熾燈供給給定的電力來使該白熾燈點亮。然後，通過測量點亮中的白熾燈的電壓，來判定光源組件102是否為正品。

若具體說明，則在向白熾燈供給恒定電流給定時間後（例如從開始供給起約10秒後），測量該白熾燈的兩端電壓。將該測量電壓與預先測量和登記的多個正品判定用的白熾燈的電壓分佈範圍進行比較。然後，若測量電壓處於登記電壓範圍內，則將附加有該白熾燈的光源組件102判定為正品。反之，若測量電壓處於登記電壓範圍外，則將附加有該白熾燈的光源組件102判定為非正品。

還可以使用與上述判定方法不同的判定方法。例如，在剛開始向白熾燈供給恒定電流後測量該白熾燈的兩端電壓。然後，在從第一次電壓測量起給定時間後（例如約10秒後），再次測量該白熾燈的兩端電壓（第二次）。其後，確認第一次的測量電壓與第二次的測量電壓之差是否處於預先測量和登記的多個正品判定用的白熾燈中的兩次測量電壓的電壓差範圍內。若處於登記電壓差範圍內，則將附加有該白熾燈的光源組件102判定為正品。反之，若處於登記電壓差範圍外，則將附加有該白熾燈的光源組件102判定為非正品。

（其他變形例4） 雖然設為了從各光源組件102照射單波長光，但也可以如已經描述的那樣，取代該方案，而使從構成1個發光二極管126的多個發光二極管元件132放射的光的波長為彼此不同的波長，且僅以一個光源組件102來構成曝光裝置用光源100。

（其他變形例5） 為了減少曝光對象物X中的照度不均或曝光不均，可以調整以及變更來自多個光源組件102中的每一個光源組件102的光的照射強度。例如，在曝光對象物X的被照射面中的中央部的照度或曝光強度大的情況下，考慮使來自配置於多個光源組件102中的中央部的光源組件102的光的照射強度下降。

應該認為，本發明所揭示的實施方式在全部方面只是例示，並不用於限制。本發明的範圍不是由上述說明而是由申請專利範圍示出，旨在包含與請求項的範圍均等的含義以及範圍內的全部變更。

10:曝光裝置12:支承台14:光學系統16:點亮裝置 20:積分器透鏡22:曝光控制用快門24:曝光用反射鏡30:電力供給線40:控制裝置 100:曝光裝置用光源102:光源組件104:光源組件支架 110:反射鏡112:光源114:反射面116:開口118:中央安裝筒部120:前面蓋122:發光體124:支柱126:發光二極管127:前面透鏡128:透鏡130:透鏡保持構件132:發光二極管元件134:供電構件136:凹部140:第二透鏡142:主體144:散熱器146:內部空間X:曝光對象物（光阻劑）C:（反射鏡110的）中心軸P:絕緣板

圖1是表示實施方式有關的曝光裝置10的圖。 圖2是實施方式有關的曝光裝置用光源100的點亮電路圖。 圖3是實施方式有關的光源組件102的剖視圖。 圖4是實施方式有關的光源組件102的主視圖。 圖5是實施方式有關的光源112的立體圖。 圖6是實施方式有關的光源112的剖視圖。 圖7是表示發光二極管126的一例的圖。 圖8是表示光源組件支架104的一例的圖。 圖9是表示連續曝光時間中的光的照射強度的變化的一例的圖。 圖10是表示連續曝光時間中的光的照射強度的變化的一例的圖。 圖11是表示連續曝光時間中的光的照射強度的變化的一例的圖。 圖12是表示連續曝光時間中的光的照射強度的變化的一例的圖。 圖13是表示連續曝光時間中的光的照射強度的變化的一例的圖。 圖14是表示連續曝光時間中的各單波長光的照射強度的平衡的變化的一例的圖。 圖15是表示連續曝光時間中的各單波長光的照射強度的平衡的變化的一例的圖。 圖16是表示變形例1有關的光源組件102的主視圖。 圖17是表示變形例1有關的光源組件102的立體圖。 圖18是圖16中的沿A-A箭頭的剖視圖。 圖19是圖16中的沿B-B箭頭的剖視圖。 圖20是圖16中的沿C-C箭頭的剖視圖。 圖21是表示一般從水銀燈照射的光的分光特性和特定的光阻劑的靈敏度特性的圖。

10:曝光裝置

12:支承台

14:光學系統

16:點亮裝置

20:積分器透鏡

22:曝光控制用快門

24:曝光用反射鏡

30:電力供給線

100:曝光裝置用光源

102:光源組件

104:光源組件支架

X:曝光對象物(光阻劑)

P:絕緣板

Claims (13)

1. 一種曝光裝置用光源，具備照射單波長光的多個光源組件， 從多個所述光源組件照射的單波長光至少有2種。
2. 如請求項1所述的曝光裝置用光源，其中， 所述曝光裝置用光源還具備光源組件支架，所述光源組件支架保持多個所述光源組件。
3. 如請求項1所述的曝光裝置用光源，其中， 在一次連續曝光期間中的第一曝光時間與第二曝光時間，照射的光的照射強度變化。
4. 如請求項1所述的曝光裝置用光源，其中， 在一次連續曝光期間中的第一曝光時間與第二曝光時間，各所述單波長光的照射強度的平衡變化。
5. 如請求項3或4所述的曝光裝置用光源，其中， 一次連續曝光期間至少被劃分為第一曝光時間、第二曝光時間和第三曝光時間。
6. 如請求項4所述的曝光裝置用光源，其中， 對照射各所述單波長光的各所述光源組件的數量以及來自各所述光源組件的光的照射強度當中的至少一者進行調整，來實施各所述單波長光的照射強度的平衡。
7. 如請求項1所述的曝光裝置用光源，其中， 低靈敏度的所述光源組件配置於中心側或者外周側，所述低靈敏度的所述光源組件照射進行曝光的光阻劑的受光靈敏度低的所述單波長光， 高靈敏度的所述光源組件與低靈敏度的所述光源組件相反地配置於外周側或者中心側，所述高靈敏度的所述光源組件照射所述受光靈敏度高的所述單波長光。
8. 如請求項1所述的曝光裝置用光源，其中， 各所述光源組件具有判別部件，所述判別部件用於進行正品判定。
9. 如請求項8所述的曝光裝置用光源，其中， 所述判別部件是白熾燈。
10. 如請求項1所述的曝光裝置用光源，其中， 從多個所述光源組件照射的光的照射強度至少有2種。
11. 一種曝光裝置，具備權利要求1所述的曝光裝置用光源。
12. 一種曝光裝置用光源的控制方法，其特徵在於， 所述曝光裝置用光源具備照射波長不同的單波長光的多個光源組件， 從多個所述光源組件照射的單波長光至少有2種， 在所述曝光裝置用光源的控制方法中， 使光的照射強度在一次連續曝光期間中的第一曝光時間與第二曝光時間變化。
13. 如請求項12所述的曝光裝置用光源的控制方法，其中， 為了減少曝光對象物中的照度不均或曝光不均，使從多個所述光源組件照射的光的照射強度變化。

Images