CN111308752B - 显示装置 - Google Patents

Abstract

一种显示装置包括：基板、绝缘层、配向膜以及框胶。绝缘层位于基板之上，且具有多个凹槽。配向膜位于绝缘层之上。框胶位于配向膜之上。其中，框胶至少与部分多个凹槽重叠，于定义的一的单位区域U中，单位区域的边长为框胶的最大宽度X，且单位区域内的凹槽总边长大于8倍的最大宽度。

Description

显示装置

技术领域

本申请是有关于一种显示装置，特别是有关于一种具有液晶面板的显示装置。

背景技术

传统液晶显示器的面板包括两个基板以及容置于此两个基板之间的液晶层，并在基板与液晶层之间提供配向膜与液晶层接触。同时，基板具有显示区与围绕显示区的边框区，位于边框区的框胶与基板彼此粘着。

然而，随着显示器不断往窄边框发展，边框区不断减少，框胶会与于基板上的配向膜接触。由于，框胶与配向膜之间的附着力不佳，容易导致框胶与基板剥离的问题，影响液晶显示器的品质。

因此，仍有需要提供一种先进的显示装置，以改善框胶附着力的问题。

发明内容

本申请的一个面向是有关于一种显示装置，包括：一基板、绝缘层、配向膜以及框胶。绝缘层，位于基板之上，同时具有多个凹槽。配向膜位于绝缘层之上。框胶位于配向膜之上。其中，框胶至少与部分多个凹槽重叠，于定义的一单位区域U中，单位区域U的边长为框胶的最大宽度X，且单位区域U内的凹槽总边长大于8倍的最大宽度。

根据上述，本申请的实施例是提供一种显示装置，在基板上提供用来制作薄膜晶体管的至少一个绝缘层，并在绝缘层位于边框区的部分形成多个凹槽，之后再于边框区的绝缘层上形成框胶，使框胶至少与部分多个凹槽重叠。借此增加框胶的接触表面，进而提高框胶与基板之间的附着力，达到防止基板与框胶剥离的目的。

附图说明

为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，以下结合附图对本发明的具体实施方式作详细说明，其中：

图1A是根据本说明书的一实施例所绘示的显示装置的结构俯视图；

图1B是沿着图1A中的切线G所绘示的显示装置的部分结构剖面图；

图2是根据本说明书的一些实施例所绘示的绝缘层的结构俯视图；

图3是图1A中部分区域所绘示的显示装置部分结构俯视图；

图4是根据另一实施例绘示的显示装置部分结构俯视放大图；

图5是绘示胶框宽度与粘着强度(peel strength)的关系图；

图6A至图6B是根据本说明书的一实施例所绘示的配向膜的部分制程结构剖面示意图；

图7A是根据本说明书的又一实施例所绘示的显示装置部分结构剖面图；以及

图7B是根据图7A所绘示的绝缘层和另一绝缘层的部分俯视结构分解/结合示意图。

图中元件标号说明：

100：显示装置

101：显示区域

101a：像素

102：边框区

102a：边框区的外缘

102b：边框区的内缘

103：端子键合区

104、105：基板

106：薄膜晶体管

106a：漏极

106b：源极

106c：栅极

106d：有源层

107：配向膜

107a：配向膜的顶面

108：液晶层

109：框胶

109a、109b：框胶的侧边

109c：框胶投影图案

110、112、116：绝缘层

110a、113a：突出部

110b、113b：突出部的顶面

110Q：突出部的底部

111、113：凹槽

111A、111B、111C、111D、111E：子凹槽

111S、111S’、113S、113S’：凹槽的侧壁

114：切割线

115：栅极驱动电路区

115a：栅极驱动电路区之外缘

120：遮光层

L1、L2、L3、L4、L71、L72：子凹槽的长轴

P：突出部顶面宽度

ψ、θ：夹角

r、k：凹槽的开口边缘的长度

t：显示区的配向膜高度

d：凹槽的高度

S：凹槽的开口宽度

S22：另一凹槽的开口宽度

A、B、C：投影图案

w：另一凹槽的开口边缘的长度

G：切线

AA：显示装置的部分区域

具体实施方式

本说明书是提供一种显示装置，可解决已知液晶面板的框胶容易与透光基板剥离的问题。为了对本发明的上述实施例及其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举数个较佳实施例，并配合所附附图作详细说明。

但必须注意的是，这些特定的实施案例与方法，并非用以限定本发明。本发明仍可采用其他特征、元件、方法及参数来加以实施。较佳实施例的提出，仅是用以例示本发明的技术特征，并非用以限定本发明的权利要求。

再者，说明书与权利要求中所使用的序数例如“第一”、“第二”等的用词，以修饰权利要求的元件，其本身并不意含及代表该请求元件有任何之前的序数，也不代表某一请求元件与另一请求元件的顺序、或是制造方法上的顺序，这些序数的使用仅用来使具有某命名的一请求元件得以和另一具有相同命名的请求元件能作出清楚区分。此外，本说明书和权利要求所提及的位置，例如“之上”、“上”、“上方”、“之下”、“下”或“下方”，可指所述两元件直接接触，或可指所述两元件非直接接触。

本领域技术人员将可根据以下说明书的描述，在不脱离本发明的精神范围内，作均等的修饰与变化。在不同实施例与附图之中，相同的元件，将以相同的元件符号加以表示。

请参照图1A和图1B，图1A是根据本说明书的一实施例所绘示的显示装置100的结构俯视图；图1B是沿着图1A中的切线G所绘示的显示装置100的部分结构剖面图。如图1A所绘示，显示装置100可以划分为显示区域101、边框区102以及端子键合区(bonding area)103。其中，显示区域101包括多个像素101a是用来显示画面。边框区102位于显示区域101的周边，且邻接显示区域101。端子键合区103位于边框区102的任一边或一边以上的外侧，在本实施例中，端子键合区103位于边框区102其中一边的外侧，不限于此。端子键合区103可用来提供引脚及焊垫(图未示)，使其与外部连接线(图未示)键合。

在本说明书的一些实施例中，显示装置100可以是一种液晶显示面板。显示装置100可以包括基板104、基板105、多个薄膜晶体管106、配向膜107、液晶层108、框胶109、绝缘层116以及绝缘层110。基板105位于基板104上方，液晶层108位于基板104和基板105之间，为了引导液晶层中的液晶分子沿着同一个方向排列，配向膜107位于基板104之上，靠近液晶层108，使液晶分子具有一个预设的预倾角。绝缘层116位于配向膜与薄膜晶体管106之间，绝缘层116可为平坦层。基板105与液晶层108之间可以包括一个覆盖于边框区102的遮光层120，以及位于显示区域101中的遮光层120。其中，像素发光区101a可以是显示区域101中的遮光层135(例如为黑色矩阵、金属层或滤光层交叠处)所定义的光线通过区域，或者可以是有机发光二极管中有机发光层可发光的区域，也可以是无机发光二极管中可发光的区域。像素发光区内是通过这些多个薄膜晶体管106分别电性连接各像素中的像素电极(图未示)以控制各像素的亮暗变化。

其中，基板104和基板105可以为硬质基板或为可挠性基板。材料可包括玻璃、聚酰亚胺(Polyimide,PI)薄膜、聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene Terephthalate,PET)等，或具有透光性的其他板材或膜材，只要是适合作为基板的材料均可，于此并不限制。另外，虽然实施例中所绘示的显示装置100为矩形，然而构成的形状并不以此为限。可以分别为三角形、棱形、梯形、楔形、其他多边形或具有弧边的不规则形，且基板104和基板105的形状亦可不相同，二者的尺寸并未严格限制，第一面板和第二面板的尺寸可以实质相同或不同。

请参考图1A，于俯视图中，配向膜107形成的范围可涵盖显示区域101、边框区102或端子键合区103，三者的部分区域或整面区域，于此并不限制。在本实施例中，配向膜107覆盖整面的显示区域101与整面的边框区102。其他实施例中，配向膜107覆盖整面的显示区域101与部分的边框区102。配向膜107可以是一种聚酰亚胺(polyimide,PI)配向膜或聚合物稳定配向(Polymer-stabilized alignment,PSA)膜，但其材质与形式并不以此为限。

请并参考图1A及图1B，基板104之上具有多个薄膜晶体管106(附图仅画一个作代表)，可选择性设置于基板104的显示区域101或边框区102中。薄膜晶体管106更包括漏极106a、源极106b、栅极106c以及有源层106d。栅极106c位于基板104之上，有源层106d重叠于栅极106c之上，漏极106a和源极106b邻近有源层106d，并分别部分直接覆盖于有源层106d的两侧，且漏极106a和源极106b二者彼此分离。上述中的漏极106a、源极106b、栅极106c以及有源层106d可经由化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)或物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)，包括蒸镀(Evaporation)、溅镀(Sputtering)或其他合适的方法形成。薄膜晶体管106可不限制为下栅极型薄膜晶体管，亦可为上栅极型薄膜晶体管，或两种的组合。

配向膜107与基板104之间可具有至少一层以上的绝缘层，绝缘层经由化学气相沉积或物理气相沉积等方式成膜于基板104之上，隔绝不同的电极。绝缘层的材料可为无机材料或有机材料，材料例如可为硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOx)或全氟烷氧基乙烯基醚共聚物(poly fluoroalkoxy,PFA)，但不限于此。剖面视角下，在本实施例中，其中的一的绝缘层110位于源极106b和栅极106c之间，可用来作为薄膜晶体管106的栅极介电层，于此并不限制。在其他实施例中，绝缘层110可位于漏极106a和源极106b之上为保护层、有机绝缘层(PFA)任一层，或是可位于半导体层106d与基板104之间的任一层绝缘层。俯视角下，绝缘层110形成的范围可涵盖显示区域101、边框区102或端子键合区103，三者的部分区域或整面区域，于此并不限制。在本实施例中，绝缘层110覆盖整面的显示区域101与整面的边框区102。

边框区102的绝缘层110可通过半导体制程中的光刻行为将光罩的图案转移到基板104之上，再去除没有被光阻保护的部分绝缘层110，使边框区102的绝缘层110具有多个凹槽111与多个突出部111a。突出部111a由两个相邻的凹槽111的侧壁111S、侧壁111S’和顶部110b定义。在本实施例中，突出部111a的形状为侧壁111S或侧壁111S’向外延伸的山坡状，如梯形，在其他实施例中，顶部111b与侧壁111S或侧壁111S’之间可至少部分呈弧面状，于此并不限制，材料与绝缘层110相同。在本说明书的一些实施例中，多个凹槽111可以是多个条连续或不连续的凹槽，可例如为长条状凹槽。

配向膜107因为多个凹槽111与多个突出部111a造成的地貌不平坦而流动，突出部110a的顶面110b的配向膜107会容纳于凹槽111之中，凹槽111中的配向膜107的顶面107a不会超出突出部110a的顶面110b。因此部分的突出部110a的侧壁(即凹槽111的侧壁111S、侧壁111S’)和顶部110b可与配向膜107接触，于此并不限制。在本实施例中，突出部111a的顶部110b不与配向膜107接触，凹槽111的侧壁111S、侧壁111S’部分与配向膜107接触。

如图1A所绘示，框胶109位于边框区102中，沿显示区域101的周边形成，可依照显示装置100的设计要求改变形状或位在边框区102的位置，于此并不限制。本实施例中，框胶109为矩形线条，框胶109的边缘109a可切齐边框区102的外缘102a。在其他实施例中，框胶109可为不规则曲线，框胶109的边缘109a不切齐边框区102的外缘102a。值得注意的是，框胶109非绝对等宽的线条，于取样的范围内可具有一最大宽度X。在本实施例中，框胶109的宽度范围介在400μm到1500μm之间，于取样的范围内的最大宽度约15000μm。其他实施例中，框胶109的宽度范围介在450μm到850μm之间。如图1B所绘示，边框区102的框胶109可选择性与配向膜107的顶面107a、凹槽111的侧壁111S、侧壁111S’和突出部110a的顶部110b接触，借此与基板104附着。因为框胶109与配向膜107的附着力较不佳，所以通过凹槽111的设计，框胶109可接触的突出部110a的顶面110a、凹槽111的侧壁111S和侧壁111S’的总面积增加，有助于提升框胶109与基板104之间的附着力。

请参考图2，绝缘层110具有多个凹槽111，且凹槽111更可选择性包括子凹槽111A、子凹槽111B、子凹槽111C与子凹槽111D。子凹槽111A的长轴沿方向L1延伸(例如:Y方向)；子凹槽111B的长轴沿方向L2延伸(例如:Y方向)；子凹槽111C的长轴沿方向L3延伸(例如：X方向)；子凹槽111D的长轴沿方向L4延伸(例如：X方向)，并且子凹槽111C或子凹槽111D可连接子凹槽111A与子凹槽111B，换句话说，子凹槽111C与子凹槽111D是子凹槽111A与子凹槽111B以外的部分。其中，方向L3、方向L4与方向L1不同，且方向L3、方向L4与方向L2不同。方向L1与方向L2可以平行，也可以不平行，彼此之间具有一夹角ψ，夹角ψ小于180°。在本说明书中，凹槽111可大致位于边框区102的外缘102a，凹槽111彼此可平行亦可不平行，于此并不限制。相邻的两个凹槽111的侧壁111S与侧壁111S’间的距离为P，即突出部110a的顶部110b宽度。相邻的两个凹槽111的宽度P可以等宽度，也可以非等宽度，于此并不限制。于另一实施例中，凹槽111的侧壁111S可具有些微粗糙度，如此可使配向膜107流入凹槽111后，不容易再回流，使突出部110a的顶部110b残留较少的配向膜107，如此可增加框胶109与绝缘层110的接触面积以提升附着力；若框胶109接触具有粗糙度的绝缘层侧壁(凹槽111的侧壁111S)，亦可提升框胶110的附着力。于另一实施例中，于俯视方向看，凹槽111的侧壁111S形状可具有些微波浪状或是弧形边缘，当基板104和基板105对位而施加应力到框胶110时，此波浪或弧形形状可增加不同方向的支持力，以降低框胶110剥离的风险。

图2是根据本说明书的边框区102的绝缘层110多个实施例所绘示的俯视结构图。在一实施例中，方向L1可平行方向L2；L3方向可垂直方向L1或是方向L4可垂直方向L1。又一实施例中，方向L1和方向L2不平行，夹角ψ小于180°。更值得注意的是，绝缘层110中的凹槽111更可选择性的包括凹槽111E，位于任两个相邻的子凹槽111A与子凹槽111B之间，但不与子凹槽111A与子凹槽111B相连。在本实施例中，子凹槽111E不仅位于相邻的子凹槽111A与子凹槽111B之间，也位于相邻的子凹槽111C与子凹槽111D之间。子凹槽111E的形状可为矩形，亦可圆形、椭圆形或其他不规则形，于此并不限制。

子凹槽111A、子凹槽111B、子凹槽111C、子凹槽111D与子凹槽111E所构成的多个图案可具有相同的尺寸，例如可边长总合不同，或是面积不同，亦可选择性以规律的方式排列，于此并不限制。但在其他实施例中，子凹槽111A、子凹槽111B、子凹槽111C、子凹槽111D与子凹槽111E可根据设计需要而具有不同的尺寸大小，且形状不限于矩形，亦可具有圆弧的边缘。又一实施例中，并非每一个凹槽111都包括由子凹槽111A、子凹槽111B、子凹槽111C、子凹槽111D和子凹槽111E。子凹槽111C、子凹槽111D和子凹槽111E可根据设计需要而有不同的分布状况、尺寸大小，于此并不限制。

图3是图1A中部分区域(AA虚线框)所绘示的显示装置部分结构俯视图。于此取样范围内，框胶109投影于基板104的框胶投影图案109c，具有一个由侧边109a至靠显示区域101的侧边109b的最大宽度X，此最大宽度X定义一个边长为最大宽度X的正方形的单位区域U，至少与部分的凹槽111和部分的框胶投影图案109c重叠，凹槽111与框胶109重叠的面积大于或等于单位区域U的50％，而单位区域U中的凹槽111的边缘的总长度为凹槽总边长，且凹槽总边长大于8倍的最大宽度X(>8X)。在本实施例中，因框胶109较不会有剧烈的宽度变化，因此可于边框区102找任一段范围的框胶109取样，例如于平行边框区102的外缘102a取样约1公分长或2公分长的框胶109，在此取样范围内找出最大宽度X，再以此最大宽度X定义出单位区域U。

请并参考图3跟图4，单位区域U中的凹槽总边长的计算方式详述如下：图4是根据另一实施例绘示的显示装置部分结构俯视放大图。如图4所绘示，本实施例中，单位区域U中凹槽111与框胶投影图案109c重叠，单位区域U中具有6个边长为k的方形图案(每一个方形图案的边长总合为4k)，以及6个不完整的方形口字图案(每一个不完整的方形图案的边长总合为k/2+k+k/2＝2k)。凹槽总边长为6×4k+6×2k＝36k，且大于8倍的框胶109最大宽度X，其中，k与X的单位相同。单位区域U中凹槽111的凹槽总边长可以由算式(2)表示：36k>8X…(2)。上述所谓的“不完整”，是表示计算单位区域U之内的凹槽111总边长时，不会被完整地涵盖。

请再参照图3，边框区102邻接显示区域101；多个凹槽111设置在边框区102中的绝缘层110中，框胶109的侧边109a至侧边109b具有一最大宽度X，并覆盖在部分的凹槽111之上。

其中，框胶109的侧边109b到显示区域101之间的边框区102中，可选择性包括至少一个栅极驱动电路区(Gate on Panel,GOP)115。栅极驱动电路115包含至少一个薄膜晶体管(图未示)，值得注意的是，栅极驱动电路115中的至少其中一个薄膜晶体管的尺寸，可比位于显示区101中的至少一个薄膜晶体管106的尺寸大。在本实施例中，栅极驱动电路区115的宽度约400μm到800μm。

凹槽111可设置紧邻边框区102的外缘102a。其中，切割线114与边框区102外缘102a对齐，边框区102外缘102a以外的部分经由切割制程后，不会出现在的显示装置100的最终状态，但是因为切割制程中具有制程公差，紧邻切割线114的部分凹槽111可能会被一并切除。因此，为了确保凹槽111存在于边框区102之中，绝缘层110中至少需要包含3个以上的凹槽111，以避免因为制程公差影响最终产品上的凹槽11数目，进而影响框胶的附着力。

本实施例中，框胶109的侧边109a与边框区102的外缘102a对齐，于此并不限制。在其他实施例中，框胶109的侧边109a与边框区102的外缘102a可不对齐。在本实施例中，切割线114到边框区102内缘102b的距离约800～1000μm(微米)，例如为900μm。

另外，请参见图5，图5是绘示采用包含图2所绘示的凹槽111的基板104与框胶109进行附着性试验，所量测到的框胶109宽度与附着强度的关系图。通过图5可验证：当框胶109宽度较小(例如小于500μm)时，不同数量(3个、4个或5个)的凹槽111的基板104与框胶109之间的粘着强度无差异。但随着框胶109宽度逐渐增加(例如600μm)，3个以上的凹槽111较3个凹槽111的基板104与框胶109之间的粘着强度强。故而，本申请选择具有3个以上的凹槽111的基板104作显示装置100的设计趋势。

请参见图6A至图6B，图6A至图6B是根据本说明书的一些实施例所绘示的配向膜107的部分制程结构剖面示意图。请参考图6A，于剖面视角下，边框区102的凹槽111具有一开口宽度S，开口宽度S为相邻的两个突出部110a的顶部110b间的距离。如果开口宽度S过大可能牺牲凹槽111的总数量，无法提供足够绝缘层110面积给框胶109接触；开口宽度S过小可能造成凹槽111空间不足以容纳配向膜107，因此为了不影响显示装置100的品质，开口宽度S需要有其限制。

图6A为一开始配向膜107形成于基板104上方示意图，部分的配向膜107位于突出部110a的顶部110b，因为配向膜107具有流动性，未经过烘烤固化前，配向膜107会因为边框区102的地貌不平而流动，回流(reflow)到凹槽111之中。如图6B所绘示，突出部110a的顶部110b无残留配向膜107或是残留较少的配向膜107，凹槽111中的配向膜107的顶面107a往突出部110a的顶面110b靠近，但顶面107a不超出顶面110b。为了不使容纳于凹槽111中的一部分配向膜107的顶面107a超过突出部110a的顶面110b，凹槽111的面积需要大于或等于原先已容纳于凹槽111中的配向膜107，以及后续回流而容纳凹槽111配向膜107的总面积。亦即符合下公式(3)：

(S+(S-2d×Cotθ))×d/2≧P×t+S×t…(3)

其中，S为凹槽111的开口宽度；P为突出部110a顶面110b宽度；t为显示区101的配向膜107的高度，本实施例中，t可以是显示区域101对应像素发光区101a的位置，介于0.05μm(即

)至0.15μm或介于0.06μm至0.11μm，于此并不限制。由于配向膜107的高度会随着涂布的位置不同而有所变化。因此，在一实施例中，可以于显示区域101对应像素发光区101a中配向膜107取三点量测的平均值。d为凹槽111的高度，且S、P、t与d的单位相同。本实施例中，d可以介于0.3μm至1μm，于此并不限制。θ为凹槽111的侧壁111S与突出部110a的底部110Q所夹的角度，θ可以介于15°至75°之间。本实施例中，θ介于20°至70°之间，于此并不限制。经过换算可得公式(4)：

S≧(P×t+d²×2Cotθ)/(d–t)…(4)

本实施例中，宽度P为20μm；高度t为0.1μm；高度d为0.5μm；角度θ为45°；开口宽度S≧5.625μm。

另外，当由框胶109的最大宽度X所定义的单位区域U仅包含3个凹槽111时，3个凹槽111的开口宽度S总和3S会需小于框胶109的最大宽度X，即公式(5)：

3S<X…(5)

因此，合并公式(4)与公式(5)得公式(6)，凹槽111的开口宽度S即需要符合满足此公式(6)：

1/3X>S≧(P×t+d²×2Cotθ)/(d–t)…(6)

值得注意的是，当突出部110a顶面110b的宽度P太大时，配向膜107的流动不佳无法回流，导致仍有较多部分的配向膜107留于顶面110b之上，进而影响到框胶109与基板104之间的附着力。反之，当突出部110a顶面110b的宽度P太小时，突出部110a的顶面110b与框胶109的接触面积不足，无法增加框胶109与基板104附着力。故而本领域技术人员可以根据公式(3)经过移项可得公式(6)：

P≦[S(d-t)-d²Cotθ]/t…(6)

由此公式(6)可得到突出部110a顶面110b的宽度P的范围。本实施例中，开口宽度S为3.5μm；高度t为0.1μm；高度d为0.5μm；角度θ为45°；宽度P≦11.5μm。

请参照图7A和图7B，图7A是根据本说明书的又一实施例所绘示的显示装置100部分结构剖面图。图7B是根据图7A所绘示的绝缘层110和绝缘层112的部分俯视结构的分解/结合示意图。在本实施例中，图7A所绘示的显示装置100结构大致与图1B相似，差别仅在于图7A所绘示的显示装置100更包括一个绝缘层112，经由化学气相沉积或物理气相沉积等方式成膜于绝缘层110之上。在本实施例中，显示区域101中绝缘层112可覆盖至少部分的源极106b、有源层106d、源极106b和绝缘层110之上，绝缘层112可以做为薄膜晶体管106的钝化层(passivating layer)，于此并不限制。在其他实施例中，绝缘层112可为一平坦层等。绝缘层的材料例如可包括：硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOx)或有机材料。

请同时参考图7A及图1A，于俯视角下，绝缘层112形成的范围可涵盖显示区域101、边框区102或端子键合区103，三者的部分区域或整面区域，于此并不限制。在本实施例中，绝缘层112可绝缘层110覆盖至少部分的显示区域101与至少部分的边框区102。

请参考图7A，边框区102中的绝缘层112可具有多个另一凹槽113与多个突出部113a，形成方式同前述的凹槽111，在此不多作叙述。突出部113a由两个相邻的凹槽113的侧壁113S、侧壁113S’和顶部113b定义。在本实施例中，突出部113a的形状为侧壁113S或侧壁113S’向外延伸的山坡状，如梯形，在其他实施例中，顶部111b与侧壁113S或侧壁113S’之间可至少部分呈弧面状，于此并不限制，材料与绝缘层112相同。另外，每一个凹槽113对应一个凹槽111，凹槽113具有一开口宽度S22，开口宽度S22为相邻的两个突出部113a的顶部113b间的距离，该开口宽度S22与凹槽111的开口宽度S的宽度可相同，也可以不同，于此并不限制。

值得注意的是，俯视角度下，至少有一部分的凹槽113没有与对应的凹槽111重叠，同时至少有一部分的凹槽111没有与对应的凹槽113重叠。如图7B所绘示，相同区域内，多个凹槽113投影于基板104的投影图案B与多个凹槽111投影于基板104的投影图案A重叠；得到的投影图案C(投影图案A与投影B重叠)中凹槽111的侧壁111S’与凹槽113的侧壁112S并没有对齐，且不平行，于此并不限制。例如在本实施例中，绝缘层110中的多个凹槽111，可以包括多个条的长条状(例如，矩形)凹槽；绝缘层112中的多个凹槽113，可以包括多个条不规则条状(例如，S形、锯齿形、麻花形或其他规不规则图案)凹槽，于此并不限制。

而且，前述凹槽111和凹槽113的形状、尺寸和堆叠顺序并不以此为限。例如在另一实施例中，绝缘层112中的多个凹槽113，可以包括多个条的长条状凹槽；而绝缘层110中的多个凹槽111可以包括多个条不规则形状的条状凹槽。

请参见图7A，框胶109可以延伸进入凹槽111和凹槽113之中，以增加框胶109与绝缘层110和绝缘层112之间的接触面积，有助于提升框胶109与基板104之间的附着力。另外，请参见图7B，于取样的范围内，单位区域U中的凹槽总边长的计算方式是:单位区域U中凹槽111的边缘的总边长，加上单位区域U中凹槽113的边缘的总边长。凹槽的边缘只要是有影响地貌变化而对框胶接触附着力有贡献者，均计入凹槽总边长。

详言之，如图7B所绘示，投影图案C中于取样的范围内的单位区域U例如具有3个凹槽111。每一个凹槽111具有2个沿着长轴L71延伸，长度为r的边长。3个凹槽111的边缘的总长度为3×2r。单位区域U中具有3个凹槽113。每一个凹槽113具有2个沿着长轴L72延伸，长度为w的边长。3个凹槽113的边缘的总长度为3×2w。凹槽111和凹槽113在单位区域U中的凹槽总边长为3×(2r+2w)，其中，r与w的单位相同。

值得注意的是，虽然图7A和图7B仅绘示二层部分重叠的绝缘层110和绝缘层112，但在其他实施例中，显示装置100可以包括更多类似结构的绝缘层，这些绝缘层的凹槽的图案和堆叠方式并未加以限定。本领域技术人员皆可根据显示装置100的设计需求，调整绝缘层的数量，以及凹槽的图案和堆叠方式，以增进框胶109与基板104稳定的附着力。

根据上述，本发明的实施例是提供一种显示装置，在基板上提供用来制作薄膜晶体管的至少一个绝缘层以上，并在位于边框区的任一绝缘层形成多个凹槽，之后再于边框区的绝缘层上设置配向膜和框胶，使框胶在基板的投影图案与多个凹槽至少部分重叠。通过多个凹槽来增加框胶的接触表面，进而提高框胶与基板二者之间的附着力，达到防止基板与框胶剥离的目的。

虽然本发明已以较佳实施例揭示如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的修改和完善，因此本发明的保护范围当以权利要求书所界定的为准。

Claims (9)

1.一种显示装置，其特征在于，包括：

一基板；

一绝缘层，位于该基板之上，且具有多个凹槽；

一配向膜，位于该绝缘层之上；以及

一框胶，位于该配向膜之上，

其中，该框胶至少部分与该多个凹槽重叠，于定义的一单位区域中，该单位区域的边长为该框胶的最大宽度X；

该绝缘层包括一突出部，位于该多个凹槽的相邻二者之间，且具有一顶面宽度P；该多个凹槽的该相邻二者的一者具有一开口宽度S和一侧壁，该侧壁与该突出部的一底部夹一角度θ，且该开口宽度S小于该最大宽度X的三分之一，且符合下述公式：

1/3X>S≧(P×t+d²×2Cotθ)/(d–t)

其中，t为该配向膜的一高度，d为该多个凹槽的一高度，且X、S、P、t与d的单位相同。

2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该多个凹槽包括一第一子凹槽、一第二子凹槽与一第三子凹槽，该第一子凹槽沿一第一方向延伸，该第二子凹槽沿一第二方向延伸，该第三子凹槽沿一第三方向延伸，且该第三子凹槽连接该第一子凹槽与该第二子凹槽，其中，该第三方向与该第一方向不同，且该第三方向与该第二方向不同。

3.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，该多个凹槽更包括一第四子凹槽，该第四子凹槽沿一第四方向延伸，连接该第一子凹槽与该第二子凹槽，其中，该第四方向与该第一方向、第二方向、该第三方向不同。

4.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，该多个凹槽更包括一第五子凹槽，该第五子凹槽位在相邻的该第一子凹槽与该第二子凹槽之间。

5.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，该基板具有一外缘，该第一方向平行该外缘。

6.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该多个凹槽与该框胶的一重叠面积大于或等于该单位区域的50％。

7.如权利要求1所述的显示装置，更包括一另一绝缘层，位于该基板之上；

其中该另一绝缘层具有多个另一凹槽，该多个另一凹槽对应该多个凹槽；至少部分的该多个另一凹槽与该多个凹槽不重叠；且至少部分的该多个凹槽与该多个另一凹槽不重叠。

8.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，凹槽总边长包括在该单位区域中该多个凹槽的边缘的总长度，以及在该单位区域中该多个另一凹槽的边缘的总长度。

9.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，于一剖面视角下，该多个凹槽具有一开口宽度，该多个另一凹槽具有一另一开口宽度，该开口宽度不同于该另一开口宽度。

Images