JP2016109807A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】額縁の領域を小さくし、かつ、シール部の信頼性を向上させた液晶表示装置を実現する。【解決手段】表示領域と端子部を有し、有機パッシベーション膜が形成されたTFT基板と、対向基板が、シール部おいて接着し、内部に液晶が封入された液晶表示装置であって、TFT基板のシール部には、有機パッシベーション膜に、平面で視て、所定のピッチでホール10が形成されており、ホール10の平面形状で視た場合、ホール10とホール10の間の最短距離d2は、4μm以上12μm以下であることを特徴とする液晶表示装置。この構成によれば、基板の端部まで配向膜材料を形成しても、シール部のホール10において配向膜が存在しないので基板の端部まで配向膜を形成することができる。【選択図】図3
Description
本発明は表示装置に係り、画面周辺の額縁領域を小さくした液晶表示装置に関する。
液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ(TFT)等を有する画素がマトリクス状に形成されたTFT基板と、TFT基板に対向して対向基板が配置され、TFT基板と対向基板の間に液晶が挟持されている構成となっている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。
TFT基板と対向基板は周辺のシール材によって接着し、内部に液晶が封入されている。また、基板と液晶との界面には液晶を初期配向させるために配向膜が使用される。しかし、配向膜とシール材との接着性は弱いので、シール部の信頼性を確保するためにシール部から配向膜を排除する必要がある。
特許文献1には、シール部から配向膜を排除するために、シール部と表示領域の間において、有機パッシベーション膜に基板の辺に沿って凹溝を形成し、かつ、有機パッシベーション膜の上にITOを形成することによって、配向膜材料の塗布時に、配向膜材料がシール部に到達しないようにする構成が記載されている。
特に小型の液晶表示装置では、外形に対して画面サイズを大きくしたいという要求が強い。このためには、画面(表示領域)周辺の額縁の幅を小さくする必要がある。そうすると、シール部から配向膜を排除するような構成をシール部と表示領域の間に形成することは困難になる。
つまり、配向膜材料は、塗布時は液体であるから、基板の周辺のシール部から配向膜を排除するような構造をとることは、スペース的に困難になる。一方、配向膜を基板周辺まで塗布できればプロセス的にも、狭額縁とする上でも非常に有利である。しかし、この場合は、配向膜とシール材の接着強度が問題となる。
本発明の課題は、配向膜を基板周辺まで形成しても、配向膜とシール材の接着力を確保し、狭額縁で、かつ、信頼性の高い液晶表示装置を実現することである。
本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。
(1)表示領域と端子部を有し、有機パッシベーション膜が形成されたTFT基板と、対向基板が、シール部おいて接着し、内部に液晶が封入された液晶表示装置であって、前記TFT基板の前記シール部には、前記有機パッシベーション膜に、平面で視て、所定のピッチでホールが形成されており、前記ホールの深さをh2としたとき、前記ホールの底面からh1=0.9×h2の高さにおいて、前記ホールを平面で視た場合、前記ホールと前記ホールの間の最短距離は、4μm以上12μm以下であることを特徴とする液晶表示装置。
(2)前記ホールの前記平面形状は正方形であり、前記前記正方形の辺の長さは、1μm以上で7μm以下であることを特徴とする(1)に記載の液晶表示装置。
(3)前記ホールの前記平面形状は円であり、前記前記円の直径は、1μm以上で7μm以下であることを特徴とする(1)に記載の液晶表示装置。
(4)前記ホールの前記平面形状は長径と短径を有し、前記長径は、1μm以上で7μm以下であることを特徴とする(1)に記載の液晶表示装置。
(5)前記ホールの深さh2は1μm以上であることを特徴とする(1)に記載の液晶表示装置。
(6)前記ホールの第1の方向のピッチをp1とし、第2の方向のピッチをp2とし、前記ホールの前記平面形状における長径をd1、短径をd11とし、前記シール部の前記液晶側を内側とし、前記液晶と反対側を外側とし、前記シール部の前記内側端部と前記外側端部の距離を前記シール部の幅とした場合、前記d1×d11/p1×p2の値は、前記シール部の外側が前記シール部の内側よりも大きいことを特徴とする(1)に記載の液晶表示装置。
(7)前記シール部の幅方向の中心よりも内側においては、前記ホールは形成されていないことを特徴とする(6)に記載の液晶表示装置。
(8)前記対向基板の前記シール部には有機材料によるオーバーコート膜が形成されており、前記オーバーコート膜に、平面で視て、所定のピッチで第2のホールが形成されており、前記第2のホールの深さをh2とし、前記第2のホールの底面からh1=0.9×h2の高さにおける前記第2のホールの平面形状で視た場合、前記第2のホールと前記第2のホールの間の最短距離は、4μm以上12μm以下であることを特徴とする(1)乃至(7)のいずれかに記載の液晶表示装置。
以下に実施例を用いて本発明の内容を詳細に説明する。
図1は本発明が適用される液晶表示装置を構成する液晶表示パネルの平面図である。図1において、TFT基板100と対向基板200がシール材20によって接着し、TFT基板100と対向基板200の間に液晶が挟持されている。TFT基板100は対向基板200よりも大きく形成されており、TFT基板100が1枚となっている部分は端子部150となっている。端子部150には、液晶表示パネルを駆動するICドライバ160が配置され、液晶表示パネルに、電源、映像信号、走査信号等を供給するためのフレキシブル配線基板を接続するための端子等が形成されている。
図1において、表示領域500には走査線30が横方向に延在し、縦方向に配列している。また、映像信号線40が縦方向に延在し、横方向に配列している。走査線30と映像信号線40とで囲まれた領域が画素35となっている。狭額縁では、表示領域500の端部から液晶表示パネルの端部までの距離wは1mm程度にまで小さくなっている。そうすると、シール材の幅も小さくなる。
液晶表示装置では、液晶を初期配向させるために配向膜を用いているが、配向膜とシール材の接着力は弱いので、配向膜はシール部には形成しないことが望まれる。しかし、図1に示すような狭額縁の構成では、配向膜をシール部から除くことは困難である。本発明では、以下に示す構成によって、配向膜を基板の端部にまで形成しても、シール部の信頼性を確保することができる。
図2は、図1のA−A断面に相当するシール部の詳細断面図である。図2に示すシール部において、シール材20によってTFT基板100と対向基板200が接着している。図2において、シール材20の内側には液晶300が充填されている。
図2において、ガラスで形成されたTFT基板100に第1の絶縁膜101が形成されている。第1の絶縁膜101は、例えば、ガラスからの不純物がTFTの半導体層を汚染することを防止するために形成されるアンダーコート膜である場合もある。第1の絶縁膜101の上に第2の絶縁膜102が形成されている。第2の絶縁膜102は、TFTにおけるゲート絶縁膜である場合もある。第2の絶縁膜102の上に走査線引出し線103が形成されている。矩形の走査線引き出し線103は、図1における、図面の上側からの走査線引き出し線103の断面である。
なお、製品によっては、シール材20の下側に、走査線引き出し線103ではなく、走査線駆動回路が形成されている場合もある。図2は、このような走査線駆動回路の場合も、走査線引き出し線103で代表して表している。
走査線引き出し線103を覆って有機パッシベーション膜104が形成されている。有機パッシベーション膜104は2乃至4μmと、厚く形成され、平坦化膜としての役割も有している。有機パッシベーション膜104は感光性樹脂で形成され、パターニングにフォトレジストを必要としない。
有機パッシベーション膜104は、アクリル等の樹脂によって形成されている。このような膜は水分を吸収しやすいので、外部から侵入した水分等の影響により液晶の比抵抗が低下する等の問題を生ずる。このような現象を防止するために、SiN等による無機絶縁膜105が有機パッシベーション膜104を覆うように形成されている。なお、無機絶縁膜105は層間絶縁膜105と呼ぶこともある。
層間絶縁膜105は、IPS方式の液晶表示装置の表示領域において、平面状に形成された下層電極と線状電極を有する上層電極との層間の絶縁膜である。下層電極がコモン電極で、上層電極が画素電極である場合もあるし、その逆の場合もあるが、下層電極も上層電極もITO(Indium Tin Oxide)で代表される透明酸化物導電膜で形成されている。
有機パッシベーション膜104は、水分を透過しやすいので、液晶表示パネル端部から有機パッシベーション膜104を透過してくる水分を遮断するために、有機パッシベーション膜104に溝状スルーホール1041が形成されている。この溝状スルーホール1041は、シール部内に表示領域を囲むように、TFT基板100の全周に形成される。
本発明の特徴は、TFT基板100の端部まで配向膜106を形成できることである。つまり、本発明では、シール部において、有機パッシベーション膜104に所定の形状でかつ所定のピッチで多数のホール10を形成し、このホー10ルの部分には、配向膜106が入り込まないような構成としている。すなわち、配向膜材料は液体ではあるが、所定の表面張力を有しているので、ホール10の径が小さく、かつ、所定のピッチ以下であると、配向膜材料がこのホール10に入り込まない。
一方、シール材20は、表面張力が配向膜材料とは異なり、かつ、層間絶縁膜105との濡れ性も配向膜106よりも良いのでこのようなホール内にも侵入する。したがって、このホール10において、シール材20は配向膜106を介さず、層間絶縁膜105と直接接するので、シール部におけるシール材20の接着力を確保することができる。配向膜106を基板の端部まで形成してもよければ、配向膜106の塗布プロセスの自由度を上げ、また、プロセスを簡略化することができる。特にTFT基板100と対向基板200とのシール材20での固着を減圧下で行う場合、シール材20はよりホール内に侵入し易くなる。
図2のシール部において、ホール10以外の部分では、層間絶縁膜105の上に配向膜106が形成されている。また、配向膜106は、TFT基板100の端部にまで形成されている。配向膜106を基板端部にまで形成して良ければ、配向膜材料に対し、フレキソ印刷ばかりでなく、インクジェット、スピナー等種々の塗布プロセスを用いることができる。
図2において、対向基板200側にはブラックマトリクス201が形成されている。図2におけるブラックマトリクス201はシール部からの光漏れを防止するために設けられている。ブラックマトリクス201は樹脂で形成された遮光膜なので、樹脂を浸透してくる水分を遮断するためにブラックマトリクス溝2011が形成されている。ブラックマトリクス201の上には、カラーフィルタ202が紙面垂直方向にストライプ状に形成されている。シール部において、カラーフィルタ202はオーバーコート膜203の上に形成される第1柱状スペーサ210に対応して形成されている。
カラーフィルタ202の上に有機材料によるオーバーコート膜203が形成されている。オーバーコート膜203には、カラーフィルタ202の部分に対応して凸部が形成されている。この凸部に対応して、TFT基板100と対向基板200の間隔を規定する第1柱状スペーサ210が形成されている。TFT基板100と対向基板200の間隔を表示領域と同様に規定するためである。
図2において、対向基板200には、対向基板200の表面からの高さが第1柱状スペーサ210よりも低い第2柱状スペーサ220が形成されている。第2柱状スペーサ220は対向基板200に外部から圧力が加わった場合、TFT基板100と対向基板200の間隔が過度に小さくなることを防止する役割を有する。
第1柱状スペーサ210の外側には壁状スペーサ250が形成されている。この壁状スペーサは、対向基板における配向膜106に対するストッパーとなっている。壁状スペーサ250は2段形成されている。オーバーコート膜203を覆って配向膜105が形成されている。この配向膜は、壁状スペーサ250によって外形が区切られている。尚、壁状スペーサ250は、第1柱状スペーサの内側に形成されていても良い。
対向基板200側においては、配向膜ストッパーとなる壁状スペーサ250は柱状スペーサ210を形成する時に同時に形成することができる。したがって、配向膜の範囲を容易に規定することができるので、TFT基板100側とは異なった構成となっている。しかし、配向膜塗プロセスをTFT基板100と合わせるために、TFT基板100側と同じように、オーバーコート膜203に対してホールを形成しも良い。したがって、以下に述べるホール10の構成は、TFT基板100側の有機パッシベーション膜104のみでなく、対向基板200側のオーバーコート膜203に対しても適用することができる。
シール部の端部には土手状スペーサ230が形成されている。液晶表示パネルは個々に製造すると効率が悪いので、マザー基板に複数の液晶表示パネルを形成し、複数の液晶表示パネルを一括して製造する。液晶表示パネルが複数形成されたマザー基板において、土手状スペーサ230は隣接する液晶表示パネルの境界に配置され、土手状スペーサ230の中心に沿ってスクライビングをいれ、その後、破断することによって個々の液晶表示パネルを分離する。土手状スペーサ230が無い場合、この部分はシール材20となるが、シール材20が存在すると、スクライビングを入れても破断が出来ない。
図3はTFT基板100のシール部における有機パッシベーション膜104に形成されたホール10の形状とピッチを表している。なお、ホール10の形状は有機パッシベーション膜に形成したホールの形状を表している。有機パッシベーション膜104の上にSiNで形成された層間絶縁膜105が形成されているが、この層間絶縁膜105は、有機パッシベーション膜104に比べて膜厚が小さく、有機パッシベーション膜104の形状に沿って形成されているだけなので、有機パッシベーション膜104のホール形状で、TFT基板100に形成されたホール形状を表している。尚、層間絶縁膜105は、全てのホール10上に形成される必要はなく、一部のホールに形成するものであってもよく、全てのホールに層間絶縁膜10が形成されない構成であってもよい。
図3において、ホール10の平面形状は、1辺がd1の正方形であり、ホール間隔はd2である。なお、ホール間隔は、ホール間の最小距離で表している。また、x方向のピッチはp1でy方向のピッチはp2である。図4は、ホール10の詳細断面図である。ホール10は、ハーフ露光で形成するので、ホール10の端部がくっきりとしておらず、なだらかに変化する。本明細書では、ホール10の径は、ホール10の深さをh2とした場合、ホール10の底からh2の90%の高さすなわちh1における径をホール径と称する。また、ホール10の間隔もこの位置における間隔をいう。
図4に示すように、ホール10が形成された有機パッシベーション膜104の上に層間絶縁膜105が形成されている。配向膜106はホール内には入り込んでいない。しかし、シール材20は、入り込んでいる。そしてこのホール10において、シール材20と層間絶縁膜105は強く接着している。 図5は図3のB−B断面図である。図5では、層間絶縁膜105、配向膜106、シール材20等も記載している。図5に示すように、有機パッシベーション膜104に形成されたホール10の径、ホール間の距離は、ホール10の底からh1の高さにおける位置を基準にしている。ここで、ホールの深さをh2とした場合、h1/h2=0.9である。また、配向膜106は、ホール10内には入り込んでいないが、シール材20は入り込んでいる。図5において、ホール10の部分は、スルーホールではなく、ハーフホールとなっている。ホール10の下に形成された、走査線引き出し線103あるいは走査線駆動回路を保護するためである。
ここで、配向膜材料を塗布したとき、配向膜材料がホール内に入り込まないためには、ホール10の形状、ホール間隔等が重要なファクターになる。もっとも重要なファクターはホール間隔d2である。ホール10から配向膜材料をはじけさせるためには、ホール間の間隔は小さいほうがよく、12μm以下とする必要がある。一方、ホール間隔d2が4μm以下となると、必要なホール10を独立して形成することが困難になる。したがって、ホール間隔は4μm以上、12μm以下であることが望ましい。
ホール径があまり大きいとホール10の効果がなくなる。配向膜材料をはじくホール10の役割を持たせるためには、ホール径d1は7μm以下である必要がある。一方、ホール径が小さすぎると、ホール10としての深さを確保することができなくなるので、ホール径d1は1μm以上である必要がある。
ホール10の深さh2は、ホールとしての、形状を確保するために、1μm以上必要である。ただし、スルーホールとしてしまうと、有機パッシベーション膜104の下に形成された走査線引き出し線103あるいは走査線駆動回路を保護することが難しくなるので、ハーフ穴であることが望ましい。
以上の説明では、ホール10の平面形状が正方形の場合について説明した。しかし、本発明は、これに限らず、ホール10の平面形状が他の形状であっても適用することができる。図6はホール10の平面形状が長方形の場合である。この場合は、図3において説明したホール10の径d1は長径d1である。図6においてホール10の短径はd11である。ホール間の距離d2は、図3と同様に、ホール間で最も短い距離をいう。図6におけるx方向のピッチはp1、y方向のピッチはp2である。
図7は、ホール10の平面形状が円の場合である。この場合、ホール10の径d1は円の直径であり、ホール間の距離d2は、図3と同様に、ホール間で最も短い距離をいう。図7におけるx方向のピッチはp1、y方向のピッチはp2である。
図8は、ホール10の平面形状が楕円の場合である。この場合、図3において説明したホール10の径d1は楕円の長径d1であり、ホール間の距離d2は、図3と同様に、ホール間で最も短い距離をいう。図8においてホールの短径はd11である。図8におけるx方向のピッチはp1、y方向のピッチはp2である。
なお、ホール10の平面形状が図6乃至8の場合であっても、ホールの断面形状は図4および図5において説明したのと同様である。
図9は、本発明におけるホール10の他の形状を示す断面図である。図9が図5と異なる点は、有機パッシベーション膜104の上に形成された層間絶縁膜105の上にITO(Indium Tin Oxide)107が形成されていることである。ただし、このITO107はホール10の上側付近およびホール10の側壁に形成されているが、ホール10の底には形成されていない。ホール10の底にITOを形成しないのは、有機パッシベーション膜104の下に形成された走査線引き出し線103あるいは走査線駆動回路がITOによってショートされる危険を除くためである。ITO107は、配向膜材料との濡れ性が悪いために、ホールの入り口にITOを形成すれば、配向膜材料が、よりホール10内に入り込みにくくなる。
以上のように、本実施例によれば、シール部における有機パッシベーション膜104にホール10を形成することによって、ホール10に配向膜106が形成されることを防止し、このホール部分において、シール材20の接着強度を向上させることができる。したがって、狭額縁でかつシール部の信頼性の高い液晶表示装置を実現することができる。
実施例1で説明したホール10は、シール部に一様に形成してもよいし、一様に形成されなくともよい。場合によっては、ホール10はシール部に一様に形成できない場合もあるが、この場合も本発明の効果を得ることができる。図10は本実施例において、ホール10の形成領域を説明する平面図である。図10において、S1は端子部側の辺であり、S2は、S1と対向する辺であり、S3はS1から見て左側の辺であり、S4はS1から見て右側の辺である。
S31は辺S3において、S1に近い側であり、S32は辺S3において、S1から遠い側である。また、S41は辺S4において、S1に近い側であり、S42は辺S4において、S1から遠い側である。図10のその他の構成は図1で説明したのと同様である。
図11は、図10のC−Cに対応する断面の例である。図10において、有機パッシベーション膜104に形成されたホール10は、シール部の外側半分にのみ形成されている。ここで、シール部の外側とは、表示領域から遠い側であり、シール部の内側とは、表示領域に近い側である。図11において、シール材20の幅をswとした場合、シール部の内側端部からsw/2の領域にはホール10が形成されていないが、それより外側の領域にはホール10が形成されている。シール部における応力は、外側ほど大きいので、シール部全体にホール10を形成できない事情がある場合は、シール部の外側にのみホール10を形成することによってシール部の信頼性を確保することができる。
また、ホール10の密度が大きいほど、配向膜106の形成範囲が小さくなるので、シール材20の接着強度を向上させることができる。したがって、シール部において、単位面積あたりの応力が大きいところほど、ホール10の密度を大きくすることによって、本発明の効果をより向上させることができる。
ここで、ホール10の密度とは、ホール10のピッチとホール径によって定義することができる。例えば図6において、ホールの面積はd1×d11であり、x方向ピッチp1とy方向ピッチp2で定義される面積はp1×p2である。そこで、ホール密度をd1×d11/p1×p2と定義することができる。ここで、図3あるいは図7の場合は、d1=d11である。
図11において説明したように、シール部の応力は、シール部の外側、すなわち、表示領域から遠い側においてより大きいので、シール部の外側におけるホール10の密度をシール部の内側、すなわち、表示領域に近い側よりも大きくすることによって、発明の効果をより上げることができる。
図10において、端子側の辺S1はシール部の幅を他の辺よりも大きくとることができる。したがって、シール部の単位面積当たりの応力は、S1においては、他の辺よりも小さい。つまり、辺S1においては、他の辺よりもホール密度を小さくすることができる。より具体的には、S1におけるホール10の密度をS2におけるホールの密度よりも小さくすることができる。
また、辺S3においても、シール部に係る応力は、辺S1に近い方が小さい。したがって、ホール10の密度を辺S3内でみた場合、S1に近い側S31のホール10の密度を辺S2に近い側のS32のホール10の密度より小さくすることができる。辺S4についても同様である。すなわち、ホールの密度を辺S4内でみた場合、S1に近い側S41のホールの密度を辺S2に近い側のS42のホールの密度より小さくすることができる。
以上の説明ではシール部におけるホールはTFT基板側に形成されるとして説明した。しかし、本発明は、対向基板側のシール部にも適用することができる。この場合は、オーバーコート膜に有機パッシベーション膜に対応するホールを形成することになる。この場合、オーバーコート膜の下に配線等は設けられていないため、オーバーコート膜と対向基板との間に設けられるカラーフィルタやブラックマトリクスまでオーバーコート膜を除去することが可能である。更には、カラーフィルタやブラックマトリクスにまでホールを形成することも可能である。尚、配向膜の粘性やホールのテーパ形状などの要因によって、配向膜106の一部がホール内に入り込んでしまう場合も、ホール内のすべてがシール材で充填されない場合もあり得る。その場合であっても、ホール内で配向膜が形成されていない部分にシール材が接触することによりシールの強度を高めることが出来る。
また、以上の説明では、本発明をIPS方式の液晶表示装置に準じて説明したが、本発明は、IPSに限らず、他の方式の液晶表示装置にも適用することが出来る。
さらに、以上の説明では、カラーフィルタが対向基板側に形成されている構成に準じて説明したが、本発明は、カラーフィルタがTFT基板側に形成されている場合にも適用することが出来る。この場合、カラーフィルタが有機パッシベーション膜の下層に形成されていれば、以上で説明した構成をそのまま適用することが出来る。カラーフィルタが有機パッシベーション膜の上層に形成されている場合や、カラーフィルタを有機パッシベーション膜に代えて用いる場合、上記説明におけるホールをカラーフィルタに形成すればよい。
以上のように、本実施例によれば、シール部における有機パッシベーション膜にホールを形成することによるシール部の接着力の向上の効果をより効率的に得ることができる。
10…ホール、 20…シール材、 30…走査線、 40…映像信号線、 35…画素、 100…TFT基板、 101…第1の絶縁膜、 102…第2の絶縁膜、 103…走査線引出し線、 104…有機パッシベーション膜、 105…無機絶縁膜、層間絶縁膜、 106…配向膜、 107…ITO、 150…端子部、 160…ICドライバ、 200…対向基板、 201…ブラックマトリクス、 202…カラーフィルタ、 203…オーバーコート膜、 210…第1柱状スペーサ、 220…第2柱状スペーサ、 230…土手状スペーサ、 250…壁状スペーサ、 300…液晶、 400…スクライビング線、 500…表示領域、 1041…溝状スルーホール、 2011…ブラックマトリクス溝、 d1…ホール長径、 d2…ホール間距離、 h1…ホールの深さの90%、 p2…ホールの深さ、 p1…ホールの第1方向ピッチ、 p2…ホールの第2方向ピッチ、
Claims (12)
- 表示領域と端子部とを有し、有機パッシベーション膜が形成されたTFT基板と、対向基板が、シール部おいて接着し、内部に液晶が封入された液晶表示装置であって、
前記TFT基板の前記シール部には、前記有機パッシベーション膜に、平面で視て、所定のピッチでホールが形成されており、
前記ホールの深さをh2としたとき、前記ホールの底面からh1=0.9×h2の高さにおいて、前記ホールを平面で視た場合、前記ホールと前記ホールの間の最短距離は、4μm以上12μm以下であることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記ホールの前記平面形状は正方形であり、前記前記正方形の辺の長さは、1μm以上で7μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記ホールの前記平面形状は円であり、前記前記円の直径は、1μm以上で7μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記ホールの前記平面形状は長径と短径を有し、前記長径は、1μm以上で7μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記ホールの深さh2は1μm以上であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記ホールの第1の方向のピッチをp1とし、第2の方向のピッチをp2とし、前記ホールの前記平面形状における長径をd1、短径をd11とし、
前記シール部の前記液晶側を内側とし、前記液晶と反対側を外側とし、前記シール部の前記内側端部と前記外側端部の距離を前記シール部の幅とした場合、
前記d1×d11/p1×p2の値は、前記シール部の外側が前記シール部の内側よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記シール部の幅方向の中心よりも内側においては、前記ホールは形成されていないことを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置。
- 前記ホールの第1の方向のピッチをp1とし、第2の方向のピッチをp2とし、前記ホールの前記平面形状における長径をd1、短径をd11とし、
前記対向基板の前記端子部側の辺を第1の辺とし、前記第1の辺と対向する辺を第2の辺とした場合、前記第1の辺における前記d1×d11/p1×p2の値は、前記第2の辺における前記d1×d11/p1×p2の値よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記ホールの第1の方向のピッチをp1とし、第2の方向のピッチをp2とし、前記ホールの前記平面形状における長径をd1、短径をd11とし、
前記対向基板の前記端子部側の辺を第1の辺とし、前記第1の辺と対向する辺を第2の辺とし、前記第1の辺から見て左側の辺を第3の辺とした場合、前記第3の辺における前記第1の辺に近い側における前記d1×d11/p1×p2の値は、前記第3の辺における前記第2の辺に近い側における前記d1×d11/p1×p2の値よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記ホールの第1の方向のピッチをp1とし、第2の方向のピッチをp2とし、前記ホールの前記平面形状における長径をd1、短径をd11とし、
前記対向基板の前記端子部側の辺を第1の辺とし、前記第1の辺と対向する辺を第2の辺とし、前記第1の辺から見て右側の辺を第4の辺とした場合、前記第4の辺における前記第1の辺に近い側における前記d1×d11/p1×p2の値は、前記第4の辺における前記第2の辺に近い側における前記d1×d11/p1×p2の値よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記d1とd11は等しいことを特徴とする請求項6乃至11のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
- 前記対向基板の前記シール部には有機材料によるオーバーコート膜が形成されており、前記オーバーコート膜に、平面で視て、所定のピッチで第2のホールが形成されており、
前記第2のホールの深さをh2としたとき、前記第2のホールの底面からh1=0.9×h2の高さにおいて、前記第2のホールを平面で視た場合、前記第2のホールと前記第2のホールの間の最短距離は、4μm以上12μm以下であることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
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