CN111286712B - 一种靶材溅镀设备以及靶材溅镀系统 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种靶材溅镀设备以及靶材溅镀系统，涉及镀膜设备领域，该靶材溅镀设备包括溅镀工艺区，溅镀工艺区内设置有靶材固定件和载片盘，靶材固定件设置在载片盘的上方，靶材溅镀设备还包括靶材放置区，靶材放置区设置有至少一个用于承载靶材的承载块，承载块可活动地从靶材放置区移动至溅镀工艺区以便将靶材定位于靶材固定件上。相较于现有技术，本发明提供的一种靶材溅镀设备，在进行多靶材溅镀工艺时无需使用多腔室进行溅镀、占地面积小、结构简单、辅助系统部件较少，同时更换靶材方便。

Description

一种靶材溅镀设备以及靶材溅镀系统

技术领域

本发明涉及镀膜设备领域，具体而言，涉及一种靶材溅镀设备以及靶材溅镀系统。

背景技术

原镀膜技术主要以电镀为主，随着工业技术的发展及对环保问题越来越重视。传统的高污染电镀技术已不适合现代化生产。现工业生产发展为以真空蒸发和溅射两种技术为主要镀膜技术。

相比较于蒸发镀膜，溅射技术具有较多独特优点，如(1)溅射镀膜可以实现制作高熔点材料的膜层；(2)溅射镀膜制作的膜层与底板的粘附性更好，不容易脱落；(3)溅射镀膜制作的膜层均匀性、致密性比蒸发镀膜好。

因溅射镀膜制作的膜层质量较好，所以在工业生产中大量引入该工艺。现有的溅射设备多是采用单个靶材进行溅镀工艺，当需要进行多靶材溅镀时，通常是通过多腔室进行溅镀。因此现有的靶材溅射设备占地面积大，结构复杂，辅助系统部件较多。

有鉴于此，设计制造出一种无需使用多腔室进行溅镀、占地面积小、结构简单、辅助系统部件较少同时能够实现更换靶材方便的靶材溅镀设备就显得尤为重要。

发明内容

本发明的目的在于提供一种靶材溅镀设备，无需使用多腔室进行溅镀、占地面积小、结构简单、辅助系统部件较少同时更换靶材方便。

本发明的另一目的在于提供一种靶材溅镀系统，无需使用多腔室进行溅镀、占地面积小、结构简单、辅助系统部件较少同时更换靶材方便。

为达到上述目的，本发明是采用以下的技术方案来实现的。

一种靶材溅镀设备，包括溅镀工艺区，溅镀工艺区内设置有靶材固定件和载片盘，靶材固定件设置在载片盘的上方，靶材溅镀设备还包括靶材放置区，靶材放置区设置有至少一个用于承载靶材的承载块，承载块可活动地从靶材放置区移动至溅镀工艺区以便将靶材定位于靶材固定件上。

进一步地，靶材放置区的侧壁上设置有至少一条延伸至溅镀工艺区的第一导轨，承载块设置在第一导轨上并能够沿第一导轨从靶材放置区移动至溅镀工艺区。

进一步地，溅镀工艺区的侧壁上还设置有第二导轨，第二导轨的一端延伸至靶材固定件，第二导轨的另一端与第一导轨连接。

进一步地，靶材放置区和溅镀工艺区之间设置有隔离装置，隔离装置用于选择性地隔离靶材放置区和溅镀工艺区。

进一步地，隔离装置包括隔离板，溅镀工艺区与靶材放置区相互拼接并形成共有侧壁，隔离板滑动设置在共有侧壁上。

进一步地，隔离板能够沿共有侧壁上下移动以处于第一位置和第二位置；

当隔离板处于第一位置时，溅镀工艺区与靶材放置区之间相互隔离，且隔离板的顶边在第一导轨的上方；

当隔离板处于第二位置时，溅镀工艺区与靶材放置区之间相互导通，且隔离板的顶边在第一导轨的下方。

进一步地，隔离装置包括隔离板，溅镀工艺区与靶材放置区相互拼接并形成共有侧壁，隔离板固定设置在共有侧壁上并具有开合窗口，第一导轨与开合窗口相平齐，以使承载块能够穿过开合窗口进入溅镀工艺区。

进一步地，承载块和第一导轨均为多个，多个承载块分别滑动设置在多个第一导轨上。

进一步地，承载块的上表面开设有至少一个用于容置靶材的容置槽。

一种靶材溅镀系统，包括至少一个靶材和靶材溅镀设备，靶材溅镀设备包括溅镀工艺区，溅镀工艺区内设置有靶材固定件和载片盘，靶材固定件设置在载片盘的上方，靶材溅镀设备还包括靶材放置区，靶材放置区设置有至少一个用于承载靶材的承载块，承载块可活动地从靶材放置区移动至溅镀工艺区以便将靶材定位于靶材固定件上。靶材放置在承载块上。

本发明具有以下有益效果：

本发明提供的一种靶材溅镀设备，通过额外设置靶材放置区，并在靶材放置区内设置有至少一个承载块，承载块可活动地从靶材放置区移动至溅镀工艺区以便将靶材定位于靶材固定件上。当进行溅镀工艺时，利用承载块将靶材从靶材放置区运送至溅镀工艺区并固定在靶材固定件上，然后承载块回到靶材放置区，在溅镀工艺区内进行溅镀工艺，溅镀工艺完毕后在利用承载块将溅镀工艺区内的靶材重新运送到靶材放置区，此时可直接在靶材放置区内进行靶材更换操作，进行下一轮溅镀工艺，实现多靶材的溅镀工艺。相较于现有技术，本发明提供的一种靶材溅镀设备，在进行多靶材溅镀工艺时无需使用多腔室进行溅镀、占地面积小、结构简单、辅助系统部件较少，同时更换靶材方便。

本发明提供的一种靶材溅镀设备，在靶材放置区的侧壁上设置有至少一条延伸至溅镀工艺区的第一导轨，承载块设置在第一导轨上并能够沿第一导轨从靶材放置区移动至溅镀工艺区。通过设置导轨结构，使得承载块能够平滑地将靶材送入溅镀工艺区，同时控制难度低，保证了靶材运送过程中的平稳性。

本发明提供的一种靶材溅镀设备，在靶材放置区和溅镀工艺区之间设置有隔离装置，隔离装置用于选择性地隔离靶材放置区和溅镀工艺区。通过设置隔离装置，使得在溅镀工艺区进行溅镀操作时靶材放置区不会受到影响，同时可以在不影响工艺腔室的情况下清理靶材。

本发明提供的一种靶材溅镀设备，承载块与第一导轨均为多个，多个承载块分别设置在多个第一导轨上，在实际操作时，多个承载块能够将多个靶材依次送入溅镀工艺区并固定在靶材固定件上，通过控制运送次序，能够多次利用不同靶材进行溅镀工艺，无需再进行人工更换靶材，自动化程度高，实现了多种材料的膜层工艺，提高了设备的通用性，同时也提高了设备的产能，减少了更换材料的时间。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本发明第一实施例提供的靶材溅镀设备在第一视角下的结构示意图；

图2为本发明第一实施例提供的靶材溅镀设备在第二视角下的结构示意图；

图3为本发明第一实施例提供的靶材溅镀设备在第三视角下的结构示意图；

图4为本发明第二实施例提供的靶材溅镀设备在第一工作状态下的结构示意图；

图5为本发明第二实施例提供的靶材溅镀设备在第二工作状态下的结构示意图；

图6为本发明第三实施例提供的靶材溅镀设备的结构示意图；

图7为本发明第四实施例提供的靶材溅镀系统的结构示意图；

图8为图7中靶材与靶材固定件的连接示意图。

图标：100-靶材溅镀设备；110-溅镀工艺区；111-靶材固定件；113-载片盘；115-卡扣结构；130-靶材放置区；131-承载块；133-第一导轨；135-第二导轨；150-隔离装置；151-隔离板；153-开合窗口；155-开关阀门；200-靶材溅镀系统；210-靶材；211-卡块。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“安装”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

下面结合附图，对本发明的一些实施方式作详细说明。在不冲突的情况下，下述的实施例中的特征可以相互组合。

第一实施例

结合参见图1至图3，本实施例提供了一种靶材溅镀设备100，包括溅镀工艺区110和靶材放置区130，溅镀工艺区110内设置有靶材固定件111和载片盘113，靶材固定件111设置在载片盘113的上方，靶材放置区130设置有至少一个用于承载靶材的承载块131，承载块131可活动地从靶材放置区130移动至溅镀工艺区110以便将靶材定位于靶材固定件111上。

在本实施例中，溅镀工艺区110和靶材放置区130均设置在同一个反应壳体内，反应壳体相较于外界密封设置并与外接的泵辅系统相连接，通过泵辅系统使得反应壳体内部处于高真空状态，从而防止大气中的气体以及水汽污染腔室环境。当然，此处溅镀过工艺区和靶材放置区130也可分别设置在不同的反应壳体内并通过设置过渡腔室等方式连通，其具体设置方式在此不过多描述。

当进行溅镀工艺时，利用承载块131将靶材从靶材放置区130运送至溅镀工艺区110并固定在靶材固定件111上，然后承载块131回到靶材放置区130，在溅镀工艺区110内进行溅镀工艺，溅镀工艺完毕后在利用承载块131将溅镀工艺区110内的靶材重新运送到靶材放置区130。

靶材放置区130的侧壁上设置有至少一条延伸至溅镀工艺区110的第一导轨133，承载块131设置在第一导轨133上并能够沿第一导轨133从靶材放置区130移动至溅镀工艺区110。具体地，第一导轨133为凹槽滑轨并开设在靶材放置区130相对的侧壁上，承载块131的两端分别伸入第一导轨133并能够沿第一导轨133滑动。

需要说明的是，此处承载块131并不仅仅限于通过导轨进行移动，在本发明其他较佳的实施例中，承载块131可安装在机械臂上并通过机械臂进行移动，或者承载块131可通过传送带进行移动，其具体移动方式在此不作具体限定。

承载块131的上表面开设有至少一个用于容置靶材的容置槽，在本实施例中，承载块131的上表面开设有一个容置槽，且容置槽的尺寸与靶材相配合，使得靶材能够稳固地容置在容置槽中。

在本实施例中，第一导轨133和承载块131均为多个，多个第一导轨133相互平行设置在靶材放置室的一侧壁上且均由靶材放置室延伸至溅镀工艺室，多个承载块131一一对应地设置在多个第一导轨133上，每个承载块131上放置有至少一个靶材，且多个第一导轨133之间相互独立控制运动，在进行溅镀工艺时，可通过多个承载块131将多个靶材依次送入溅镀工艺区110并固定在靶材固定件111上，并通过控制运送次序，能够多次利用不同靶材进行溅镀工艺，无需再进行人工更换靶材，自动化程度高，实现了多种材料的膜层工艺，提高了设备的通用性，同时也提高了设备的产能，减少了更换材料的时间。

在本实施例中，第一导轨133和承载块131均为两个，两个第一导轨133间隔设置，每个承载块131上都放置有一个靶材，通过两个承载块131交替运送靶材，可实现不同靶材的溅镀工艺。当然，此处承载块131的数量可根据溅镀工艺的需要进行设定，在此不过多描述。

在本实施例中，溅镀工艺区110的侧壁上还设置有第二导轨135，第二导轨135的一端延伸至靶材固定件111，第二导轨135的另一端与第一导轨133连接。具体地，多个第一导轨133沿水平方向设置，第二导轨135沿竖直方向设置，能够控制承载块131向上运动至靶材固定件111进行固定。

靶材放置区130和溅镀工艺区110之间设置有隔离装置150，隔离装置150用于选择性地隔离靶材放置区130和溅镀工艺区110。通过设置隔离装置150，使得在溅镀工艺区110进行溅镀操作时靶材放置区130不会受到影响，同时可以在不影响工艺腔室的情况下清理靶材，提高整个工艺流程的效率。

在本实施例中，隔离装置150包括隔离板151，溅镀工艺区110与靶材放置区130相互拼接并形成共有侧壁，隔离板151滑动设置在共有侧壁上。隔离板151通过一外接的驱动装置进行驱动，例如驱动电机。

在本实施例中，通过驱动装置的驱动作用，隔离板151能够沿共有侧壁上下移动以处于第一位置和第二位置，其中，隔离板151可向上运动至第一位置，向下运动至第二位置。当隔离板151处于第一位置时，溅镀工艺区110与靶材放置区130之间相互隔离，且隔离板151的顶边在第一导轨133的上方，以阻挡承载块131从靶材放置区130移动至溅镀工艺区110；当隔离板151处于第二位置时，溅镀工艺区110与靶材放置区130之间相互导通，且隔离板151的顶边在第一导轨133的下方，以容许承载块131从靶材放置区130移动至溅镀工艺区110。

在本实施例中，靶材固定件111的一端固定设置在工艺腔室的侧壁上，靶材固定件111的另一端设置有卡扣结构115，用于卡接靶材。靶材固定件111靠近卡扣结构115的一端还设置有卡脱感应装置，用于检测靶材固定件111与靶材是否卡扣到位或是否脱扣完成。此外，承载块131上还设置有位置监控装置，用于实时监控承载块131的位置。通过对于承载块131的驱动控制和位置监控以及靶材的固定和检测卡扣状态等具体结构可通过现有手段实现，在此不过多描述。

具体地，第一导轨133为多条，则当隔离板151处于第一位置时，隔离板151向上运动至反应壳体的内侧顶部，且隔离板151的顶边在所有第一导轨133的上方；当隔离板151处于第二位置时，隔离板151向下运动至反应壳体的内侧底部，且隔离板151的顶边在所有第一导轨133的下方。

需要说明的是，相邻两个第一导轨133之间的间距大于靶材的高度，以避免相邻承载块131和靶材产生行程干涉现象。

在进行溅镀工艺时，驱动隔离板151向下移动至第二位置，使得溅镀工艺区110和靶材放置区130相互导通，其中一个承载块131在外部动力的驱动下沿对应的第一导轨133滑动至溅镀工艺区110，并沿第二导轨135移动至靶材固件处，使得靶材固定在靶材固定件111上，承载块131沿原路返回靶材放置区130，此时隔离板151移动至第一位置，将溅镀工艺区110与靶材放置区130隔离，圆片传输装置将圆片运送至溅镀工艺区110内的载片盘113上，再进行溅镀工艺，溅镀工艺完成后，隔离板151向下移动至第二位置，再次驱动承载块131将靶材取下并返回靶材放置区130，此时另一个承载块131将另一块靶材运送至溅镀工艺区110进行溅镀工艺，重复以上过程。

第二实施例

结合参见图4和图5，本实施例提供了一种靶材溅镀设备100，其基本结构和原理及产生的技术效果和第一实施例相同，为简要描述，本实施例部分未提及之处，可参考第一实施例中相应内容。与第一实施例相比，本实施例的不同之处在于承载块131。

靶材溅镀设备100包括溅镀工艺区110，溅镀工艺区110内设置有靶材固定件111和载片盘113，靶材固定件111设置在载片盘113的上方，靶材溅镀设备100还包括靶材放置区130，靶材放置区130设置有至少一个用于承载靶材的承载块131，承载块131可活动地从靶材放置区130移动至溅镀工艺区110以便将靶材定位于靶材固定件111上。靶材放置区130和溅镀工艺区110之间设置有隔离装置150，隔离装置150用于选择性地隔离靶材放置区130和溅镀工艺区110。

靶材放置区130的侧壁上设置有至少一条延伸至溅镀工艺区110的第一导轨133，承载块131设置在第一导轨133上并能够沿第一导轨133从靶材放置区130移动至溅镀工艺区110。具体地，第一导轨133为凹槽滑轨并开设在靶材放置区130相对的侧壁上，承载块131的两端分别伸入第一导轨133并能够沿第一导轨133滑动。

在本实施例中，隔离装置150包括隔离板151，溅镀工艺区110与靶材放置区130相互拼接并形成共有侧壁，隔离板151固定设置在共有侧壁上并具有开合窗口153，第一导轨133与开合窗口153相平齐，以使承载块131能够穿过开合窗口153进入溅镀工艺区110。

具体地，开合窗口153处设置有开关阀门155，通过外接驱动装置能够控制开关阀门155开合，从而使得开合窗口153具有打开和闭合两种状态，当开合窗口153处于闭合状态时，溅镀工艺区110与靶材放置区130之间相互隔离，阻挡承载块131从靶材放置区130移动至溅镀工艺区110；当开合窗口153处于打开状态时，溅镀工艺区110与靶材放置区130之间相互导通，承载块131能够通过开合窗口153进入到溅镀工艺区110。

第三实施例

参见图6，本实施例提供了一种靶材溅镀设备100，其基本结构和原理及产生的技术效果和第一实施例相同，为简要描述，本实施例部分未提及之处，可参考第一实施例中相应内容。与第一实施例相比，本实施例的不同之处在于承载块131。

靶材溅镀设备100包括溅镀工艺区110，溅镀工艺区110内设置有靶材固定件111和载片盘113，靶材固定件111设置在载片盘113的上方，靶材溅镀设备100还包括靶材放置区130，靶材放置区130设置有至少一个用于承载靶材的承载块131，承载块131可活动地从靶材放置区130移动至溅镀工艺区110以便将靶材定位于靶材固定件111上。

靶材放置区130的侧壁上设置有至少一条延伸至溅镀工艺区110的第一导轨133，承载块131设置在第一导轨133上并能够沿第一导轨133从靶材放置区130移动至溅镀工艺区110。具体地，第一导轨133为凹槽滑轨并开设在靶材放置区130相对的侧壁上，承载块131的两端分别伸入第一导轨133并能够沿第一导轨133滑动。

在本实施例中，承载块131与第一导轨133均为单个，承载块131滑动设置在第一导轨133上，且承载块131的上表面开设有多个间隔设置的容置槽，具体地，容置槽为两个，每个容置槽中都容置有一靶材，在实际使用时，通过承载块131将靶材运送至溅镀工艺室，并通过控制承载块131的进给深度，实现不同靶材的固定与释放。

第四实施例

结合参见图7和图8，本实施例提供了一种靶材溅镀系统200，包括至少一个靶材210和靶材溅镀设备100，其中靶材溅镀设备100的基本结构和原理及产生的技术效果和第一实施例相同，为简要描述，本实施例部分未提及之处，可参考第一实施例中相应内容。

靶材溅镀设备100包括溅镀工艺区110，溅镀工艺区110内设置有靶材固定件111和载片盘113，靶材固定件111设置在载片盘113的上方，靶材溅镀设备100还包括靶材放置区130，靶材放置区130设置有至少一个用于承载靶材210的承载块131，承载块131可活动地从靶材放置区130移动至溅镀工艺区110以便将靶材210定位于靶材固定件111上。靶材210放置在承载块131上。

靶材放置区130的侧壁上设置有至少一条延伸至溅镀工艺区110的第一导轨133，承载块131设置在第一导轨133上并能够沿第一导轨133从靶材放置区130移动至溅镀工艺区110。具体地，第一导轨133为凹槽滑轨并开设在靶材放置区130相对的侧壁上，承载块131的两端分别伸入第一导轨133并能够沿第一导轨133滑动。

在本实施例中，承载块131与第一导轨133均为多个，靶材210也为多个，每个承载块131上放置有一个靶材210，且不同承载块131上的靶材210不同，通过多个不同的靶材210能够实现多材料膜层的工艺。

在本实施例中，靶材固定件111的一端固定设置在工艺腔室的侧壁上，靶材固定件111的另一端设置有卡扣结构115，用于卡接靶材210，靶材210的顶部设置有用于卡扣靶材固定件111的卡块211，在使用时，卡扣结构115与卡块211相扣合，使得靶材210固定在靶材固定件111上。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种靶材溅镀设备，包括溅镀工艺区，所述溅镀工艺区内设置有靶材固定件和载片盘，所述靶材固定件设置在所述载片盘的上方，其特征在于，所述靶材溅镀设备还包括与所述溅镀工艺区处在同一反应壳体内的靶材放置区，所述靶材放置区设置有至少一个用于承载靶材的承载块，所述承载块可活动地从所述靶材放置区移动至所述溅镀工艺区以便将所述靶材定位于所述靶材固定件上，所述溅镀工艺区与所述靶材放置区相互拼接并形成共有侧壁，且所述侧壁具有供所述承载块穿过的开合窗口。

2.根据权利要求1所述的靶材溅镀设备，其特征在于，所述靶材放置区的侧壁上设置有至少一条延伸至所述溅镀工艺区的第一导轨，所述承载块设置在所述第一导轨上并能够沿所述第一导轨从所述靶材放置区移动至所述溅镀工艺区。

3.根据权利要求2所述的靶材溅镀设备，其特征在于，所述溅镀工艺区的侧壁上还设置有第二导轨，所述第二导轨的一端延伸至所述靶材固定件，所述第二导轨的另一端与所述第一导轨连接。

4.根据权利要求2所述的靶材溅镀设备，其特征在于，所述靶材放置区和所述溅镀工艺区之间设置有隔离装置，所述隔离装置用于选择性地隔离所述靶材放置区和所述溅镀工艺区。

5.根据权利要求4所述的靶材溅镀设备，其特征在于，所述隔离装置包括隔离板，所述溅镀工艺区与所述靶材放置区相互拼接并形成共有侧壁，所述隔离板滑动设置在所述共有侧壁上。

6.根据权利要求5所述的靶材溅镀设备，其特征在于，所述隔离板能够沿所述共有侧壁上下移动以处于第一位置和第二位置；

当所述隔离板处于第一位置时，所述溅镀工艺区与所述靶材放置区之间相互隔离，且所述隔离板的顶边在所述第一导轨的上方；

当所述隔离板处于第二位置时，所述溅镀工艺区与所述靶材放置区之间相互导通，且所述隔离板的顶边在所述第一导轨的下方。

7.根据权利要求4所述的靶材溅镀设备，其特征在于，所述隔离装置包括隔离板，所述溅镀工艺区与所述靶材放置区相互拼接并形成共有侧壁，所述隔离板固定设置在所述共有侧壁上并具有开合窗口，所述第一导轨与所述开合窗口相平齐，以使所述承载块能够穿过所述开合窗口进入所述溅镀工艺区。

8.根据权利要求2所述的靶材溅镀设备，其特征在于，所述承载块和所述第一导轨均为多个，多个所述承载块分别滑动设置在多个所述第一导轨上。

9.根据权利要求1-8任一项所述的靶材溅镀设备，其特征在于，所述承载块的上表面开设有至少一个用于容置靶材的容置槽。

10.一种靶材溅镀系统，其特征在于，包括至少一个靶材和如权利要求1-9任一项所述的靶材溅镀设备，所述靶材放置在所述承载块上。

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