CN111286331A - 一种Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉及其制备方法。其表达通式为Y3‑ xAl2Ga3O12:xBi3+,其中x=0.002~0.05;Bi3+取代晶体中的Y,x表示取代率,激活离子为Bi3+。该荧光粉发射峰位于410nm,主要激发峰在370 nm,与现有近紫外LED芯片良好匹配。本发明还公开了上述荧光粉的制备方法,包括以下步骤:分别称取含钇、铝、镓和铋的化合物原料;将称取的化合物原料研磨后在氧化性气氛下灼烧,温度为1250~1500℃,时间为4~8h;将灼烧后的样品取出,研磨后得到Bi3+掺杂窄带蓝光镓酸盐荧光粉。本发明采用高温固相烧结法,制备方法简单,适合工业化大规模生产。
Description
技术领域
本发明涉及发光材料,特别涉及一种Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉及其制备方法。
背景技术
荧光粉转换型白光LED(pc-WLEDs)是目前白光LED照明市场上的主流技术,其中已商业化的方案是蓝光LED芯片(波长450-480nm)激发黄色荧光粉,这种方案由于缺少红光组分而存在色温偏高、显色指数偏低的不足。
近年来,新兴的方案是近紫外光LED芯片激发红绿蓝三基色(RGB)荧光粉,不同颜色的荧光粉发出的光复合得到白光,其光谱更广,更接近自然光谱,色温和显色性更理想。而现有研究大多数集中于窄带绿光或红光荧光粉的探索,对窄带蓝光荧光粉的研究较少且主要集中在Eu掺杂方向。Li等人(Chem.Commun.54,11598(2018))报道的Sr8Mg7Si9N22:Eu2+具有紫外吸收(350nm),蓝光发射(450nm);Wei等人(CrystEngComm 21,3660(2019))报道的Ba5SiO4Cl6:Eu2+具有紫外吸收(345nm)和蓝光发射(440nm)。然而,稀土元素大多在可见光区域也存在吸收,从而导致荧光粉发光效率降低。相比于稀土而言,Bi3+的吸收集中在紫外区,不存在重吸收,可以有效地提高能量利用率。
因此,研制出一种在紫外区高效吸收的Bi3+掺杂的蓝光荧光粉迫在眉睫。
发明内容
为了克服现有技术的上述缺点与不足,本发明的目的在于提供一种Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉及其制备方法。本发明提供的荧光粉是一种高发光强度的Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉。该粉末发射峰位于410nm,半峰宽为39nm,主要激发峰位于370nm,与现有商用近紫外LED芯片(370-410nm)良好匹配。
本发明的另一目的在于提供一种Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉的制备方法,采用传统的高温固相烧结法,制备方法简单,适合工业化大规模生产。
本发明的目的通过以下技术方案实现。
一种Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉:表达通式为Y3-xAl2Ga3O12:xBi3+;其中x=0.002~0.05;从离子半径和配位数来看,Bi3+(配位数为8,离子半径为)更倾向于取代晶体中的Y(配位数为8,离子半径为),x表示取代率,激活离子为Bi3+。
所述Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉属于Y3Al2Ga3O12晶相(ICSD#208017),其晶体结构属于立方晶系。
本发明提供的一种Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉的制备方法,包括以下步骤:
(1)按元素摩尔比Y:Al:Ga:O:Bi=(3-x):2:3:12:x,其中x=0.002~0.05,分别称取含钇、铝、镓和铋的化合物原料;
(2)将步骤(1)称取的化合物原料研磨15分钟后在氧化性气氛下灼烧,温度为1250~1500℃,时间为4~8h;
(3)将步骤(2)灼烧后的样品取出,研磨成粉,得到所述Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉。
所述含钇的化合物原料为氧化钇。
所述含铝的化合物原料为氧化铝、氢氧化铝中的一种。
所述含镓的化合物原料为氧化镓、镓单质中的一种。
所述含铋的化合物原料为氧化铋。
所述氧化性气氛为空气气氛或者氧气气氛。
所述掺杂浓度x=0.002~0.05,灼烧时间T=1250~1500℃,灼烧时间4~8h。
与现有技术相比,本发明具有如下优点和有益效果:
(1)本发明的Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉具有较高的发光强度,半峰宽为39nm,小于现有大多数窄带蓝光荧光粉,如K.B.Kim等人(Nat.Mater.16,543(2017))报道的Na3Sc2(PO4)3:Eu2+半峰宽为44nm,Y.H.Kim等人(Chem.Mater.14,5045(2002))报道的BaMgAl10O17:Eu2+半峰宽为52nm;
(2)现有蓝光荧光粉大多通过掺杂Eu2+实现,Eu2+在可见光区域存在重吸收,而本发明采用Bi3+作为发光中心,激发带在紫外区,与现有商用近紫外LED芯片相匹配,在可见光区域无吸收,能够显著地提高照明效率;
(3)本发明的Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉,色坐标为(0.1745,0.0531),能够有效地拓宽现有白光LED的色域,提高色彩性能;
(4)本发明所述荧光粉,采用传统的高温固相烧结法,制备方法简单,适合工业化大规模生产。
附图说明
图1为实施例1的配比(1)-(5)样品的粉末X射线衍射光谱;
图2分别为实施例1的最佳配比Y2.995Al2Ga3O12:0.005Bi3+样品激发光谱和发光光谱;
图3分别为实施例1的最佳配比Y2.995Al2Ga3O12:0.005Bi3+样品在激发波长为370nm、发射波长为410nm监测下的荧光衰减曲线;
图4为实施例1的配比(1)-(5)样品在380-450nm范围内的积分强度随Bi浓度的变化曲线。
具体实施方式
以下结合实例对本发明的具体实施作进一步说明,但本发明的实施和保护不限于此。需指出的是,以下若有未特别详细说明之过程,均是本领域技术人员可参照现有技术实现或理解的。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,视为可以通过市售购买得到的常规产品。
实施例1
选取氧化钇、氧化铝、氧化镓和氧化铋作起始化合物原料,按各元素摩尔配比,分别称取四种化合物原料,共5组,配合比如下:
(1)Y:Al:Ga:O:Bi=(3-x):2:3:12:0.002;x=0.002;
(2)Y:Al:Ga:O:Bi=(3-x):2:3:12:0.005;x=0.005;
(3)Y:Al:Ga:O:Bi=(3-x):2:3:12:0.01;x=0.01;
(4)Y:Al:Ga:O:Bi=(3-x):2:3:12:0.02;x=0.02;
(5)Y:Al:Ga:O:Bi=(3-x):2:3:12:0.05;x=0.05;
控制化合物总重均为2g。2g混合物经研磨15分钟后,放入刚玉坩埚,然后将坩埚放入高温炉。控制升温速率,800℃以下为4-5℃/min,800℃以上为1-3℃/min。样品在氧化性气氛下从室温升到1250~1500℃,灼烧4~8h,随炉自然冷却,即制得Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉Y3-xAl2Ga3O12:xBi3+。
图1为实施例1的配比(1)~(5)样品的粉末X射线衍射光谱。谱线采用日本RigakuD/max-IIIA X射线衍射仪测定,测试电压40kV,扫描速度1.2°/min,测试电流40mA,选用Cu-KαlX射线,波长为X射线衍射分析表明配比(1)-(5)均为Y3Al2Ga3O12晶相,属于立方晶系,这表明Bi的掺杂没有影响晶相的形成,Bi成功进入晶格。样品的X-射线衍射峰相对强度不随Bi含量(x值)的变化而变化。
图2分别为实施例1的最佳配比Y2.995Al2Ga3O12:0.005Bi3+样品激发光谱和发光光谱。采用英国爱丁堡FLS 920稳态与瞬态发光光谱仪测定,氙灯功率为450瓦,探测器为日本Hamamatsu制冷型R928P光电倍增管(工作电压-1250伏),数据采集积分时间为0.2秒,扫描步长为分别为2nm和1nm。如图2所示,样品在370nm的紫外光激发下出现峰值位于410nm、半高宽为39nm的窄带发射峰;而在410nm的监测下,样品显示出峰值位于335nm和370nm,覆盖了320nm到385nm的吸收,且与商用近紫外LED芯片良好匹配。
图3分别为实施例1的最佳配比Y2.995Al2Ga3O12:0.005Bi3+样品在激发波长为370nm、发射波长为410nm监测下的荧光衰减曲线。曲线很好地符合双指数衰减公式:
其中,τ1和τ2分别是短衰减因子和长衰减因子,A1和A2是常数。拟合出来的平均寿命为207.5ns,短于现有的大多数蓝光荧光粉。
图4为实施例1的配比(1)~(5)样品在380-450nm范围内的积分强度随Bi浓度的变化曲线。曲线表明,随着Bi浓度的增加,发光强度开始上升,在x=0.005时达到最大值。之后却逐渐下降,原因是浓度猝灭效应。
实施例2
选取氧化钇、氢氧化铝、氧化镓和氧化铋作起始化合物原料,按各元素摩尔配比,Y:Al:Ga:O:Bi=(3-x):2:3:12:0.005,分别称取四种化合物原料,控制化合物总重均为2g。2g混合物经研磨15分钟后,放入刚玉坩埚,然后将坩埚放入高温炉。样品在氧化性气氛下从室温升到1250~1500℃,灼烧4~8h,随炉自然冷却,即制得一种Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉Y2.995Al2Ga3O12:0.005Bi3+。X射线衍射分析表明其为Y3Al2Ga3O12晶相。荧光粉的光谱性质与实施例1中的最佳配比Y2.995Al2Ga3O12:0.005Bi3+类似,在T=1400℃时发光最强。
以上实施例仅为本发明较优的实施方式,仅用于解释本发明,而非限制本发明,本领域技术人员在未脱离本发明精神实质下所作的改变、替换、修饰等均应属于本发明的保护范围。
Claims (9)
1.一种Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉,其特征在于,表达通式为Y3-xAl2Ga3O12: xBi3 +其中x=0.002-0.05; Bi3+取代晶体中的Y,x表示取代率,激活离子为Bi3+。
2.根据权利要求1所述的Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉,其特征在于,所述荧光粉为Y3Al2Ga3O12晶相(ICSD#208017),其晶体结构属于立方晶系。
3.一种制备权利要求1所述的Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉的方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)按元素摩尔比Y: Al: Ga: O: Bi=(3-x) : 2 : 3 : 12 : x,其中x=0.002~0.05,分别称取含钇的化合物原料、含铝的化合物原料、含镓的化合物原料和含铋的化合物原料;
(2)将步骤(1)称取的化合物原料研磨15分钟后在氧化性气氛下灼烧;
(3)将步骤(2)灼烧后的样品取出,研磨成粉,得到所述Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉。
4.根据权利要求3所述的Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述含钇的化合物原料为氧化钇。
5.根据权利要求3所述的Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述含铝的化合物原料为氧化铝、氢氧化铝中的一种。
6.根据权利要求3所述的Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述含镓的化合物原料为氧化镓、镓单质中的一种。
7.根据权利要求3所述的Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述含铋的化合物原料为氧化铋。
8.根据权利要求3所述的Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉的制备方法,其特征在于,步骤(2)所述氧化性气氛为空气气氛或者氧气气氛。
9.根据权利要求3所述的Bi3+掺杂窄带蓝光铝镓酸盐荧光粉的制备方法,其特征在于,步骤(2)所述灼烧的温度T=1250-1500℃,灼烧的时间t=4-8h。
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