CN111244112B - 显示面板、显示装置和显示面板的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种显示面板、显示装置和显示面板的制作方法，该显示面板包括基板，基板包括显示区、开孔区和位于显示区和开孔区之间的隔离区；隔离区内设有至少一个隔离柱，每个隔离柱绕开孔区一圈设置，在平行于基板的方向上，隔离柱包括相对且相连接的第一部分和第二部分，第一部分面向第二部分的侧面和第二部分背向第一部分的侧面分别凹设有凹槽；显示区和隔离区内设置有发光层，发光层在凹槽处断开；并且，在第一部分背向第二部分的一侧和第二部分面向第一部分的一侧，发光层为连续的结构。本发明提供的显示面板，能有效提高显示面板的封装良率，确保隔离柱截断水氧入侵通道有效性。
Description
技术领域
本发明一般涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板、显示装置和显示面板的制作方法。
背景技术
随着显示器技术发展和更新换代，有机电致发光显示器件(OrganicElectroluminance Display，简称为：OLED)由于具有自发光、高亮度、高对比度、低工作电压、可制作柔性显示器等特点，已经逐渐成为显示领域的主流产品。
目前，OLED显示面板主要向全面屏及更窄的边框方向发展，比如，大部分手机厂商，都在追求更高的屏幕屏占比以期给用户带来更炫的视觉冲击，赢得市场竞争。但是，对于摄像头及一些感应器来说，却限制着屏幕往更高的屏占比发展，将摄像头及一些感应器放于屏内正备受业内的高度关注。
在将摄像头等一些感应器放置于屏内时，需要在屏幕上进行开孔，而在屏幕上开孔容易使OLED的膜层外露，从而使得使电致发光层(Electro-Luminescence，简称EL层)形成水氧入侵通道。目前，主要是通过工字形隔离柱，来实现对EL层的阻断作用，进而截断水氧入侵通道。
但是，在形成显示面板的工艺过程中，在形成这种工字形隔离柱之后，蒸镀EL层，然后涂覆光刻胶(Photo Resist，简称PR胶)形成封装层。在涂覆PR胶时会产生如下问题：在工字形隔离柱的部分位置不方便涂覆PR胶；工字形隔离柱形成之后涂覆PR胶，PR胶在开孔附近变薄，出现孔晕圈；涂覆至工字形隔离柱位置时，在工字形缺口处会产生气泡，导致PR胶覆盖不上。这些问题会导致显示面板的封装效果差，对EL层的阻断失效，导致水氧入侵，从而导致显示面板的信赖性不良。
发明内容
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种显示面板、显示装置和显示面板的制作方法。
第一方面，本发明提供一种显示面板，包括基板，所述基板包括显示区、开孔区和位于所述显示区和所述开孔区之间的隔离区；
所述隔离区内设有至少一个隔离柱，每个所述隔离柱绕所述开孔区一圈设置，在平行于所述基板的方向上，所述隔离柱包括相对且相连接的第一部分和第二部分，所述第一部分面向所述第二部分的侧面和所述第二部分背向所述第一部分的侧面分别凹设有凹槽；
所述显示区和所述隔离区内设置有发光层，所述发光层在所述凹槽处断开；在所述第一部分背向所述第二部分的一侧以及所述第二部分面向所述第一部分的一侧，所述发光层为连续的结构。
进一步地，自靠近所述基板到远离所述基板的方向，所述隔离柱包括依次层叠设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层；
在所述第一部分，所述第二金属层面向所述第二部分的侧壁相对所述第一金属层和所述第三金属层内凹形成所述凹槽；
在所述第二部分，所述第二金属层背向所述第一部分的侧壁相对所述第一金属层和所述第三金属层内凹形成所述凹槽。
进一步地，所述第一金属层的纵截面呈矩形状，所述第二金属层的纵截面呈梯形状，所述第三金属层的纵截面呈矩形状。
进一步地，所述第一金属层和所述第三金属层的材料相同，所述第二金属层与所述第一金属层的材料不同，所述第二金属层的材料的刻蚀速率大于所述第一金属层的材料的刻蚀速率。
进一步地，所述第一金属层与所述第二金属层相连的区域至少占所述第一金属层的1/2，所述第三金属层与所述第二金属层相连的区域至少占所述第三金属层的1/2。
第二方面，本发明提供一种显示装置，包括上述任一显示面板。
第三方面，本发明提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括基板，所述基板包括开孔区、围绕所述开孔区的隔离区以及围绕所述隔离区的显示区，所述显示面板的制备方法包括：
在所述隔离区内形成隔离柱，所述隔离柱包括在平行于所述基板的方向上相对且相连接的第一部分和第二部分，所述第一部分面向所述第二部分的侧面和所述第二部分背向所述第一部分的侧面分别凹设有凹槽；
在所述显示区和所述隔离区内形成发光层，所述发光层在所述隔离柱的凹槽处断开，且所述发光层在所述第一部分背向所述第二部分的一侧以及所述第二部分面向所述第一部分的一侧为连续的结构。
进一步地，所述在所述隔离区内形成隔离柱包括：
在所述隔离区内形成金属柱，所述金属柱包括在平行于所述基板的方向上相对且相连接的第一部和第二部；
形成至少包覆各个所述金属柱侧面的光刻胶；
在所述光刻胶上形成开口部，所述开口部露出所述第一部面向所述第二部的一侧和所述第二部背向所述第一部的一侧；
在所述开口部处对所述金属柱进行侧蚀，形成所述凹槽；
去除剩余的光刻胶，形成所述隔离柱。
进一步地，在所述隔离区内形成金属柱，包括：
自靠近所述基板到远离所述基板的方向，在所述基板上依次形成第一金属部、第二金属部和第三金属部，所述第一金属部的纵截面和所述第三金属部的纵截面呈矩形状，所述第二金属部的纵截面呈梯形状。
进一步地，所述开口部露出所述第一部面向所述第二部的一侧和所述第二部背向所述第一部的一侧包括：所述开口部至少露出所述第一部的第二金属部面向所述第二部的侧壁以及所述第二部的第二金属部背向所述第一部的侧壁；
所述在所述开口部处对所述金属柱进行侧蚀，包括：在所述开口部处蚀刻所述第二金属部，形成第二金属层。
进一步地，所述第一金属层与所述第二金属层相连的区域至少占所述第一金属层的1/2，所述第三金属层与所述第二金属层相连的区域至少占所述第三金属层的1/2。
进一步地，采用掩膜、曝光、显影的方式在所述光刻胶上形成所述开口部；
对所述开口部处露出的金属柱进行湿法刻蚀，形成所述凹槽。
本发明提供的显示面板、显示装置和显示面板的制备方法，在平行基板的方向上，隔离柱包括相对且相连的第一部分和第二部分，在第一部分的单侧和第二部分的单侧形成凹槽，通过凹槽将显示区和开孔区之间的发光层隔断开；第一部分的凹槽和第二部分的凹槽朝向大体一致，在形成隔离柱之后，可从第二部分向第一部分涂覆PR胶，避免PR胶在隔离柱处涂覆异常或者出现气泡的问题，有效提高显示面板的封装良率，进而确保隔离柱截断水氧入侵通道的有效性。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为本发明实施例提供的显示面板的俯视图；
图2为图1中A-A’方向的剖面示意图；
图3位本发明实施例提供的隔离柱中第二金属层与第三金属层相接处的示意图；
图4为本发明实施例提供的隔离柱的示意图；
图5为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的流程图；
图6为本发明实施例提供的形成隔离柱的流程图；
图7至图11为本发明实施例提供的形成隔离柱的工艺示意图；
图12为本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图；
图13为图12示出的掩膜版遮盖光刻胶的结构示意图；
图14为本发明实施例提供的曝光图案的示意图；
图15为本发明实施例提供的另一种掩膜版的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
全面屏是指具有超高屏占比的一类显示屏，理想的全面屏的屏占比为100％。例如手机的正面全部都是显示界面，但是一般受限于手机前置摄像头、手机听筒、人脸识别传感器、光线传感器等基本功能部件的安装需要，目前手机屏幕上方都需要留有一定的缺口来安装上述功能部件，从而形成了“刘海屏”、“水滴屏”等显示屏。
如图1和图2所示，本发明实施例提供一种显示面板，包括基板10，基板10包括显示区20、开孔区30和位于显示区20和开孔区30之间的隔离区40，隔离区40内设有至少一个隔离柱41，每个隔离柱41绕开孔区30一圈设置。
基板10上设有无机层12，无机层12包括在远离基板10方向上依次层叠设置的阻挡层(Barrier)和缓冲层(Buffer)，基板10可为聚酰亚胺等构成的柔性基板或玻璃基板。显示面板的隔离区内还设有隔离坝(DAM)60，用于隔离显示区20和开孔区30；阻挡结构61，又称为crack dam，用于阻挡裂缝延伸至发光层，从而可以进一步提高封装信赖性。图2还示意出显示面板中的一些常规结构，例如薄膜晶体管(TFT)13、平坦层(PLN)14、像素定义层(PDL)15、第一无机封装层16、有机层17以及第二无机封装层18，第一无机封装层14和第二无机封装层16中任一种材料可以为SiNx、SiCN、SiO2等。第一无机封装层14和第二无机封装层16可采用化学气相沉积、物理气相沉积、原子力沉积等方式形成。有机层15可包括丙烯酸基聚合物、硅基聚合物等。有机层15可采用喷墨打印、喷涂等方式形成于第一无机封装层16背向基板10的一侧。
如图2和图3所示，在平行于基板10的方向上，隔离柱41包括相对且相连接的第一部分411和第二部分412，第一部分411面向第二部分412的侧面和第二部分412背向第一部分411的侧面分别凹设有凹槽42；显示区20和隔离区40内设置有发光层11，发光层11在凹槽42处断开；在第一部分411背向第二部分412的一侧和第二部分412面向第一部分411的一侧，发光层11为连续的结构。该实施例中，通过凹槽42对发光层11形成阻断，截断水氧入侵通道；第一无机封装层16覆盖发光层11并填充隔离柱41的凹槽42，形成良好的阻隔水汽和氧气的效果。
优选隔离柱41呈圆环状，左侧虚线框圈出第一部分411，右侧虚线框圈出第二部分412。第一部分411的凹槽位于第一部分411的隔离柱面向第二部分412的侧面处，第二部分412的凹槽位于第二部分412的隔离柱背向第一部分411的侧面处，即隔离柱的第一部分的单侧、第二部分的单侧形成凹槽，第一部分和第二部分这两个部分的凹槽的朝向大体一致。
该实施例提供的显示面板，在隔离柱形成之后，沿着与隔离柱的凹槽开口方向相逆的方向涂覆PR胶形成第一无机封装层，能够有效避免PR胶涂覆异常或者气泡等问题，有效提高显示面板的封装良率，确保隔离柱截断水氧入侵通道的有效性。
该实施例中，上述与隔离柱的凹槽开口方向相逆的方向为从第二部分到第一部分的方向，参照图3中示意的涂胶方向。
进一步地，自靠近基板10到远离基板10的方向，隔离柱41包括依次层叠设置的第一金属层413、第二金属层414和第三金属层415；
在第一部分411，第二金属层414面向第二部分412的侧壁相对第一金属层413和第三金属层415内凹形成凹槽42；
在第二部分412，第二金属层414背向第一部分411的侧壁相对第一金属层413和第三金属层415内凹形成凹槽42。
其中，第一金属层413的纵截面呈矩形状，第二金属层414的纵截面呈梯形状，第三金属层415的纵截面呈矩形状。在第一部分，第二金属层面向第二部分的侧壁相对于第一金属层、第三金属层缩进；在第二部分，第二金属层背向第一部分的侧壁相对于第一金属层、第三金属层缩进，确保发光层能够沿第一金属层垂直拐至第二金属层的侧面，在凹槽处断开。
进一步地，第一金属层413和第三金属层415的材料相同，第二金属层414与第一金属层413的材料不同，第二金属层414的材料的刻蚀速率大于第一金属层413的材料的刻蚀速率，如此在制作隔离柱41时可以通过使用刻蚀液和控制刻蚀时间形成需要的缩进量。可以理解是，上述第二金属层414的材料的刻蚀速率大于第一金属层413的材料的刻蚀速率，前提是针对同一种刻蚀液。
示例的，第一金属层413和第三金属层415的材料可以为Ti(钛)，第二金属层414的材料可以为Al(铝)，可以理解为，隔离柱41采用“Ti+Al+Ti”的膜层结构。该隔离柱中，第一金属层413的横截面面积大于第三金属层415的横截面面积，第三金属层415的横截面面积大于第二金属层414的横截面面积，这三个金属层的剖面结构如图4所示。参照图4示意了两个隔离柱的第一部分的局部，若开孔区位于图4的右侧区域，则左侧隔离柱位于右侧隔离柱的外圈，开孔区位于右侧隔离柱的内侧；若开孔区位于图4的左侧区域，则左侧隔离柱位于右侧隔离柱的内圈，开孔区位于左侧隔离柱的内侧。图4中虚线示意的B处为第二金属层和第三金属层相接处。
该实施例的显示区内设有多个TFT，TFT可以为顶栅型TFT、底栅型TFT或双栅型TFT，本发明对TFT的类型不做限制。例如薄膜晶体管包括设置在缓冲层背向基板10一侧的有源层，设置在有源层背向基板10一侧的栅绝缘层(GI)，设置在栅绝缘层背向基板10一侧的栅极，设置在栅绝缘层背向基板10一侧的层间介质层(ILD)，设置在层间介质层背向基板10一侧的导电层，导电层包括薄膜晶体管的源极和漏极，源极和漏极分别与有源层电连接。
其中，第一金属层413、第二金属层414和第三金属层415中的至少一者，与TFT的栅极或源极同层同材料，简化制作工艺。
较佳地，隔离柱与TFT的源极和漏极同层同材料，TFT的源极、漏极也包括“Ti+Al+Ti”三层结构，在制作TFT的源漏电极的同时，形成隔离柱，不需要专门增加其它膜层，可以简化制作工艺。
本发明中，隔离柱41可设有多个，且使多个隔离柱41间隔分布。本领域技术人员应当理解，随着隔离柱41的数量的增加，会增加对截断水氧入侵通道的有效性，但隔离柱41数量的增加，必然会增加显示面板的制造工艺难度，增加生产成本。如图4所示，基板上间隔设有两个隔离柱41。通过设置两个隔离柱41，既能提高隔离柱41截断水氧入侵通道的有效性，又能避免隔离柱41数量过多导致生产成本过大。本领域技术人员也可在基板上设置一个、三个、四个或更多个隔离柱，本发明对此不做限制。
该实施例中栅绝缘层、层间绝缘层分别延伸覆盖隔离区，上述无机层12还包括层间绝缘层和栅绝缘层。在隔离柱至基板之间依次设有层间绝缘层、栅绝缘层缓冲层和绝缘层。参照图2，上述阻挡结构61可以包括设置在绝缘层(例如栅绝缘层、层间绝缘层等层)中的沟槽(即凹部)，以形成裂缝坝，用于阻挡裂缝延伸至发光层，从而可以进一步提高封装信赖性。
若隔离区中设有至少两个隔离柱，在相邻两个隔离柱之间，层间绝缘层和栅绝缘层上设有凹坑70。发光层11在隔离柱41的凹槽42处断开，通过凹坑70能够避免发光层在两个隔离柱之间堆积过多，进而避免发光层在凹槽处的断开失效，确保在隔离柱的凹槽对发光层形成有效的阻断。
进一步地，第一金属层413与第二金属层414相连的区域至少占第一金属层413的1/2，第三金属层415与第二金属层414相连的区域至少占第三金属层415的1/2。如此有效确保第一金属层能够得到稳定的支撑，避免第一金属层伸出第二金属层的部分过多导致第一金属层断开，进而避免出现阻断发光层失效的问题。
本发明实施例还提供一种显示装置，该显示装置包括上述显示面板。显示装置例如可为手机、平板电脑、电子手表、运动手环、笔记本电脑等具有显示面板的电子设备。
本发明实施例还提供一种显示面板的制备方法，如图5所示，该制备方法包括：
步骤S100，在隔离区40内形成隔离柱41，隔离柱41包括在平行于基板10的方向上相对且相连接的第一部分411和第二部分412，第一部分411面向第二部分412的侧面和第二部分412背向第一部分411的侧面分别凹设有凹槽42；
步骤S200，在显示区20和隔离区40内形成发光层11，发光层11在隔离柱41的凹槽42处断开，且发光层11在第一部分411背向第二部分412的一侧以及第二部分412面向第一部分411的一侧为连续的结构。
在步骤100、步骤200之后沿着与凹槽开口方向相反的方向进行后续的涂胶工艺。
本发明提供的显示面板的制造方法，在基板的隔离区上形成有隔离柱，隔离柱的第一部分的单侧、第二部分的单侧形成有阻断发光层的凹槽，该隔离柱能够避免后续涂胶时出现涂胶异常或者气泡的现象，能够提高显示面板的封装良率。
下面，对步骤S100进行进一步的说明，例如在隔离区内设置两个隔离柱。参照图6，步骤S100，在隔离区40内形成隔离柱41包括：
步骤S101，在隔离区40内形成金属柱43，金属柱43包括在平行于基板10的方向上相对且相连接的第一部和第二部。参照图7，本发明实施例提供了两个金属柱43的第一部的截面图。
步骤S102，形成至少包覆各个金属柱43侧面的光刻胶44。如图8所示，金属柱43的第一部被光刻胶包覆；可以理解，金属柱43的第二部也被光刻胶包覆。
步骤S103，在光刻胶44上形成开口部45，开口部45露出第一部面向第二部的一侧和第二部背向第一部的一侧。参照图9，开口部45露出了第一部面向第二部的一侧；可以理解，开口部也露出了第二部背向第一部的一侧。
步骤S104，在开口部45处对金属柱43进行侧蚀，形成凹槽42。参照图10，在金属柱的第一部面向金属柱的第二部的一侧形成凹槽42；可以理解，在金属柱的第二部背向第一部的一侧也形成凹槽42。
步骤S105，去除剩余的光刻胶，形成隔离柱41，如图11所示。
进一步地，步骤S101，在隔离区40内形成金属柱43，包括：自靠近基板10到远离基板10的方向，在基板10上依次形成第一金属部431、第二金属部432和第三金属部433，第一金属部431的纵截面和第三金属部433的纵截面呈矩形状，第二金属部432的纵截面呈梯形状，确保后续形成的隔离柱结构稳定，能够有效隔断发光层。
进一步地，第一金属部431和第三金属部433的材料相同，第二金属部432与第一金属部431的材料不同，第二金属部432的材料的刻蚀速率大于第一金属部431的材料的刻蚀速率，如此在制作隔离柱41时可以通过使用刻蚀液和控制刻蚀时间形成需要的缩进量。可以理解是，上述第二金属部432的材料的刻蚀速率大于第一金属部431的材料的刻蚀速率，前提是针对同一种刻蚀液。其中，第一金属部431和第三金属部433的材料可以为Ti(钛)，第二金属部432的材料可以为Al(铝)。
进一步地，开口部45露出第一部面向第二部的一侧和第二部背向第一部的一侧包括：开口部45至少露出第一部的第二金属部432面向第二部的侧壁以及第二部的第二金属部432背向第一部的侧壁；
在开口部45处对金属柱43进行侧蚀，包括：在开口部45处蚀刻第二金属部432，形成第二金属层414。第二金属层414的纵截面小于第二金属部432的纵截面，第二金属层414的单侧形成凹槽。第一金属部431未被蚀刻，第一金属部431同上述第一金属层413；第三金属部433未被蚀刻，第三金属部433同上述第三金属层415。
在开口部45处对金属柱43进行侧蚀之后，金属柱43的第一部变为隔离柱41的第一部分，金属柱43的第二部变为隔离柱41的第二部分。
进一步地，第一金属层413与第二金属层414相连的区域至少占第一金属层413的1/2，第三金属层415与第二金属层414相连的区域至少占第三金属层415的1/2。如此有效确保第一金属层能够得到稳定的支撑，避免第一金属层伸出第二金属层的部分过多导致第一金属层断开，进而避免出现阻断发光层失效的问题。
进一步地，采用掩膜、曝光、显影的方式在光刻胶44上形成开口部45，简化制作工艺；
对开口部45处露出的金属柱43进行湿法刻蚀，形成凹槽42。例如可以利用硝酸作为刻蚀液，进行湿法刻蚀工艺。
图12为本发明实施例提供的掩膜版的结构示意图；图13为图12示出的掩膜版遮盖光刻胶的结构示意图。参照图12，掩膜版包括第一掩膜部51和第二掩膜部52；参照图13，边界61和边界62界定的区域示意至少包覆金属柱43侧面的光刻胶44。
在步骤S103中，使用图12示出的掩膜版遮盖光刻胶44；参照图13，一部分光刻胶被掩膜版遮盖，另一部分光刻胶未被掩膜版遮盖；然后曝光、显影，具体的，参照图14，阴影部分表示曝光图案，然后对曝光图案对应的曝光区域进行显影处理，在光刻胶44上形成开口部45。该实施例中图12示意的掩膜版可在开孔区的外侧形成一个隔离柱，但用来形成一个隔离柱的掩膜版的结构包括但不局限于此。
参照图15，本发明实施例还提供一种掩膜版，可在开孔区的外侧形成两个隔离柱。该掩膜版包括外圈第一掩膜部61、外圈第二掩膜部62、内圈第一掩膜部63和内圈第二掩膜部64。例如，图4中左侧隔离柱位于右侧隔离柱的外圈，其中外圈第一掩膜部61和外圈第二掩膜部62配合形成图4中的左侧隔离柱，内圈第一掩膜部63和内圈第二掩膜部64配合形成图4中的右侧隔离柱。
当然，为确保有效阻隔水汽和氧气，在一个开孔区的外侧还可以设置三个、四个或更多的隔离柱，掩膜版的结构可参照图15示意的掩膜版的结构依此类推设计。
本发明提供的显示面板、显示装置和显示面板的制备方法，隔离柱包括相对且相连的第一部分和第二部分，且均在第一部分和第二部分的单侧形成凹槽，通过凹槽将显示区和开孔区之间的发光层隔断开；第一部分的凹槽和第二部分的凹槽大致朝向一致，便于在形成隔离柱之后，自第二部分所在位置向第一部分所在位置涂胶，避免在隔离柱的处出现涂覆异常或者出现气泡的问题，有效提高显示面板的封装良率，进而确保隔离柱截断水氧入侵通道的有效性。
本发明中“左侧”、“右侧”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
以上描述仅为本发明的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本发明中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本发明中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。
Claims (12)
1.一种显示面板，包括基板，所述基板包括显示区、开孔区和位于所述显示区和所述开孔区之间的隔离区，其特征在于，
所述隔离区内设有至少一个隔离柱，每个所述隔离柱绕所述开孔区一圈设置，在平行于所述基板的方向上，所述隔离柱包括相对且相连接的第一部分和第二部分，所述第一部分和所述第二部分围绕所述开孔区，所述第一部分面向所述第二部分的侧面和所述第二部分背向所述第一部分的侧面分别凹设有凹槽；
所述显示区和所述隔离区内设置有发光层，所述发光层在所述凹槽处断开；在所述第一部分背向所述第二部分的一侧以及所述第二部分面向所述第一部分的一侧，所述发光层为连续的结构。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，自靠近所述基板到远离所述基板的方向，所述隔离柱包括依次层叠设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层；
在所述第一部分，所述第二金属层面向所述第二部分的侧壁相对所述第一金属层和所述第三金属层内凹形成所述凹槽；
在所述第二部分，所述第二金属层背向所述第一部分的侧壁相对所述第一金属层和所述第三金属层内凹形成所述凹槽。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属层的纵截面呈矩形状，所述第二金属层的纵截面呈梯形状，所述第三金属层的纵截面呈矩形状。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属层和所述第三金属层的材料相同，所述第二金属层与所述第一金属层的材料不同，所述第二金属层的材料的刻蚀速率大于所述第一金属层的材料的刻蚀速率。
5.根据权利要求2-4任一项所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属层与所述第二金属层相连的区域至少占所述第一金属层的1/2，所述第三金属层与所述第二金属层相连的区域至少占所述第三金属层的1/2。
6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5任一所述的显示面板。
7.一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括基板，所述基板包括开孔区、围绕所述开孔区的隔离区以及围绕所述隔离区的显示区，其特征在于，所述显示面板的制备方法包括：
在所述隔离区内形成隔离柱，所述隔离柱包括在平行于所述基板的方向上相对且相连接的第一部分和第二部分，所述第一部分和所述第二部分围绕所述开孔区，所述第一部分面向所述第二部分的侧面和所述第二部分背向所述第一部分的侧面分别凹设有凹槽；
在所述显示区和所述隔离区内形成发光层，所述发光层在所述隔离柱的凹槽处断开，且所述发光层在所述第一部分背向所述第二部分的一侧以及所述第二部分面向所述第一部分的一侧为连续的结构。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述隔离区内形成隔离柱包括：
在所述隔离区内形成金属柱，所述金属柱包括在平行于所述基板的方向上相对且相连接的第一部和第二部；
形成至少包覆各个所述金属柱侧面的光刻胶；
在所述光刻胶上形成开口部，所述开口部露出所述第一部面向所述第二部的一侧和所述第二部背向所述第一部的一侧；
在所述开口部处对所述金属柱进行侧蚀，形成所述凹槽；
去除剩余的光刻胶，形成所述隔离柱。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述隔离区内形成金属柱，包括：
自靠近所述基板到远离所述基板的方向，在所述基板上依次形成第一金属部、第二金属部和第三金属部，所述第一金属部的纵截面和所述第三金属部的纵截面呈矩形状，所述第二金属部的纵截面呈梯形状。
10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
所述开口部露出所述第一部面向所述第二部的一侧和所述第二部背向所述第一部的一侧包括：所述开口部至少露出所述第一部的第二金属部面向所述第二部的侧壁以及所述第二部的第二金属部背向所述第一部的侧壁；
所述在所述开口部处对所述金属柱进行侧蚀，包括：在所述开口部处蚀刻所述第二金属部，形成第二金属层。
11.根据权利要求10所述的显示面板的制备方法，其特征在于，未被刻蚀的所述第一金属部形成第一金属层，未被刻蚀的所述第三金属部形成第三金属层；
所述第一金属层与所述第二金属层相连的区域至少占所述第一金属层的1/2，所述第三金属层与所述第二金属层相连的区域至少占所述第三金属层的1/2。
12.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
采用掩膜、曝光、显影的方式在所述光刻胶上形成所述开口部；
对所述开口部处露出的金属柱进行湿法刻蚀，形成所述凹槽。
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