CN111139428A - 一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法 - Google Patents

一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111139428A
CN111139428A CN201911388659.8A CN201911388659A CN111139428A CN 111139428 A CN111139428 A CN 111139428A CN 201911388659 A CN201911388659 A CN 201911388659A CN 111139428 A CN111139428 A CN 111139428A
Authority
CN
China
Prior art keywords
gas
fluorine
steel cylinder
nitrogen
mpa
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201911388659.8A
Other languages
English (en)
Inventor
李海军
柳彤
王云飞
岳立平
孙秋丽
李丹丹
张净普
闫云
张长金
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Peric Special Gases Co Ltd
Original Assignee
Peric Special Gases Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Peric Special Gases Co Ltd filed Critical Peric Special Gases Co Ltd
Priority to CN201911388659.8A priority Critical patent/CN111139428A/zh
Publication of CN111139428A publication Critical patent/CN111139428A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
    • C23C8/10—Oxidising

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)

Abstract

本发明涉及一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，属于化工技术领域。所述方法通过将氟氮混合气充装到待钝化处理的钢瓶中；将钢瓶温度升高并保持在一定温度下进行钝化；然后用高纯氮气对钢瓶进行置换处理；对钢瓶水分进行检测，最后用高纯氦气对钢瓶内气相组分进行置换并进行轻组分含量分析。通过本方法能使钢瓶内表面形成一层均匀的钝化膜，满足含氟化合物电子级气体的储存使用。

Description

一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法
技术领域
本发明涉及一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，属于化工技术领域。
背景技术
含氟化合物如HF、NF3、WF6、SiF4以及C4F6等高纯电子级气体在半导体行业有着广泛的应用，如：1、用作半导体表面刻蚀及烷基化的催化剂；2、在电子工业中用作强酸性腐蚀剂；3、用于电子工业大规模集成电路的蚀刻及清洗气体；4、用于刻蚀玻璃，酸洗金属，制无机类氟盐产品及化学试剂；5、用于有机或无机氟化物的制造等。
存储气体钢瓶的处理质量对钢瓶本身寿命及气体质量影响非常大。现有技术中，一般钝化均采用化学钝化法，利用钝化剂如浓HNO3、浓H2SO4、HClO3和KMnO4等进行处理，然后再进行气体置换。这种钝化方法适用工业级气体使用，对电子级气体就容易造成痕量杂质引进，且不易除去，影响产品质量，进而对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。
目前在公开的专利及其他文献中，张观海撰写的《一种含氟混合气钢瓶内壁钝化方法》论文阐述了：使用的是高浓度氟气，在高压和恒温状态下对钢瓶内壁进行钝化处理，在钢瓶内能快速形成致密的氧化膜，并牢固地吸附在钢瓶内壁上。
发明内容
为克服现有技术存在的缺陷，本发明的目的在于提供一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法。
为实现本发明的目的，提供以下技术方案。
一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，所述方法步骤如下：
(1)将待纯化处理的钢瓶抽真空至小于等于-0.095MPa，充入氟气和氮气的混合气体至钢瓶内压力为0.1MPa～0.6MPa。
(2)将充入氟气和氮气混合气体的钢瓶在30℃～60℃静置72h～168h进行钝化处理，纯化处理时温度变化小于等于10℃，得到钝化处理后的钢瓶。
(3)将钝化处理后的钢瓶抽真空至小于等于-0.095MPa，充入高纯氮气进行置换处理，置换处理时氮气压力为0.01MPa～0.06MPa，置换处理次数为5次～10次。
(4)利用激光水分仪对氮气置换处理后的钢瓶进行水分含量检测，水分含量小于等于0.8ppm为合格；如果不合格，重复步骤(1)～(3)直至合格，然后进行下一步。
(5)将水分含量检测合格的钢瓶抽真空至小于等于-0.095MPa，充入高纯氦气，对钢瓶内气相组分进行置换处理，置换处理时氦气压力为0.01MPa～0.05MPa，置换次数为3～5次。
(6)对氦气置换处理后的钢瓶内组成分进行分析，如果不满足使用指标要求，重复步骤(5)直至满足使用指标要求；得到钝化处理完成的储存含氟化合物电子级气体钢瓶。
步骤(1)中：
待纯化处理的钢瓶为本领域用于储存含氟化合物电子级气体的钢瓶。
氟气和氮气的混合气体中，氟气的体积分数为5％～20％，余量为氮气；优选氟气的体积分数为10％～20％，余量为氮气。
优选充入氟气和氮气的混合气体至所述钢瓶内压力为0.1MPa～0.4MPa。
步骤(2)中：
优选在40℃～50℃静置；优选静置120h～168h。
步骤(6)中：
对氦气置换处理后的钢瓶内组成分可采用气相色谱进行分析。
本发明所述高纯氮气为纯度99.999％以上的氮气；高纯氦气为纯度99.999％以上的氦气。
有益效果
本发明提供了一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，通过所述方法可以将钢瓶内表面处理形成一层致密、均匀、稳定的氧化层，使金属稳定性明显增强；通过此方法处理的钢瓶储存含氟化合物电子级气体质量稳定，能够保证应用于半导体和大规模集成电路等行业。
具体实施方式
下面通过具体的实施例来详细的阐述发明内容，但实施例并不限定本发明。
以下实施例中，所述高纯氮气为纯度99.999％以上的氮气，高纯氦气为纯度99.999％以上的氦气。
实施例1
一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，所述方法步骤如下：
(1)将待纯化处理的钢瓶抽真空至小于等于-0.095MPa，控制氟气和氮气的混合气体压力在0.1～0.3MPa充入钢瓶，至钢瓶内压力为0.15MPa。
待纯化处理的钢瓶为本领域用于储存的SiF4电子级气体的钢瓶，容量为49L；氟气和氮气的混合气体中，氟气的体积分数为20％，余量为氮气。
(2)将充入氟气和氮气混合气体的钢瓶在35±5℃静置72小时进行钝化处理，得到钝化处理后的钢瓶。
(3)将钝化处理后的钢瓶抽真空至-0.095MPa，充入高纯氮气进行置换处理，置换处理时氮气压力为0.02MPa，置换处理5次。
(4)利用激光水分仪对氮气置换处理后的钢瓶进行水分含量检测，测得水分含量小于等于0.5ppm，水分含量检测合格。
(5)将水分检测合格的钢瓶抽真空至小于等于-0.095MPa，充入高纯氦气，对钢瓶内气相组分进行置换处理，置换处理时氦气压力为0.01MPa～0.02MPa，置换次数为3次。
(6)对氦气置换处理后的钢瓶内组成分分别取两次样品，进行氦离子化气相色谱进行分析，结果如表1所示，其中，DL表示检测线，表1结果显示指标合格，得到钝化处理完成的储存含氟化合物电子级气体钢瓶。
将具体组成成分如表2所示的SiF4气体充入本实施例所述钝化处理完成的储存含氟化合物电子级气体钢瓶中，存放三个月后对所述钢瓶中的气体成分进行氦离子化气相色谱进行分析，气体指标变化情况如表3所示，各项杂质含量均在产品合格线内，且质量稳定。
表1
气体成分 N<sub>2</sub> O<sub>2</sub>+Ar CO CO<sub>2</sub> CH<sub>4</sub> H<sub>2</sub> H<sub>2</sub>O
合格指标 ≤3ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤0.75ppm
样品1含量 0.20ppm 0.07ppm ＜DL ＜DL ＜DL 0.07ppm 0.35ppm
样品2含量 0.30ppm 0.06ppm ＜DL ＜DL ＜DL 0.03ppm 0.32ppm
表2
气体成分 N<sub>2</sub> O<sub>2</sub> CO CO<sub>2</sub> CH<sub>4</sub> H<sub>2</sub> SiF<sub>4</sub>
合格指标 ≤1ppm ≤0.5ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤2ppm ≥99.999ppm
样品1含量 0.12 0.01 ＜DL ＜DL ＜DL 0.03 余量
样品2含量 0.76 0.07 ＜DL 0.56 ＜DL 0.34 余量
表3
气体成分 N<sub>2</sub> O<sub>2</sub> CO CO<sub>2</sub> CH<sub>4</sub> H<sub>2</sub> SiF<sub>4</sub>
合格指标 ≤1ppm ≤0.5ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤2ppm ≥99.999ppm
样品1 0.14 0.03 ＜DL 0.02 ＜DL 0.03 余量
样品2 0.77 0.08 ＜DL 0.59 ＜DL 0.32 余量
实施例2
一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，所述方法步骤如下：
(1)将待纯化处理的钢瓶抽真空至小于等于-0.095MPa，控制氟气和氮气的混合气体压力在0.1～0.3MPa充入钢瓶，至钢瓶内压力为0.25MPa。
待纯化处理的钢瓶为本领域用于储存的NF3电子级气体的钢瓶，容量为440L；氟气和氮气的混合气体中，氟气的体积分数为10％，余量为氮气。
(2)将充入氟气和氮气混合气体的钢瓶在40±5℃静置120小时进行钝化处理，得到钝化处理后的钢瓶。
(3)将钝化处理后的钢瓶抽真空至-0.095MPa，充入高纯氮气进行置换处理，置换处理时氮气压力为0.02MPa，置换处理5次。
(4)利用激光水分仪对氮气置换处理后的钢瓶进行水分含量检测，测得水分含量小于等于0.5ppm。
(5)将水分检测合格的钢瓶抽真空至小于等于-0.095MPa，充入高纯氦气，对钢瓶内气相组分进行置换处理，置换处理时氦气压力为0.01MPa～0.02MPa，置换次数为3次。
(6)对氦气置换处理后的钢瓶内组成分分别取两次样品，进行氦离子化气相色谱进行分析，结果如表4所示，其中，DL表示检测线，表4结果显示指标合格，得到钝化处理完成的储存含氟化合物电子级气体钢瓶。
将具体组成成分如表5所示的NF3气体充入本实施例所述钝化处理完成的储存含氟化合物电子级气体钢瓶中，存放三个月后对所述钢瓶中的气体成分进行氦离子化气相色谱进行分析，气体指标变化情况如表6所示，各项杂质含量均在产品合格线内，且质量稳定。
表4
气体成分 N<sub>2</sub> O<sub>2</sub>+Ar CO CO<sub>2</sub> CH<sub>4</sub> H<sub>2</sub> H<sub>2</sub>O
合格指标 ≤3ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤0.75ppm
样品1含量 0.10ppm 0.05ppm ＜DL ＜DL ＜DL 0.08ppm 0.25ppm
样品2含量 0.20ppm 0.06ppm ＜DL ＜DL ＜DL 0.06ppm 0.35ppm
表5
气体成分 N<sub>2</sub> O<sub>2</sub> CO CO<sub>2</sub> CH<sub>4</sub> H<sub>2</sub> NF<sub>3</sub>
合格指标 ≤1ppm ≤0.5ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤2ppm ≥99.999ppm
样品1含量 0.02 0.01 ＜DL 0.03 ＜DL 0.03 余量
样品2含量 0.03 0.01 ＜DL 0.03 ＜DL 0.34 余量
表6
气体成分 N<sub>2</sub> O<sub>2</sub> CO CO<sub>2</sub> CH<sub>4</sub> H<sub>2</sub> NF<sub>3</sub>
合格指标 ≤1ppm ≤0.5ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤2ppm ≥99.999ppm
样品1 0.02 0.01 ＜DL 0.02 ＜DL 0.03 余量
样品2 0.03 0.02 ＜DL 0.03 ＜DL 0.32 余量
实施例3
一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，所述方法步骤如下：
(1)将待纯化处理的钢瓶抽真空至小于等于-0.095MPa，控制氟气和氮气的混合气体压力在0.3～0.6MPa充入钢瓶，至钢瓶内压力为0.5MPa。
待纯化处理的钢瓶为本领域用于储存的WF6电子级气体的钢瓶，容量为40L；氟气和氮气的混合气体中，氟气的体积分数为5％，余量为氮气
(2)将充入氟气和氮气混合气体的钢瓶在50±5℃静置165小时进行钝化处理，得到钝化处理后的钢瓶。
(3)将钝化处理后的钢瓶抽真空至-0.095MPa，充入高纯氮气进行置换处理，置换处理时氮气压力为0.02MPa，置换处理5次。
(4)利用激光水分仪对氮气置换处理后的钢瓶进行水分含量检测，测得水分含量小于等于0.5ppm。
(5)将水分检测合格的钢瓶抽真空至小于等于-0.095MPa，充入高纯氦气，对钢瓶内气相组分进行置换处理，置换处理时氦气压力为0.01MPa～0.02MPa，置换次数为3次。
(6)对氦气置换处理后的钢瓶内组成分分别取两次样品，进行氦离子化气相色谱进行分析，结果如表7所示，其中，DL表示检测线，表7结果显示指标合格，得到钝化处理完成的储存含氟化合物电子级气体钢瓶。
将具体组成成分如表8所示的WF6气体充入本实施例所述钝化处理完成的储存含氟化合物电子级气体钢瓶中，存放三个月后对所述钢瓶中的气体成分进行氦离子化气相色谱进行分析，气体指标变化情况如表9所示，各项杂质含量均在产品合格线内，且质量稳定。
表7
气体成分 N<sub>2</sub> O<sub>2</sub>+Ar CO CO<sub>2</sub> CH<sub>4</sub> H<sub>2</sub> H<sub>2</sub>O
合格指标 ≤3ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤0.75ppm
样品1含量 0.10ppm 0.05ppm ＜DL ＜DL ＜DL 0.08ppm 0.25ppm
样品2含量 0.20ppm 0.06ppm ＜DL ＜DL ＜DL 0.06ppm 0.35ppm
表8
气体成分 N<sub>2</sub> O<sub>2</sub> CO CO<sub>2</sub> CH<sub>4</sub> H<sub>2</sub> WF<sub>6</sub>
合格指标 ≤1ppm ≤0.5ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤2ppm ≥99.999ppm
样品1含量 0.52 0.30 ＜DL 0.20 ＜DL 0.60 余量
样品2含量 0.53 0.40 ＜DL 0.60 ＜DL 0.80 余量
表9
气体成分 N<sub>2</sub> O<sub>2</sub> CO CO<sub>2</sub> CH<sub>4</sub> H<sub>2</sub> WF<sub>6</sub>
合格指标 ≤1ppm ≤0.5ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤1ppm ≤2ppm ≥99.999ppm
样品1含量 0.55 0.35 ＜DL 0.22 ＜DL 0.63 余量
样品2含量 0.58 0.42 ＜DL 0.63 ＜DL 0.82 余量
。

Claims (10)

1.一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，其特征在于：所述方法步骤如下：
(1)将待纯化处理的钢瓶抽真空至小于等于-0.095MPa，充入氟气和氮气的混合气体至钢瓶内压力为0.1MPa～0.6MPa；
(2)将充入氟气和氮气混合气体的钢瓶在30℃～60℃静置72h～168h进行钝化处理，纯化处理时温度变化小于等于10℃，得到钝化处理后的钢瓶；氟气和氮气的混合气体中，氟气的体积分数为5％～20％，余量为氮气；
(3)将钝化处理后的钢瓶抽真空至小于等于-0.095MPa，充入高纯氮气进行置换处理，置换处理时氮气压力为0.01MPa～0.06MPa，置换处理次数为5次～10次；
(4)利用激光水分仪对氮气置换处理后的钢瓶进行水分含量检测，水分含量小于等于0.8ppm为合格；如果不合格，重复步骤(1)～(3)直至合格，然后进行下一步；
(5)将水分含量检测合格的钢瓶抽真空至小于等于-0.095MPa，充入高纯氦气，对钢瓶内气相组分进行置换处理，置换处理时氦气压力为0.01MPa～0.05MPa，置换次数为3～5次；
(6)对氦气置换处理后的钢瓶内组成分进行分析，如果不满足使用指标要求，重复步骤(5)直至满足使用指标要求；得到钝化处理完成的储存含氟化合物电子级气体钢瓶；
所述高纯氮气为纯度99.999％以上的氮气；高纯氦气为纯度99.999％以上的氦气。
2.根据权利要求1所述的一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，其特征在于：氟气和氮气的混合气体中氟气的体积分数为10％～20％，余量为氮气。
3.根据权利要求1所述的一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，其特征在于：充入氟气和氮气的混合气体至所述钢瓶内压力为0.1MPa～0.4MPa。
4.根据权利要求1所述的一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，其特征在于：在40℃～50℃静置。
5.根据权利要求1所述的一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，其特征在于：静置120h～168h。
6.根据权利要求1所述的一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，其特征在于：对氦气置换处理后的钢瓶内组成分采用气相色谱进行分析。
7.根据权利要求1所述的一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，其特征在于：氟气和氮气的混合气体中氟气的体积分数为10％～20％，余量为氮气；充入氟气和氮气的混合气体至所述钢瓶内压力为0.1MPa～0.4MPa。
8.根据权利要求1所述的一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，其特征在于：在40℃～50℃静置；静置120h～168h。
9.根据权利要求1所述的一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，其特征在于：氟气和氮气的混合气体中氟气的体积分数为10％～20％，余量为氮气；充入氟气和氮气的混合气体至所述钢瓶内压力为0.1MPa～0.4MPa；在40℃～50℃静置；静置120h～168h。
10.根据权利要求1所述的一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法，其特征在于：氟气和氮气的混合气体中氟气的体积分数为10％～20％，余量为氮气；充入氟气和氮气的混合气体至所述钢瓶内压力为0.1MPa～0.4MPa；在40℃～50℃静置；静置120h～168h；对氦气置换处理后的钢瓶内组成分采用气相色谱进行分析。
CN201911388659.8A 2019-12-30 2019-12-30 一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法 Pending CN111139428A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911388659.8A CN111139428A (zh) 2019-12-30 2019-12-30 一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911388659.8A CN111139428A (zh) 2019-12-30 2019-12-30 一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111139428A true CN111139428A (zh) 2020-05-12

Family

ID=70521531

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911388659.8A Pending CN111139428A (zh) 2019-12-30 2019-12-30 一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111139428A (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111715642A (zh) * 2020-07-02 2020-09-29 重庆凯益特种气体有限公司 一种气瓶清洗方法
CN112342489A (zh) * 2020-10-08 2021-02-09 中船重工（邯郸）派瑞特种气体有限公司 一种存储电子级一氧化碳气体铁质容器的钝化处理方法
CN114321698A (zh) * 2021-12-30 2022-04-12 大连科利德光电子材料有限公司 一种用于储存电子级一氧化氮的钢瓶及其加工方法
CN115029657A (zh) * 2022-06-15 2022-09-09 江苏兴毅科技有限公司 特气特需钢瓶热处理钝化方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6215806B1 (en) * 1996-03-07 2001-04-10 Canon Kabushiki Kaisha Excimer laser generator provided with a laser chamber with a fluoride passivated inner surface
JP2008169448A (ja) * 2007-01-12 2008-07-24 Stella Chemifa Corp フッ化不動態膜を形成した炭素鋼又は特殊鋼及びその形成方法
CN102517540A (zh) * 2011-12-20 2012-06-27 广东华南特种气体研究所有限公司 一种准分子激光气配置装置的钝化方法
CN109332140A (zh) * 2018-09-16 2019-02-15 浙江博瑞电子科技有限公司 一种用于高纯特种气体包装物的内壁处理方法
CN110486617A (zh) * 2019-08-08 2019-11-22 广东华特气体股份有限公司 一种含氟混合气的配气系统及其钝化方法和配重方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6215806B1 (en) * 1996-03-07 2001-04-10 Canon Kabushiki Kaisha Excimer laser generator provided with a laser chamber with a fluoride passivated inner surface
JP2008169448A (ja) * 2007-01-12 2008-07-24 Stella Chemifa Corp フッ化不動態膜を形成した炭素鋼又は特殊鋼及びその形成方法
CN102517540A (zh) * 2011-12-20 2012-06-27 广东华南特种气体研究所有限公司 一种准分子激光气配置装置的钝化方法
CN109332140A (zh) * 2018-09-16 2019-02-15 浙江博瑞电子科技有限公司 一种用于高纯特种气体包装物的内壁处理方法
CN110486617A (zh) * 2019-08-08 2019-11-22 广东华特气体股份有限公司 一种含氟混合气的配气系统及其钝化方法和配重方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111715642A (zh) * 2020-07-02 2020-09-29 重庆凯益特种气体有限公司 一种气瓶清洗方法
CN112342489A (zh) * 2020-10-08 2021-02-09 中船重工（邯郸）派瑞特种气体有限公司 一种存储电子级一氧化碳气体铁质容器的钝化处理方法
CN114321698A (zh) * 2021-12-30 2022-04-12 大连科利德光电子材料有限公司 一种用于储存电子级一氧化氮的钢瓶及其加工方法
CN115029657A (zh) * 2022-06-15 2022-09-09 江苏兴毅科技有限公司 特气特需钢瓶热处理钝化方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111139428A (zh) 一种储存含氟化合物电子级气体钢瓶的钝化处理方法
KR101274764B1 (ko) 진공정련을 이용하여 저알파 방사선을 방출하는 주석 제조방법
CN111041403A (zh) 一种电子气体存储用钢瓶的处理方法
JP6845235B2 (ja) 硫化水素混合物及びその製造方法並びに充填容器
JPH04263093A (ja) アルミニウム支持体上の耐蝕性保護被膜とその製造方法
EP3900810A1 (en) Method for removing halogen fluoride, quantitative analysis method for gas component contained in halogen fluoride mixed gas, and quantitative analyzer
US20190047858A1 (en) Method for Purifying Fluorine Gas
CN1040136C (zh) 一种干燥金属制气体容器内表面的方法和经处理的容器
CN110642227A (zh) 一种砷烷的合成提纯方法
US20040237589A1 (en) Method for producing quartz glass jig and quartz glass jig
SG177725A1 (en) Expanded graphite sheet
CN114019101B (zh) 一种高压气体痕量水分分析装置及分析方法
WO2007063938A1 (ja) 不飽和フッ素化炭素化合物の精製方法、フルオロカーボン膜の成膜方法、及び半導体装置の製造方法
CN113786974A (zh) 一种用于高纯特种气体包装物的内壁处理方法及用于高纯特种气体的包装物
KR100703875B1 (ko) 삼불화질소의 정제방법
JPWO2014129488A1 (ja) 高純度１ｈ−ヘプタフルオロシクロペンテン
CN1761615A (zh) 降低三氟化氮中二氟化二氮与四氟化二氮浓度的加热方法
CN112342489A (zh) 一种存储电子级一氧化碳气体铁质容器的钝化处理方法
CN115253883B (zh) 微量气体的配制方法
CN118326320A (zh) 一种储存电子级腐蚀性液化气体钢瓶的钝化处理方法
US20040188272A1 (en) Method for reducing degradation of reactive compounds during transport
CN115074656A (zh) 一种储存电子级三氯化硼钢瓶的钝化处理方法
KR102616155B1 (ko) 옥타플루오로시클로부탄(c4f8)의 정제방법
JP7539522B2 (ja) 半導体洗浄工程に使用される高純度イソプロピルアルコールの精製方法
CN115574254A (zh) 一种适用于盛装高纯电子气体的不锈钢钢瓶的处理方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20200512