CN111116238A - 一种低光泽度、仿石材效果陶瓷砖及制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种低光泽度、仿石材效果陶瓷砖及制备方法。所述低光泽度、仿石材效果陶瓷砖的制备方法，在施釉工序中包括：提取石材设计图案文件并进行矢量处理，形成具有梯度式灰度变化的胶水图案；数码胶水机布施定位胶水，并依据所述胶水图案控制打印通道的胶水灰度值以使胶水呈现规定的梯度式灰度变化；布施干粒釉，并使得所述干粒釉在坯体上依据胶水图案梯度式灰度变化呈现规定的梯度式的厚度的有层次的堆积。

Description

一种低光泽度、仿石材效果陶瓷砖及制备方法
技术领域
本发明涉及一种干粒釉陶瓷砖及其制备方法，涉及一种低光泽度、仿石材效果陶瓷砖及制备方法，属于陶瓷砖生产制造技术领域。
背景技术
在建筑行业中，仿古砖作为一种含有优雅文化元素的产品，不仅对于石材市场有一定的冲击力，而且也在与传统的抛釉砖、抛光砖争夺市场。目前市场上仿古砖应用在家居装修上十分常见，无论被应用于室内还是室外，仿古砖起到的效果都无比鲜明且富有特色。同样地，在地面装修或墙面装饰方面，仿古砖在功能表现上更是出类拔萃。在此市场需求背景刺激下，开发具有怀旧情怀的仿古砖才能使仿古产品更具有市场竞争力。
中国专利CN 107685383A介绍了一种仿古砖陶瓷的生产工艺，采用模具成型工艺，搭配仿古保护釉，打印上图案，从而获得具有高仿真的立体效果，但是其生产方法需要结合高精密激光雕刻的模具，装饰效果单一，生产成本高。中国专利CN 109912293A介绍了一种花岗岩质感瓷砖及其制备方法，采取优化瓷砖的坯体制备工艺、底釉配方，从而在砖面实现洞石效果，但是该工艺依旧是使用具有模具效果的砖坯。中国专利CN 109456035A介绍了一种具有亮哑效果的陶瓷砖及其制备方法，通过低温陶瓷胶水和亮哑干粒釉协同作用，实现了装饰图案纹理层上亮哑结合的效果，同时也实现了陶瓷砖表面亮哑干粒层上亮哑结合的效果，但是其工艺所实现的效果是亮哑面。中国专利CN 108911701A介绍了哑光干粒釉面砖及其制备方法，通过制备优质的哑光干粒釉，生产出防污、防滑的哑光干粒釉面，关键在于控制窑炉的烧成温度，其生产过程釉面效果较难把控。中国专利CN 110183251A介绍了一种无光釉陶瓷砖及其制备方法，其通过布施完无光面釉后再布施上一层无光透明釉，最后在喷墨打印设计上再布施上第二层无光釉层釉，进窑烧制从而获取无光釉产品，但是其产品无法达到具有层次纹理的釉面效果。
发明内容
本发明的目的是提供一种低光泽度、仿石材效果陶瓷砖及其制备方法。
第一方面，本发明提供一种低光泽度、仿石材效果陶瓷砖的制备方法，在施釉工序中包括：
提取石材设计图案文件并进行矢量处理，形成具有梯度式灰度变化的胶水图案；
数码胶水机布施定位胶水，并依据所述胶水图案控制打印通道的胶水灰度值以使胶水呈现规定的梯度式灰度变化；
布施干粒釉，并使得所述干粒釉在坯体上依据胶水图案梯度式灰度变化呈现规定的梯度式的厚度的有层次的堆积。
本发明的方法中，通过选取设计将石材装饰部分提取做成矢量图，在做好的矢量图上，通过PS软件将胶水灰度一个位置上处理成不同梯度式灰度变化，并使得干粒釉在坯体上呈现梯度式不同厚度层次的堆积，以形成片状解理面的效果。胶水灰度梯度式变化是指在一定的位置呈现有规律的梯度递增或梯度递减的变化，而干粒釉的堆积厚度也依据胶水图案梯度式变化呈现有规定的梯度递增或梯度递减的厚度变化，因此在烧成后的砖面纹理变化则能呈现片状解理面的质感。现有的采用模具成型工艺，或结合高精密的激光雕刻模具，装饰效果单一，生产成本高。本发明的方法将喷墨打印工艺和数码胶水定位工艺完美结合，利用干粒熔块微堆积实现一砖多面质感的效果，釉面层从侧面看具有天然石材般的层次。
较佳地，所述胶水图案的梯度式灰度的变化范围为25%～75%；相衔接位置灰度值梯度之差的变化量为15%～25%。所述天然石材图案层次的连接位置的灰度值之差不能太大，这样可以保证不同灰度间过渡自然。但是灰度差变化太小釉面层呈现的层次效果不明显。
较佳地，所述干粒釉包括由熔融温度1150～1178℃的低温干粒以及熔融温度1210～1240℃的高温干粒组成的基础干粒，其中，所述低温干粒：高温干粒的质量比为（4～5）：（6～5）。
较佳地，所述干粒釉还包括占基础干粒质量0.5～0.7%的银色云母片。本发明的方法利用干粒熔块微堆积实现模具效果，在干粒熔块中混入少量的银色云母片，更能体现出砖面云母反光结构的效果，使得釉面效果更加接近天然石材质感。
较佳地，所述高温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，IL（烧失）：0.20～0.70%、SiO2：46.00～48.00%、Al2O3：20.00～22.00%、CaO：14.00～15.00%、MgO：2.00～3.00%、K2O：2.00～4.00%、Na2O：2.00～3.50%、ZnO：4.00～5.00%、BaO：0.50～1.00%、SrO：1.00～1.50%。
较佳地，所述低温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，IL（烧失）：0.50～0.70%、SiO2：50.00～54.00%、Al2O3：18.00～21.00%、CaO：10.00～12.00%、MgO：0.70～1.00%、K2O：4.00～5.00%、Na2O：3.00～4.00%、ZnO：4.00～5.00%、ZrO2：0.50～0.80%、BaO：0.10～0.50%。
较佳地，所述干粒釉的颗粒级配为：80目以上：25%～29%，80～100目：30%～33%，100～150目：28%～32%，150～250目：9%～11%，250目以下：<0.5%。
较佳地，所述干粒釉每个梯度的厚度变化范围为0.05～0.13mm；对应所述厚度的干粒釉的堆积量为264～426g/m2。
较佳地，所述施釉工序还包括：在布施有干粒釉的坯体上布施消光釉。
较佳地，所述消光釉的化学组成包括：以质量百分比计，IL（烧失）：5.50～7.50%、SiO2：48.00～49.00%、Al2O3：22.00～23.00%、CaO：10.00～13.50%、MgO：1.50～2.00%、K2O：1.00～3.00%、Fe2O3：0.10～0.20%、Na2O：3.00～4.00%、ZnO：5.00～7.00%、 ZrO2：0.00～0.15%、TiO2：0.10～0.20%。
较佳地，在本发明的一些实施方式中，所述制备方法包括以下步骤：（1）将坯体干燥，并在干燥后的坯体上施面釉；（2）在施加面釉后的坯体上喷墨打印图案；（3）数码胶水机喷撒定位胶水；（4）在喷洒胶水后的坯体表面布施干粒釉；（5）在布施有干粒釉的坯体上布施消光釉。
另一方面，本发明还提供了上述任一种制备方法获得的陶瓷砖。烧制后陶瓷砖釉面颗粒之间堆积形成高度差为0.03～0.11mm。
附图说明
图1为对设计图案进行矢量处理后的数码胶水干粒机的打印文件图。
具体实施方式
以下通过下述实施方式进一步说明本发明，应理解，下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明。以下各百分含量如无特别说明均指质量百分含量。
本发明提供一种低光泽度、仿石材效果陶瓷砖的制备方法，其利用干粒熔块微堆积实现模具效果，该方法省略了具有凹凸效果的模具砖坯的使用，节约成本的同时使得石材效果充分体现。具体来说，本发明通过控制数码胶水干粒机形成胶水图案的胶水灰度，使得干粒釉呈现不同厚度的堆积量，从而达到实现模具凹凸的效果。
现有技术中胶水干粒装饰天然石材设计中，对于需要装饰的部分，布撒上所需要的干粒，对于矢量图的提取是根据设计图案中色彩走向，做成胶水打印文件。本发明通过选取设计将石材装饰部分提取做成矢量图，在提取后的矢量图基础上，再通过PS软件将胶水灰度石材层次的位置上处理成不同梯度式灰度大小，使得在同一水平面打印出不同量的胶水，使得粘附的干粒釉呈现不同厚度。由于不同厚度所呈现的是片状区域，不同厚度的片状物不同组合上的叠加，在触感上类似于页岩表面的效果，从而使得釉面堆积效果接近石头片状解理面，使得触感更为接近天然石材表面，达到仿石材天然质感的效果。
为了保证不同灰度间过渡自然，釉面层从侧面看具有天然石材般的层次，对于相衔接位置（即相邻梯度区）灰度值梯度之差的变化量要介于15%～25%之间。控制胶水灰度相衔接位置灰度值之差大于25%时，所形成的高度差会较大，在触感上缺乏柔和感，显得层次感比较突兀；而且此时所叠加后的胶水量就会增多，进窑前该处胶水未能及时粘附住干粒釉，进窑后温度急剧升高，胶水快速干透，未能将干粒釉粘附在釉层中，导致粘附胶水的干粒釉成片状，容易在烧制后干粒釉层产生剥落现象。
本发明的制备工艺降低了换模具所需要的成本，同时可根据生产要求，灵活结合不同设计图案实现一石多面的质感效果。
以下具体说明低光泽度、仿石材效果陶瓷砖的制备方法。
首先，将普通陶瓷基料压制砖坯。
然后，可将坯体干燥，例如在干燥窑中干燥。干燥时间可为干燥时间1～1.2h，干燥坯水分控制在0.5%以内。
随后在干燥后的坯体上施面釉。面釉的施加方式可为喷釉。一些实施方式中，面釉比重可为1.42～1.46，施釉量可为400～600 g/m2。另外，面釉的化学组成可为：以质量百分比计：IL（烧失）：4.00～5.00%、SiO2：49.89～50.78%、Al2O3：28.87～30.45%、Fe2O3：0.22～0.42%、TiO2：0.05～0.07%、CaO：0.55～0.87%、MgO：0.13～0.24%、K2O：4.89～5.62%、Na2O：2.58～3.34%、P2O5：0.26～0.45%、 ZrO2：5.03～6.45%。
在施有面釉的坯体上喷墨打印图案。
然后，在喷墨打印后的坯体表面布施数码胶水。布施胶水的位置是根据设计图案中石材纹理特性进行调整。该方式是通过数码胶水干粒机来实现布施胶水的。图1为一些实例中，对设计图案进行矢量处理后的数码胶水干粒机的打印文件，可根据该打印文件来喷撒胶水。本发明实施方式中，通过处理所需要的设计图案，针对不同石材版面效果制成与设计图案相对应的设计矢量文件，经处理好的设计文件上传到胶水干粒机中，在砖坯经过喷墨打印后，进入到胶水干粒机的位置，胶水干粒机将按照处理好的设计图案喷洒图案胶水。一些实施方式中，布施的数码胶水覆盖面积为80～85%。由于部分区域胶水灰度较大，因此胶水覆盖面积过大会影响到坯釉结合性，使得产品在烧成后釉层出现釉面剥落的现象。由于低温干粒的存在，在高温熔融时会发生流动现象，使得堆积量较大的区域会发生“扩大”现象，减少全面干粒覆盖，是为了保证高低衔接处形成片状的过渡。
胶水的材质没有特别限定，可以是本领域公知的胶水。喷胶水墨水量根据喷胶水图案设计灰度变化而不同，灰度范围可控制在25～75％。该胶水图案灰度控制在上述范围内，可以保证不同灰度胶水下形成的高度差，减少出现由于灰度过小，衔接处出现融平的现象可根据石材纹理变化调控图案灰度。胶水的施加量可为30～55g/m2。采用该胶水量可使粘结干粒量适中，数码打印机可达到且能够稳定喷印。本发明通过调整胶水打印灰度，使得在粘附有胶水位置出现不同灰度粘附不同量的干粒釉，从而形成起伏感的堆积效果。
接着在喷洒胶水后的坯体表面布施干粒釉。一些实施方式中，对于未能粘附的干粒釉会进行抽走回收，在回收过程中，多少都会造成污染，无法再次直接使用。在结合胶水灰度能实现最大有效粘附干粒釉的前提下，所述干粒釉的堆积量为264～426g/m2，随后利用回收抽风机抽走多余的干粒熔块。布施量在此范围内能有效减少干粒釉的损耗，降低生产成本。
所述干粒釉包括不同熔融温度的高温干粒和低温干粒组成的基础干粒。上述高温干粒的熔融温度为1210～1240℃，低温干粒的熔融温度1150～1178℃。一些实施方式中，高温干粒的熔融温度高于低温干粒60～65℃，在此温差范围内有效防止低温干粒过渡融平，降低釉面止滑效果。温差太小釉面质感会比较粗糙，失去柔和感；温差太大干粒堆积会失去梯度感，局部釉面还可能出现高光泽度。单独使用高温干粒堆积效果，在烧制后的产品不仅釉面质感粗糙，而且防污性能较差；虽然单独使用低温干粒能有效解决釉面防污、质感粗糙的问题，但是其釉面光泽度较高，无法满足产品的需求。
一些实施方式中，通过控制两者不同温度的干粒使用量，低温干粒：高温干粒的质量比为（4～5）:（6～5）。由于在布撒干粒以及抽风机在回收过程中，其衔接处会呈现出凹凸不平的状态，低温干粒过早熔融，在形成熔液状态下会产生一定的流动，因此会逐渐填充，促使区域扩张，过度扩张会使得不同干粒量堆积高度产生互相融入的现象，导致釉面过渡平整，失去高低不同的片状结构。这样的搭配不仅解决釉面防污问题，使得不同灰度之间的衔接处过程平缓，同时高温干粒会因为自身的重力形成一定的下陷，低温干粒熔融液能有效地将高温干粒颗粒部分包围住，使得高温干粒在釉面中呈现半球状的颗粒感。而高温干粒对于低温干粒熔融液造成一定的阻力，有效地保证了不同灰度间原有的高低起伏感。
一些实施方式中，高温干粒化学组成：IL（烧失）：0.20～0.70%、SiO2：46.00～48.00%、Al2O3：20.00～22.00%、CaO：14.00～15.00%、MgO：2.00～3.00%、K2O：2.00～4.00%、Na2O：2.00～3.50%、ZnO：4.00～5.00%、BaO：0.50～1.00%、SrO：1.00～1.50%。
一些实施方式中，低温干粒化学组成：IL（烧失）：0.50～0.70%、SiO2：50.00～54.00%、Al2O3：18.00～21.00%、CaO：10.00～12.00%、MgO：0.70～1.00%、K2O：4.00～5.00%、Na2O：3.00～4.00%、ZnO：4.00～5.00%、ZrO2：0.50～0.80%、BaO：0.10～0.50%。
为了使得干粒堆积效果比较自然，高低层次感过渡自然，要求高低温干粒颗粒级配一致。一些实施方式中中，干粒釉的颗粒级配为：80目以上：25%～29%，80～100目：30%～33%，100～150目：28%～32%，150～250目：9%～11%，250目以下：<0.5%。在此颗粒级配范围内有效降低干粒釉堆积量大的釉面出现的气孔，其高温熔融效果较好。
在一些天然石材中其断截面呈现的是不规则片状结构，具有磷片般光泽，为了使得釉面效果更加真实，一些实施方式中，所述干粒釉包括上述基础干粒和银色云母片。将基础干粒和银色云母片混合均匀即得干粒釉（即干粒熔块）。优选地，所述银色云母片占基础干粒的质量比为0.5～0.7%。在干粒釉中混入少量的银色云母片，更能体现出石材截面云母反光结构的效果，使得釉面效果更加接近天然石材质感。一些实施方式中，所述银色云母片的化学组成按质量百分比为：IL（烧失）：1.80～2.00%、SiO2：24.00～27.00%、Al2O3：56.00～58.00%、Fe2O3：1.80～2.50%、TiO2：0.23～0.54%、CaO：1.00～1.50%、MgO：0.80～1.30%、K2O：4.30～5.60%、Na2O：1.50～3.00%、BaO：0.34～1.20%、P2O5：1.00～2.50%、ZrO2：0.10～0.30%。
将布施有干粒釉的坯体干燥。可采用电窑烘干。
在干燥后的坯体表面施消光釉。布施消光釉的方式可为喷釉。由于釉层还有一些地方未撒上干粒，消光釉不仅达到填补釉面层设计层，保护设计涂层，同时也提高了未撒入干粒部分的防污、耐磨性能。一些实施方式中，消光釉的比重可为1.33～1.35，施釉量可为150～200 g/m2。
一些实施方式中，消光釉化学组成可包括：以质量百分比计，IL（烧失）：5.50～7.50%、SiO2：48.00～49.00%、Al2O3：22.00～23.00%、CaO：10.00～13.50%、MgO：1.50～2.00%、K2O：1.00～3.00%、Fe2O3：0.10～0.20%、Na2O：3.00～4.00%、ZnO：5.00～7.00%、ZrO2：0.00～0.15%、TiO2：0.10～0.20%。在消光釉中，主要以钙体系为主，通过在饱和状态下析出针状的晶体，使得光线在照射釉面过程中被折射掉大部分，从而使得具有较低的光泽度。而且Ca、Mg玻璃相在高温黏度较低，流动性能好，能促进釉面的平整度，改善釉面藏污、吸污的问题。但是同样易析晶，因此，为了取得较好的釉面效果，要求球磨细度在过完325目筛质量余量为0.6～0.9%。颗粒太细，则釉面太过于光滑、平整；颗粒太粗，则影响釉面透感。化学组成中Mg利于提高釉层弹性、抗热震性，Ca提高白度，Zn不仅提高釉面透感，还可以有助于釉面发色。
一些实施方式中，消光釉的原料配方可包括：高钙熔块70～72%，球土7～8%，氧化锌3～4%，方解石2～4%，煅烧高岭土13～15%。
将喷洒有消光釉的坯体干燥。例如可为电窑干燥。干燥窑温度控制在110℃～120℃，干燥后水分控制在0.5%以内。
将干燥后的坯体烧成。可为辊道窑低温快烧。烧成周期可为63～68min，最高烧成温度范围可为1178～1187℃。
最后，将烧成后的坯体抛光。可采用麻纤维模块抛光，这样在釉面轻微抛光，将釉面中刺手的颗粒扫掉。
本发明可将喷墨打印工艺和数码堆干粒釉模具工艺完美结合，利用干粒熔块微堆积实现模具效果，另外搭配高钙体系的低光泽度（3～6°）消光釉，使得整个釉面在不失去细腻手感的前提下，将石材的质感效果充分体现。一些实施方式中，烧制后陶瓷砖釉面颗粒之间堆积形成高度差为0.03～0.11mm，高度差在此范围上，在视觉效果上看到釉层彼此间有层次，高度起伏感，而且在触感上也比较柔和、细腻。
下面进一步例举实施例以详细说明本发明。同样应理解，以下实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文示例的具体数值。
实施例1
步骤1. 普通陶瓷基料压制砖坯。
步骤2. 干燥窑干燥，干燥时间1.1h，干燥坯水分控制在0.5%以内。
步骤3. 在干燥后的坯体上喷面釉，面釉比重1.44，施釉量500 g/m2；面釉的化学组成包括：以质量百分比计，IL（烧失）：4.31%、SiO2：50.42%、Al2O3：29.41%、Fe2O3：0.37%、TiO2：0.07%、CaO：0.71%、MgO：0.20%、K2O：5.62%、Na2O：2.58%、P2O5：0.26%、ZrO2：6.05%。
步骤4. 喷墨打印图案。
步骤5. 提取石材设计图案文件并进行矢量处理，形成具有梯度式灰度变化的胶水图案。所述胶水图案的梯度式灰度的变化范围为25%～75%；相衔接位置灰度值梯度之差的变化量为15%～25%。数码胶水机布施定位胶水，并依据所述胶水图案控制打印通道的胶水灰度值以使胶水呈现规定的梯度式灰度变化。数码胶水机喷撒定位胶水，胶水量42 g/m2。
步骤6. 布撒干粒釉300 g/m2，使得所述干粒釉在坯体上依据胶水图案梯度式灰度变化呈现规定的梯度式的厚度的有层次的堆积。所述干粒釉每个梯度的厚度变化范围为0.05～0.13mm。利用回收抽风机抽走多余的干粒熔块。所述干粒釉的颗粒级配为：80目以上：26%，80～100目：33%，100～150目：32%，150～250目：9%，250目以下：0%。
其中，所述干粒釉包括基础干粒和银色云母片。基础干粒由熔融温度1210℃的高温干粒以及熔融温度1178℃的低温干粒组成，低温干粒：高温干粒的质量比为5：5。银色云母片占基础干粒质量的0.5%。
上述高温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，IL（烧失）：0.23%、SiO2：47.78%、Al2O3：21.56%、CaO：14.58%、MgO：2.73%、K2O：3.89%、Na2O：2.67%、ZnO：4.77%、BaO：0.56%、SrO：1.23%。上述低温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，IL（烧失）：0.56%、SiO2：53.78%、Al2O3：19.96%、CaO：11.63%、MgO：0.78%、K2O：4.07%、Na2O：3.45%、ZnO：4.78%、ZrO2：0.56%、BaO：0.43%。上述云母片的化学组成按质量百分比包括：以质量百分比计，IL（烧失）：1.98%、SiO2：26.59%、Al2O3：57.15%、Fe2O3：2.42%、TiO2：0.48%、CaO：1.25%、MgO：1.17%、K2O：4.45%、Na2O：1.99%、BaO：0.70%、P2O5：1.56%、ZrO2：0.26%。
步骤7. 电窑烘干。
步骤8. 喷入消光釉，比重1.34，施釉量175 g/m2。消光釉的化学组成包括：以质量百分比计，IL（烧失）：5.61%、SiO2：48.09%、Al2O3：22.56%、CaO：11.89%、MgO：1.78%、K2O：1.34%、Fe2O3：0.12%、Na2O：3.07%、ZnO：5.28%、ZrO2：0.09%、TiO2：0.17%。
步骤9. 干燥，采用电窑干燥，干燥窑温度控制在115℃干燥后水分控制在0.5%以内。
步骤10. 辊道窑低温快烧，烧成周期66min，最高烧成温度范围：1182℃。
步骤11. 采用2组1500目的麻纤维模块，在釉面轻微抛光，将釉面中刺手的颗粒扫掉，压力为0.1Mpa。
本发明的仿石砖釉面呈现高低起伏效果，在整个釉面过渡与天然石材纹理相接近。烧制后陶瓷砖釉面颗粒之间堆积形成高度差为0.03～0.11mm。
实施例2
与实施例1不同之处在于：
步骤6. 布撒干粒釉350 g/m2，利用回收抽风机抽走多余的干粒熔块；所述干粒釉的颗粒级配为：80目以上：29%，80～100目：32%，100～150目：30%，150～250目：9%，250目以下：0%；基础干粒由熔融温度1240℃的高温干粒以及熔融温度1150℃的低温干粒组成，低温干粒：高温干粒的质量比为4：6。
步骤8. 喷入消光釉，比重1.35，施釉量150 g/m2。
步骤10. 辊道窑低温快烧，烧成周期68min，最高烧成温度范围：1187℃。
实施例3
与实施例1不同之处在于：
步骤6. 布撒干粒釉400 g/m2，利用回收抽风机抽走多余的干粒熔块。所述干粒釉的颗粒级配为：80目以上：26%，80～100目：32%，100～150目：31%，150～250目：11%，250以下：0%。
步骤8. 喷入消光釉，比重1.33，施釉量200 g/m2。
步骤10. 辊道窑低温快烧，烧成周期63min，最高烧成温度范围：1178℃。

Claims (10)

1.一种低光泽度、仿石材效果陶瓷砖的制备方法，其特征在于，在施釉工序中包括：
提取石材设计图案文件并进行矢量处理，形成具有梯度式灰度变化的胶水图案；
数码胶水机布施定位胶水，并依据所述胶水图案控制打印通道的胶水灰度值以使胶水呈现规定的梯度式灰度变化；
布施干粒釉，并使得所述干粒釉在坯体上依据胶水图案梯度式灰度变化呈现规定的梯度式的厚度的有层次的堆积。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述胶水图案的梯度式灰度的变化范围为25%～75%；相衔接位置灰度值梯度之差的变化量为15%～25%。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述干粒釉包括由熔融温度1150～1178℃的低温干粒以及熔融温度1210～1240℃的高温干粒组成的基础干粒，其中，所述低温干粒：高温干粒的质量比为（4～5）：（6～5）。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述干粒釉还包括占基础干粒质量0.5～0.7%的银色云母片。
5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述高温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，烧失：0.20～0.70%、SiO2：46.00～48.00%、Al2O3：20.00～22.00%、CaO：14.00～15.00%、MgO：2.00～3.00%、K2O：2.00～4.00%、Na2O：2.00～3.50%、ZnO：4.00～5.00%、BaO：0.50～1.00%、SrO：1.00～1.50%。
6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述低温干粒的化学组成包括：以质量百分比计，烧失：0.50～0.70%、SiO2：50.00～54.00%、Al2O3：18.00～21.00%、CaO：10.00～12.00%、MgO：0.70～1.00%、K2O：4.00～5.00%、Na2O：3.00～4.00%、ZnO：4.00～5.00%、ZrO2：0.50～0.80%、BaO：0.10～0.50%。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述干粒釉的颗粒级配为：80目以上：25%～29%，80～100目：30%～33%，100～150目：28%～32%，150～250目：9%～11%，250目以下：<0.5%。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述干粒釉每个梯度的厚度变化范围为0.05～0.13mm；所述干粒釉的堆积量为264～426g/m2。
9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述施釉工序还包括：在布施有干粒釉的坯体上布施消光釉。
10.权利要求1所述的低光泽度、仿石材效果陶瓷砖的制备方法获得的陶瓷砖，其特征在于，烧制后陶瓷砖釉面颗粒之间堆积形成高度差为0.03～0.11mm。
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111548016A (zh) * 2020-05-20 2020-08-18 蒙娜丽莎集团股份有限公司 用于薄型陶瓷砖的光泽度3度以下的无光保护釉、薄型陶瓷砖及其制备方法
CN112110719A (zh) * 2020-11-18 2020-12-22 广东欧文莱陶瓷有限公司 一种具有天然颗粒感的陶瓷砖及其制备方法
CN112225454A (zh) * 2020-09-30 2021-01-15 广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司 一种低光泽度高耐污染性复合釉、使用该复合釉的花岗岩瓷质砖及其制备方法
CN112456988A (zh) * 2020-12-01 2021-03-09 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种奢石釉砖的制备方法及其产品
CN113045340A (zh) * 2021-03-09 2021-06-29 江西金唯冠建材有限公司 一种干粒喷墨仿石砖及其制备方法
CN113480174A (zh) * 2021-07-27 2021-10-08 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种半亮光细腻质感干粒釉及其在陶瓷板中的应用
CN113799531A (zh) * 2021-10-21 2021-12-17 新明珠集团股份有限公司 一种精细凹凸面哑光瓷砖及其制备方法
CN114057397A (zh) * 2021-10-25 2022-02-18 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种细干粒岩板表面微光处理方法
CN114163225A (zh) * 2021-12-23 2022-03-11 广西蒙娜丽莎新材料有限公司 一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法
CN114230177A (zh) * 2021-12-30 2022-03-25 卡罗比亚(中国)高新材料有限公司 一种具有金属光泽的环保型颗粒状装饰材料的加工工艺
CN115196993A (zh) * 2022-07-13 2022-10-18 九江诺贝尔陶瓷有限公司 一种干粒及利用干粒的一次烧成双数码装饰炫彩岩板的生产方法
CN116161982A (zh) * 2023-01-13 2023-05-26 广东天弼陶瓷有限公司 一种抛釉洞石陶瓷薄板及其制备方法
CN116535095A (zh) * 2023-03-21 2023-08-04 广东道氏陶瓷材料有限公司 一种陶瓷用透明颗粒及其瓷砖
CN116535095B (zh) * 2023-03-21 2024-05-24 广东道氏陶瓷材料有限公司 一种陶瓷用透明颗粒及其瓷砖

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109665870A (zh) * 2018-12-05 2019-04-23 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种柔性模纹瓷质仿古砖及其制备方法
CN110282876A (zh) * 2019-06-20 2019-09-27 蒙娜丽莎集团股份有限公司 彩色干粒熔块、彩色干粒熔块装饰陶瓷砖及其制备方法
CN110759751A (zh) * 2019-12-13 2020-02-07 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种精雕纹理砖的制备方法及制备的精雕纹理砖
CN110862231A (zh) * 2019-11-26 2020-03-06 蒙娜丽莎集团股份有限公司 柔抛砖用干粒釉及其应用

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109665870A (zh) * 2018-12-05 2019-04-23 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种柔性模纹瓷质仿古砖及其制备方法
CN110282876A (zh) * 2019-06-20 2019-09-27 蒙娜丽莎集团股份有限公司 彩色干粒熔块、彩色干粒熔块装饰陶瓷砖及其制备方法
CN110862231A (zh) * 2019-11-26 2020-03-06 蒙娜丽莎集团股份有限公司 柔抛砖用干粒釉及其应用
CN110759751A (zh) * 2019-12-13 2020-02-07 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种精雕纹理砖的制备方法及制备的精雕纹理砖

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
杨元东: ""数码胶水干粒釉陶瓷砖的研究"", 《陶瓷》 *

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111548016B (zh) * 2020-05-20 2022-02-11 蒙娜丽莎集团股份有限公司 用于薄型陶瓷砖的光泽度3度以下的无光保护釉、薄型陶瓷砖及其制备方法
CN111548016A (zh) * 2020-05-20 2020-08-18 蒙娜丽莎集团股份有限公司 用于薄型陶瓷砖的光泽度3度以下的无光保护釉、薄型陶瓷砖及其制备方法
CN112225454A (zh) * 2020-09-30 2021-01-15 广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司 一种低光泽度高耐污染性复合釉、使用该复合釉的花岗岩瓷质砖及其制备方法
CN112110719A (zh) * 2020-11-18 2020-12-22 广东欧文莱陶瓷有限公司 一种具有天然颗粒感的陶瓷砖及其制备方法
CN112456988A (zh) * 2020-12-01 2021-03-09 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种奢石釉砖的制备方法及其产品
CN113045340A (zh) * 2021-03-09 2021-06-29 江西金唯冠建材有限公司 一种干粒喷墨仿石砖及其制备方法
CN113480174B (zh) * 2021-07-27 2022-12-16 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种半亮光细腻质感干粒釉及其在陶瓷板中的应用
CN113480174A (zh) * 2021-07-27 2021-10-08 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种半亮光细腻质感干粒釉及其在陶瓷板中的应用
CN113799531A (zh) * 2021-10-21 2021-12-17 新明珠集团股份有限公司 一种精细凹凸面哑光瓷砖及其制备方法
CN114057397A (zh) * 2021-10-25 2022-02-18 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种细干粒岩板表面微光处理方法
CN114057397B (zh) * 2021-10-25 2023-02-17 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种细干粒岩板表面微光处理方法
CN114163225A (zh) * 2021-12-23 2022-03-11 广西蒙娜丽莎新材料有限公司 一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法
CN114163225B (zh) * 2021-12-23 2023-03-10 广西蒙娜丽莎新材料有限公司 一种超亚光效果陶瓷砖的制备方法
CN114230177A (zh) * 2021-12-30 2022-03-25 卡罗比亚(中国)高新材料有限公司 一种具有金属光泽的环保型颗粒状装饰材料的加工工艺
CN115196993A (zh) * 2022-07-13 2022-10-18 九江诺贝尔陶瓷有限公司 一种干粒及利用干粒的一次烧成双数码装饰炫彩岩板的生产方法
CN116161982A (zh) * 2023-01-13 2023-05-26 广东天弼陶瓷有限公司 一种抛釉洞石陶瓷薄板及其制备方法
CN116535095A (zh) * 2023-03-21 2023-08-04 广东道氏陶瓷材料有限公司 一种陶瓷用透明颗粒及其瓷砖
CN116535095B (zh) * 2023-03-21 2024-05-24 广东道氏陶瓷材料有限公司 一种陶瓷用透明颗粒及其瓷砖

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