CN111077685A - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

本公开涉及一种显示装置，所述显示装置包括：基板，所述基板具有显示区域和非显示区域；和对准标记，所述对准标记设置在所述基板的所述非显示区域中。所述对准标记包括四边形形状的中心部分和围绕所述中心部分的多个测量部分，所述多个测量部分包括四个或更多个测量部分，并且每个所述测量部分包括与所述四边形形状的中心部分的两个边平行的边。

Description

显示装置
相关申请的交叉引用
本申请要求于2018年10月22日提交的第10-2018-0125943号韩国专利申请的优先权和权益，该专利申请为了所有目的通过引用合并于此，如同在本文中充分地阐述一样。
技术领域
本发明的示例性实施例一般性地涉及显示装置和制造所述显示装置的方法，更具体地，涉及包括可测量掩模的不对准的对准标记的显示装置和用于制造所述显示装置的方法。
背景技术
当前使用的平板显示器包括液晶显示器(LCD)、等离子体显示面板(PDP)、有机发光二极管(OLED)装置、场效应显示器(FED)以及电泳显示器(EPD)装置等。
在形成这种平板显示器的工艺期间，形成各种图案，并使用曝光装置来形成所述图案。曝光装置根据在图案掩模中形成的图案来曝光对象。
然而，随着显示装置扩大，由于图案掩模的尺寸受限，因此通过图案掩模一次曝光显示基板变得更困难。因此，使用了一种通过在显示装置上依次对准掩模来曝光显示装置的方法。
本背景技术部分中公开的以上信息仅用于对本发明构思的背景的理解，因此，所述信息可包含不构成现有技术的信息。
发明内容
本发明的示例性实施例提供了一种包括可测量掩模的不对准的对准标记的显示装置和一种用于制造所述显示装置的方法。
将在下面的描述中阐述本发明构思的附加特征，从所述描述中所述附加特征将部分地明显，或者可以通过本发明构思的实践习得所述附加特征。
本发明的示例性实施例提供一种显示装置，所述显示装置包括：基板，所述基板具有显示区域和非显示区域；和对准标记，所述对准标记设置在所述基板的所述非显示区域中。所述对准标记包括四边形形状的中心部分和围绕所述中心部分的多个测量部分，所述多个测量部分包括四个或更多个测量部分，并且每个所述测量部分包括与所述四边形形状的中心部分的两个边平行的边。
一个或多个对准标记可以设置在所述非显示区域的在第一方向上的1/4点和3/4点之间。
所述多个测量部分可以包括：第一测量部分，所述第一测量部分包括与所述四边形形状的中心部分的第一边和第四边平行的边，并且设置为与所述第一边和所述第四边相邻；第二测量部分，所述第二测量部分包括与所述四边形形状的中心部分的所述第一边和第二边平行的边，并且设置为与所述第一边和所述第二边相邻；第三测量部分，所述第三测量部分包括与所述四边形形状的中心部分的所述第二边和第三边平行的边，并且设置为与所述第二边和所述第三边相邻；以及第四测量部分，所述第四测量部分包括与所述四边形形状的中心部分的所述第三边和所述第四边平行的边，并且设置为与所述第三边和所述第四边相邻。
从在第二方向上的从所述中心部分至所述第一测量部分的距离减去在所述第二方向上的所述从中心部分至所述第三测量部分的距离所获得的值与从在所述第二方向上的从所述中心部分至所述第二测量部分的距离减去在所述第二方向上的从所述中心部分至所述第四测量部分的距离所获得的值之间的差可以是约-0.8μm至约0.8μm。
从在第一方向上的从所述中心部分至所述第一测量部分的距离减去在所述第一方向上的从所述中心部分至所述第三测量部分的距离所获得的值与从在所述第一方向上的从所述中心部分至所述第二测量部分的距离减去在所述第一方向上的从所述中心部分至所述第四测量部分的距离所获得的值之间的差可以是约-0.8μm至约0.8μm。
所述中心部分和所述测量部分可以包括不同的材料。
所述中心部分可以包括与所述显示区域中的栅极线相同的材料，并且所述测量部分可以包括与所述显示区域中的数据线相同的材料或与所述显示区域中的像素电极相同的材料。
所述中心部分可以包括与所述显示区域的数据线相同的材料，并且所述测量部分可以包括与所述显示区域的像素电极相同的材料。
所述显示装置还可以包括设置在所述非显示区域中的多个驱动器，其中所述对准标记可以设置在所述多个驱动器之间。
所述非显示区域可以包括在制造工艺期间两个或更多个掩模彼此重叠的区域，并且所述对准标记可以设置在掩模重叠区域中。
所述对准标记的水平长度可以是约15μm至约30μm。
所述对准标记的垂直长度可以是约15μm至约30μm。
本发明的另一示例性实施例提供：基板，所述基板具有显示区域和非显示区域；和对准标记，所述对准标记设置在所述基板的所述非显示区域中。所述对准标记包括四边形形状的中心部分和围绕所述中心部分的多个测量部分，一个或多个对准标记设置在所述非显示区域的在所述第一方向上的1/4点和3/4点之间，并且所述对准标记的所述中心部分和所述测量部分包括不同的材料。
所述测量部分可以包括：第一测量部分，所述第一测量部分以围绕所述四边形形状的中心部分的四边形环的形状形成；第二测量部分，所述第二测量部分以围绕所述第一测量部分的四边形环的形状形成。
所述测量部分可以包括：第二测量部分和第三测量部分，所述第二测量部分和所述第三测量部分设置在与所述四边形形状的中心部分的第一边平行的虚拟直线上，并且设置为彼此分离；第四测量部分和第五测量部分，所述第四测量部分和所述第五测量部分设置在与所述四边形形状的中心部分的第二边平行的虚拟直线上，并且设置为彼此分离；第六测量部分和第七测量部分，所述第六测量部分和所述第七测量部分设置在与所述四边形形状的中心部分的第三边平行的虚拟直线上，并且设置为彼此分离；以及第八测量部分和第一测量部分，所述第八测量部分和所述第一测量部分设置在与所述四边形形状的中心部分的第四边平行的虚拟直线上，并且设置为彼此分离。
所述测量部分可以包括：设置为与所述四边形形状的中心部分的第一边平行的第五测量部分和设置在所述第一边和所述第五测量部分之间的第一测量部分；设置为与所述四边形形状的中心部分的第二边平行的第六测量部分和设置在所述第二边和所述第六测量部分之间的第二测量部分；以及设置为与所述四边形形状的中心部分的第四边平行的第八测量部分和设置在所述第四边和所述第八测量部分之间的第四测量部分。
所述显示装置还可以包括设置在所述非显示区域中的多个驱动器，其中所述对准标记可以设置在所述多个驱动器之间。
所述非显示区域可以包括在制造工艺期间两个或更多个掩模彼此重叠的区域，并且所述对准标记可以设置在掩模重叠区域中。
所述中心部分可以包括与所述显示区域的栅极线或数据线相同的材料，并且所述测量部分可以包括与所述显示区域的所述数据线或所述显示区域的像素电极相同的材料。
本发明的另一示例性实施例提供了一种制造显示装置的方法，所述方法包括：准备具有显示区域和非显示区域的基板；通过与在所述显示区域中形成第一导电层的工艺相同的工艺同时形成设置在所述非显示区域中的中心部分；通过使用第一掩模在所述显示区域中形成第二导电层，并通过与形成所述第二导电层的工艺相同的工艺形成围绕所述中心部分的第一测量部分和第二测量部分；通过使用第二掩模在所述显示区域中形成第三导电层，并通过与形成所述第三导电层的工艺相同的工艺形成围绕所述中心部分的第三测量部分和第四测量部分。所述中心部分形成在所述第一掩模和所述第二掩模彼此重叠的区域中。
所述中心部分可以以四边形的形状形成，所述第一测量部分可以包括与所述四边形形状的中心部分的第一边和第二边平行的边，并且可以设置为与所述第一边和所述第二边相邻，所述第二测量部分可以包括与所述四边形形状的中心部分的所述第一边和第二边平行的边，并且可以设置为与所述第一边和所述第二边相邻，所述第三测量部分可以包括与所述四边形形状的中心部分的所述第二边和第三边平行的边，并且可以设置为与所述第二边和所述第三边相邻，并且所述第四测量部分可以包括与所述四边形形状的中心部分的所述第三边和所述第四边平行的边，并且可以设置为与所述第三边和所述第四边相邻。
所述中心部分和所述测量部分可以包括不同的材料。
所述中心部分可以包括与所述显示区域的栅极线或数据线相同的材料，并且所述测量部分可以包括与所述显示区域的数据线或像素电极相同的材料。
从在所述第二方向上的从所述中心部分至所述第一测量部分的距离减去在第二方向上的从所述中心部分至所述第三测量部分的距离所获得的值与从在所述第二方向上的从所述中心部分至所述第二测量部分的距离减去在所述第二方向上的从所述中心部分至所述第四测量部分的距离所获得的值之间的差可以是约-0.8μm至约0.8μm。
从在所述第一方向上的从所述中心部分到所述第一测量部分的距离减去在所述第一方向上的从所述中心部分至所述第三测量部分的距离所获得的值与从在所述第一方向上的从所述中心部分至所述第二测量部分的距离减去在所述第一方向上的从所述中心部分至所述第四测量部分的距离所获得的值之间的差可以是约-0.8μm至约0.8μm。
根据示例性实施例，可以提供一种包括可以测量掩模的不对准的对准标记的显示装置以及一种用于制造所述显示装置的方法。
将理解的是，前面的一般性描述和以下的详细描述两者均是示例性和说明性的，并且旨在提供对所要求保护的本发明的进一步说明。
附图说明
将附图包括以提供对本发明的进一步理解，并且将附图并入且构成本说明书的一部分，附图示出了本发明的示例性实施例，并且与描述一起用于说明本发明构思。
图1示意性地示出根据本发明的示例性实施例的显示装置。
图2示出在显示面板的制造工艺期间使用多个掩模的配置。
图3示出对准标记。
图4和图5示出当第一掩模和第二掩模不对准时对准标记的形状。
图6示出根据另一示例性实施例的对准标记。
图7示出根据本发明的另一示例性实施例的对准标记的形状。
图8示出根据本发明的另一示例性实施例的对准标记的形状。
图9示出对准标记的具体位置。
图10示出根据本发明的另一示例性实施例的对准标记的位置。
图11、图12、图13、图14和图15是根据本发明的示例性实施例的显示装置的制造工艺的剖视图。
图16、图17、图18、图19和图20示出根据本发明的示例性实施例的显示装置的制造工艺。
图21是根据示例性实施例的显示区域的像素布局图，并且图22是沿着线XXII-XXII截取的图21的显示装置的剖视图。
图23是根据本发明的示例性实施例的显示面板的剖视图。
具体实施方式
在下面的描述中，出于说明的目的，阐述了许多具体细节，以便提供对本发明的各种示例性实施例的透彻理解。如本文中所使用的，“实施例”是采用本文中公开的一种或多种发明构思的装置或方法的非限制性示例。然而，明显的是，可以在没有这些具体细节的情况下或在具有一个或多个等同布置的情况下实施各种示例性实施例。在其它情况下，以框图的形式示出了公知的结构和装置，以避免不必要地使各种示例性实施例模糊不清。此外，各种示例性实施例可以是不同的，但不必须是排他的。例如，在不脱离本发明构思的情况下，示例性实施例的具体形状、配置和特征可以在另一示例性实施例中使用或实施。
除非另有说明，否则所示的示例性实施例将理解为提供可在实践中实施本发明构思的某些方式的不同细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则在不脱离本发明构思的情况下，各种实施例的特征、部件、模块、层、膜、面板、区域和/或方面等(在下文中，单独地称为或总称为“元件”)可以另外组合、分离、互换和/或重新布置。
一般来说，提供在附图中的交叉影线和/或阴影的使用以使相邻元件之间的边界清楚。如此，除非说明，否则交叉影线或阴影的存在与否都不传达或表明对于具体材料、材料特性、尺寸、比例、图示元件之间的共性和/或元件的任何其他特征、属性、特性等的任何偏好或要求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述的目的，可以夸大元件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时，可以与所描述的顺序不同地执行具体工艺顺序。例如，两个连续描述的工艺可以基本上同时执行，或者可以以与所描述的顺序相反的顺序执行。此外，同样的附图标记表示同样的元件。
当元件(诸如层)被称为“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“耦接到”另一元件或层时，所述元件可以直接在所述另一元件或层上、直接连接到或直接耦接到所述另一元件或层，或者可存在中间元件或层。但是，当元件或层被称为“直接在”另一元件或层“上”“直接连接到”或“直接耦接到”另一元件或层时，不存在中间元件或层。为此，术语“连接”可以指在具有或不具有中间元件情况下的物理连接、电连接和/或流体连接。此外，D1轴、D2轴和D3轴不限于直角坐标系的三个轴(诸如x轴、y轴和z轴)，并且可以更广义地解释。例如，D1轴、D2轴和D3轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。为了本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个”和“从由X、Y和Z组成的组中选择的至少一个”可以被解释为仅X、仅Y、仅Z，或者X、Y和Z中的两个或更多个的任意组合，诸如，以XYZ、XYY、YZ和ZZ为例。如本文中所使用的，术语“和/或”包括一个或多个所列相关联的任意组合和所有组合。
虽然在本文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种类型的元件，但这些元件不应受这些术语所限制。这些术语用于将一个元件与另一元件区分开。因此，在不脱离本公开的教导的情况下，以下讨论的第一元件可以被称为第二元件。
为了描述目的，可以在本文中使用例如“在……下面”、“在……下方”、“在……之下”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高的”、“侧”(例如，如在“侧壁”中)等的空间相对术语，以便描述如附图中所示的一个元件与另一元件(多个元件)的关系。除了附图中所描绘的方位之外，空间相对术语还旨在包括设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果翻转附图中的设备，则描述为“在”其他元件或特征“下方”或“下面”的元件将随后被定向在其他元件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。此外，设备可以另外定向(例如，旋转90度或处于其他方位)，因此，相应地解释本文中使用的空间相对描述语。
本文中使用的术语用于描述具体实施例的目的，而非旨在限制。如本文中所使用的，除非上下文另外清楚地指明，否则单数形式“一种”、“一个”和“该/所述”旨在也包括复数形式。此外，术语“包括”在本说明书中使用时表明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组，但不排除存在或添加一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。还注意的是，如本文中所使用的，术语“基本上”、“约”和其他类似术语用作近似术语，而不用作程度术语，因此，所述术语被用来说明本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供值的固有偏差。
在本文中，参照作为理想化的示例性实施例和/或中间结构的示意图的剖视图和/或分解图来描述各种示例性实施例。因此，将预料到由于例如制造技术和/或公差导致的图示的形状的变化。因此，在本文中公开的示例性实施例不应当被必然解释为限于区域的具体示出形状，而是将包括由例如制造导致的形状的偏差。以此方式，附图中示出的区域实质上可以是示意性的，并且这些区域的形状可能不反映装置的区域的实际形状，因此，不必然旨在限制。
此外，在本说明书中，短语“在平面上”表示从顶部观察目标部分，并且短语“在剖面上”表示从侧面观察通过竖直地切割目标部分所形成的剖面。
除非另有定义，否则在本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员所通常理解的含义相同的含义。除非在本文中明确地如此定义，否则诸如在通用词典中定义的术语的术语应当被解释为具有与它们在相关领域的背景中的含义相一致的含义，而不应以理想化的或过于形式化的含义来解释。
在下文中，将参照附图描述根据本发明的示例性实施例的显示装置。
图1示意性地示出根据本发明的示例性实施例的显示装置。参照图1，根据本发明的示例性实施例的显示装置的显示面板1000包括显示区域DA和非显示区域NDA。显示区域DA是其中设有包括与晶体管连接的像素电极的多个像素以显示图像的区域，并且非显示区域NDA是其中设有驱动器等因而不显示图像的区域。参照图1，根据本发明的示例性实施例的显示装置包括一个或多个对准标记AM。
在图1中，对准标记AM被设置为在第二方向D2上靠近显示区域DA的相对边缘，但是这不是限制性的，并且对准标记AM可以仅设置在显示区域DA的一个边缘处。在图1中，两个对准标记AM设置在上部，并且两个对准标记AM设置在下部，同时在它们之间设置显示区域DA，但这仅是示例。可以根据用于在显示区域DA中形成一个层(例如，像素电极)的掩模的数量来改变对准标记AM的数量。当在显示区域DA中的一个层的制造中使用两个掩模时，可以定位一个或两个对准标记AM，这将在后面详细描述。另外，当使用三个掩模形成显示装置的一个层时，可以定位两个至四个对准标记AM。也就是说，当使用n个掩模来形成显示装置的一个层时，可以定位n-1至2×(n-1)个对准标记AM。对准标记AM可以定位于在显示区域DA的制造中掩模彼此重叠的区域中，这将在后面详细描述。稍后将更详细地描述对准标记AM的具体位置关系。
参照图1，对准标记AM包括四边形形状的中心部分700以及在围绕中心部分700的同时设置的多个测量部分。所述多个测量部分可以包括第一测量部分710a、第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d。
所述测量部分中的每个测量部分设置在距中心部分700的某距离处。中心部分700可以通过穿过四边形形状的中心部分700的中心的虚拟垂直线和虚拟水平线将对准标记AM划分成第一象限LA1、第二象限LA2、第三象限LA3和第四象限LA4。在这种情况下，第一测量部分710a可以设置在第一象限LA1中，第二测量部分710b可以设置在第二象限LA2中，第三测量部分710c可以设置在第三象限LA3中，并且第四测量部分710d可以设置在第四象限LA4中。
第一测量部分710a包括与四边形形状的中心部分700的两个边平行的边。即，第一测量部分710a包括与第一方向D1平行的边和与垂直于第一方向D1的第二方向D2平行的边。第一测量部分710a的与第一方向D1平行的边和第一测量部分710a的与第二方向D2平行的边可以在具有直角的拐角(corner)处相交。类似地，第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d每个包括相对于四边形形状的中心部分700与第一方向D1平行的边和与第二方向D2平行的边。
更具体地，第一测量部分710a包括与四边形形状的中心部分700的第一边和第四边平行的边，并且可以与中心部分700的第一边和第四边相邻地设置。第二测量部分710b包括与四边形形状的中心部分700的第一边和第二边平行的边，并且可以与中心部分700的第一边和第二边相邻地设置。第三测量部分710c包括与四边形形状的中心部分700的第二边和第三边平行的边，并且可以与中心部分700的第二边和第三边相邻地设置。第四测量部分710d包括与四边形形状的中心部分700的第三边和第四边平行的边，并且可以与中心部分700的第三边和第四边相邻地设置。
通过比较第一测量部分710a、第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d与中心部分700的四边形之间的距离，可以在制造工艺中确定掩模的对准。稍后将描述详细的对准确定方法。
在每个对准标记AM中，中心部分700和第一测量部分710a、第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d可以包括不同的材料。例如，中心部分700可以包括与显示区域DA的栅极线相同的材料，并且第一测量部分710a、第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d可以包括与显示区域DA的栅极线相同的材料。可替代地，中心部分700可以包括与显示区域DA的栅极线或数据线相同的材料，并且第一测量部分710a、第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d可以包括与显示区域DA的像素电极相同的材料。
即，中心部分700和第一测量部分710a、第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d形成在不同的阶段中，并且中心部分700可以形成得比第一测量部分710a、第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d早。
如所述地，可以在通过使用多个掩模形成显示区域DA的工艺期间，通过包括中心部分700和第一测量部分710a、第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d的对准标记AM来确定掩模的对准。因此，可以在制造工艺期间精确地测量和校正掩模的不对准。
图2示出其中在显示面板1000的制造工艺期间使用多个掩模的配置。在显示面板1000的显示区域DA大的情况下，难以形成利用单个掩模形成显示区域DA的层(例如，栅极线、数据线、像素电极等)。因此，可以通过将多个掩模依次施加到不同的区域来形成各个层。
如图2中所示，可以通过使用第一掩模A、第二掩模B和第三掩模C来图案化一个层。在这种情况下，形成其中各个掩模A、B和C重叠的区域。在图2中，由A+B和B+C标记的区域是其中掩模彼此重叠的区域，并且这些区域被不同的掩模图案化两次。
在这种情况下，当第一掩模A和第二掩模B在重叠区域(例如，A+B)中不对准时，可能在显示区域DA中发生结构的故障。即，通过第一掩模A和第二掩模B将重叠区域曝光两次，并且当第一掩模A和第二掩模B不对准时，在重叠区域中可能发生短路或者不能正常形成像素电极。
因此，在重叠区域中保持掩模的对准是重要的，为此，在每个掩模对准和图案化工艺中精确地测量不对准的程度是重要的。然而，不易于精确地测量掩模的不对准，并且不易于通过分析最终制造的显示面板的结构来确定掩模不对准的方向以及掩模不对准的程度。
然而，根据本示例性实施例的显示装置包括通过使用每个掩模的图案化工艺同时形成的对准标记AM，并且可以通过测量对准标记AM的中心部分700与第一测量部分710a、第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d之间的距离来精确地计算掩模的对准误差。
如图2中所示，因为对准标记AM的每个部分通过利用不同掩模的图案化工艺同时形成，所以对准标记AM设置在其中掩模彼此重叠的区域(例如，A+B、B+C)处。
图3仅示出对准标记AM。参照3，对准标记AM包括四边形形状的中心部分700和围绕中心部分700的第一测量部分710a、第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d。
第一测量部分710a和第三测量部分710c通过利用第一掩模A的显示区域DA的图案化工艺同时形成。另外，第二测量部分710b和第四测量部分710d通过利用第二掩模B的显示区域DA的图案化工艺同时形成。因此，将从第一测量部分710a至中心部分700的距离与从第三测量部分710c至中心部分700的距离之间的差和从第二测量部分710b至中心部分700的距离与从第四测量部分710d至中心部分700的距离之间的差进行比较，以精确地测量掩模的对准误差。
图3中所示的对准标记AM是其中未发生不对准的显示装置的对准标记AM。在这种情况下，通过从在第一方向D1上的从第一测量部分710a至中心部分700的距离②减去在第一方向D1上的从第三测量部分710c至中心部分700的距离
Figure BDA0002207900830000121
所获得的值与通过从在第一方向D1上的从第二测量部分710b至中心部分700的距离④减去在第一方向D1上的从第四测量部分710d至中心部分700的距离
Figure BDA0002207900830000122
所获得的值相同。
即，在图3中，
Figure BDA0002207900830000123
并且在这种情况下，可以确定第一掩模A和第二掩模B在第一方向D1上没有误差地对准。大体上，当
Figure BDA0002207900830000124
的值与
Figure BDA0002207900830000125
的值之间的差小于0.8μm时，认为掩模没有误差地对准。即，在根据本示例性实施例的显示装置中，对准标记AM的
Figure BDA0002207900830000126
的值与
Figure BDA0002207900830000127
Figure BDA0002207900830000128
的值之间的差可以是约-0.8μm至约0.8μm。
类似地，通过从在第二方向D2上的第一测量部分710a和中心部分700之间的距离①减去在第二方向D2上的第三测量部分710c和中心部分700之间的距离
Figure BDA0002207900830000129
所获得的值等于通过从在第二方向D2上的第二测量部分710b和中心部分700之间的距离③减去在第二方向D2上的第四测量部分710d和中心部分700之间的距离
Figure BDA00022079008300001210
所获得的值。
即，在图3中，
Figure BDA00022079008300001211
并且在这种情况下，确定第一掩模A和第二掩模B在第二方向D2上没有误差地对准。大体上，当
Figure BDA00022079008300001212
的值与
Figure BDA00022079008300001213
的值之间的差小于0.8μm时，确定未发生不对准。即，在根据本示例性实施例的显示装置中，
Figure BDA00022079008300001214
的值和
Figure BDA00022079008300001215
的值之间的差可以是-0.8μm至0.8μm。
因此，当
Figure BDA00022079008300001217
且
Figure BDA00022079008300001222
时，确定第一掩模A和第二掩模B在第一方向D1和第二方向D2上没有误差地对准。另外，即使当
Figure BDA00022079008300001218
的值与
Figure BDA00022079008300001221
的值之间的差是-0.8μm至0.8μm且
Figure BDA00022079008300001220
的值与
Figure BDA00022079008300001219
的值之间的差是-0.8μm至0.8μm时，仍确定第一掩模A和第二掩模B没有误差地对准。
在图3中，在第一方向D1上的对准标记AM的尺寸L1可以是15μm至30μm。另外，在第二方向D2上的对准标记AM的尺寸L2可以是15μm至30μm。
图4和图5示出了当第一掩模A和第二掩模B不对准时的对准标记AM的形状。
在图4中示出的对准标记AM中，
Figure BDA0002207900830000131
因此，确定用于形成第二测量部分710b和第四测量部分710d的第二掩模B在第二方向D2上不对准。另外，可以通过比较
Figure BDA0002207900830000133
的值和
Figure BDA0002207900830000132
的值来具体确定不对准的程度。
图5中所示的对准标记AM是
Figure BDA0002207900830000134
因此，确定用于形成第一测量部分710a和第三测量部分710c的第一掩模A在第一方向D1上不对准。具体而言，可以通过比较
Figure BDA0002207900830000136
的值和
Figure BDA0002207900830000135
的值来具体确定不对准的程度。
在图1至图5中，示出了四边形形状的中心部分700和L形状的第一测量部分710a、第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d，但是对准标记AM的形状不限于此。
测量部分可以具有任何形状，只要可测量图3中所示的相对于中心部分700的距离①、②、③、④、
Figure BDA0002207900830000138
和
Figure BDA0002207900830000137
即可。距离①、②、
Figure BDA0002207900830000139
和
Figure BDA00022079008300001310
是通过与第一掩模A相同的工艺形成的测量部分的每个部分与中心部分700之间的距离，并且距离③、④、
Figure BDA00022079008300001312
和
Figure BDA00022079008300001311
是通过与第二掩模B相同的工艺形成的测量部分的每个部分与中心部分700之间的距离。
例如，对准标记AM可以具有如图6中所示的形状。图6示出了根据另一示例性实施例的对准标记AM。参照图6，对准标记AM包括围绕四边形形状的中心部分700的第一测量部分711a、第二测量部分711b、第三测量部分711c、第四测量部分711d、第五测量部分711e、第六测量部分711f、第七测量部分711g和第八测量部分711h。第一测量部分711a、第二测量部分711b、第五测量部分711e和第六测量部分711f可以通过相同的工艺形成，诸如，通过第一掩模A的图案化工艺，并且第三测量部分711c、第四测量部分711d、第七测量部分711g和第八测量部分711h可以通过相同的工艺形成，诸如，通过第二掩模B的图案化工艺。
在这种情况下，类似于图3，可以通过比较
Figure BDA0002207900830000141
的值和
Figure BDA0002207900830000142
的值来确定在第一方向D1上的对准误差，并且可以通过比较
Figure BDA0002207900830000144
的值和
Figure BDA0002207900830000143
的值来确定在第二方向D2上的对准误差。
图7示出了根据本发明的另一示例性实施例的对准标记AM的形状。参照图7，根据本示例性实施例的对准标记AM包括中心部分700、围绕中心部分700的第一测量部分721以及围绕第一测量部分721的第二测量部分722。
第一测量部分721通过与通过第一掩模A的图案化工艺相同的工艺形成，并且第二测量部分722通过与通过第二掩模B的图案化工艺相同的工艺形成。在图7的示例性实施例中，类似于图3，可以通过比较
Figure BDA0002207900830000149
Figure BDA0002207900830000145
的值和
Figure BDA0002207900830000146
的值来确定在第一方向D1上的对准误差，并且可以通过比较
Figure BDA0002207900830000147
的值和
Figure BDA0002207900830000148
的值来确定在第二方向D2上的对准误差。
图8示出了根据本发明的另一示例性实施例的对准标记AM的形状。参照图8，根据本示例性实施例的对准标记AM包括中心部分700、围绕中心部分700的第一测量部分730a、第二测量部分730b、第三测量部分730c和第四测量部分730d。另外，对准标记AM包括围绕第一测量部分730a、第二测量部分730b、第三测量部分730c和第四测量部分730d的第五测量部分730e、第六测量部分730f、第七测量部分730g和第八测量部分730h。
在图8的示例性实施例中，类似于图3，可以通过比较
Figure BDA00022079008300001410
的值和
Figure BDA00022079008300001412
的值来确定在第一方向D1上的对准误差，并且可以通过比较
Figure BDA00022079008300001411
的值和
Figure BDA00022079008300001413
的值来确定在第二方向D2上的对准误差。
这样的对准标记AM可以设置在显示面板1000的非显示区域NDA中。具体而言，对准标记AM可以设置在非显示区域NDA的多个驱动器800之间。图9示出了对准标记AM的具体位置。
参照图9，多个驱动器800设置在非显示区域NDA中，并且布线以扇出形式从驱动器800拉伸，因此连接到显示区域DA。因此，如图9中所示，对准标记AM可以设置在多个驱动器800和与驱动器800连接的布线之间的空间中。
对准标记AM可以设置在其中用于制造显示区域DA的多个掩模彼此重叠的区域中。具体而言，一个或多个对准标记AM可以设置在非显示区域NDA中，所述一个或多个对准标记AM与显示区域DA的在第一方向D1上的宽度中的1/4点至3/4点相邻。这是因为当使用两个或更多个掩模时，掩模重叠区域定位在显示区域DA的在第一方向D1上的1/4点至3/4点处。在图9中，对准标记AM仅设置在显示区域DA的一侧，但是对准标记AM可以设置在相对侧，使得显示区域DA在所述相对侧之间。
另外，在图9中，每个掩模重叠区域仅设置一个对准标记AM，但是对准标记AM的数量不限于此。
在图9中，对准标记AM设置在显示面板1000中，但是对准标记AM可以设置在显示面板1000外部。图10示出了其中对准标记AM设置在显示面板1000外部的母基板2000。参照10，对准标记AM设置在其中制造多个显示面板1000的母基板2000中，并且可以不设置在显示面板1000上。在这种情况下，对准标记AM用于确定掩模的对准，然后通过切割工艺等去除对准标记AM。因此，对准标记AM可以不设置在最终的显示面板1000上。
接下来，将参照附图描述根据本发明的示例性实施例的制造显示装置的方法。图11至图15是根据本发明的示例性实施例的显示装置的制造工艺的剖视图。
首先，准备包括显示区域DA和非显示区域NDA的基板110。显示区域DA是晶体管、像素电极等所定位的区域。
参见图12，中心部分700形成在与显示区域DA相邻的非显示区域NDA中。在这种情况下，中心部分700可以通过与在显示区域DA中形成栅极线的工艺相同的工艺形成。因此，中心部分700可以包括与显示区域DA中的栅极线相同的材料。
其中形成中心部分700的区域是在随后的工艺中其中掩模彼此重叠的区域。因此，中心部分700的精确位置可以根据在制造显示面板1000的一个层的工艺中使用的掩模的数量而改变。具体而言，当在形成显示面板1000的一个层的工艺中使用两个掩模时，中心部分700可以定位在显示面板1000的在第一方向D1上的1/2点附近。另外，当在形成显示面板1000的一个层的工艺中使用三个掩模时，中心部分700可以分别定位在显示面板1000的在第一方向D1上的1/3点和2/3点附近。因此，当使用两个或更多个掩模时，一个或多个中心部分700可以定位在显示面板1000的在第一方向D1上的1/4点和3/4点之间。
接下来，参照图13，通过使用第一掩模A形成显示区域DA的一个层。在该阶段中形成的显示区域DA的层可以是包括数据线的导电层。可替代地，所述层可以是包括像素电极的电极层。在这种情况下，第一测量部分710a和第三测量部分710c一起形成在每个中心部分700的拐角处。第一测量部分710a和第三测量部分710c包括与通过使用第一掩模A在显示区域DA中图案化的层相同的材料。即，当通过使用第一掩模A在显示区域DA中图案化数据线时，第一测量部分710a和第三测量部分710c包括数据线材料，当通过使用第一掩模A在显示区域DA中图案化像素电极时，第一测量部分710a和第三测量部分710c包括像素电极材料。
图13示例性地示出了其中第一测量部分710a和第三测量部分710c是L形状的结构，但是本发明构思不被如此限制。第一测量部分710a和第三测量部分710c在距中心部分700具有恒定的距离的同时可以具有各种形状。
接下来，参照图14，通过使用第二掩模B在显示区域DA中形成一个层，并且同时形成第二测量部分710b和第四测量部分710d。在这种情况下，其中形成第二测量部分710b和第四测量部分710d的区域是其中第一掩模A和第二掩模B彼此重叠的区域。通过第二掩模B在显示区域DA中形成的层与通过第一掩模A形成的层相同。因此，第二测量部分710b和第四测量部分710d还包括与第一测量部分710a和第三测量部分710c相同的材料。参照图14，第二测量部分710b和第四测量部分710d可以形成在四边形形状的中心部分700的拐角之中的其中不形成第一测量部分710a和第三测量部分710c的拐角处。
接下来，参照图15，通过使用第三掩模C在显示区域DA中形成一个层，并且同时形成第一测量部分710a和第三测量部分710c。在这种情况下，通过第三掩模C形成的层与通过第一掩模A和第二掩模B形成的层相同。通过这样的工艺，形成包括中心部分700和第一测量部分710a、第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d的对准标记AM。
图11至图15示出了制造其中对准标记AM设置在显示面板1000的非显示区域NDA中的显示装置的工艺。参照图16至图20，将描述制造其中对准标记AM设置在显示面板1000外部的显示装置的工艺。图16至图20示出了根据示例性实施例的显示装置的制造工艺。
参照图16，准备其中设置有包括显示区域DA和非显示区域NDA的显示面板1000的母基板2000。为了便于描述，图16仅示出了一个显示面板1000，但是多个显示面板1000可以设置在母基板2000中。
接下来，参照图17，形成中心部分700。在这种情况下，中心部分700可以通过与在显示区域DA中形成栅极线的工艺相同的工艺形成。因此，中心部分700可以包括与显示区域DA中的栅极线相同的材料。
其中形成中心部分700的位置是其中掩模彼此重叠的区域。当在显示面板1000中使用两个或更多个掩模时，一个或多个中心部分700可以设置在显示面板1000的在第一方向D1上的1/4点和3/4点之间。
接下来，参照图18，通过使用第一掩模A在显示区域DA中形成一个层。在这种情况下形成的层可以是数据线或像素电极。在这种情况下，第一测量部分710a和第三测量部分710c一起形成在中心部分700的拐角处。第一测量部分710a和第三测量部分710c包括与通过使用第一掩模A在显示区域DA中图案化的层相同的材料。
接下来，参照图19，通过使用第二掩模B在显示区域DA中形成一个层，并且同时形成第二测量部分710b和第四测量部分710d。在这种情况下，其中形成第二测量部分710b和第四测量部分710d的区域是其中第一掩模A和第二掩模B彼此重叠的区域。第二测量部分710b和第四测量部分710d还包括与第一测量部分710a和第三测量部分710c相同的材料。参照图19，第二测量部分710b和第四测量部分710d可以形成在四边形形状的中心部分700的拐角之中的其中没有形成第一测量部分710a和第三测量部分710c的区域中。
接下来，参照图20，通过使用第三掩模C在显示区域DA中形成一个层，并且同时形成第一测量部分710a和第三测量部分710c。在这种情况下，通过第三掩模C形成的层还与通过第一掩模A和第二掩模B形成的层相同。通过这样的工艺，形成包括中心部分700和第一测量部分710a、第二测量部分710b、第三测量部分710c和第四测量部分710d的对准标记AM。
接下来，可以通过在母基板2000中切割显示面板1000来形成显示装置。因此，对准标记AM不设置在最终制造的显示面板1000中。即，可以仅在制造工艺期间设置对准标记AM。
在图11至图15和图16至图20中，在制造工艺中使用三个掩模，但是即使掩模的数量改变，仍可以通过相同的工艺形成对准标记AM。即，对准标记AM的数量根据掩模的数量而改变，并且具体的形成原理与参照图11至图15和图16至图20描述的形成原理相同。另外，在图11至图15和图16至图20中，使用其中对准标记AM具有与图1中示出的对准标记AM相同的形状的结构的示例来描述制造工艺，但是即使当对准标记AM具有图6至图8中所示的形状时，对准标记AM仍可以通过与图11至图15和图16至图20中示出的工艺类似的工艺制造。即，形成每个对准标记的测量部分的一部分通过与第一掩模的工艺相同的工艺形成，并且另一部分可以通过与第二掩模的工艺相同的工艺形成。
接下来，将参照附图详细描述显示装置中的显示面板的像素。
图21是根据示例性实施例的显示区域的像素布局图，并且图22是沿着线XXII-XXII截取的图21的显示装置的剖视图。
参照图21和图22，显示面板包括第一基板100、与第一基板100重叠的第二基板200以及设置在第一基板100和第二基板200之间并包括液晶分子31的液晶层3。
首先，将描述第一基板100。包括栅极线121和栅电极124的栅极导体设置在由透明玻璃或塑料制成的第一基体基板110的一侧上。
栅极线121可以在第一方向D1上延伸。栅极导体可以包括各种金属或导体，并且可以以多层结构形成。栅极绝缘层140设置在栅极导体和液晶层3之间。栅极绝缘层140可以包括无机绝缘材料。
半导体层154设置在栅极绝缘层140的一侧上。
数据线171设置在半导体层154和液晶层3之间，并且在第二方向D2上延伸，因此数据线171与栅极线121交叉。源电极173从数据线171延伸，因此可以与栅电极124重叠。漏电极175与数据线171分离，如图21中所示，漏电极175可以以朝向源电极173的中心延伸的条形形状形成。
在源电极173和漏电极175之间的区域中，半导体层154的一部分可以不与数据线171和漏电极175重叠。除了这种不重叠的部分之外，半导体层154可以具有与数据线171和漏电极175基本相同的平面形状。
一个栅电极124、一个源电极173和一个漏电极175与半导体层154一起形成一个薄膜晶体管，并且薄膜晶体管的沟道是用于源电极173和漏电极175之间的半导体层154的区域。
钝化层180设置在源电极173和漏电极175与液晶层3之间。钝化层180可以包括诸如氮化硅或氧化硅的无机绝缘材料、有机绝缘材料、低介电常数绝缘材料等。
钝化层180包括与漏电极175的一部分重叠的接触孔185。
第一电极191设置在钝化层180和液晶层3之间。第一电极191通过接触孔185与漏电极175物理连接和电连接，并从漏电极175接收数据电压。第一电极191可以是像素电极。
第二基板200包括第二基体基板210、光阻挡构件220、滤色器230、平坦化层250和第二电极270。
光阻挡构件220和滤色器230设置在第二基体基板210中。光阻挡构件220可以在与数据线171重叠的同时在第二方向D2上延伸。尽管未示出，但是光阻挡构件220还可以包括水平部分，所述水平部分在与栅极线121重叠的同时在第一方向D1上延伸。然而，可以省略光阻挡构件220。
接下来，设置覆盖光阻挡构件220和滤色器230的平坦化层250。根据示例性实施例，可以省略平坦化层250。在与平坦化层250重叠的同时设置第二电极270。第二电极270可以是公共电极。
在上文中，已经将显示区域DA示例性地描述为液晶显示器(LCD)，但是显示区域DA可以是包括有机发光元件的显示装置。
图23是根据本发明的示例性实施例的显示面板的剖视图。参照图23，在第一基体基板110上设置由氧化硅或氮化硅制成的缓冲层111。
将半导体层154设置在缓冲层111上。半导体层154包括源区153、漏区155和沟道区151。源区153和漏区155掺杂有p型杂质，并且沟道区151设置在源区153和漏区155之间。
栅极绝缘层140设置在半导体层154和缓冲层111上，并且可以包括氧化硅或氮化硅。栅电极124在与半导体层154的沟道区151重叠的同时设置在栅极绝缘层140上。
层间绝缘层160设置在栅电极124和栅极绝缘层140上。层间绝缘层160包括第一接触孔165和第二接触孔163。
包括数据线171、源电极173和漏电极175的数据导体设置在层间绝缘层160上。
漏电极175通过第一接触孔165与漏区155连接。另外，源电极173通过第二接触孔163与源区153连接。
钝化层180设置在数据线171、源电极173和漏电极175以及层间绝缘层160上，并且包括接触孔185。
第一电极191设置在钝化层180上。第一电极191可以是像素电极。第一电极191通过接触孔185与漏电极175连接。隔壁361设置在钝化层180上。在与第一电极191重叠的同时设置发光元件层370，并且第二电极270设置为与发光元件层370重叠。第二电极270可以是公共电极。
在这种情况下，第一电极191可以是作为空穴注入电极的阳极，并且第二电极270可以是作为电子注入电极的阴极。然而，本发明构思不被如此限制，根据显示装置的驱动方法，第一电极191可以是阴极，并且第二电极270可以是阳极。
发光元件层370可以包括发射层、电子传输层和空穴传输层。
在与第二电极270重叠的同时设置封装层390。封装层390可以包括有机材料或无机材料，并且有机材料和无机材料可以交替地堆叠。封装层390可以保护显示装置免受外部湿气、热量和其他污染物的影响。
尽管在本文中已描述了某些示例性实施例和实施方式，但是从该描述中，其他实施例和修改将是明显的。因此，本发明构思不限于这些实施例，而是限于本公开的更宽的范围以及如将对于本领域普通技术人员明显的各种明显的修改和等同布置。

Claims (10)

1.一种显示装置，其中，所述显示装置包括：
基板，所述基板具有显示区域和非显示区域；和
对准标记，所述对准标记设置在所述基板的所述非显示区域中，
其中：
所述对准标记包括四边形形状的中心部分和围绕所述中心部分的多个测量部分；
所述多个测量部分包括四个或更多个测量部分；以及
每个所述测量部分包括与所述四边形形状的中心部分的两个边平行的边。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，一个或多个对准标记设置在所述非显示区域的在第一方向上的1/4点和3/4点之间。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个测量部分包括：
第一测量部分，所述第一测量部分包括与所述四边形形状的中心部分的第一边和第四边平行的边，并且设置为与所述第一边和所述第四边相邻；
第二测量部分，所述第二测量部分包括与所述四边形形状的中心部分的所述第一边和第二边平行的边，并且设置为与所述第一边和所述第二边相邻；
第三测量部分，所述第三测量部分包括与所述四边形形状的中心部分的所述第二边和第三边平行的边，并且设置为与所述第二边和所述第三边相邻；以及
第四测量部分，所述第四测量部分包括与所述四边形形状的中心部分的所述第三边和所述第四边平行的边，并且设置为与所述第三边和所述第四边相邻。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，从在第二方向上的从所述中心部分至所述第一测量部分的距离减去在所述第二方向上的从所述中心部分至所述第三测量部分的距离所获得的值与从在所述第二方向上的从所述中心部分至所述第二测量部分的距离减去在所述第二方向上的从所述中心部分至所述第四测量部分的距离所获得的值之间的差是-0.8μm至0.8μm。
5.根据权利要求3所述的显示装置，其中，从在第一方向上的从所述中心部分至所述第一测量部分的距离减去在所述第一方向上的从所述中心部分至所述第三测量部分的距离所获得的值与从在所述第一方向上的从所述中心部分至所述第二测量部分的距离减去在所述第一方向上的从所述中心部分至所述第四测量部分的距离所获得的值之间的差是-0.8μm至0.8μm。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述中心部分和所述测量部分包括不同的材料。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述中心部分包括与所述显示区域中的栅极线相同的材料；以及
所述测量部分包括与所述显示区域中的数据线相同的材料或与所述显示区域中的像素电极相同的材料。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述中心部分包括与所述显示区域的数据线相同的材料；以及
所述测量部分包括与所述显示区域的像素电极相同的材料。
9.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括设置在所述非显示区域中的多个驱动器，
其中所述对准标记设置在所述多个驱动器之间。
10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述非显示区域包括在制造工艺期间两个或更多个掩模彼此重叠的区域，以及
所述对准标记设置在掩模重叠区域中。
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