CN111050929A

CN111050929A - 层叠体及其制造方法

Info

Publication number: CN111050929A
Application number: CN201880055998.1A
Authority: CN
Inventors: 石关健二
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2017-08-28
Filing date: 2018-08-13
Publication date: 2020-04-21
Anticipated expiration: 2038-08-13
Also published as: WO2019044481A1; JPWO2019044481A1; TW201912415A; US11440304B2; JP7010294B2; US20200164625A1; CN111050929B; KR20200046013A

Abstract

提供具有水滚落角小的表面层的层叠体。一种层叠体，其特征在于，具有：基材、设置于基材上的中间层、和设置于上述中间层上的表面层，上述中间层为使用三嗪化合物形成的层，所述三嗪化合物具有：M‑OH基及能生成上述M‑OH基的基团(式中，M表示金属原子或硅原子。)中的至少一者、氨基及巯基中的至少一者、以及三嗪环，上述表面层为使用含氟醚化合物而形成的层，所述含氟醚化合物具有聚(氧全氟亚烷基)链，且具有键合于硅原子的水解性基团及键合于硅原子的羟基中的至少一者。

Description

层叠体及其制造方法

技术领域

本发明涉及层叠体及其制造方法。

背景技术

含氟化合物由于显示高的润滑性、拒水拒油性等，因此适合用于表面处理剂。若通过表面处理剂对基材的表面赋予拒水拒油性，则变得容易擦拭基材的表面的污迹，污迹的去除性提高。上述含氟化合物中，具有在全氟亚烷基链的途中存在醚键(-O-)的聚(氧全氟亚烷基)链的含氟醚化合物为柔软性优异的化合物，油脂等污迹的去除性特别优异。

近年来，正在尝试上述含氟醚化合物对各种各样的基材的应用，专利文献1中公开了具有使用上述含氟醚化合物而形成的表面层的蓝宝石基材。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-060792号公报

发明内容

发明要解决的问题

近年来，要求使用表面处理剂而得到的表面层的指纹擦拭性的进一步的提高。

以往以来，为了提高指纹擦拭性，认为如使用上述含氟醚化合物而形成的表面层那样形成水接触角大的表面层为宜。但是发现了，使用专利文献1中记载的含氟醚化合物在基材的表面形成表面层后，指纹擦拭性有改善的余地。

本发明人针对这样的问题进行了研究，结果发现有如下情形：即使表面层的水接触角大，如果水的滚落角(以下，也称为“水滚落角”。)大，则指纹擦拭性也会变得不充分。

本发明鉴于上述问题，其目的在于，提供具有水滚落角小的表面层的层叠体及其制造方法。

用于解决问题的方案

本发明提供具有下述[1]～[10]的构成的层叠体、及具有下述[11]～[14]的构成的层叠体的制造方法。

[1]一种层叠体，其特征在于，具有：基材、设置于基材上的中间层、和设置于前述中间层上的表面层，

前述中间层为使用三嗪化合物而形成的层，所述三嗪化合物具有：M-OH基及能生成前述M-OH基的基团(式中，M表示金属原子或硅原子。)中的至少一者、氨基及巯基中的至少一者、以及三嗪环

前述表面层为使用含氟醚化合物而形成的层，所述含氟醚化合物具有聚(氧全氟亚烷基)链，且具有键合于硅原子的水解性基团以及键合于硅原子的羟基中的至少一者。

[2]根据[1]所述的层叠体，其中，前述三嗪化合物具有能生成M-OH基的基团，该能生成M-OH基的基团为水解性甲硅烷基。

[3]根据[1]或[2]所述的层叠体，其中，前述三嗪化合物具有氨基。

[4]根据[3]所述的层叠体，其中，前述三嗪化合物为下式TN-1或下式TN-2所示的化合物。

A^N1为-N(R^N1)-R^N2-Si(R^N3)_Nn(OR^N4)_3-Nn或-N{R^N2-Si(R^N3)_Nn(OR^N4)_3-Nn}₂。

A^N2为-N(R^N5)-R^N6(NH₂)_Nm或-N{R^N6(NH₂)_Nm}₂。

A^N3为前述A^N1、前述A^N2或-N(R^N7)-R^N8。

A^N4为2价的连接基团。

R^N1、R^N5及R^N7各自独立地为氢原子或1价的烃基。

R^N2为2价的连接基团。

R^N3及R^N8各自独立地为1价的烃基。

R^N4为氢原子或1价的烃基。

R^N6为(Nm+1)价的连接基团。

Nn为0～2的整数，Nm为1或2。

[5]根据[1]或[2]所述的层叠体，其中，前述三嗪化合物具有巯基。

[6]根据[5]所述的层叠体，其中，前述三嗪化合物为下式TS所示的化合物。

A^S为-N(R^S4)-R^S1-Si(R^S2)_Sn(OR^S3)_3-Sn或-N{R^S1-Si(R^S2)_Sn(OR^S3)_3-Sn}₂。

R^S1为单键或2价的连接基团。

R^S2为1价的烃基。

R^S3及R^S4各自独立地为氢原子或1价的烃基。

M^S1为氢原子或碱金属原子。

Sn为0～2的整数。

[7]根据[1]～[6]中任一项所述的层叠体，其中，前述含氟醚化合物由下式1表示。

[A-O-Z¹-(R^fO)_m-]_jZ²[-SiR_nL_3-n]_q 式1

A为全氟烷基或-Q[-SiR_nL_3-n]_k。

Q为(k+1)价的连接基团。

k为1～10的整数。

R为1价的烃基。

L为水解性基团或羟基。

n为0～2的整数。

Z¹为单键、1个以上的氢原子被氟原子取代的碳数1～20的氧氟亚烷基或1个以上的氢原子被氟原子取代的碳数1～20的聚(氧氟亚烷基)。

R^f为全氟亚烷基。

m为2～200的整数，

Z²为(j+q)价的连接基团。

j及q各自独立地为1以上的整数。

[8]根据[7]所述的层叠体，其中，前述A为全氟烷基。

[9]根据[1]～[8]中任一项所述的层叠体，其中，前述基材在前述中间层侧的最表面具有蓝宝石层、金属层、金属氧化物层、类金刚石碳层或树脂层。

[10]根据[1]～[9]中任一项所述的层叠体，其中，前述层叠体用于电子设备用物品、运输设备用物品、精密设备用物品、光学设备用物品或建筑用物品。

[11]一种层叠体的制造方法，其特征在于，所述层叠体具有：基材、设置于基材上的中间层、和设置于前述中间层上的表面层，

该方法中，使用三嗪化合物通过干涂法或湿涂法在基材上形成前述中间层，所述三嗪化合物具有：M-OH基及能生成前述M-OH基的基团(式中，M表示金属原子或硅原子。)中的至少一者、氨基及巯基中的至少一者、以及三嗪环；接着，

使用含氟醚化合物通过干涂法或湿涂法在前述中间层上形成前述表面层，所述含氟醚化合物具有聚(氧全氟亚烷基)链，且具有键合于硅原子的水解性基团以及键合于硅原子的羟基中的至少一者。

[12]根据[11]所述的制造方法，其中，前述干涂法为真空蒸镀法。

[13]根据[11]所述的制造方法，其中，基于前述湿涂法的中间层的形成方法为如下方法：使用包含前述三嗪化合物及液体介质的组合物，将该组合物涂布于前述基材上，从所形成的包含液体介质的涂膜中将前述液体介质去除而形成中间层，

基于前述湿涂法的表面层的形成方法为如下方法：使用包含前述含氟醚化合物及液体介质的组合物，将该组合物涂布于前述中间层上，从所形成的包含液体介质的涂膜中将前述液体介质去除而形成表面层。

[14]根据[11]～[13]中任一项所述的制造方法，其中，前述三嗪化合物为具有水解性甲硅烷基及三嗪环、且具有氨基或巯基的三嗪化合物。

发明的效果

根据本发明，可以提供具有水滚落角小的表面层的层叠体。

具体实施方式

本说明书中，将式1所示的化合物记为化合物1。其他式所示的化合物也同样地记载。将式1所示的基团记为基团1。其他式所示的基团也同样地记载。

本说明书中，“亚烷基可以具有A基”、“可以具有A基的亚烷基”是指，可以在亚烷基中的碳原子-碳原子间具有A基，也可以如亚烷基-A基-那样在末端具有A基。

本发明中的用语的意味如下。

“醚性氧原子”是指在碳原子-碳原子间形成醚键(-O-)的氧原子。

“2价的有机聚硅氧烷残基”为下式所示的基团。下式中的R^a为烷基(优选碳数1～10)、或苯基。另外，g1为1以上的整数，优选1～9的整数，特别优选1～4的整数。

“硅亚苯基骨架基”为-Si(R^b)₂PhSi(R^b)₂-(其中，Ph为亚苯基，R^b为1价的有机基团。)所示的基团。作为R^b，优选烷基(优选碳数1～10)。

“二烷基亚甲硅烷基”为-Si(R^c)₂-(其中，R^c为烷基(优选碳数1～10)。)所示的基团。

“表面层”是指在基材的表面形成的层。

对于含氟醚化合物的“数均分子量”，使用NMR分析法，通过下述的方法来算出。

通过¹H-NMR及¹⁹F-NMR，以末端基团为基准，求出氧全氟亚烷基的数(平均值)，由此算出。

本发明的层叠体具有：基材、设置于基材上的中间层、和设置于上述中间层上的表面层，上述中间层为使用三嗪化合物(以下，也称为“特定三嗪化合物”。)而形成的层，所述三嗪化合物具有：M-OH基及能生成上述M-OH基的基团中的至少一者、氨基及巯基中的至少一者、以及三嗪环，上述表面层为使用含氟醚化合物而形成的层，所述含氟醚化合物具有聚(氧全氟亚烷基)链，且具有键合于硅原子的水解性基团以及键合于硅原子的羟基中的至少一者。

本发明的层叠体具有水滚落角小的表面层。该理由的详细情况尚不明确，推测大致是基于以下的理由。

为了提高指纹擦拭性，已知有在基材的表面形成使用含氟醚化合物而形成的表面层、从而增大水接触角的方法。但是，本发明人发现有如下情形：即使使用水接触角大的表面层，指纹擦拭性也会不充分。

本发明人对该问题进行了研究，结果发现：如果表面层的水滚落角减小，则指纹擦拭性会提高。

即，通常认为：水滚落角与水接触角具有一定的相关关系，具体而言，如果水接触角变大，则水滚落角会变小。但是，未必满足这样的关系，有时即使水接触角变大，水滚落角也会变大。作为该理由，推测是因为含氟醚化合物中包含的聚(氧全氟亚烷基)链未被充分导入到基材上。

因此，本发明人发现：在基材上形成使用了特定的三嗪化合物的中间层、在中间层上形成使用含氟醚化合物而得到的表面层，结果表面层的水滚落角变小。作为该理由，推测是因为聚(氧全氟亚烷基)链被良好地导入至层叠体的表面。其结果，认为可得到指纹擦拭性优异的层叠体。

〔基材〕

基材只要为要求赋予拒水拒油性的基材，就没有特别限定。

基材优选在中间层侧的最表面具有蓝宝石层、金属层、金属氧化物层、类金刚石碳层、树脂层、玻璃层、陶瓷层、包含石材的层或由它们的复合材料形成的层。这些之中，从更显著地表现本发明的效果的方面出发，优选蓝宝石层、金属层、金属氧化物层、类金刚石碳层或树脂层。

基材可以仅由上述层构成，也可以由包含位于最表面的上述层的多个层构成。

蓝宝石层可以为仅由蓝宝石形成的层，也可以为包含蓝宝石和除蓝宝石以外的成分(例如SiO₂)的层。

作为构成金属层的材料的具体例，可列举出铁、不锈钢(SUS)、铝、铬、铜、锌、钛及它们的合金(黄铜等)。

作为构成金属氧化物层的材料的具体例，可列举出上述金属的氧化物。

类金刚石碳层是指具有如下无定形结构的膜，所述无定形结构中，金刚石键(基于碳之间的sp³杂化轨道的键)与石墨键(基于碳之间的sp²杂化轨道的键)这两种键混合存在。类金刚石碳可以包含除碳原子以外的原子(例如，氢原子、氧原子、硅原子、氮原子、铝原子、硼原子、磷原子)。

作为构成树脂层的材料的具体例，可列举出聚酯树脂(例如，聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯)、聚烯烃树脂(例如，聚乙烯、聚丙烯)、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙酸乙烯酯树脂、降冰片烯树脂、丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯树脂、聚丙烯酸酯树脂、丙烯酸类氨基甲酸酯树脂、氯乙烯树脂、偏氯乙烯树脂、氟树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯基缩丁醛树脂、聚乙烯醇树脂、聚甲基丙烯酰亚胺树脂、聚苯乙烯树脂、ABS树脂、MS(甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯)树脂、环氧树脂。其中，优选丙烯酸类树脂或甲基丙烯酸类树脂。

树脂层优选使包含上述树脂的固化型树脂组合物(优选活性能量射线固化型树脂组合物)固化而成的硬涂层。此处，本说明书中的硬涂层是指，在JIS K 7204中规定的Taber摩耗试验中，以500g的载荷旋转100次后的雾度(haze)变化为30％以下的树脂层。

从进一步提高基材与中间层的密合性的方面出发，可以对基材的表面实施活性化处理(例如，干式的活性化处理、湿式的活性化处理)。

作为干式的活性化处理的具体例，可列举出对基材的表面照射活性能量射线(例如，紫外线、电子射线、X射线)的处理、电晕放电处理、真空等离子体处理、常压等离子体处理、火焰处理、ITRO处理。

作为湿式的活性化处理的具体例，可列举出使表面层与酸或碱溶液接触的处理。

上述活性化处理中，从进一步提高基材与中间层的密合性的方面出发，优选电晕放电处理。

〔中间层〕

中间层为使用特定三嗪化合物形成的层，对多种多样的基材的密合性优异。

该理由的详细情况不明确，但推测为：特定三嗪化合物如后述那样具有M-OH基及能生成上述M-OH基的基团中的至少一者、且具有氨基及巯基中的至少一者，通过这些基团的作用，发挥上述效果。

特定三嗪化合物可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

中间层可以包含除三嗪化合物的以外的成分。

中间层的膜厚优选为特定三嗪化合物的单分子厚。具体而言，中间层的膜厚优选1～20nm、特别优选3～10nm。中间层的膜厚为上述范围内时，中间层与表面层的密合性优异，另外，能够进一步减小表面层的水滚落角。

对于中间层的膜厚，可以使用薄膜解析用X射线折射计(ATX-G：制品名、RIGAKU公司制)，通过X射线反射率法得到反射X射线的干渉图案，由该干渉图案的振动周期算出。

(特定三嗪化合物)

作为M，优选Si、Al或Ti，特别优选Si。

作为能生成M-OH基的基团，例如，可列举出具有键合于M的水解性基团的基团，优选水解性甲硅烷基。

特定三嗪化合物中的水解性甲硅烷基为具有键合于硅原子的水解性基团的基团，作为水解性基团，可列举出烷氧基、卤素原子、酰基、酰基氧基、异氰酸酯基(-NCO)等。作为烷氧基，优选碳数1～6的烷氧基。作为卤素原子，优选氯原子。

作为水解性基团，从工业上的制造容易的方面出发，优选碳数1～6的烷氧基或卤素原子。作为水解性基团，从中间层形成时的排气少、化合物的保存稳定性更优异的方面出发，优选碳数1～6的烷氧基，需要化合物的长期的保存稳定性的情况下，特别优选乙氧基，将中间层形成时的反应时间设为短时间的情况下，特别优选甲氧基。

特定三嗪化合物中的水解性甲硅烷基优选借助2价的连接基团与键合于三嗪环的碳原子的氮原子键合。作为2价的连接基团，优选2价的烃基。对于键合于三嗪环的碳原子的氮原子，可以借助2价的连接基团键合有1个水解性甲硅烷基，也可以借助2价的连接基团分别键合有2个水解性甲硅烷基。

需要说明的是，特定三嗪化合物中的水解性甲硅烷基在后述式TN-1及下式TN-2所示的化合物中为-Si(R^N3)_Nn(OR^N4)_3-Nn所示的基团(其中，R^N4为1价的烃基。)，在后述式TS所示的化合物中为-Si(R^S2)_Sn(OR^S3)_3-Sn所示的基团(其中，R^S3为1价的烃基。)。如上所述那样，对于作为R^N4的1价的烃基及作为R^S3的1价的烃基，各自独立地优选碳数1～6的烷基。

特定三嗪化合物中，优选氨基及巯基直接或借助连接基团键合于构成三嗪环的碳原子。特定三嗪化合物具有氨基的情况下，氨基优选借助连接基团键合于构成三嗪环的碳原子。另外，特定三嗪化合物具有巯基的情况下，巯基优选直接键合于构成三嗪环的碳原子。

对于特定三嗪化合物，从中间层与表面层的密合性特别优异的方面出发，优选具有氨基。

(具有氨基的三嗪化合物)

作为具有氨基的三嗪化合物，优选化合物TN-1及化合物TN-2。

式TN-1及TN-2中的记号表示以下的含义。

A^N2为-N(R^N5)-R^N6(NH₂)_Nm或-N{R^N6(NH₂)_Nm}₂。

A^N3为上述A^N1、上述A^N2或-N(R^N7)-R^N8。

A^N4为2价的连接基团。

R^N1、R^N5及R^N7各自独立地为氢原子或1价的烃基。

R^N2为2价的连接基团。

R^N3及R^N8各自独立地为1价的烃基。

R^N4为氢原子或1价的烃基。

R^N6为(Nm+1)价的连接基团。

Nn为0～2的整数，Nm为1或2。

R^N1、R^N2、R^N3、R^N4、R^N5及R^N6各自存在多个的情况下，多个R^N1、R^N2、R^N3、R^N4、R^N5及R^N6各自可以彼此相同，也可以不同。

R^N1、R^N3、R^N4、R^N5、R^N7及R^N8中的1价的烃基优选1价的脂肪族烃基(任选饱和或不饱和。)或1价的芳香族烃基、更优选1价的脂肪族烃基、特别优选烷基。

1价的烃基可以为直链状、可以为支链状、也可以具有环状结构。

1价的烃基可以包含选自由-S-、-O-、-NHCO-、-N<及-NH-组成的组中的至少1种基团。

R^N1、R^N5、R^N7及R^N8中的1价的烃基的碳数优选1～12。R^N3及R^N4中的1价的烃基的碳数优选1～6。

A^N4及R^N2中的2价的连接基团优选2价的烃基、更优选2价的脂肪族烃基(任选饱和或不饱和。)或2价的芳香族烃基、进一步优选2价的脂肪族烃基、特别优选亚烷基。

2价的烃基可以为直链状、可以为支链状、也可以具有环状结构。

2价的烃基的碳数优选1～12。

2价的烃基可以包含选自由-S-、-O-、-NHCO-、-N<及-NH-组成的组中的至少1种基团。

R^N6中的(Nm+1)价的连接基团优选(Nm+1)价的烃基、更优选(Nm+1)价的脂肪族烃基(任选饱和或不饱和。)或(Nm+1)价的芳香族烃基、特别优选(Nm+1)价的脂肪族烃基。

2价的烃基的碳数优选1～12。

如上所述，Nm为1或2。因此，R^N6为2或3价的连接基团，优选2价的连接基团。2价的连接基团的优选方案与上述的A^N4及R^N2中的2价的连接基团同样。

A^N1的具体例如下。式中，r1为1以上的整数，r2为0以上的整数。

-NH-(CH₂)_r1-Si{O(CH₂)_r2(CH₃)}₃

-N[(CH₂)_r1-Si{O(CH₂)_r2(CH₃)}]₃

-NH-(CH₂)_r1-Si(CH₃){O(CH₂)_r2(CH₃)}₂

-NH-C₆H₄O(CH₂)_r1-Si{O(CH₂)_r2(CH₃)}₃

A^N2的具体例如下。式中，r1为1以上的整数。

-NH-(CH₂)_r1(NH₂)

-N{(CH₂)_r1(NH₂)}₂

A^N3的具体例如下。式中，r1为1以上的整数，r2为0以上的整数。

-NH-(CH₂)_r1-Si{O(CH₂)_r2(CH₃)}₃

-N[(CH₂)_r1-Si{O(CH₂)_r2(CH₃)}]₃

-NH-(CH₂)_r1-Si(CH₃){O(CH₂)_r2(CH₃)}₂

-NH-C₆H₄O(CH₂)_r1-Si{O(CH₂)_r2(CH₃)}₃

-NH-(CH₂)_r1(NH₂)

-N{(CH₂)_r1(NH₂)}₂

A^N4的具体例如下。式中，r1为1以上的整数。

-(CH₂)_r1-

作为r1，优选1～6，作为r2，优选0～5。

作为具有氨基的三嗪化合物的具体例，作为与式TN-1或TN-2相当的具有氨基的三嗪化合物，可列举出N,N’-双(2-氨基乙基)-6-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基-1,3,5-三嗪-2,4-二胺、6-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基-2,4-二肼基-1,3,5-三嗪、2-(N,N’-二-3-三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基-4，6-二(2-氨基乙基)氨基-1,3,5-三嗪、2-(2-氨基乙基)氨基-4,6-二(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基-1,3,5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2,4-二(三异丙氧基甲硅烷基)丙基氨基-1,3,5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2,4-二(三异丙烯氧基甲硅烷基)丙基氨基-1,3,5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2,4-二(三异丙氧基甲硅烷基)丙基氨基-1,3,5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2,4-二(三苯甲酰氧基甲硅烷基)丙基氨基-1,3,5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2,4-双(三乙氧基甲硅烷基己基)氨基-1,3,5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2,4-双(三乙氧基甲硅烷基十二烷基)氨基-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基甲硅烷基)丙基氨基-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙烯氧基甲硅烷基)丙基氨基-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三苯甲酰氧基甲硅烷基)丙基氨基-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基甲硅烷基己基氨基)-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基-1,3,5-三嗪、N,N’-双(2-二甲基氨基乙基)-6-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基-1,3,5-三嗪-2,4-二胺、N,N’-双(2-氨基己基)-6-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基-1,3,5-三嗪-2,4-二胺、N,N’-双{2-[双-(2-氨基乙基)氨基]乙基}-6-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基-1,3,5-三嗪-2,4-二胺、N,N’-双(12-氨基十二烷基)-6-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基-1,3,5-三嗪-2,4-二胺。

作为与式TN-1及TN-2中任意者不相当的具有氨基的三嗪化合物，可列举出6-(2-氨基乙基)氨基-2,4-双(甲基乙基酮肟基甲硅烷基)丙基氨基-1,3,5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2,4-二(三乙酰氧基甲硅烷基)丙基氨基-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基甲硅烷基)丙基氨基-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三乙酰氧基甲硅烷基)丙基氨基-1,3,5-三嗪。

这些具体例之中，优选式TN-1或TN-2所示的具有氨基的三嗪化合物。

(具有巯基的三嗪化合物)

作为具有巯基的三嗪化合物，从表面层的水滚落角优异的方面出发，优选化合物TS。

式TS中的记号表示以下的含义。

R^S1为单键或2价的连接基团。

R^S1中的2价的连接基团优选2价的烃基、特别优选2价的脂肪族烃基(任选饱和或不饱和。)或2价的芳香族烃基。

2价的烃基的碳数优选1～20、更优选1～12、特别优选2～8。

2价的烃基可以包含选自由-NH-、-C(O)-、-O-、-S-及-C(O)O-组成的组中的至少1种基团。

作为R^S1的具体例，可列举出-CH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH₂CH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂SCH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH₂SCH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂NHCH₂CH₂CH₂-、-(CH₂CH₂)₂NCH₂CH₂CH₂-、-C₆H₄-、-C₆H₄C₆H₄-、-CH₂C₆H₄CH₂-、-CH₂CH₂CH₂CH₂CH₂CH₂CH₂CH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂OCONHCH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂NHCONHCH₂CH₂CH₂-、-(CH₂CH₂)₂CHOCONHCH₂CH₂CH₂-。

存在多个R^S1的情况下，多个R^S1可以彼此相同，也可以不同。

R^S2为1价的烃基。

R^S3为氢原子或1价的烃基。

R^S2及R^S3中的1价的烃基优选1价的脂肪族烃基(任选饱和或不饱和)或1价的芳香族烃基、更优选1价的脂肪族烃基、特别优选烷基。

1价的烃基可以具有取代基。

R^S2及R^S3为1价的烃基的情况下，其碳数优选1～10、1～6。

作为R^S2及R^S3为1价的烃基的情况下的具体例，可列举出CH₃-、C₂H₅-、n-C₃H₇-、i-C₃H₇-、n-C₄H₉-、i-C₄H₉-、t-C₄H₉-。

存在多个R^S2的情况下，多个R^S2可以彼此相同，也可以不同。存在多个R^S3的情况下，多个R^S3可以彼此相同，也可以不同。

R^S4为氢原子或1价的烃基。

1价的烃基优选1价的脂肪族烃基(任选饱和或不饱和)或1价的芳香族烃基。1价的烃基可以为直链状、可以为支链状、也可以具有环状结构。

1价的烃基的碳数优选1～20、特别优选2～8。

1价的烃基可以具有取代基。

作为R^S4为1价的烃基的情况下的具体例，可列举出CH₃-、C₂H₅-、n-C₃H₇-、CH₂＝CHCH₂-、n-C₄H₉-、C₆H₅-、C₆H₁₁-。

M^S1为氢原子或碱金属原子，优选氢原子、Li、Na、K或Cs。

Sn为0～2的整数。

作为具有巯基的三嗪化合物的具体例，可列举出6-(3-(三乙氧基甲硅烷基)丙基氨基)-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇·单钠(TES)、6-(3-(三乙氧基甲硅烷基)丙基氨基)-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇、6-(3-(单甲基二乙氧基甲硅烷基)丙基氨基)-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇·单钠(DES)、6-(3-(二甲基单乙氧基甲硅烷基)丙基氨基)-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇·单钠(MES)、6-二-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基氨基)-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇·单钠(BTES)、6-N-环己基-N-(3-(三乙氧基甲硅烷基)丙基氨基)-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇·单钠、6-N-苄基-N-(3-(单甲基二乙氧基甲硅烷基)丙基氨基)-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇·单钠。

〔表面层〕

表面层为使用含氟醚化合物而形成的层。含氟醚化合物可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

表面层可以包含除含氟醚化合物以外的成分。

表面层的膜厚优选1～100nm、特别优选1～50nm。表面层的膜厚可以与中间层的膜厚同样地来测定。

表面层的水滚落角优选20度以下、更优选18度以下、特别优选16度以下。水滚落角为20度以下时，表面层的指纹擦拭性进一步提高。表面层的水滚落角越低越优选，因此下限值没有特别限定。水滚落角可以使用滚落角测定装置(SA-11：制品名、协和界面科学株式会社制)来测定。

表面层的水接触角优选100度以上、更优选110度以上、特别优选115度以上。水接触角为100度以上时，表面层的拒水性优异。表面层的水接触角越低越优选，因此下限值没有特别限定。水接触角可以使用接触角测定装置(DM-500：制品名、协和界面科学株式会社制)来测定。

表面层的水接触角为100度以上、并且表面层的水滚落角为20度以下时，表面层的指纹擦拭性特别优异。

(含氟醚化合物)

作为聚(氧全氟亚烷基)链，从表面层的拒水拒油性更优异的方面出发，优选(R^fO)_m(其中，R^f为全氟亚烷基，m为2～200的整数，可以为由碳数不同的2种以上的R^fO形成的基团。)。

(R^fO)_m的定义在后面详细叙述。

对于特定含氟醚化合物，从化合物的保存稳定性更优异的方面出发，优选具有水解性甲硅烷基，从表面层的耐摩擦性更优异的方面出发，特别优选具有2个以上水解性甲硅烷基。

需要说明的是，特定含氟醚化合物中的水解性甲硅烷基是L为水解性基团时的-SiR_nL_3-n。

特定含氟醚化合物的数均分子量优选500～20,000、更优选800～10,000、特别优选1,000～8,000。数均分子量为该范围内时，表面层的耐摩擦性优异。

作为特定含氟醚化合物，从表面层的拒水拒油性更优异的方面出发，优选化合物1。

[A-O-Z¹-(R^fO)_m-]_jZ²[-SiR_nL_3-n]_q 式1

A为全氟烷基或-Q[-SiR_nL_3-n]_k。

对于全氟烷基中的碳数，从表面层的耐摩擦性更优异的方面出发，优选1～20、更优选1～10、进一步优选1～6、特别优选1～3。

全氟烷基可以为直链状、也可以为支链状。

其中，A为-Q[-SiR_nL_3-n]_k的情况下，j为1。

作为全氟烷基，可列举出CF₃-、CF₃CF₂-、CF₃CF₂CF₂-、CF₃CF₂CF₂CF₂-、CF₃CF₂CF₂CF₂CF₂-、CF₃CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂-、CF₃CF(CF₃)-等。

作为全氟烷基，从表面层的拒水拒油性更优异的方面出发，优选CF₃-、CF₃CF₂-、CF₃CF₂CF₂-。

Q为(k+1)价的连接基团。如后所述，k为1～10的整数。因此，作为Q，可列举出2～11价的连接基团。

作为Q，只要为不损害本发明效果的基团即可，例如，可列举出任选具有醚性氧原子或2价的有机聚硅氧烷残基的亚烷基、碳原子、氮原子、硅原子、2～8价的有机聚硅氧烷残基、及从后述的式2-1、式2-2、式2-1-1～2-1-6中去掉SiR_nL_3-n的基团。

R为1价的烃基。

R特别优选1价的饱和烃基。1价的烃基的碳数优选1～6、更优选1～3、特别优选1～2。

L为水解性基团或羟基。

L的水解性基团为通过水解反应成为羟基的基团。即，水解性甲硅烷基通过水解反应成为硅烷醇基。硅烷醇基进而在硅烷醇基间进行反应从而形成Si-O-Si键。另外，硅烷醇基与中间层的表面的羟基、硅烷醇基、水解性甲硅烷基等反应，从而可以形成化学键(中间层-O-Si)。

作为L，优选水解性基团，作为水解性基团，可列举出烷氧基、卤素原子、酰基、酰基氧基、异氰酸酯基(-NCO)等。作为烷氧基，优选碳数1～4的烷氧基。作为卤素原子，优选氯原子。

作为L，从工业上的制造容易的方面出发，优选碳数1～4的烷氧基或卤素原子。作为L，从涂布时的排气少、化合物的保存稳定性更优异的方面出发，优选碳数1～4的烷氧基，需要化合物的长期的保存稳定性的情况下，特别优选乙氧基，将涂布后的反应时间设为短时间的情况下，特别优选甲氧基。

n为0～2的整数。

n优选0或1、特别优选0。通过存在多个L，从而表面层与基材的密合性变得更牢固。

n为1以下的情况下，1分子中存在的多个L彼此可以相同，也可以不同。从原料的获得容易性、制造容易性的方面出发，优选彼此相同。

作为水解性甲硅烷基，优选-Si(OCH₃)₃、-SiCH₃(OCH₃)₂、-Si(OCH₂CH₃)₃、-SiCl₃、-Si(OC(O)CH₃)₃、-Si(NCO)₃。从工业上的制造中的处理容易性的方面出发，特别优选-Si(OCH₃)₃。

Z¹为单键、1个以上的氢原子被氟原子取代的碳数1～20的氧氟亚烷基(其中，不包括氧全氟亚烷基。上述氧氟亚烷基中的氧原子与(R^fO)_m键合。)、或1个以上的氢原子被氟原子取代的碳数1～20的聚(氧氟亚烷基)(与(R^fO)_m键合的氧氟亚烷基中的氧原子与(R^fO)_m键合。与(R^fO)_m键合的氧氟亚烷基含有1个以上的氢原子。聚(氧氟亚烷基)任选包含全部的氢原子被氟原子取代的氧全氟亚烷基、和含有1个以上的氢原子的氧氟亚烷基这两者。)。氧氟亚烷基或聚(氧氟亚烷基)的碳数优选1～10。

作为Z¹，从容易制造化合物的方面出发，优选单键、-CHFCF₂OCH₂CF₂O-、-CF₂CHFCF₂OCH₂CF₂CF₂O-、-CF₂CF₂CHFCF₂OCH₂CF₂O-、-CF₂CF₂OCHFCF₂OCH₂CF₂O-、-CF₂CF₂OCF₂CF₂OCHFCF₂OCH₂CF₂O-、-CF₂CH₂OCH₂CF₂O-、-CF₂CF₂OCF₂CH₂OCH₂CF₂O-(其中，左侧与A-O键合。)。作为Z¹，特别优选单键、-CHFCF₂OCH₂CF₂O-。

R^f为全氟亚烷基。

对于全氟亚烷基的碳数，从表面层的拒水拒油性更优异的方面出发，优选1～6。

全氟亚烷基可以为直链状，也可以为支链状，从表面层的拒水拒油性更优异的方面出发，优选直链状。

需要说明的是，多个R^f任选相同或不同。即，(R^fO)_m可以由碳数不同的2种以上的R^fO构成。

m为2～200的整数，优选5～150的整数、特别优选10～100的整数。m为上述范围的下限值以上时，表面层的拒水拒油性更优异。m为上述范围的上限值以下时，表面层的耐摩擦性更优异。

(R^fO)_m中，存在碳数不同的2种以上的R^fO的情况下，各R^fO的键合顺序没有限定。例如，存在2种R^fO的情况下，2种R^fO可以无规、交替、嵌段地配置。

作为(R^fO)_m，从表面层的拒水拒油性更优异的方面出发，优选{(CF₂O)_m11(CF₂CF₂O)_m12(CF₂CF₂CF₂O)_m13(CF₂CF₂CF₂CF₂O)_m14}、(CF₂CF₂O)_m16、(CF₂CF₂CF₂O)_m17、(CF₂CF₂O-CF₂CF₂CF₂CF₂O)_m15(CF₂CF₂O)、(CF₂O-CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂O)_m18(CF₂O)或(CF₂CF₂O-CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂O)_m19(CF₂CF₂O)，特别优选{(CF₂O)_m11(CF₂CF₂O)_m12(CF₂CF₂CF₂O)_m13(CF₂CF₂CF₂CF₂O)_m14}、(CF₂CF₂O-CF₂CF₂CF₂CF₂O)_m15(CF₂CF₂O)、(CF₂O-CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂O)_m18(CF₂O)、(CF₂CF₂O-CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂O)_m19(CF₂CF₂O)。

其中，m11及m12各自为1以上的整数，m13及m14各自为0或1以上的整数，m11+m12+m13+m14为2～200的整数，m11个CF₂O、m12个CF₂CF₂O、m13个CF₂CF₂CF₂O、m14个CF₂CF₂CF₂CF₂O的键合顺序没有限定。m16及m17各自为2～200的整数，m15、m18及m19为1～99的整数。

Z²为(j+q)价的连接基团。

Z²只要为不损害本发明效果的基团即可，例如，可列举出可以具有醚性氧原子或2价的有机聚硅氧烷残基的亚烷基、碳原子、氮原子、硅原子、2～8价的有机聚硅氧烷残基、及从后述的式2-1、式2-2、式2-1-1～2-1-6中去掉SiR_nL_3-n的基团。

j为1以上的整数，从表面层的拒水拒油性更优异的方面出发，优选1～5的整数，从容易制造化合物的方面出发，特别优选1。

q为1以上的整数，从表面层的拒水拒油性更优异的方面出发，优选2～4的整数，更优选2或3，特别优选3。

对于化合物1，从表面层的拒水拒油性更优异的方面出发，优选化合物1-1。

A-O-Z¹-(R^fO)_m-Z³ 式1-1

式1-1中，A、Z¹、R^f及m的定义与式1中的各基团的定义同样。

Z³为基团2-1或基团2-2。

-R^f7-Q^a-X(-Q^b-SiR_nL_3-n)_h(-R⁷)_i 式2-1

-R^f7-Q⁷¹-[CH₂C(R⁷¹)(-Q⁷²-SiR_nL_3-n)]_y-R⁷² 式2-2

式2-1及2-2中，R、L及n的定义与式1中的各基团的定义同样。

R^f7为全氟亚烷基。

全氟亚烷基的碳数优选1～30、特别优选1～6。

全氟亚烷基可以为直链状，也可以为支链状。

作为R^f7，从容易制造化合物的方面出发，优选-CF₂CF₂CF₂CF₂-或-CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂-。

Q^a为单键或2价的连接基团。

作为2价的连接基团，例如，可列举出2价的烃基(可以为2价的饱和烃基、2价的芳香族烃基、亚烯基、亚炔基。2价的饱和烃基可以为直链状、支链状或环状，例如，可列举出亚烷基。碳数优选1～20。另外，2价的芳香族烃基优选碳数5～20，例如，可列举出亚苯基。除此以外，也可以为碳数2～20的亚烯基、碳数2～20的亚炔基。)、2价的杂环基、-O-、-S-、-SO₂-、-N(R^d)-、-C(O)-、-Si(R^a)₂-及、将它们进行2种以上组合而成的基团。此处，R^a为烷基(优选碳数1～10)、或苯基。R^d为氢原子或烷基(优选碳数1～10)。

需要说明的是，作为上述将它们进行2种以上组合而成的基团，例如，可列举出-OC(O)-、-C(O)N(R^d)-、亚烷基-O-亚烷基、亚烷基-OC(O)-亚烷基、亚烷基-Si(R^a)₂-亚苯基-Si(R^a)₂。

X为单键、亚烷基、碳原子、氮原子、硅原子或2～8价的有机聚硅氧烷残基。

需要说明的是，上述亚烷基可以具有-O-、硅亚苯基骨架基、2价的有机聚硅氧烷残基或二烷基亚甲硅烷基。亚烷基可以具有多个选自由-O-、硅亚苯基骨架基、2价的有机聚硅氧烷残基及二烷基亚甲硅烷基组成的组中的基团。

X所示的亚烷基的碳数优选1～20、特别优选1～10。

作为2～8价的有机聚硅氧烷残基，可列举出2价的有机聚硅氧烷残基、及、后述的(w+1)价的有机聚硅氧烷残基。

Q^b为单键或2价的连接基团。

2价的连接基团的定义与上述的Q^a中说明的定义同义。

R⁷为羟基或烷基。

烷基的碳数优选1～5、更优选1～3、特别优选1。

X为单键或亚烷基的情况下，h为1，i为0，

X为氮原子的情况下，h为1～2的整数，i为0～1的整数，满足h+i＝2，

X为碳原子或硅原子的情况下，h为1～3的整数，i为0～2的整数，满足h+i＝3，

X为2～8价的有机聚硅氧烷残基的情况下，h为1～7的整数，i为0～6的整数，满足h+i＝1～7。

(-Q^b-SiR_nL_3-n)为2个以上的情况下，2个以上的(-Q^b-SiR_nL_3-n)任选相同或不同。R⁷为2个以上的情况下，2个以上的(-R⁷)任选相同或不同。

Q⁷¹为单键、亚烷基、或、在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子的基团，从容易制造化合物的方面出发，优选单键。

亚烷基的碳数优选1～10、特别优选2～6。

在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子的基团的碳数优选2～10、特别优选2～6。

R⁷¹为氢原子或碳数1～10的烷基，从容易制造化合物的方面出发，优选氢原子。

作为烷基，优选甲基。

Q⁷²为单键或亚烷基。亚烷基的碳数优选1～10、特别优选1～6。从容易制造化合物的方面出发，Q⁷²优选单键或-CH₂-。

R⁷²为氢原子或卤素原子，从容易制造化合物的方面出发，优选氢原子。

y为1～10的整数，优选1～6的整数。

2个以上的[CH₂C(R⁷¹)(-Q⁷²-SiR_nL_3-n)]任选相同或不同。

作为基团2-1，优选基团2-1-1～2-1-6。

-R^f7-(X¹)_p-Q¹-SiR_nL_3-n 式2-1-1

-R^f7-(X²)_r-Q²¹-N[-Q²²-SiR_nL_3-n]₂ 式2-1-2

-R^f7-Q³¹-G(R³)[-Q³²-SiR_nL_3-n]₂ 式2-1-3

-R^f7-[C(O)N(R^d)]_s-Q⁴¹-(O)_t-C[-(O)_u-Q⁴²-SiR_nL_3-n]₃ 式2-1-4

-R^f7-Q⁵¹-Si[-Q⁵²-SiR_nL_3-n]₃ 式2-1-5

-R^f7-[C(O)N(R^d)]_v-Q⁶¹-Z³[-Q⁶²-SiR_nL_3-n]_w 式2-1-6

需要说明的是，式2-1-1～2-1-6中，R^f7、R、L、及、n的定义如上所述。

X¹为-O-、或、-C(O)N(R^d)-(其中，式中的N与Q¹键合)。

R^d的定义如上所述。

p为0或1。

Q¹为亚烷基。需要说明的是，亚烷基可以具有-O-、硅亚苯基骨架基、2价的有机聚硅氧烷残基或二烷基亚甲硅烷基。亚烷基可以具有多个选自由-O-、硅亚苯基骨架基、2价的有机聚硅氧烷残基及二烷基亚甲硅烷基组成的组中的基团。

需要说明的是，亚烷基具有-O-、硅亚苯基骨架基、2价的有机聚硅氧烷残基或二烷基亚甲硅烷基的情况下，优选在碳原子-碳原子间具有这些基团。

Q¹所示的亚烷基的碳数优选1～10、特别优选2～6。

作为Q¹，p为0的情况下，优选-CH₂OCH₂CH₂CH₂-、-CH2OCH₂CH₂OCH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH₂-、-CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₃)₂OSi(CH₃)₂CH₂CH₂-。(X¹)_p为-O-的情况下，优选-CH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂OCH₂CH₂CH₂-。(X¹)_p为-C(O)N(R^d)-的情况下，优选碳数2～6的亚烷基(其中，式中的N与Q¹键合)。Q¹为这些基团时，容易制造化合物。

作为基团2-1-1的具体例，可列举出以下的基团。

X²为-O-、-NH-、或、-C(O)N(R^d)-。

R^d的定义如上所述。

Q²¹为单键、亚烷基、或者、在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-或-NH-的基团。

Q²¹所示的亚烷基的碳数优选1～10、特别优选2～6。

Q²¹所示的在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-或-NH-的基团的碳数优选2～10、特别优选2～6。

作为Q²¹，从容易制造化合物的方面出发，优选-CH₂-、-CH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH₂-、-CH₂OCH₂CH₂-、-CH₂NHCH₂CH₂-、-CH₂CH₂OC(OCH₂CH₂-(其中，右侧与N键合。)。

r为0或1(其中，Q²¹为单键时是0。)。从容易制造化合物的方面出发，优选0。

Q²²为亚烷基、或者、在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有2价的有机聚硅氧烷残基、醚性氧原子或-NH-的基团。

Q²²所示的亚烷基的碳数优选1～10、特别优选2～6。

Q²²所示的在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有2价的有机聚硅氧烷残基、醚性氧原子或-NH-的基团的碳数优选2～10、特别优选2～6。

作为Q²²，从容易制造化合物的方面出发，优选-CH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂OCH₂CH₂CH₂-(其中，右侧与Si键合。)。

2个[-Q²²-SiR_nL_3-n]任选相同或不同。

作为基团2-1-2的具体例，可列举出以下的基团。

Q³¹为单键、亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子的基团，从容易制造化合物的方面出发，优选单键。

Q³¹所示的亚烷基的碳数优选1～10、特别优选2～6。

Q³¹所示的在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子的基团的碳数优选2～10、特别优选2～6。

G为碳原子或硅原子。

R⁶为羟基或烷基。R³所示的烷基的碳数优选1～4。

作为G(R³)，从容易制造化合物的方面出发，优选C(OH)或Si(R^3a)(其中，R^3a为烷基。烷基的碳数优选1～10、特别优选甲基。)。

Q³²为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子或2价的有机聚硅氧烷残基的基团。

Q³²所示的亚烷基的碳数优选1～10、特别优选2～6。

Q³²所示的在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子或2价的有机聚硅氧烷残基的基团的碳数优选2～10、特别优选2～6。

作为Q³²，从容易制造化合物的方面出发，优选-CH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH₂CH₂CH₂CH₂CH₂CH₂-。

2个[-Q³²-SiR_nL_3-n]任选相同或不同。

作为基团2-1-3的具体例，可列举出以下的基团。

式2-1-4中的R^d的定义如上所述。

s为0或1。

Q⁴¹为单键、亚烷基、或在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子的基团。

Q⁴¹所示的亚烷基的碳数优选1～10、特别优选2～6。

Q⁴¹所示的在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子的基的碳数优选2～10、特别优选2～6。

t为0或1(其中，Q⁴¹为单键时是0。)。

作为-Q⁴¹-(O)_t-，从容易制造化合物的方面出发，s为0的情况下，优选单键、-CH₂O-、-CH₂OCH₂-、-CH₂OCH₂CH₂O-、-CH₂OCH₂CH₂OCH₂-、-CH₂OCH₂CH₂CH₂CH₂OCH₂-(其中，左侧与R^f7键合。)，s为1的情况下，优选单键、-CH₂-、-CH₂CH₂-。

Q⁴²为亚烷基，上述亚烷基可以具有-O-、-C(O)N(R^d)-〔R^d的定义如上所述。〕、硅亚苯基骨架基、2价的有机聚硅氧烷残基或二烷基亚甲硅烷基。

需要说明的是，亚烷基具有-O-或硅亚苯基骨架基的情况下，优选在碳原子-碳原子间具有-O-或硅亚苯基骨架基。另外，亚烷基具有-C(O)N(R^d)-、二烷基亚甲硅烷基或2价的有机聚硅氧烷残基的情况下，优选在碳原子-碳原子间或与(O)_u1键合侧的末端具有这些基团。

Q⁴²所示的亚烷基的碳数优选1～10、特别优选2～6。

u为0或1。

作为-(O)_u-Q⁴²-，从容易制造化合物的方面出发，优选-CH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH₂-、-CH₂OCH₂CH₂CH₂-、-CH₂OCH₂CH₂CH₂CH₂CH₂-、-OCH₂CH₂CH₂-、-OSi(CH₃)₂CH₂CH₂CH₂-、-OSi(CH₃)₂OSi(CH₃)₂CH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH₂Si(CH₃)₂PhSi(CH₃)₂CH₂CH₂-(其中，右侧与Si键合。)

3个[-(O)_u-Q⁴²-SiR_nL_3-n]任选相同或不同。

作为基团2-1-4的具体例，可列举出以下的基团。

Q⁵¹为亚烷基、或在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子的基团。

Q⁵¹所示的亚烷基的碳数优选1～10、特别优选2～6。

Q⁵¹所示的在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子的基团的碳数优选2～10、特别优选2～6。

作为Q⁵¹，从容易制造化合物的方面出发，优选-CH₂OCH₂CH₂CH₂-、-CH₂OCH₂CH₂OCH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH₂-(其中，右侧与Si键合。)。

Q⁵²为亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子或2价的有机聚硅氧烷残基的基团。

Q⁵²所示的亚烷基的碳数优选1～10、特别优选2～6。

Q⁵²所示的在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子或2价的有机聚硅氧烷残基的基团的碳数优选2～10、特别优选2～6。

作为Q⁵²，从容易制造化合物的方面出发，优选-CH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂OCH₂CH₂CH₂-(其中，右侧与SiR_nL_3-n键合。)。

3个[-Q⁵²-SiR_nL_3-n]任选相同或不同。

作为基团2-1-5的具体例，可列举出以下的基团。

式2-1-6中的R^d的定义如上所述。

v为0或1。

Q⁶¹为亚烷基、或在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子的基团。

Q⁶¹所示的亚烷基的碳数优选1～10、特别优选2～6。

Q⁶¹所示的在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子的基团的碳数优选2～10、特别优选2～6。

作为Q⁶¹，从容易制造化合物的方面出发，优选-CH₂OCH₂CH₂CH₂-、-CH₂OCH₂CH₂OCH₂CH₂CH₂-、-CH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH₂-(其中，右侧与Z³键合。)。

Z³为(w+1)价的有机聚硅氧烷残基。

w为2～7的整数。

作为(w+1)价的有机聚硅氧烷残基，可列举出下述的基团。其中，下式中的R^a如上所述。

Q⁶²为亚烷基、或、在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子或2价的有机聚硅氧烷残基的基团。

Q⁶²所示的亚烷基的碳数优选1～10、特别优选2～6。

Q⁶²所示的在碳数2以上的亚烷基的碳原子-碳原子间具有醚性氧原子或2价的有机聚硅氧烷残基的基团的碳数优选2～10、特别优选2～6。

作为Q⁶²，从容易制造化合物的方面出发，优选-CH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH₂-。

w个[-Q⁶²-SiR_nL_3-n]任选相同或不同。

含氟醚化合物也可以使用市售品。例如可列举出信越化学工业株式会社制的KY-100系列(KY-178、KY-185、KY-195等)、DAIKIN INDUSTRIES,Ltd.制的Optool(注册商标)DSX、Optool(注册商标)AES、Optool(注册商标)UF503、Optool(注册商标)UD509、旭硝子株式会社制的Afluid(注册商标)S550。

〔用途〕

本发明的层叠体优选用于电子设备用物品、运输设备用物品、精密设备用物品、光学设备用物品或建筑用物品。另外，本发明的层叠体还可以用于上述各种设备以外的物品。

电子设备用物品的具体例可列举出通信用终端或图像表示装置中的显示器用玻璃、显示器用保护薄膜、防反射薄膜、指纹传感器。作为运输设备用物品的具体例，可列举出电车、汽车、船舶及航空器等中的外饰构件、内饰构件、玻璃(例如，挡风玻璃(frontglass)、侧窗玻璃(side glass)及后窗玻璃(rear glass))、镜子、罩轮胎。作为精密设备用物品的具体例，可列举出摄影设备中的窗材。作为光学设备用物品的具体例，可列举出透镜。作为建筑用物品的具体例，可列举出窗、地板材料、壁材、门材料。

以下示出可应用本发明的层叠体的物品的详细的具体例。

·汽车导航、汽车音响、平板电脑、笔记本PC、手表型·眼镜型可穿戴终端、手机·智能电话等便携式(通信)信息终端、数码相机、数码摄像机、PDA、便携式音频播放器、游戏设备、各种操作面板、数字媒体播放器、电子书阅读器、复印机等的壳体

·液晶显示器、阴极线管(CRT：例、TV、电脑显示器)、有机EL显示器、等离子体显示器、无机薄膜EL点阵显示器、背投式显示器、荧光显示管(VFD)、场发射显示器(FED：FieldEmission Display)等显示器或这些显示器的前面保护板、防反射板、偏光板、防眩光板、或对它们的表面实施防反射膜处理而成的物品

·具有接触型的显示输入装置的电子设备(例如，手机、便携式信息终端)的触摸面板片及触摸面板显示器

·太阳能电池面板等中使用的拒水构件、及蓝光(Blu-ray(注册商标))磁盘、DVD磁盘、CD-R、MO等光磁盘及磁气磁盘的记录介质

·太阳镜用透镜、眼镜透镜、棱镜、透镜片、防护膜、偏光板、光学滤波器、柱状透镜、菲涅尔透镜、防反射膜、光纤、光耦合器、防反射覆盖眼科用透镜、双目镜、相机镜头(camera lens)、滤镜(lens filter)、胃镜的镜头

·自行车等交通工具的外饰、乐器及家具的外饰、大理石、人工大理石等建筑用石材的表面、洗手间、浴室、化妆间、厨房等用水场所的装饰建材、实施玻璃装饰的家电(例如冰箱)、美术品展示用保护玻璃、橱窗、陈列柜、相框用盖、手表的显示面、手表盖

·显示器壳体、投影仪、音响柜门(stereo cabinet door)、立体声罩(stereocover)、窑业制品、布制品、皮革制品、医疗品、医疗设备的外饰

·道路铺装标记(例如隆起)、铺装标记带、逆反射片

·燃料系统中使用的O-型环、轴封、垫片(gasket)、管(tube)、衬料、片、容器、盖、软管(hose)、或它们的构成要素、膜、及进行了粘接的密封、轴承、机轴(crankshaft)、滑动轴承、活塞、垫片(gasket)、齿轮、门面板、仪表(instrument)面板、门锁、同步齿带(timingbelt)、天窗用本体密封(body seal)、玻璃滑槽(glass run)、挡风雨条(weather strip)、旋转轴承、滑动轴承、枢轴销(pivot pin)、凸轮(cam)、导向装置(guide)、导轨(way)、传动螺杆、齿轮、齿条(spline)、链条等的保护膜

·布线板用防水涂层热交换机的拒水·防水构件、电解槽的拒水构件、印刷电路板的防水·拒水构件、带电辊的防污构件、基材输送装置的防污构件、高频发热体的绝缘性提高构件、送电线的绝缘性提高构件、各种过滤器的防水拒水构件、电波吸收料、吸音材料的防水性构件

·挤出成型、注射成型、压延成型、吹塑成型、FRP成型、层叠成型、铸造、粉末成型、溶液流延法、真空·压力成型、挤出复合成型、拉伸成型、发泡成型、各种二次加工、压缩成型、中空成型、纳米压印等中使用的脱模用的模具、热交换机的拒水·防水·滑水用构件、振动筛、料筒内部等表面低摩擦涂布用构件、机械部件、真空设备部件、轴承部件、工具等的表面保护构件

〔层叠体的制造方法〕

作为本发明的层叠体的制造方法，可列举出如下方法：使用上述特定三嗪化合物在上述基材上形成中间层、使用上述含氟醚化合物在中间层的表面形成表面层。

中间层的形成及表面层的形成可以通过干涂法、湿涂法进行。干涂法中，使用上述特定三嗪化合物、上述含氟醚化合物来形成中间层、表面层。

湿涂法中，涂布使用了液体介质的溶液而形成包含液体介质的层，接着将液体介质去除(以下，也称为干燥。)，形成中间层、表面层。更具体而言，使用包含特定三嗪化合物及液体介质的组合物(以下，也称为“中间层形成用组合物”。)，进行涂布及干燥，在基材上形成中间层。另外，使用包含含氟醚化合物及液体介质的组合物(以下，也称为“表面层形成用组合物”。)，进行涂布及干燥，在中间层上形成表面层。

(中间层的形成)

作为中间层形成用组合物中包含的液体介质的具体例，可列举出水、有机溶剂。作为有机溶剂的具体例，可列举出氟系有机溶剂及非氟系有机溶剂。

有机溶剂可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

作为氟系有机溶剂的具体例，可列举出氟化烷烃、氟化芳香族化合物、氟化烷基醚、氟化烷基胺、氟醇。

氟化烷烃优选碳数4～8的化合物，例如，可列举出C₆F₁₃H(AC-2000：制品名、旭硝子株式会社制)、C₆F₁₃C₂H₅(AC-6000：制品名、旭硝子株式会社制)、C₂F₅CHFCHFCF₃(Vertrel：制品名、DuPont公司制)。

作为氟化芳香族化合物的具体例，可列举出六氟苯、三氟甲基苯、全氟甲苯、1,3-双(三氟甲基)苯、1,4-双(三氟甲基)苯。

氟化烷基醚优选碳数4～12的化合物，例如，可列举出CF₃CH₂OCF₂CF₂H(AE-3000：制品名、旭硝子株式会社制)、C₄F₉OCH₃(Novec-7100：制品名、3M公司制)、C₄F₉OC₂H₅(Novec-7200：制品名、3M公司制)、C₂F₅CF(OCH₃)C₃F₇(Novec-7300：制品名、3M公司制)。

作为氟化烷基胺的具体例，可列举出全氟三丙胺、全氟三丁胺。

作为氟醇的具体例，可列举出2,2,3,3-四氟丙醇、2,2,2-三氟乙醇、六氟异丙醇。

作为非氟系有机溶剂，优选仅由氢原子及碳原子形成的化合物、及仅由氢原子、碳原子及氧原子形成的化合物，具体而言，可列举出烃系有机溶剂、酮系有机溶剂、醚系有机溶剂、酯系有机溶剂、醇系有机溶剂。

作为烃系有机溶剂的具体例，可列举出己烷、庚烷、环己烷。

作为酮系有机溶剂的具体例，可列举出丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮。

作为醚系有机溶剂的具体例，可列举出乙醚、四氢呋喃、四乙二醇二甲醚。

作为酯系有机溶剂的具体例，可列举出乙酸乙酯、乙酸丁酯。

作为醇系有机溶剂的具体例，可列举出甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等。

作为中间层形成用组合物中包含的液体介质，优选水、氟系有机溶剂、醇系有机溶剂或它们的混合溶剂。

液体介质的含量相对于中间层形成用组合物的全部质量优选50.00～99.99质量％、特别优选70.00～99.95质量％。

特定三嗪化合物的含量相对于中间层形成用组合物的全部质量优选0.01～50.00质量％、特别优选0.05～30.00质量％。

另外，特定三嗪化合物的含量相对于中间层形成用组合物的全部固体成分的质量优选50～100质量％、特别优选70～100质量％。

上述中间层例如可以通过下述的方法来制造。

·通过使用特定三嗪化合物的干涂法对基材的表面进行处理，得到上述中间层的方法。

·通过湿涂法将中间层形成用组合物涂布于基材的表面并使其干燥，得到上述中间层的方法。

作为干涂法的具体例，可列举出真空蒸镀法、CVD法、溅射法。

作为湿涂法的具体例，可列举出旋涂法、揩涂法(wipe coating)、喷涂法、挤出涂布法(squeeze coating)、浸渍涂布法、模涂法、喷墨法、流涂法、辊涂法、浇铸法、Langmuir-Blodgett法、凹版涂布法。

在通过上述步骤形成的中间层中，包含介由特定三嗪化合物的水解反应及缩合反应而得到的化合物。

(表面层的形成)

作为表面层形成用组合物中包含的液体介质的具体例，可列举出有机溶剂。作为有机溶剂的具体例，可列举出氟系有机溶剂及非氟系有机溶剂。

有机溶剂可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

氟系有机溶剂及非氟系有机溶剂的具体例与中间层形成用组合物中包含的液体介质相同。其中，表面层形成用组合物中，非氟系有机溶剂的具体例之中，优选烃系有机溶剂、酮系有机溶剂、醚系有机溶剂、酯系有机溶剂及醇系有机溶剂。

作为表面层形成用组合物中包含的液体介质，特别优选氟系有机溶剂、醇系有机溶剂或它们的混合溶剂。

液体介质的含量相对于表面层形成用组合物的全部质量优选50.00～99.99质量％、特别优选70.00～99.95质量％。

含氟醚化合物的含量相对于表面层形成用组合物的全部质量优选0.01～50.00质量％、特别优选0.05～30.00质量％。

另外，含氟醚化合物的含量相对于表面层形成用组合物的全部固体成分的质量优选30～100质量％、特别优选50～100质量％。

上述表面层例如可以通过下述的方法来制造。

·通过使用含氟醚化合物的干涂法对中间层的表面进行处理，得到上述表面层的方法。

·通过湿涂法将表面层形成用组合物涂布于中间层的表面并使其干燥，得到上述表面层的方法。

表面层的制造中的干涂法及湿涂法的具体例与中间层的制造中举出的具体例相同。

特别是，通过干涂法制造表面层的情况下，从抑制含氟醚化合物的分解的方面、及装置的简便性的方面出发，真空蒸镀法是适当的。在真空蒸镀时可以使用使含氟醚化合物或表面层形成用组合物浸渗于铁、钢等的金属多孔体而成的粒料状物质。

通过上述步骤形成的表面层包含介由含氟醚化合物的水解反应及缩合反应而得到的化合物。

此处，含氟醚化合物或表面层形成用组合物优选：在使中间层中包含的M-OH基、能生成M-OH基的基团通过缩合等反应而失活之前与中间层接触。由此，中间层与表面层的密合性提高。

实施例

以下，举出实施例详细地对本发明进行说明。但是，本发明不限定于这些实施例。需要说明的是，各成分的配混量表示质量基准。例1～10中，例1～4、6～9为实施例，例5及10为比较例。

〔评价方法〕

(水接触角)

使用接触角测定装置(DM-500：制品名、协和界面科学株式会社制)对置于表面层的表面的约2μL的蒸馏水的接触角进行测定。在表面层的表面中的不同的5个部位进行测定并算出其平均值。在接触角的算出中使用2θ法。

(水滚落角)

将50μL的蒸馏水滴加到保持为水平的表面层上后，将设置有表面层的基材缓慢倾斜，使用滚落角测定装置(SA-11：制品名、协和界面科学株式会社制)对水滴开始滚落时的表面层的表面、和与水平面之间的角度(滚落角)进行测定。在表面层的表面的不同的5个部位滴加蒸馏水，测定各自的滚落角，并算出其平均值。

(指纹擦拭性)

用纤维素制无纺布(BEMCOT M-3：制品名、旭化成株式会社制)擦拭附着于表面层的指纹，通过目视判定其处理容易性。以下示出判定基准。

○(良好)：能够将指纹完全擦拭。

△(可)：指纹的擦痕残留。

×(不良)：指纹的擦痕展开，不能擦拭。

〔实施例中使用的化合物〕

(三嗪化合物)

化合物TN-3A：通过日本专利第5729852的实施例1的反应式1-1及反应式1-2的方法合成。

化合物TN-3B：通过日本专利第5729852的实施例4的反应式5-1及反应式5-2的合成方法合成。

化合物TS-A：使用日本专利第5166980的0034段落中使用的化合物。

(含氟醚化合物)

化合物1A：通过日本特开2015-199906的实施例1的化合物3的合成方法合成，为数均分子量4,430的化合物。

化合物1B：为数均分子量4,570的化合物。

〔例1～10〕

(基材的准备)

例1～10中，使用以下的各基材。

需要说明的是，用碱水溶液(Cica Clean LX-IV：制品名、关东化学株式会社制、浓度10质量％)对各基材进行清洗，进而用离子交换水进行清洗后，对所得清洗后的基材的单面进行电晕放电处理。然后，在基材的进行了电晕放电处理的面形成中间层(未形成中间层的情况下，为表面层)。

·蓝宝石：并木精密宝石株式会社制

·DLC：通过等离子体CVD法，原料使用乙炔，在玻璃基材(Dragontrail：注册商标、旭硝子株式会社制)的表面制膜形成约100nm的DLC(类金刚石碳)。

·硬涂层：用异丙醇以固体成分成为50质量％的方式对UV固化型树脂组合物(BEAMSET 575CL：制品名、荒川化学株式会社制)进行稀释，得到溶液。用棒涂机将所得溶液涂布于丙烯酸类基材(旭化成株式会社制)的表面，使具有包含溶剂的涂膜的丙烯酸类基材在80℃下干燥60秒钟后，利用高压水银灯以累积照射量成为300mJ/cm²的方式进行UV照射，得到带硬涂层的丙烯酸类树脂基材。

·SUS：不锈钢SUS304

(中间层的形成)

使用化合物TN-3A及TN-3B的情况下，按照以下步骤形成中间层。首先，制备包含0.1质量％的化合物TN-3A或TN-3B的水溶液。接着，将表1中记载的各基材在25℃的水溶液中浸渍10分钟后，用水充分进行清洗，在80℃下干燥30分钟。由此，在基材表面形成使用三嗪化合物而得到的中间层。

另一方面，使用化合物TS-A的情况下，按照以下步骤形成中间层。首先，制备在水及乙醇的混合溶剂(水：乙醇＝95质量％：5质量％)中包含0.1质量％的化合物TS-A的溶液。接着，将表1中记载的各基材在25℃的溶液中浸渍10分钟后，用水充分进行清洗，在80℃下干燥30分钟。由此，在基材表面形成使用三嗪化合物而得到的中间层。

需要说明的是，例5及10中未形成中间层。

(表面层的形成)

通过干涂法，在中间层的表面形成表面层。

具体而言，首先，将35mg的化合物1A或1B填充至真空蒸镀装置(SGC-22WA：制品名、昭和真空株式会社制)内的钼制料舟，对真空蒸镀装置内排气至5×10^-3Pa以下。接着，对配置有各化合物的料舟进行加热，将各化合物堆积于中间层的表面，由此在中间层的表面形成蒸镀膜。然后，将其在温度25℃、湿度40％RH的条件下放置12小时，得到在中间层的表面具有使用含氟醚化合物而得到的表面层的层叠体。

需要说明的是，例5及10中，未形成中间层，因此在基材上直接形成表面层，除此以外，按照上述步骤，得到层叠体。

[表1]

根据表1确认了：具有使用特定三嗪化合物而形成的中间层的情况下，能够形成水滚落角小的表面层，结果指纹擦拭性良好(例1～4、6～9)。由此，在具有使用特定三嗪化合物而形成的中间层的情况下，能够形成对多种多样的基材的指纹擦拭性优异的表面层。

另一方面确认了：不具有中间层的情况下，得到的表面层的水滚落角大，指纹擦拭性差(例5及10)。

需要说明的是，将2017年08月28日申请的日本专利申请2017-163310号的说明书、权利要求书及摘要的全部内容引用至此处，作为本发明的说明书的公开而并入。

Claims

1.一种层叠体，其特征在于，具有：基材、设置于基材上的中间层、和设置于所述中间层上的表面层，

所述中间层为使用三嗪化合物而形成的层，所述三嗪化合物具有：M-OH基及能生成所述M-OH基的基团中的至少一者、氨基及巯基中的至少一者、以及三嗪环，M-OH中，M表示金属原子或硅原子，

所述表面层为使用含氟醚化合物而形成的层，所述含氟醚化合物具有聚(氧全氟亚烷基)链，且具有键合于硅原子的水解性基团以及键合于硅原子的羟基中的至少一者。

2.根据权利要求1所述的层叠体，其中，所述三嗪化合物具有能生成M-OH基的基团，该能生成M-OH基的基团为水解性甲硅烷基。

3.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述三嗪化合物具有氨基。

4.根据权利要求3所述的层叠体，其中，所述三嗪化合物为下式TN-1或下式TN-2所示的化合物，

A^N1为-N(R^N1)-R^N2-Si(R^N3)_Nn(OR^N4)_3-Nn或-N{R^N2-Si(R^N3)_Nn(OR^N4)_3-Nn}₂，

A^N2为-N(R^N5)-R^N6(NH₂)_Nm或-N{R^N6(NH₂)_Nm}₂，

A^N3为所述A^N1、所述A^N2或-N(R^N7)-R^N8，

A^N4为2价的连接基团，

R^N1、R^N5及R^N7各自独立地为氢原子或1价的烃基，

R^N2为2价的连接基团，

R^N3及R^N8各自独立地为1价的烃基，

R^N4为氢原子或1价的烃基，

R^N6为(Nm+1)价的连接基团，

Nn为0～2的整数，Nm为1或2。

5.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述三嗪化合物具有巯基。

6.根据权利要求5所述的层叠体，其中，所述三嗪化合物为下式TS所示的化合物，

A^S为-N(R^S4)-R^S1-Si(R^S2)_Sn(OR^S3)_3-Sn或-N{R^S1-Si(R^S2)_Sn(OR^S3)_3-Sn}₂，

R^S1为单键或2价的连接基团，

R^S2为1价的烃基，

R^S3及R^S4各自独立地为氢原子或1价的烃基，

M^S1为氢原子或碱金属原子，

Sn为0～2的整数。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的层叠体，其中，所述含氟醚化合物由下式1表示，

[A-O-Z¹-(R^fO)_m-]_jZ²[-SiR_nL_3-n]_q 式1

A为全氟烷基或-Q[-SiR_nL_3-n]_k，

Q为(k+1)价的连接基团，

k为1～10的整数，

R为1价的烃基，

L为水解性基团或羟基，

n为0～2的整数，

Z¹为单键、1个以上的氢原子被氟原子取代的碳数1～20的氧氟亚烷基或1个以上的氢原子被氟原子取代的碳数1～20的聚(氧氟亚烷基)，

R^f为全氟亚烷基，

m为2～200的整数，

Z²为(j+q)价的连接基团，

j及q各自独立地为1以上的整数。

8.根据权利要求7所述的层叠体，其中，所述A为全氟烷基。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的层叠体，其中，所述基材在所述中间层侧的最表面具有蓝宝石层、金属层、金属氧化物层、类金刚石碳层或树脂层。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的层叠体，其中，所述层叠体用于电子设备用物品、运输设备用物品、精密设备用物品、光学设备用物品或建筑用物品。

11.一种层叠体的制造方法，其特征在于，所述层叠体具有：基材、设置于基材上的中间层、和设置于所述中间层上的表面层，

该方法中，使用三嗪化合物通过干涂法或湿涂法在基材上形成所述中间层，所述三嗪化合物具有：M-OH基及能生成所述M-OH基的基团中的至少一者、氨基及巯基中的至少一者、以及三嗪环，M-OH中，M表示金属原子或硅原子；接着，

使用含氟醚化合物通过干涂法或湿涂法在所述中间层上形成所述表面层，所述含氟醚化合物具有聚(氧全氟亚烷基)链，且具有键合于硅原子的水解性基团以及键合于硅原子的羟基中的至少一者。

12.根据权利要求11所述的制造方法，其中，所述干涂法为真空蒸镀法。

13.根据权利要求11所述的制造方法，其中，基于所述湿涂法的中间层的形成方法为如下方法：使用包含所述三嗪化合物及液体介质的组合物，将该组合物涂布于所述基材上，从所形成的包含液体介质的涂膜中将所述液体介质去除而形成中间层，

基于所述湿涂法的表面层的形成方法为如下方法：使用包含所述含氟醚化合物及液体介质的组合物，将该组合物涂布于所述中间层上，从所形成的包含液体介质的涂膜中将所述液体介质去除而形成表面层。

14.根据权利要求11～13中任一项所述的制造方法，其中，所述三嗪化合物为具有水解性甲硅烷基及三嗪环、且具有氨基或巯基的三嗪化合物。