JP2016060792A

JP2016060792A - サファイア基材用の表面処理剤

Info

Publication number: JP2016060792A
Application number: JP2014188790A
Authority: JP
Inventors: 清貴高尾; Kiyotaka Takao
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2014-09-17
Filing date: 2014-09-17
Publication date: 2016-04-25

Abstract

【課題】サファイア基材表面に、優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる、表面処理剤の提供。【解決手段】ペルフルオロポリエーテル基と加水分解性シリル基とを有するシラン化合物を含む、サファイア基材用の表面処理剤、この表面処理剤と媒体とを含むコーティング剤、この表面処理剤およびこのコーティング剤から形成される表面層を有するサファイア基材。【選択図】なし

Description

本発明は、ペルフルオロポリエーテル基および加水分解性シリル基を有するシラン化合物を含むサファイア基材用の表面処理剤、ならびに該表面処理剤から形成される表面層を有するサファイア基材に関する。

光学物品、ディスプレイ、光記録媒体等のサファイア基材を有する物品に対しては、水や汚れ（指紋、皮脂、汗、化粧品、食品等）が表面に付着しにくく、汚れが表面に付着しても容易に除去できる特性、すなわち撥水撥油性や汚れ除去性を有することが要求される。例えば、メガネレンズの表面に汚れが付着すると、視界を妨げ、見栄えを悪くすることがある。光記録媒体の表面に汚れが付着すると、信号の記録および再生に障害が発生することがある。ディスプレイの表面に汚れが付着すると、視認性が低下し、タッチパネル付きディスプレイにおいては操作性に悪影響を及ぼすことがある。

酸化アルミニウム基材表面の改良技術として、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロデシルジメチルクロロシラン等のペルフルオロアルキル基を有するシラン化合物から表面層を形成する技術が知られている（非特許文献１）。

Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｃ，２００７，１１１，３９５６−３９６２

しかしながら、本発明者らの知見によれば、非特許文献１に記載の表面層は、撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性が不充分である。

本発明は、サファイア基材表面に、優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる、表面処理剤の提供を目的とする。

本発明は、下記［１］〜［４］の構成を有する、サファイア基材用の表面処理剤、コーティング剤、表面層を有するサファイア基材を提供する。
［１］ペルフルオロポリエーテル基と加水分解性シリル基とを有するシラン化合物を含む、サファイア基材用の表面処理剤。
［２］前記シラン化合物が下式（１）で表される化合物である、［１］の表面処理剤。
Ｂ^１−（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１−Ａ^１・・・（１）
［式中、
Ａ^１は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
Ｂ^１は、Ｒ^Ｆ１−Ｏ−、Ｄ^１−Ｑ^１−Ｏ−ＣＨ_２−またはＡ^２−Ｏ−であり、
ここで、Ｒ^Ｆ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
Ｄ^１は、ＣＦ_３−またはＣＦ_３−Ｏ−であり、
Ｑ^１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
Ａ^２は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎ１は１〜２００の整数であり、ｎ１が２以上の場合、（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１は、ｍの異なる２種以上の（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）からなるものであってもよい。］
［３］前記［１］または［２］の表面処理剤と媒体とを含む、コーティング剤。
［４］前記［１］もしくは［２］の表面処理剤または前記［３］のコーティング剤から形成される表面層を有するサファイア基材。

本発明によれば、サファイア基材表面に、優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる、表面処理剤が提供できる。

［用語の定義］
本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）とも記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子を意味する。
「ペルフルオロアルキル基」とは、アルキル基の水素原子の全てがフッ素原子で置換された基を意味する。
「フルオロアルキレン基」とは、アルキレン基の水素原子の一部または全てがフッ素原子で置換された基を意味し、「ペルフルオロアルキレン基」とは、アルキレン基の水素原子の全てがフッ素原子で置換された基を意味する。なお、「フルオロアルキレン基」は、「ペルフルオロアルキレン基」を包含する。
「ペルフルオロポリエーテル基」は、２個以上のオキシペルフルオロアルキレン単位からなる基を意味する。ここで、オキシペルフルオロアルキレンの化学式は、その酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に配置したものを表す。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応することによって１個以上のシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を形成し得るシリル基を意味する。例えば式（３）中の−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃである。
「有機基」は、炭素原子を１個以上有する基を意味する。
「表面層」は、本発明の表面処理剤で、サファイア基材を表面処理することによって、サファイア基材表面に形成される層を意味する。「表面層」は、サファイア基材表面に、優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与するために存在する。

［ペルフルオロポリエーテル基と加水分解性シリル基とを有するシラン化合物］
本発明の表面処理剤（以下、「本表面処理剤」ともいう。）は、ペルフルオロポリエーテル基と加水分解性シリル基とを有するシラン化合物（以下、「本化合物」ともいう。）を含む。本表面処理剤に、本化合物の単一化合物が含まれていてもよく、本化合物の２種以上が含まれていてもよい。

本化合物は、ペルフルオロポリエーテル基を有しているため、本化合物を含む本表面処理剤を用いることにより、サファイア基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる。ここで、ペルフルオロポリエーテル基を構成する、２個以上のオキシペルフルオロアルキレン単位は、同じであってもよく、異なっていてもよい。また、各オキシペルフルオロアルキレン単位は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。サファイア基材表面により優れた撥油性を付与できるため、直鎖状が好ましい。

本化合物は、ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端のみに、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している化合物、およびペルフルオロポリエーテル基の両方の末端に、それぞれ、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している化合物を包含する。ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端が自由端となって、サファイア基材表面に優れた指紋汚れ除去性を付与できるため、ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端のみに、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している化合物が好ましい。なお、本表面処理剤における本化合物は、ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端のみに、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している化合物と、ペルフルオロポリエーテル基の両方の末端に、それぞれ、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している化合物との混合物であってもよい。

本化合物は、加水分解性シリル基を有しているため、本化合物を含む本表面処理剤を用いることにより、サファイア基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる。すなわち、加水分解性シリル基の加水分解反応によって形成するシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）が、サファイア基材表面の水酸基（Ａｌ−ＯＨ）と脱水縮合反応して化学結合（Ａｌ−Ｏ−Ｓｉ）が形成される。

（化合物（１））
本化合物は、具体的には、式（１）で表される化合物が好ましい。
Ｂ^１−（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１−Ａ^１・・・（１）
［式中、
Ａ^１は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
Ｂ^１は、Ｒ^Ｆ１−Ｏ−、Ｄ^１−Ｑ^１−Ｏ−ＣＨ_２−またはＡ^２−Ｏ−であり、
ここで、Ｒ^Ｆ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
Ｄ^１は、ＣＦ_３−またはＣＦ_３−Ｏ−であり、
Ｑ^１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
Ａ^２は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎ１は１〜２００の整数であり、ｎ１が２以上の場合、（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１は、ｍの異なる２種以上の（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）からなるものであってもよい。］

＜（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１＞
（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１は、ペルフルオロポリエーテル基である。そのため、化合物（１）を用いることにより、サファイア基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を充分に付与できる。
ｍは１〜６の整数である。（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）としては、（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）等が挙げられる。

ｎ１は、サファイア基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる点から、２以上の整数が好ましく、４以上の整数がさらに好ましく、５以上の整数が特に好ましい。本表面処理剤に他の成分を配合した場合に、優れた相溶性を発現できる点から、ｎ１は、１００以下の整数が好ましく、８０以下の整数がより好ましく、６０以下の整数が特に好ましい。本表面処理剤に、化合物（１）の２種以上が含まれる場合、ｎ１は平均値である。この場合、ｎ１は整数でなくてもよい。

ｎ１が２以上の場合、（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１は、ｍの異なる２種以上の（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）からなるものであってもよい。この場合、各（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）の結合順序は限定されない。例えば、（ＣＦ_２Ｏ）（ｍが１である。）と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）（ｍが２である。）の２種が存在する場合、（ＣＦ_２Ｏ）と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）がランダムに配置されてもよく、（ＣＦ_２Ｏ）と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）が交互に配置されてもよく、複数の（ＣＦ_２Ｏ）からなるブロックと複数の（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）からなるブロックが連結していてもよい。

好ましい（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１としては、以下の基が挙げられる。
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ２（ただし、ｎ２×２＝ｎ１である。）、
（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ３（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ４（ただし、ｎ３＋ｎ４＝ｎ１である。）、
（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１、
（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１。

＜Ａ^１＞
Ａ^１は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基である。Ａ^１が加水分解性シリル基を有するため、化合物（１）を用いることにより、サファイア基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる。

Ａ^１が有する加水分解性シリル基の数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜３が特に好ましい。ここで、加水分解性シリル基の数は、加水分解によってシラノール基を形成できるケイ素原子の数に相当する。

好ましいＡ^１としては、下式（３）で表される基が挙げられる。
−Ｃ_ａＦ_２ａ−Ｅ−（−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ）_ｄ・・・（３）
［式中、
ａは１〜２０の整数であり、
Ｅは、単結合、２価の連結基、または３価の連結基であり、
ｂは１〜１０の整数であり、
ｃは０〜３の整数であり、
Ｌ^１は加水分解性基であり、
Ｒ^１１は、水素原子、加水分解性シリル基を有さない１価の炭化水素基、または加水分解性シリル基を有する１価の炭化水素基であり、
ｄは１または２であり、Ｅが単結合または２価の連結基の場合、ｄは１であり、Ｅが３価の連結基の場合、ｄは２であり、
ｄが２の場合、２つの−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃは、互いに同一であっても、異なっていてもよいが、
ただし、式（３）中、少なくとも１個の加水分解性基が存在する。］

Ｅは、単結合、２価の連結基または３価の連結基である。連結基とは、該基を介して、原子または原子団を結合する基である。連結基は、炭素原子を１以上有する有機連結基であることが好ましく、−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−に連結する末端に窒素原子またはエーテル性酸素原子を有する有機連結基であることがより好ましい。
２価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｃ_ｅＨ_２ｅＯ−（ただし、ｅは１〜５の整数である。）、−Ｃ_ｆＨ_２ｆＯ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（ただし、ｆは１〜５の整数である。）または−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−が特に好ましい。ここで、−Ｏ−および−Ｃ_ｅＨ_２ｅＯ−は、酸素原子に−Ｃ_ｃＨ_２ｃ−ＳｉＬ^１ _ｄＲ^１１ _３−ｄで表される基が結合し、−Ｃ_ｆＨ_２ｆＯ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−および−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−は、窒素原子に−Ｃ_ｃＨ_２ｃ−ＳｉＬ^１ _ｄＲ^１１ _３−ｄで表される基が結合する。
３価の連結基として、−Ｃ_ｅＨ_２ｅＯ−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ＝または−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ＝が特に好ましい。ここで、Ｎからのびる「＝」は二重結合ではなく、２つの単結合であることを意味する。すなわち、３価の連結基において、窒素原子には、２つの−Ｃ_ｃＨ_２ｃ−ＳｉＬ^１ _ｄＲ^１１ _３−ｄで表される基が結合する。

Ｒ^１１は、水素原子、加水分解性シリル基を有さない１価の炭化水素基、または加水分解性シリル基を有する１価の炭化水素基である。
加水分解性シリル基を有さない１価の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基等が挙げられる。加水分解性シリル基を有さない１価の炭化水素基としては、製造容易な点から、炭素数が１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数が１〜３のアルキル基がより好ましく、炭素数が１〜２のアルキル基が特に好ましい。

加水分解性シリル基を有する１価の炭化水素基は、下式（４）が好ましい。
−Ｚ^１−ＳｉＬ^２ _ｇＲ^１２ _３−ｇ・・・（４）
［式中、ｇは０〜３の整数であり、
Ｌ^２は加水分解性基であり、
Ｚ^１は、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基、または−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｈは、０〜６である。）で表される基であり、
Ｒ^１２は、水素原子、加水分解性シリル基を有さない１価の炭化水素基、または下式（５）：
−Ｚ^２−ＳｉＬ^３ _ｊＲ^１３ _３−ｊ・・・（５）
（式中、ｊは０〜３の整数であり、
Ｌ^３は加水分解性基であり、
Ｒ^１３は水素原子または加水分解性シリル基を有さない１価の炭化水素基であり、
Ｚ^２は、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基、または−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｋ−（式中、ｋは、０〜６である）で表される基である。）であるが、
ただし、式（４）中、少なくとも１個の加水分解性基が存在する。]

Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３は、加水分解性基である。加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、式（１）の末端の−Ｓｉ−Ｌ^１部分、式（４）の末端の−Ｓｉ−Ｌ^２部分、式（５）の末端の−Ｓｉ−Ｌ^３部分は、加水分解反応によりシラノール基（−Ｓｉ−ＯＨ）となる。

加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イソシアナト基等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。アシル基としては、炭素数２〜５のアシル基が好ましい。アシルオキシ基としては、炭素数２〜５のアシルオキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。加水分解性基としては、工業的な製造が容易な点から、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子または炭素数２〜５のアシルオキシ基が好ましい。加水分解性基としては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物（１）の保存安定性に優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物（１）の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
Ｌ^１、Ｌ^２およびＬ^３は、互いに同じであっても、異なっていてもよい。

ａは１〜２０の整数であり、１〜５の整数が好ましい。ａが３以上の場合、Ｃ_ａＦ_２ａは直鎖状であっても、分岐状であってもよく、直鎖状が好ましい。Ｃ_ａＦ_２ａとしては、サファイア基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる点から、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）−が特に好ましい。

ｂは１〜１０の整数であり、１〜６の整数が好ましく、３〜５が特に好ましい。ｂが３以上の場合、Ｃ_ｂＨ_２ｂは直鎖状であっても、分岐状であってもよく、直鎖状が好ましい。Ｃ_ｂＨ_２ｂとしては、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−が特に好ましい。

ｃは０〜３の整数であり、２または３が好ましく、３が特に好ましい。分子中にＬ^１が複数存在することによって、Ｌ^１の加水分解反応によって形成するシラノール基とサファイア基材表面の水酸基との脱水縮合反応による化学結合がより強固になる。ｃが２以上である場合、１分子中に存在する複数のＬ^１は互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造が容易な点からは、Ｌ^１は互いに同じであることが好ましい。

ｄは１または２である。ｄが２の場合、２つの−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃは、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造が容易な点からは、互いに同一であることが好ましい。
ｅは１〜５の整数であり、１〜３の整数が好ましい。ｄが３以上の場合、Ｃ_ｄＨ_２ｄは直鎖状であっても、分岐状であってもよく、直鎖状が好ましい。−Ｃ_ｅＨ_２ｅＯ−としては、−ＣＨ_２Ｏ−が特に好ましい。
ｆは１〜５の整数であり、１〜３の整数が好ましい。ｅが３以上の場合、Ｃ_ｅＨ_２ｅは直鎖状であっても、分岐状であってもよく、直鎖状が好ましい。−Ｃ_ｆＨ_２ｆＯ−としては、−ＣＨ_２Ｏ−が特に好ましい。

Ｚ^１およびＺ^２は、炭素数１〜２０のアルキレン基が好ましい。
ｇは０〜３の整数であり、２または３が好ましく、３が特に好ましい。分子中にＬ^２が複数存在することによって、Ｌ^２の加水分解反応によって形成するシラノール基とサファイア基材表面の水酸基との脱水縮合反応による化学結合がより強固になる。ｇが２以上である場合、１分子中に存在する複数のＬ^２は互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造が容易な点からは、Ｌ^２は互いに同じであることが好ましい。
ｊは０〜３の整数であり、２または３が好ましく、３が特に好ましい。分子中にＬ^３が複数存在することによって、Ｌ^３の加水分解反応によって形成するシラノール基とサファイア基材表面の水酸基との脱水縮合反応による化学結合がより強固になる。ｊが２以上である場合、１分子中に存在する複数のＬ^３は互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造が容易な点からは、Ｌ^３は互いに同じであることが好ましい。

式（３）中、少なくとも１個の加水分解性基が存在する。すなわち、式（３）で表される基において、ｃが１以上（すなわち、少なくとも１個のＬ^１が存在する。）か、少なくとも１個のＲ^１１が加水分解性シリル基を有する１価の炭化水素基である。
また、式（４）中、少なくとも１個の加水分解性基が存在する。すなわち、式（４）で表される基において、ｇが１以上（すなわち、少なくとも１個のＬ^２が存在する。）か、少なくとも１個のＲ^１２が、ｊが１以上である（すなわち、少なくとも１個のＬ^３が存在する。）、式（５）で表される基である。

好ましい−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃとしては、以下の基が挙げられる。
−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、
−ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、
−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、
−ＳｉＣｌ_３、
−Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ_３）_３、
−Ｓｉ（ＮＣＯ）_３、
−Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３）_３、
−Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_３、
−Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３）_２．２（ＯＣＨ_３）_０．８、
−Ｓｉ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_２．２（ＯＣＨ_３）_０．８｝_３、
−Ｓｉ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３）_２．５（ＯＣＨ_３）_０．５］_３、
−Ｓｉ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_２．５（ＯＣＨ_３）_０．５｝_３。

−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃとしては、−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、−ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２、−Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３、−ＳｉＣｌ_３、−Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ_３）_３、−Ｓｉ（ＮＣＯ）_３がより好ましく、工業的な製造における取扱いやすさの点から、−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３が特に好ましい。

より好ましいＡ^１としては、以下の基が挙げられる。
−Ｃ_ａＦ_２ａ−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−Ｃ_ａＦ_２ａ−Ｏ−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−Ｃ_ａＦ_２ａ−Ｃ_ｅＨ_２ｅＯ−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−Ｃ_ａＦ_２ａ−Ｃ_ｆＨ_２ｆＯ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−Ｃ_ａＦ_２ａ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−Ｃ_ａＦ_２ａ−Ｃ_ｅＨ_２ｅＯ−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ）_２、
−Ｃ_ａＦ_２ａ−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ）_２。

特に好ましいＡ^１としては、以下の基が挙げられる。ここで、−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃは、前記の好ましい例が適用される。
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ、
−ＣＦ_２−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ）_２、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ）_２。

＜Ｂ^１＞
Ｂ^１は、Ｒ^Ｆ１−Ｏ−、Ｄ^１−Ｑ^１−Ｏ−ＣＨ_２−またはＡ^２−Ｏ−である。ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端のみに、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している本化合物は、Ｂ^１がＲ^Ｆ１−Ｏ−またはＤ^１−Ｑ^１−Ｏ−ＣＨ_２−である化合物（１）であり、ペルフルオロポリエーテル基の両方の末端に、それぞれ、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している本化合物は、Ｂ^１がＡ^２−Ｏ−である化合物（１）である。
Ｂ^１がＲ^Ｆ１−Ｏ−またはＤ^１−Ｑ^１−Ｏ−ＣＨ_２−である場合、化合物（１）の一方の末端がＣＦ_３−となる。そのため、サファイア基材表面に優れた指紋汚れ除去性を付与できる。
Ｂ^１は、サファイア基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性を付与できる点からは、Ｒ^Ｆ１−Ｏ−が好ましい。

＜＜Ｒ^Ｆ１＞＞
Ｒ^Ｆ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。Ｒ^Ｆ１の具体例としては、ＣＦ_３−、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３−、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_４−、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５−、ＣＦ_３ＣＦ（ＣＦ_３）−等が挙げられる。Ｒ^Ｆ１としては、サファイア基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性を付与できる点から、ＣＦ_３−、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２−、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３−が好ましい。

＜＜Ｑ^１＞＞
Ｑ^１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基である。Ｑ^１における水素原子の数は、１以上であり、２以上が好ましく、３以上が特に好ましい。

Ｑ^１の具体例としては、下式（６−１）、下式（６−２）または下式（６−３）で表される基が挙げられる。
−Ｒ^Ｆ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２− ・・・（６−１）
−Ｒ^Ｆ−ＣＨＦＣＦ_２− ・・・（６−２）
−Ｒ^Ｆ−Ｃ_ｚＨ_２ｚ− ・・・（６−３）
［式中、
Ｒ^Ｆは、単結合、炭素数１〜１５のペルフルオロアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１５のペルフルオロアルキレン基であり、
Ｒ^Ｆは、前記Ｄ^１に結合し、
ｚは１〜４の整数であり、
ただし、Ｄ^１がＣＦ_３−Ｏ−であるとき、式（６−１）および式（６−２）において、Ｒ^Ｆは単結合ではない。］

Ｒ^Ｆは、サファイア基材表面により優れた指紋汚れ除去性、潤滑性を付与できる点から、炭素数１〜９のペルフルオロアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１３のペルフルオロアルキレン基が好ましい。ここで、ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状でも分岐状でもよい。ｚは１〜３の整数が好ましい。ｚが３または４の場合、Ｃ_ｚＨ_２ｚは直鎖状であっても、分岐状であってもよく、直鎖状が好ましい。

Ｑ^１が式（６−１）で表される基である場合のＤ^１−Ｑ^１−基の具体例としては、下記が挙げられる。
ＣＦ_３−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−、
ＣＦ_３−Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−、
ＣＦ_３−Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−。

Ｑ^１が式（６−２）で表される基である場合のＤ^１−Ｑ^１−基の具体例としては、下記が挙げられる。
ＣＦ_３−ＣＨＦＣＦ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２−ＣＨＦＣＦ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨＦＣＦ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨＦＣＦ_２−。

Ｑ^１が式（６−３）で表される基である場合のＤ^１−Ｑ^１−基の具体例としては、下記が挙げられる。
ＣＦ_３−ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−Ｏ−ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＯＣＦ_２−ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−ＣＨ_２−、
ＣＦ_３−ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−ＣＨ_２−。

＜＜Ａ^２＞＞
Ａ^２は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基である。Ａ^２の例示は、好ましい例も含め、Ａ^１に関する記載が適用される。

＜化合物（１）の好ましい態様＞

好ましい化合物（１）としては、下記の化合物（１ａ−１）〜（１ａ−１８）が挙げられる。

国際公開第２００９／００８３８０号および特開２０１２−１３１６８３号公報に記載の化合物（１ａ−１）〜（１ａ−３）。なお、ｎ５は１〜２００の整数である。
ＣＦ_３Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ５−ＣＦ_２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−１）
ＣＦ_３Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ５−ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−２）
ＣＦ_３Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ５−ＣＦ_２−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２・・・（１ａ−３）

国際公開第２０１３／１２１９８６号に記載の化合物（１ａ−４）〜（１ａ−１４）。なお、ｎ６は１〜９９の整数であり、ｎ７＋ｎ８は２〜２００の整数である。
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ６−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−４）
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ６−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−５）
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ６−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−６）
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ６−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−７）
ＣＦ_３Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ６−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−８）
ＣＦ_３Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ６−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−９）
ＣＦ_３Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ６−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−１０）
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ７（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ８−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−１１）
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ７（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ８−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−１２）
ＣＦ_３Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ６−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−１３）
ＣＦ_３Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ６−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−１４）

特開２０１１−１１６９４７号公報に記載の化合物（１ａ−１５）および（１ａ−１６）。なお、ｎ９は０〜８０の整数であり、ｎ１０は１〜８０の整数であり、ｎ９＋ｎ１０は１〜１００の整数である。
ＣＦ_３Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ９（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１０−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−１５）
（ＣＨ_３Ｏ）_３Ｓｉ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＨ_２−ＣＦ_２−Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ９（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１０−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−１６）

国際公開第２０１４／０６９５９２号に記載の化合物（１ａ−１７）。なお、ｎ１１は１〜２００の整数である。
ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１１−ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_２．５（ＯＣＨ_３）_０．５｝_３・・・（１ａ−１７）

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＦ_２Ｏ｛（ＣＦ_２Ｏ）_{ｎ１２−１}（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１３｝−ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−１８）
なお、ｎ１２＋ｎ１３は２〜２００の整数である。

本化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、２，０００〜１０，０００が好ましく、２，５００〜８，０００がより好ましく、３，０００〜６，０００が特に好ましい。上記範囲内であれば、サファイア基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与でき、また、本表面処理剤に他の成分を配合した場合に、他の成分との相溶性に優れる。
本化合物の数平均分子量は、ＮＭＲ分析法を用い、下記の方法で算出される。
^１Ｈ−ＮＭＲまたは^１９Ｆ−ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。末端基は、例えば式（１）中のＡ^１である。

［化合物（１）の製造方法］
Ｂ^１がＲ^Ｆ１−Ｏ−またはＡ^２−Ｏ−である化合物（１）は、公知の方法により製造することができる。例えば、化合物（１ａ−１）〜（１ａ−３）は、国際公開第２００９／００８３８０号に記載された方法により製造できる。化合物（１ａ−４）〜(１ａ−１４)は、国際公開第２０１３／１２１９８６号に記載された方法により製造できる。化合物（１ａ−１５）および（１ａ−１６）は、特開２０１１−１１６９４７号公報に記載された方法により製造できる。化合物（１ａ−１７）は、国際公開第２０１４／０６９５９２号に記載された方法により製造できる。

Ｂ^１がＤ^１−Ｑ^１−Ｏ−ＣＨ_２−である化合物（１）の製造方法について、式（１１１）で表される化合物を例に説明する。
Ｄ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＦ_２Ｏ［（ＣＦ_２Ｏ）_{ｎ１２−１}（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１３］−ＣＦ_２ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−ＳｉＬ_ｃＲ_３−ｃ・・・（１１１）

（化合物（１１１）の製造方法）
＜方法ｉ＞化合物（１１１）は、ｂが３以上の場合、下記のようにして製造できる。
塩基性化合物の存在下、化合物（１０）にＤ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ_２を反応させて、化合物（１１）、化合物（２１）および未反応の化合物（１０）の混合物を得る。化合物（１０）は、市販品としてＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫＤ４０００（ソルベイソレクシス社製）が挙げられる。
ＨＯ−ＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ［（ＣＦ_２Ｏ）_{ｎ１２−１}（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１３］ＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨ・・・（１０）
Ｄ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＦ_２Ｏ［（ＣＦ_２Ｏ）_{ｎ１２−１}（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１３］−ＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨ・・・（１１）
Ｄ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＦ_２Ｏ［（ＣＦ_２Ｏ）_{ｎ１２−１}（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１３］−ＣＦ_２ＣＨ_２−Ｏ−ＣＦ_２ＣＨＦ−Ｏ−Ｒ^Ｆ−Ｄ^１・・・（２１）

混合物から化合物（１１）を単離し、塩基性化合物の存在下、化合物（１１）にＸ−Ｃ_ｂ−２Ｈ_{２（ｂ−２）}−ＣＨ＝ＣＨ_２を反応させて、化合物（１２）を得る。Ｘは、脱離基であり、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ等である。
Ｄ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＦ_２Ｏ［（ＣＦ_２Ｏ）_{ｎ１２−１}（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１３］−ＣＦ_２ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ_ｂ−２Ｈ_{２（ｂ−２）}−ＣＨ＝ＣＨ_２・・・（１２）

化合物（１２）とＨＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃとをヒドロシリル化反応させて、化合物（１１１ａ）、または化合物（１１１ａ）および化合物（１１１ｂ）の混合物を得る。ヒドロシリル化反応は、白金等の遷移金属触媒または有機過酸化物等のラジカル発生剤を用いて行うことが好ましい。
Ｄ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＦ_２Ｏ［（ＣＦ_２Ｏ）_{ｎ１２−１}（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１３］−ＣＦ_２ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ_ｂ−２Ｈ_{２（ｂ−２）}−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ・・・（１１１ａ）
Ｄ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＦ_２Ｏ［（ＣＦ_２Ｏ）_{ｎ１２−１}（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１３］−ＣＦ_２ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ_ｂ−２Ｈ_{２（ｂ−２）}−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ・・・（１１１ｂ）

＜方法ｉｉ＞化合物（１１１）は、ｂが１以上の場合、下記のようにして製造できる。
塩基性化合物の存在下、化合物（１１）にＸ−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃを反応させて、化合物（１１１）を得る。Ｘは、脱離基であり、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ等である。
Ｄ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＦ_２Ｏ［（ＣＦ_２Ｏ）_{ｎ１２−１}（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１３］−ＣＦ_２ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−ＳｉＬ^１ _ｃＲ^１１ _３−ｃ・・・（１１１）

［表面処理剤］
本表面処理剤は、本化合物を含む。本表面処理剤は、本化合物のみからなっていてもよい。本表面処理剤には、本化合物の製造上、不可避的に混入する化合物（以下、「不純物」ともいう。）が含まれていてもよい。本表面処理剤は、本化合物と不純物以外の他の成分を含んでいてもよい。

（他の成分）
他の成分としては、例えば、加水分解性シリル基を有さないペルフルオロポリエーテル化合物（以下、「含フッ素エーテル化合物」ともいう。）および触媒等が挙げられる。本表面処理剤における、含フッ素エーテル化合物および触媒以外の他の成分の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下が特に好ましい。

＜含フッ素エーテル化合物＞
含フッ素エーテル化合物としては、化合物（１）の製造過程で副生する化合物および化合物（１）と同様の用途に使用される公知の（特に市販の）化合物等が挙げられる。含フッ素エーテル化合物としては、下記化合物（７）および化合物（８）が好ましい。

＜＜化合物（７）＞＞
化合物（７）は、下式（７）で表される含フッ素エーテル化合物である。
Ｒ^Ｆ２−Ｏ−（Ｃ_ｑＦ_２ｑＯ）_ｎ１４−Ｒ^Ｆ３・・・（７）
［式中、
Ｒ^Ｆ２およびＲ^Ｆ３は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
ｑは１〜６の整数であり、
ｎ１４は１〜２００の整数であり、ｎ１４が２以上のとき、（Ｃ_ｑＦ_２ｑＯ）_ｎ１４は、ｑの異なる２種以上の（Ｃ_ｑＦ_２ｑＯ）からなるものであってもよい。］

Ｒ^Ｆ２およびＲ^Ｆ３の例示は、好ましい例も含め、Ｒ^Ｆ１に関する記載が適用される。
（Ｃ_ｑＦ_２ｑＯ）_ｎ１４の例示は、好ましい例も含め、（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１に関する記載が適用される。（Ｃ_ｑＦ_２ｑＯ）_ｎ１４は、化合物（１）の製造過程で副生する化合物を有効に利用できる点から、式（１）における（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１と同じであることが好ましい。たとえば、化合物（１）が［（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ２］を有する化合物である場合は、化合物（７）も［（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ２］を有する化合物であることが特に好ましい。

化合物（７）は、市販品を用いることができる。市販品としては、ＦＯＭＢＬＩＮＭ、ＦＯＭＢＬＩＮＹ、ＦＯＭＢＬＩＮＺ（以上、ソルベイソレクシス社製）、Ｋｒｙｔｏｘ（デュポン社製）、デムナム（ダイキン工業社製）等が挙げられる。

＜＜化合物（８）＞＞
化合物（８）は、下式（８）で表される含フッ素エーテル化合物である。
Ｄ^２−Ｑ^２−Ｏ−ＣＨ_２−（Ｃ_ｒＦ_２ｒＯ）_ｎ１５−Ｃ_ｔＦ_２ｔ−ＣＨ_２−Ｏ−Ｑ^３−Ｄ^３・・・（８）
［式中、
Ｄ^２およびＤ^３は、それぞれ独立に、ＣＦ_３−またはＣＦ_３−Ｏ−であり、
Ｑ^２およびＱ^３は、それぞれ独立に、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
ｔは１〜５の整数であり、
ｒは１〜６の整数であり、
ｎ１５は１〜２００の整数であり、ｎ１５が２以上のとき、（Ｃ_ｒＦ_２ｒＯ）_ｎ１５は、ｒの異なる２種以上の（Ｃ_ｒＦ_２ｒＯ）からなるものであってもよい。］

Ｑ^２およびＱ^３の例示は、好ましい例も含め、Ｑ^１に関する記載が適用される。Ｑ^２およびＱ^３が、式（６−１）、式（６−２）または式（６−３）で表される基の場合、Ｑ^２においては、Ｒ^ＦはＤ^２に結合し、Ｑ^３においては、Ｒ^ＦはＤ^３に結合する。ただし、Ｄ^２がＣＦ_３−Ｏ−であるとき、式（６−１）および式（６−２）において、Ｑ^Ｆ２は単結合ではない。また、Ｄ^３がＣＦ_３−Ｏ−であるとき、式（６−１）および式（６−２）において、Ｑ^Ｆ２は単結合ではない。

（Ｃ_ｒＦ_２ｒＯ）_ｎ１５の例示は、好ましい例も含め、（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１に関する記載が適用される。（Ｃ_ｒＦ_２ｒＯ）_ｎ１５は、化合物（１）の製造過程で副生する化合物（例えば、化合物（２１））を有効に利用できる点から、式（１）における（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１と同じであることが好ましい。

化合物（８）の具体例としては、下式で表される化合物が挙げられる。なお、式中の２つのＲ^Ｆ基の種類は同じでも異なっていてもよい。
Ｄ^２−Ｒ^Ｆ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２ＣＦ_２−Ｏ［（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ２］−ＣＦ_２ＣＨ_２−Ｏ−ＣＦ_２ＣＨＦ−Ｏ−Ｒ^Ｆ−Ｄ^３、
Ｄ^２−Ｒ^Ｆ−ＣＨＦＣＦ_２−Ｏ−ＣＨ_２ＣＦ_２−Ｏ［（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ２］−ＣＦ_２ＣＨ_２−Ｏ−ＣＦ_２ＣＨＦ−Ｒ^Ｆ−Ｄ^３、
Ｄ^２−Ｒ^Ｆ−Ｃ_ｚＨ_２ｚ−Ｏ−ＣＨ_２ＣＦ_２−Ｏ［（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ２］−ＣＦ_２ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ_ｚＨ_２ｚ−Ｒ^Ｆ−Ｄ^３。

本表面処理剤における、含フッ素エーテル化合物の含有量は、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下が特に好ましい。

＜触媒＞
触媒としては、本化合物の加水分解性シリル基の加水分解と脱水縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒が挙げられる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等が挙げられる。
本表面処理剤における、触媒の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下が特に好ましい。

［コーティング液］
本発明におけるコーティング液（以下、「本コーティング液」ともいう。）は、本表面処理剤と媒体とを含む。本コーティング液は、液状であれば特に限定されず、溶液であってもよく、分散液であってもよい。

本コーティング液における固形分濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜１質量％が特に好ましい。本コーティング液の固形分濃度は、加熱前の本表面処理剤の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出する値である。
本コーティング液における本化合物の濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．１〜１質量％が特に好ましい。

（媒体）
媒体としては、液状媒体が挙げられ、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であっても、非フッ素系有機溶媒であってもよく、両方の溶媒を併用してもよい。媒体の量は、本コーティング液中、９０〜９９．９９９質量％が好ましく、９９〜９９．９質量％が特に好ましい。

フッ素系有機溶媒は、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられ、本化合物の溶解性の点から、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテルが好ましく、フルオロアルキルエーテルが特に好ましい。

フッ素化アルカンとしては、炭素数４〜８の化合物が挙げられる。市販品としては、例えばＣ_６Ｆ_１３Ｈ（ＡＣ−２０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（ＡＣ−６０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（バートレル：製品名、デュポン社製）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、例えばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４〜１２の化合物が挙げられる。市販品としては、例えばＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ_６Ｆ_１３ＯＣＨ_３（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、例えばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、例えば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。

非フッ素系有機溶媒は、水素原子と炭素原子のみからなる化合物、水素原子と炭素原子と酸素原子のみからなる化合物が挙げられ、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が好ましく、本化合物の溶解性の点から、ケトン系有機溶媒が特に好ましい。

炭化水素系有機溶媒としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等が好ましい。
アルコール系有機溶媒としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール等が好ましい。
ケトン系有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が好ましい。
エーテル系有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等が好ましい。
エステル系有機溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等が好ましい。

媒体としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、水素原子と炭素原子のみからなる化合物、および水素原子と炭素原子と酸素原子のみからなる化合物からなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒が好ましい。特に、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物およびフルオロアルキルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種のフッ素系有機溶媒が好ましい。本化合物の溶解性向上の点から、これらの溶媒の量は、媒体全体中、９０質量％以上であることが好ましい。

［サファイア基材］
サファイア基材は、サファイアからなる基材である。サファイアのみからなってもよく、サファイアの有する優れた特性に影響を及ぼさない範囲でサファイア以外の化合物を含んでいてもよい。機械的強度や光透過性に優れる点からは、サファイアのみからなることが好ましい。

サファイアは、コランダム構造を有する、α型アルミナ（六方晶）単結晶材料である。サファイアの結晶方位面は、以下の面が挙げられる。

高い強度を有することから、サファイアの結晶方位面はａ面が好ましい。なお、サファイア基材自体に所望の高度および光透過性を付与するために、アモルファスアルミナ、透明アルミナ、他のサファイア様材料、多結晶型化合物等を組み合わせてもよい。サファイアの製造方法としては、ベルヌーイ（Verneuil）法、チョクラルスキ（Czochralski）法、ＥＰＧ（Edge-defined film-fed Growth）法が挙げられる。

サファイア基材は、光透過性を有することが好ましい。「光透過性」とは、ＪＩＳＲ１３０６に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であることを意味し、５０%以上であることが好ましい。

（表面層）
本発明の表面処理剤をサファイア基材表面に適用することによって、表面層が形成される。表面層の厚さは、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。表面層の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、表面層の存在により、サファイア基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性を付与できる。前記範囲の上限値以下であれば、コストを低減でき、かつ表面層を有するサファイア基材の光透過率が高くなる。
なお、表面層の厚さは、例えば薄膜解析用Ｘ線回折計ＡＴＸ−Ｇ（ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、該干渉パターンの振動周期から算出できる。

（製造方法）
表面層を有するサファイア基材の製造方法は、本発明の本表面処理剤またはコーティング液を用いて、サファイア基材表面を処理する工程を有する。処理の方法としては、ドライコーティング法またはウェットコーティング法が挙げられる。

＜ドライコーティング法＞
ドライコーティング法による表面層を有するサファイア基材の製造方法は、表面処理剤をサファイア基材表面にドライコーティングする工程を含む。

ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。本化合物の分解を抑える点、および装置の簡便な点から、真空蒸着法が好ましい。真空蒸着法は、抵抗加熱法、電子ビーム加熱法、高周波誘導加熱法、反応性蒸着、分子線エピタキシー法、ホットウォール蒸着法、イオンプレーティング法、クラスターイオンビーム法等に細分することができるが、いずれの方法も適用できる。本化合物の分解を抑制する点、および装置の簡便さの点から、抵抗加熱法が好適に利用できる。真空蒸着装置は特に制限なく、公知の装置が利用できる。

真空蒸着法を用いる場合の成膜条件は、適用する真空蒸着法の種類によって異なるが、抵抗加熱法の場合、蒸着前真空度は１×１０^−２Ｐａ以下が好ましく、１×１０^−３Ｐａ以下が特に好ましい。蒸着源の加熱温度は、３０〜４００℃が好ましく、５０〜３００℃が特に好ましい。加熱温度が前記範囲の下限値以上であれば、成膜速度に優れる。前記範囲の上限値以下であれば、本化合物の分解が生じることなく、サファイア基材表面に撥水撥油性、潤滑性、指紋汚れ除去性を付与できる。真空蒸着時、サファイア基材の温度は室温（２０〜２５℃）から２００℃までの範囲であることが好ましい。サファイア基材の温度が２００℃以下であれば、成膜速度に優れる。サファイア基材の温度の上限値は１５０℃以下がより好ましく、１００℃以下が特に好ましい。

＜ウェットコーティング法＞
ウェットコーティング法による表面層を有するサファイア基材の製造方法は、本発明の表面処理剤またはコーティング液をサファイア基材表面に塗布する工程を含む。コーティング液を使用する場合には、媒体を除去する工程をさらに含む。
塗布方法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法またはグラビアコート法が好ましい。
媒体を除去する方法としては、加熱、真空、加熱および真空が挙げられる。乾燥温度は１０〜３００℃が好ましく、２０〜２００℃が特に好ましい。

＜後処理＞
サファイア基材に表面層を形成した後に、必要に応じて、本化合物とサファイア基材との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿等が挙げられる。例えば、水分を有する大気中で表面層が形成されたサファイア基材を加熱して、サファイア基材表面に存在する水酸基等と加水分解性シリル基の加水分解反応によって形成するシラノール基が有する水酸基との反応等の反応を促進することができる。表面処理後、表面層中の化合物であって他の化合物やサファイア基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、例えば、表面層に溶媒をかけ流す方法や、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法が挙げられる。

以下、実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において「％」は特に断りのない限り「質量％」である。なお、例１は実施例、例２は比較例である。

［評価方法］
（測定・評価）
＜水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角の測定方法＞
サファイア基材の表面層の表面に置いた、約２μＬの蒸留水またはｎ−ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置ＤＭ−５００（協和界面科学社製）を用いて測定した。サファイア基材の表面層の表面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。

＜指紋汚れ除去性＞
人工指紋液（オレイン酸とスクアレンとからなる液）を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布（ベンコットＭ−３：製品名、旭化成社製）にて拭き取ることによって、指紋のスタンプを準備した。該指紋スタンプを、表面層を有するサファイア基材の表面層上に乗せ、１ｋｇの荷重にて１０秒間押しつける方法で、指紋をサファイア基材の表面層の全面に付着させた。次に、表面層に付着した指紋を、ティッシュペーパを取り付けた、往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、荷重５００ｇにて拭き取った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、１０往復拭き取るまでの間に、ヘーズが０．５以下に達したら合格、０．５以下に達しなかったら不合格とした。

＜動摩擦係数＞
表面層を有するサファイア基材の人工皮膚（ＰＢＺ１３００１、出光テクノファイン社製）に対する動摩擦係数を、荷重変動型摩擦摩耗試験システムＨＨＳ２０００（新東科学社製）を用い、接触面積３ｃｍ×３ｃｍ、荷重１００ｇの条件で測定した。
動摩擦係数が小さいほど潤滑性に優れる。

［例１］
国際公開第２０１３／１２１９８６号の例３に記載の化合物（１ａ−４）（ただし、ｎの平均値は７）と化合物（１ａ−５）（ただし、ｎの平均値は７）との混合物（１）、媒体としてのＣ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。サファイア基材（人工サファイア、結晶方位面ｃ面、信光社製）を該コーティング液にディッピングし（ディップコート法）、３０分間放置後、サファイア基材を引き上げた。サファイア基材を２００℃で３０分間乾燥させ、アサヒクリンＡＫ−２２５（旭硝子社製）にて洗浄することにより、表面層を有するサファイア基材を得た。表面層の膜厚は１０ｎｍであった。
表面層の水接触角、ｎ−ヘキサデカン接触角、指紋汚れ除去性および動摩擦係数の評価結果を表１に示す。
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−４）
ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３・・・（１ａ−５）

［例２］
非特許文献Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｃ，２００７，１１１，３９５６−３９６２に記載の化合物（２）と媒体としてのＣ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。サファイア基材（人工サファイア、結晶方位面ｃ面、信光社製）を該コーティング液にディッピングし（ディップコート法）、３０分間放置後、サファイア基材を引き上げた。サファイア基材を２００℃で３０分間乾燥させ、アサヒクリンＡＫ−２２５（旭硝子社製）にて洗浄することにより、表面層を有するサファイア基材を得た。表面層の膜厚は１０ｎｍであった。
表面層の水接触角、ｎ−ヘキサデカン接触角、指紋汚れ除去性および動摩擦係数の評価結果を表１に示す。
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｃｌ・・・（２）

表１の結果より、本化合物を用いた例１は、表面層の撥水撥油性が高く、指紋汚れ除去性、潤滑性に優れる。一方、ペルフルオロポリエーテル基を有さない化合物を用いた例２は、特に、指紋汚れ除去性、潤滑性に劣る。

本表面処理剤を用いて形成される表面層を有するサファイア基材は、電子材料および光学材料（例えば、内視鏡レンズ、移動通信デバイス、指紋読取装置、自動送金機、ゴーグル、カメラ、赤外線撮像システム、レンズ、タッチパネルまたは窓等）に用いることができ、タッチパネルを構成する部材として好適である。タッチパネルとは、指等による接触によってその接触位置情報を入力する装置と表示装置とを組み合わせた入力／表示装置（タッチパネル装置）の、入力装置である。タッチパネルは、サファイア基材と、入力検出方式に応じて、透明導電膜、電極、配線、ＩＣ等とから構成されている。サファイア基材の表面層を有する面をタッチパネルの入力面とすることによって、優れた指紋汚れ除去性および潤滑性を有するタッチパネルが得られる。潤滑性が優れると、タッチパネルのタッチ感が優れ、操作性が向上する。本表面処理剤は、タッチパネルのサファイア基材の表面処理に好適に用いることができる。

Claims

ペルフルオロポリエーテル基と加水分解性シリル基とを有するシラン化合物を含む、サファイア基材用の表面処理剤。
前記シラン化合物が下式（１）で表される化合物である、請求項１に記載の表面処理剤。
Ｂ^１−（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１−Ａ^１・・・（１）
［式中、
Ａ^１は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
Ｂ^１は、Ｒ^Ｆ１−Ｏ−、Ｄ^１−Ｑ^１−Ｏ−ＣＨ_２−またはＡ^２−Ｏ−であり、
ここで、Ｒ^Ｆ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
Ｄ^１は、ＣＦ_３−またはＣＦ_３−Ｏ−であり、
Ｑ^１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
Ａ^２は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎ１は１〜２００の整数であり、ｎ１が２以上の場合、（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）_ｎ１は、ｍの異なる２種以上の（Ｃ_ｍＦ_２ｍＯ）からなるものであってもよい。］
請求項１または２に記載の表面処理剤と媒体とを含む、コーティング剤。
請求項１もしくは２に記載の表面処理剤または請求項３に記載のコーティング剤から形成される表面層を有するサファイア基材。