CN111032926B - 铝合金的阳极氧化被膜用染料固定处理剂和封孔处理方法 - Google Patents
铝合金的阳极氧化被膜用染料固定处理剂和封孔处理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111032926B CN111032926B CN201880056257.5A CN201880056257A CN111032926B CN 111032926 B CN111032926 B CN 111032926B CN 201880056257 A CN201880056257 A CN 201880056257A CN 111032926 B CN111032926 B CN 111032926B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- dye
- aluminum alloy
- treatment
- sealing treatment
- anodic oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title claims abstract description 128
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 54
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 60
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 19
- 150000002696 manganese Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 54
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 39
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 27
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 claims description 23
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims description 17
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 6
- 229940071125 manganese acetate Drugs 0.000 claims description 5
- UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);diacetate Chemical compound [Mn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N manganese(2+);dinitrate Chemical compound [Mn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QGBLCIBATKETJC-UHFFFAOYSA-N 3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane;manganese(2+) Chemical compound [Mn+2].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 QGBLCIBATKETJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910021380 Manganese Chloride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L Manganese chloride Chemical compound Cl[Mn]Cl GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 239000011656 manganese carbonate Substances 0.000 claims description 2
- 235000006748 manganese carbonate Nutrition 0.000 claims description 2
- 229940093474 manganese carbonate Drugs 0.000 claims description 2
- 239000011565 manganese chloride Substances 0.000 claims description 2
- 235000002867 manganese chloride Nutrition 0.000 claims description 2
- 229940099607 manganese chloride Drugs 0.000 claims description 2
- 229940099596 manganese sulfate Drugs 0.000 claims description 2
- 239000011702 manganese sulphate Substances 0.000 claims description 2
- 235000007079 manganese sulphate Nutrition 0.000 claims description 2
- 229910000016 manganese(II) carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SQQMAOCOWKFBNP-UHFFFAOYSA-L manganese(II) sulfate Chemical compound [Mn+2].[O-]S([O-])(=O)=O SQQMAOCOWKFBNP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- XMWCXZJXESXBBY-UHFFFAOYSA-L manganese(ii) carbonate Chemical compound [Mn+2].[O-]C([O-])=O XMWCXZJXESXBBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical group [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 abstract 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 86
- -1 polyoxyethylene Polymers 0.000 description 66
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 52
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 48
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 22
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 18
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 17
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 14
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 14
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 13
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical group C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical group N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 7
- CPNGPNLZQNNVQM-UHFFFAOYSA-N pteridine Chemical group N1=CN=CC2=NC=CN=C21 CPNGPNLZQNNVQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 6
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZSIQJIWKELUFRJ-UHFFFAOYSA-N azepane Chemical group C1CCCNCC1 ZSIQJIWKELUFRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 6
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 6
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 6
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 6
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 6
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 5
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 5
- 229940024606 amino acid Drugs 0.000 description 5
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 5
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 5
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 2-aminopyridine Chemical compound NC1=CC=CC=N1 ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical group C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 4
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005011 alkyl ether group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 description 4
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 4
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 4
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 4
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 4
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002636 imidazolinyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 4
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 description 4
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 4
- WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N Glutamic acid Natural products OC(=O)C(N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003927 aminopyridines Chemical class 0.000 description 3
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 3
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 235000013922 glutamic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000004220 glutamic acid Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 3
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N methylimidazole Natural products CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- NUKYPUAOHBNCPY-UHFFFAOYSA-N 4-aminopyridine Chemical compound NC1=CC=NC=C1 NUKYPUAOHBNCPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GEHMBYLTCISYNY-UHFFFAOYSA-N Ammonium sulfamate Chemical compound [NH4+].NS([O-])(=O)=O GEHMBYLTCISYNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerol Natural products OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 2
- OWIKHYCFFJSOEH-UHFFFAOYSA-N Isocyanic acid Chemical compound N=C=O OWIKHYCFFJSOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N L-alanine Chemical compound C[C@H](N)C(O)=O QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N L-histidine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CN=CN1 HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 2
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 235000004279 alanine Nutrition 0.000 description 2
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- DVARTQFDIMZBAA-UHFFFAOYSA-O ammonium nitrate Chemical compound [NH4+].[O-][N+]([O-])=O DVARTQFDIMZBAA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000002393 azetidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 125000006841 cyclic skeleton Chemical class 0.000 description 2
- AUTNMGCKBXKHNV-UHFFFAOYSA-P diazanium;3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound [NH4+].[NH4+].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 AUTNMGCKBXKHNV-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229960004979 fampridine Drugs 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- HNDVDQJCIGZPNO-UHFFFAOYSA-N histidine Natural products OC(=O)C(N)CC1=CN=CN1 HNDVDQJCIGZPNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- WUUHFRRPHJEEKV-UHFFFAOYSA-N tripotassium borate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]B([O-])[O-] WUUHFRRPHJEEKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- MTCFGRXMJLQNBG-REOHCLBHSA-N (2S)-2-Amino-3-hydroxypropansäure Chemical compound OC[C@H](N)C(O)=O MTCFGRXMJLQNBG-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- QJEINWXAHGQZHL-UHFFFAOYSA-N 2-aminoethanol;2-[bis(2-hydroxyethyl)amino]ethanol Chemical compound NCCO.OCCN(CCO)CCO QJEINWXAHGQZHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004475 Arginine Substances 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical class OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- 206010020751 Hypersensitivity Diseases 0.000 description 1
- XUJNEKJLAYXESH-REOHCLBHSA-N L-Cysteine Chemical compound SC[C@H](N)C(O)=O XUJNEKJLAYXESH-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- ONIBWKKTOPOVIA-BYPYZUCNSA-N L-Proline Chemical compound OC(=O)[C@@H]1CCCN1 ONIBWKKTOPOVIA-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- ODKSFYDXXFIFQN-BYPYZUCNSA-P L-argininium(2+) Chemical compound NC(=[NH2+])NCCC[C@H]([NH3+])C(O)=O ODKSFYDXXFIFQN-BYPYZUCNSA-P 0.000 description 1
- AGPKZVBTJJNPAG-WHFBIAKZSA-N L-isoleucine Chemical compound CC[C@H](C)[C@H](N)C(O)=O AGPKZVBTJJNPAG-WHFBIAKZSA-N 0.000 description 1
- ROHFNLRQFUQHCH-YFKPBYRVSA-N L-leucine Chemical compound CC(C)C[C@H](N)C(O)=O ROHFNLRQFUQHCH-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N L-lysine Chemical compound NCCCC[C@H](N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- FFEARJCKVFRZRR-BYPYZUCNSA-N L-methionine Chemical compound CSCC[C@H](N)C(O)=O FFEARJCKVFRZRR-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- COLNVLDHVKWLRT-QMMMGPOBSA-N L-phenylalanine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CC=CC=C1 COLNVLDHVKWLRT-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- AYFVYJQAPQTCCC-GBXIJSLDSA-N L-threonine Chemical compound C[C@@H](O)[C@H](N)C(O)=O AYFVYJQAPQTCCC-GBXIJSLDSA-N 0.000 description 1
- QIVBCDIJIAJPQS-VIFPVBQESA-N L-tryptophane Chemical compound C1=CC=C2C(C[C@H](N)C(O)=O)=CNC2=C1 QIVBCDIJIAJPQS-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- OUYCCCASQSFEME-QMMMGPOBSA-N L-tyrosine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CC=C(O)C=C1 OUYCCCASQSFEME-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- KZSNJWFQEVHDMF-BYPYZUCNSA-N L-valine Chemical compound CC(C)[C@H](N)C(O)=O KZSNJWFQEVHDMF-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- ROHFNLRQFUQHCH-UHFFFAOYSA-N Leucine Natural products CC(C)CC(N)C(O)=O ROHFNLRQFUQHCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 1
- ONIBWKKTOPOVIA-UHFFFAOYSA-N Proline Natural products OC(=O)C1CCCN1 ONIBWKKTOPOVIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTCFGRXMJLQNBG-UHFFFAOYSA-N Serine Natural products OCC(N)C(O)=O MTCFGRXMJLQNBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYFVYJQAPQTCCC-UHFFFAOYSA-N Threonine Natural products CC(O)C(N)C(O)=O AYFVYJQAPQTCCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004473 Threonine Substances 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIVBCDIJIAJPQS-UHFFFAOYSA-N Tryptophan Natural products C1=CC=C2C(CC(N)C(O)=O)=CNC2=C1 QIVBCDIJIAJPQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZSNJWFQEVHDMF-UHFFFAOYSA-N Valine Natural products CC(C)C(N)C(O)=O KZSNJWFQEVHDMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 208000026935 allergic disease Diseases 0.000 description 1
- 230000007815 allergy Effects 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- ODKSFYDXXFIFQN-UHFFFAOYSA-N arginine Natural products OC(=O)C(N)CCCNC(N)=N ODKSFYDXXFIFQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HONIICLYMWZJFZ-UHFFFAOYSA-N azetidine Chemical compound C1CNC1 HONIICLYMWZJFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- XUJNEKJLAYXESH-UHFFFAOYSA-N cysteine Natural products SCC(N)C(O)=O XUJNEKJLAYXESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000018417 cysteine Nutrition 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000004512 die casting Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- AGPKZVBTJJNPAG-UHFFFAOYSA-N isoleucine Natural products CCC(C)C(N)C(O)=O AGPKZVBTJJNPAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000310 isoleucine Drugs 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229930182817 methionine Natural products 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- COLNVLDHVKWLRT-UHFFFAOYSA-N phenylalanine Natural products OC(=O)C(N)CC1=CC=CC=C1 COLNVLDHVKWLRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 229910052705 radium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940073490 sodium glutamate Drugs 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- OUYCCCASQSFEME-UHFFFAOYSA-N tyrosine Natural products OC(=O)C(N)CC1=CC=C(O)C=C1 OUYCCCASQSFEME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000002374 tyrosine Nutrition 0.000 description 1
- 239000004474 valine Substances 0.000 description 1
- 235000014393 valine Nutrition 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/18—After-treatment, e.g. pore-sealing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/18—After-treatment, e.g. pore-sealing
- C25D11/24—Chemical after-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Abstract
本发明提供一种染色固定手段和封孔处理方法，即使对铝合金的阳极氧化被膜在染色处理后进行封孔处理，也能够抑制脱色、提高染色的固定性。本发明提供一种铝合金的阳极氧化被膜用染料固定处理剂，其特征在于，含有锰盐，且pH为5.0以下。
Description
技术领域
本发明涉及铝合金的阳极氧化被膜用染料固定处理剂和封孔处理方法。
背景技术
对于铝合金的阳极氧化被膜，为了实现防污、提高抗腐蚀性等，通常实施封孔处理。作为封孔处理方法，已知有沸水封孔、水蒸气封孔、常温封孔、使用乙酸镍水溶液进行封孔处理的乙酸镍封孔等。
其中，乙酸镍封孔由于与沸水封孔相比更容易得到被膜的抗腐蚀性，与水蒸气封孔相比作业效率优异，与常温封孔相比更容易进行液体管理等的理由，尤其得到利用。
然而，近年来，由于镍过敏、微粉末性的镍盐的毒性成为问题，期望通过不使用镍盐的封孔处理方法来制造与乙酸镍封孔具有同等程度的抗腐蚀性、封孔度等封孔性能的阳极氧化被膜。
作为如上所述的封孔处理方法，提出了使用由含有水溶性的2价锰盐以及选自磺酸盐型阴离子性表面活性剂和硫酸酯盐型阴离子性表面活性剂中的至少1种阴离子性表面活性剂的水溶液构成的铝合金的阳极氧化被膜用封孔处理液进行封孔处理的方法(参照专利文献1)。
使用了上述的封孔处理液的封孔处理方法虽然也是优异的封孔处理方法，但对于铝合金的阳极氧化被膜的染色的固定并未进行过探讨。对于阳极氧化被膜中，出于外观设计性等目的，通过染色工序实施染色。染色工序在封孔处理前进行，阳极氧化被膜被染色，接着进行封孔处理。但存在因该封孔处理而导致脱色，使染色的固定性降低的问题。
因此，需要开发出一种染色固定手段和封孔处理方法，即使对铝合金的阳极氧化被膜在染色处理后进行封孔处理，也能够抑制脱色，提高染色的固定性。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2015－4083号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明是鉴于上述现有技术中的问题而作出的，本发明的目的在于提供一种染色固定手段和封孔处理方法，即使对铝合金的阳极氧化被膜在染色处理后进行封孔处理，也能够抑制脱色，提高染色的固定性。
用于解决课题的方法
本发明的发明人为了实现上述目的而进行了锐意研究。结果发现，通过在染色处理后且封孔处理前，使用含有锰盐且pH为5.0以下的铝合金的阳极氧化被膜用染料固定处理剂进行染色固定处理，能够实现上述目的，从而完成了本发明。
即，本发明涉及后述的染料固定处理剂和封孔处理方法。
1.一种铝合金的阳极氧化被膜用染料固定处理剂，其特征在于，含有锰盐，且pH为5.0以下。
2.如项1所述的染料固定处理剂，其中，还含有阴离子系表面活性剂。
3.如项1或2所述的染料固定处理剂，其中，还含有pH缓冲剂。
4.一种铝合金的阳极氧化被膜的封孔处理方法，其特征在于，包括：
(1)对铝合金的阳极氧化被膜进行染色处理的工序1；
(2)将染色后的阳极氧化被膜浸渍于染料固定处理剂来进行染色固定处理的工序2；和
(3)对染色固定处理后的阳极氧化被膜进行封孔处理的工序3，其中，染料固定处理剂含有锰盐，且pH为5.0以下。
5.如项4所述的封孔处理方法，其中，染料固定处理剂的温度为55～95℃。
6.如项4或5所述的封孔处理方法，其中，在染料固定处理剂中的浸渍时间为1～30分钟。
7.如项4～6中任一项所述的封孔处理方法，其中，工序3是将染色固定处理后的阳极氧化被膜浸渍于封孔处理液的工序。
8.如项4～7中任一项所述的封孔处理方法，其中，封孔处理液的pH为5.1～8.0。
9.如项7或8所述的封孔处理方法，其中，封孔处理液不含镍系金属盐。
10.一种具有通过项4所述的方法进行了封孔处理的铝合金的阳极氧化被膜的物品。
发明的效果
采用本发明的铝合金的阳极氧化被膜用染料固定处理剂，通过在染色处理后使用该染料固定处理剂进行染色固定处理，能够赋予铝合金的阳极氧化被膜优异的染色固定性，能够抑制在后续工序中对阳极氧化被膜进行封孔处理时的脱色。
另外，采用本发明的铝合金的阳极氧化被膜的封孔处理方法，对铝合金的阳极氧化被膜进行染色处理，使用特定的染料固定处理剂进行染色固定处理，接着进行封孔处理，由此，能够赋予铝合金的阳极氧化被膜优异的染色的固定性，能够抑制封孔处理中的脱色。
具体实施方式
下面，对本发明进行详细说明。
1.铝合金的阳极氧化被膜用染料固定处理剂
本发明的铝合金的阳极氧化被膜用染料固定处理剂(下面，也简单称为“染料固定处理剂”。)含有锰盐，且pH为5.0以下。
作为锰盐，没有特别限定，能够使用乙酸锰、硝酸锰、硫酸锰、氯化锰、硼酸锰、碳酸锰等。这些之中，从染色固定性更加优异的方面考虑，优选乙酸锰、硝酸锰，更优选乙酸锰。上述锰盐能够单独使用一种或混合二种以上使用。
染料固定处理剂中的锰盐的含量没有特别限定，优选为0.1～10.0g/L，更优选为0.2～2.0g/L。通过使锰盐的含量的下限在上述范围，能够进一步提高染色固定性。通过使锰盐的含量的上限在上述范围，染色固定处理时抑制褪色的性能优异。
本发明的染料固定处理剂的pH为5.0以下。染料固定处理剂的pH超过5.0时，得不到充分的染色固定性。pH优选为4.5以下，更优选为4.0以下。另外，pH优选为2.0以上，更优选为3.0以上，更优选为3.5以上。通过使pH的下限在上述范围，能够进一步提高染色固定性。
(阴离子系表面活性剂)
本发明的染料固定处理剂中优选还含有阴离子系表面活性剂。通过含有阴离子系表面活性剂，能够进一步提高染色固定性，并且，能够抑制阳极氧化被膜的表面的粉化、雾浊外观不良。
作为阴离子系表面活性剂，没有特别限定，能够使用硫酸盐系表面活性剂、磺酸盐系表面活性剂、磷系表面活性剂等。
作为硫酸盐系表面活性剂，可以列举芳香族硫酸盐系表面活性剂、脂肪族硫酸盐系表面活性剂等。
作为上述芳香族硫酸盐系表面活性剂，例如，可以列举聚氧乙烯烷基苯醚硫酸盐。另外，作为脂肪族硫酸盐系表面活性剂，例如，可以列举聚氧乙烯烷基醚硫酸盐。
作为磺酸盐系表面活性剂，可以列举芳香族磺酸盐系表面活性剂等。
作为上述芳香族磺酸盐系表面活性剂，可以列举苯磺酸盐、萘磺酸盐等芳香族磺酸盐化合物、或在苯磺酸盐、萘磺酸盐等的芳香族磺酸盐骨架上取代有烷基、聚氧乙烯、聚氧乙烯烷基醚基、羧基、羰基、羟基、醇基、乙烯基或烯丙基等亚烷基、具有多键的基团、另外的磺酸基的化合物等，另外，还可以列举将这些化合物利用甲醛等得到的缩聚物、以及共聚物等。作为这样的芳香族磺酸盐系表面活性剂，例如，可以列举烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐以及这些的甲醛等的缩聚物、萘磺酸盐的甲醛等的缩聚物、从苯磺酸亚烷基酯、萘磺酸亚烷基酯等得到的共聚物等。
作为上述芳香族磺酸盐系表面活性剂，还可以列举二苯醚二磺酸盐等的多个苯基磺酸盐通过醚键结合的化合物，还可以列举在该化合物取代有烷基、聚氧乙烯、聚氧乙烯烷基醚基等的化合物。作为这样的芳香族磺酸盐系表面活性剂，例如，可以列举烷基二苯醚二磺酸盐、烷基二苯醚二磺基琥珀酸盐等。
作为磷系表面活性剂，能够使用磷酸酯系表面活性剂、磷酸酯盐系表面活性剂等。具体而言，可以列举聚氧乙烯烷基醚磷酸酯、聚氧乙烯亚烷基化苯醚磷酸酯、烷基磷酸酯等和这些的盐。
作为上述阴离子系表面活性剂，优选磺酸盐系表面活性剂。
上述阴离子系表面活性剂能够单独使用一种或混合两种以上使用。
染料固定处理剂中的阴离子系表面活性剂的浓度没有特别限定，优选为10mg/L～10g/L，更优选为20mg/L～5g/L。通过使表面活性剂的浓度在上述范围，能够进一步提高染色固定性。
(pH缓冲剂)
本发明的染料固定处理剂中优选进一步含有pH缓冲剂。通过含有pH缓冲剂，能够进一步提高染色固定性，而且，能够抑制阳极氧化被膜表面的粉化和雾浊外观不良。
作为pH缓冲剂，没有特别限定，能够使用现有公知的pH缓冲剂。作为这样的pH缓冲剂，例如，可以列举氨基酸、有机酸盐、铵盐、硼酸盐、胺化合物、含氮杂环式化合物等。这些之中，从能够进一步提高染色固定性并且抑制阳极氧化被膜表面的粉化和雾浊外观不良的方面考虑，优选氨基酸。
作为氨基酸，可以列举谷氨酸、甘氨酸、丙氨酸、精氨酸、半胱氨酸、组氨酸、异亮氨酸、亮氨酸、赖氨酸、蛋氨酸、苯基丙氨酸、脯氨酸、丝氨酸、苏氨酸、色氨酸、酪氨酸、缬氨酸、天冬氨酸等或这些的盐。这些之中，从pH缓冲作用的方面考虑，优选谷氨酸及其盐、组氨酸及其盐、天冬氨酸及其盐，更优选谷氨酸、天冬氨酸和这些盐。
作为有机酸盐，可以列举羧酸或含氧羧酸的盐。上述羧酸、含氧羧酸的碳原子数优选4个以下。另外，作为上述盐，可以列举钠盐、钾盐。
作为铵盐，可以列举有机酸的铵盐、无机酸的铵盐。作为有机酸的铵盐，可以列举羧酸或含氧羧酸的铵盐。上述羧酸、含氧羧酸的碳原子数优选4个以下。另外，作为无机酸的铵盐，可以列举硫酸铵盐、硝酸铵盐、氨基磺酸铵盐等。
作为硼酸盐，可以列举硼酸钠、硼酸钾、硼酸铵等。
作为胺化合物，可以列举单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺的乙醇胺，另外，可以列举烷基胺、芳香族胺、或尿素等水溶性羰基胺等。
作为含氮杂环式化合物，可以列举作为杂原子含有至少1个氮原子的杂环式化合物、作为杂原子含有至少1个氮原子和至少1个氧原子的杂环式化合物。
作为上述含氮杂环式化合物，可以列举包含乙亚胺环、氮杂环丙烯环、氮杂环丁烷环、氮杂环丁二烯环、吡咯烷环、吡咯环、哌啶环、吡啶环、六亚甲基亚胺环、氮杂庚间三烯环、咪唑环、吡唑环、噁唑环、咪唑啉环、吡嗪环、吗啉环、蝶啶环、嘌呤环等的含氮杂环式化合物。这些之中，优选包括包含吡咯烷环、吡咯环、哌啶环、吡啶环、六亚甲基亚胺环、氮杂庚间三烯环、咪唑环、吡唑环、噁唑环、咪唑啉环、吡嗪环、吗啉环、蝶啶环、嘌呤环等的含氮杂环式化合物。
作为上述含氮杂环式化合物，可以列举乙亚胺、氮杂环丙烯、氮杂环丁烷、氮杂环丁二烯、吡咯烷、吡咯、哌啶、吡啶、六亚甲基亚胺、氮杂环庚间三烯、咪唑、吡唑、噁唑、咪唑啉、吡嗪、吗啉、蝶啶、嘌呤等，也能够使用在这些骨架上加成了氨基、甲基的化合物。这些之中，优选在环状构成原子中具有一个或二个氮原子作为杂原子且碳或者一个杂原子氧与碳构成的环状5元～7元环的杂环式化合物，具体而言，可以列举以吡咯烷、吡咯、哌啶、吡啶、六亚甲基亚胺、氮杂环庚间三烯、咪唑、吡唑、噁唑、咪唑啉、吡嗪、吗啉等化合物和以其环状骨架作为基本构造的化合物组。另外，也优选具有多环构造且具有4个以上杂原子氮的物质，例如嘌呤、蝶啶等化合物和以其多环状骨架作为基本构造的化合物组。其中，更优选为5～6元环的化合物，可以列举吡咯烷、吡咯、哌啶、吡啶、咪唑、吡唑、噁唑、咪唑啉、吡嗪、吗啉等化合物与以其环状骨架作为基本构造的化合物组。这些之中，特别优选在环内具有双键的吡咯、吡啶、咪唑、吡唑、噁唑、咪唑啉、吡嗪等化合物与以其环状骨架作为基本构造的化合物组。作为构成这些化合物组的取代基，可以列举氨基、甲基等，也可以使用加成有这些取代基的化合物组。例如特别优选2－氨基吡啶、4－氨基吡啶等氨基吡啶等、2－甲基咪唑等甲基咪唑等化合物。其中，最优选吡啶、咪唑、氨基吡啶、甲基咪唑等。
上述pH缓冲剂能够单独使用一种或混合两种以上使用。
染料固定处理剂中的pH缓冲剂的浓度没有特别限定，优选为0.1～20g/L，更优选为0.2～5g/L。通过使pH缓冲剂的浓度在上述范围，染料固定处理剂能够显示优异的pH缓冲性，并且，能够抑制由于pH缓冲剂的浓度过高而发生的处理品表面的外观不良(干燥痕)和染色品的脱色。
(pH调节剂)
本发明的染料固定处理剂可以进一步含有pH调节剂。作为pH调节剂，没有特别限定，能够使用现有公知的pH调节剂。
作为用于将染料固定处理剂调节到酸性侧的pH调节剂，例如，可以列举乙酸、氨基磺酸、硫酸、硝酸、有机磺酸等的稀释水溶液。这些之中，从能够进一步提高染色固定性的方面考虑，优选硝酸。
作为用于将染料固定处理剂调节到碱性侧的pH调节剂，例如，可以列举氨水、氢氧化钠水溶液、氢氧化钾水溶液等。这些之中，从能够进一步提高染色固定性的方面考虑，优选氢氧化钠水溶液。
上述pH调节剂能够单独使用一种或混合两种以上使用。
染料固定处理剂中的pH调节剂的浓度没有特别限定，优选为0～20g/L，更优选为0～10g/L，进一步优选为0～5g/L。通过使pH调节剂的浓度在上述范围，能够进一步提高染色固定性。
(其它的成分)
为了进一步提高染色固定性、提高染料固定处理剂的使用实用性，本发明的染料固定处理剂可以根据需要含有防霉剂、配位剂等的添加剂成分。作为添加剂，例如，可以列举苯甲酸、苯甲酸盐等防霉剂；柠檬酸、柠檬酸盐等配位剂等。另外，作为防霉剂，可以添加市售的防霉剂、例如“TAC KABIKORON”(奥野制药工业株式会社制)。
本发明的染料固定处理剂中只要含有锰盐即可，其它的成分没有特别限定，优选为含有上述的各成分的水溶液。
本发明的染料固定处理剂中优选不含锰盐以外的金属盐。作为这样的锰盐以外的金属盐，可以列举Ni、Co、Fe、Cr等的金属盐，这些之中，更优选不含镍系金属盐。
2.封孔处理方法
本发明的封孔处理方法为铝合金的阳极氧化被膜的封孔处理方法，其特征在于，包括：(1)对铝合金的阳极氧化被膜进行染色处理的工序1；(2)将染色后的阳极氧化被膜浸渍于染料固定处理剂来进行染色固定处理的工序2；和(3)对染色固定处理后的阳极氧化被膜进行封孔处理的工序3，该染料固定处理剂含有锰盐，且pH为5.0以下。
(工序1)
工序1是对铝合金的阳极氧化被膜进行染色处理的工序。作为染色处理，没有特别限定，可以列举利用染料的着色。
作为利用染料的着色，可以列举在现有公知的染料水溶液中浸渍阳极氧化被膜的方法。作为这样的染料，能够使用作为铝合金阳极氧化被膜用染料销售的染料，例如，可以列举阴离子系染料等。上述染料水溶液的温度优选为10～70℃，更优选为20～60℃。另外，上述染料水溶液中的染料的浓度和浸渍时间依照所期望的染色的色调、颜色的浓淡适当设定即可。
通过以上所说明的工序1，铝合金的阳极氧化被膜被染色处理。
(工序2)
工序2是将染色后的阳极氧化被膜浸渍于染料固定处理剂来进行染色固定处理的工序。作为染料固定处理剂，使用上述所说明的染料固定处理剂即可。
在染料固定处理剂中浸渍染色后的阳极氧化被膜时，将在一部分形成有阳极氧化被膜的铝合金浸渍于染料固定处理剂中即可。另外，该铝合金与其它的部件接合而形成为物品时，将该物品整个浸渍于染料固定处理剂中即可。
将阳极氧化被膜浸渍于染料固定处理剂时的染料固定处理剂的温度优选为55～95℃，更优选为60～90℃，更加优选为70～80℃。通过使染料固定处理剂的温度在上述范围，能够进一步提高阳极氧化被膜的染色固定性。
将阳极氧化被膜浸渍于染料固定处理剂时的浸渍时间优选为1～30分钟，更优选为2～10分钟。通过使浸渍时间的下限在上述范围，能够进一步提高阳极氧化被膜的染色固定性。另外，通过使浸渍时间的上限在上述范围，生产效率优异。
在工序2中，可以在工序1的染色处理后对铝合金的阳极氧化被膜进行充分的水洗，并使其干燥，之后浸渍于上述染料固定处理剂中。由此，能够进一步提高阳极氧化被膜的染色固定性。
通过以上所说明的工序2，阳极氧化被膜被染色固定处理。
(工序3)
工序3是对染色固定处理后的阳极氧化被膜进行封孔处理的工序。
作为封孔处理，没有特别限定，只要通过现有公知封孔处理方法进行处理即可。作为这样的封孔处理方法，优选将染色固定处理后的阳极氧化被膜浸渍于封孔处理液的方法。
作为上述封孔处理液，优选含有金属盐、pH缓冲剂和表面活性剂的铝合金的阳极氧化被膜用封孔处理液。下面，对于该封孔处理液进行说明。
(金属盐)
封孔处理液优选含有金属盐。这样的金属盐为选自碱金属盐、碱土金属盐和过渡金属盐中的至少1种。作为上述碱金属盐、碱土金属盐、过渡金属盐没有特别限定，优选水溶性的盐，可以列举羧酸盐、氨基磺酸盐、硫酸盐、硝酸盐、有机磺酸盐等。这些之中，从封孔处理后的铝合金的阳极氧化被膜的耐污染性优异的方面考虑，优选羧酸盐、氨基磺酸盐、硫酸盐、硝酸盐，更优选乙酸盐、氨基磺酸盐、硫酸盐、硝酸盐，更优选乙酸盐、硝酸盐，特别优选硝酸盐。上述金属盐能够单独使用一种或混合两种以上使用。
作为上述金属盐所含的金属，优选碱金属、碱土金属和过渡金属，具体而言，可以列举Li、Be、Na、Mg、K、Ca、Rb、Sr、Cs、Ba、Fr、Ra、Zr、Mn、Fe。这些之中，从封孔处理后的铝合金的阳极氧化被膜的耐污染性优异的方面考虑，更优选Na、Mg、K、Ca、Ba、Mn的金属盐，更优选Mg、Ca、Mn的金属盐。上述金属盐所含的金属能够单独使用一种或者混合两种以上使用。
封孔处理液中的金属盐的浓度没有特别限定，优选为0.001～1摩尔/L，更优选为0.003～0.3摩尔/L。通过使金属盐的浓度在上述范围，封孔处理液能够显示充分的封孔性能，利用封孔处理液进行了封孔处理的铝合金的阳极氧化被膜能够显示充分的耐污染性。
(pH缓冲剂)
作为pH缓冲剂没有特别限定，能够使用现有公知的pH缓冲剂。作为这样的pH缓冲剂，例如，可以列举有机酸盐、铵盐、氨基酸、硼酸盐、胺化合物、含氮杂环式化合物等。这些之中，从能够进一步提高阳极氧化被膜的染色固定性并且赋予利用封孔处理液进行了封孔处理的铝合金的阳极氧化被膜优异的耐污染性的方面考虑，优选含氮杂环式化合物。
作为有机酸盐，可以列举羧酸或含氧羧酸的盐。上述羧酸、含氧羧酸的碳原子数优选4个以下。另外，作为上述盐，可以列举钠盐、钾盐。
作为铵盐，可以列举有机酸的铵盐、无机酸的铵盐。作为有机酸的铵盐，可以列举羧酸或含氧羧酸的铵盐。上述羧酸、含氧羧酸的碳原子数优选为4个以下。另外，作为无机酸的铵盐，可以列举硫酸铵盐、硝酸铵盐、氨基磺酸铵盐等。
作为氨基酸，可以列举甘氨酸、丙氨酸、天冬氨酸等或其盐。作为硼酸盐，可以列举硼酸钠、硼酸钾、硼酸铵等。作为胺化合物，可以列举单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺这样的乙醇胺，另外，可以列举烷基胺、芳香族胺、或尿素等水溶性羰基胺等。
作为含氮杂环式化合物，可以列举作为杂原子含有至少1个氮原子的杂环式化合物、作为杂原子含有至少1个氮原子和至少1个氧原子的杂环式化合物。
作为上述含氮杂环式化合物，可以列举包含乙亚胺环、氮杂环丙烯环、氮杂环丁烷环、氮杂环丁二烯环、吡咯烷环、吡咯环、哌啶环、吡啶环、六亚甲基亚胺环、氮杂庚间三烯环、咪唑环、吡唑环、噁唑环、咪唑啉环、吡嗪环、吗啉环、蝶啶环、嘌呤环等的含氮杂环式化合物。这些之中，优选包括包含吡咯烷环、吡咯环、哌啶环、吡啶环、六亚甲基亚胺环、氮杂庚间三烯环、咪唑环、吡唑环、噁唑环、咪唑啉环、吡嗪环、吗啉环、蝶啶环、嘌呤环等的含氮杂环式化合物。
作为上述含氮杂环式化合物，更优选吡啶；2－氨基吡啶、4－氨基吡啶等氨基吡啶；咪唑；2－甲基咪唑等甲基咪唑；吡唑；蝶啶；噁唑等。
上述pH缓冲剂能够单独使用一种或混合两种以上使用。
封孔处理液中的pH缓冲剂的浓度没有特别限定，优选为0.1～100g/L，更优选为0.2～20g/L。通过使pH缓冲剂的浓度在上述范围，封孔处理液能够显示优异的pH缓冲性，能够进一步提高阳极氧化被膜的染色固定性，抑制由于pH缓冲剂的浓度过高而发生的处理品表面的外观不良(干燥痕)。
(表面活性剂)
作为表面活性剂，没有特别限定，能够使用现有公知的表面活性剂。作为这样的表面活性剂，可以列举阴离子系表面活性剂、非离子系表面活性剂、两性表面活性剂。
作为阴离子系表面活性剂，能够使用硫酸盐系表面活性剂、磺酸盐系表面活性剂、磷系表面活性剂等。
作为硫酸盐系表面活性剂，可以列举芳香族硫酸盐系表面活性剂、脂肪族硫酸盐系表面活性剂等。
作为上述芳香族硫酸盐系表面活性剂，例如，可以列举聚氧乙烯烷基苯醚硫酸盐。另外，作为脂肪族硫酸盐系表面活性剂，例如，可以列举聚氧乙烯烷基醚硫酸盐。
作为磺酸盐系表面活性剂，可以列举芳香族磺酸盐系表面活性剂等。
作为上述芳香族磺酸盐系表面活性剂，可以列举苯磺酸盐、萘磺酸盐等芳香族磺酸盐化合物、或在苯磺酸盐、萘磺酸盐等的芳香族磺酸盐骨架上取代有烷基、聚氧乙烯、聚氧乙烯烷基醚基、羧基、羰基、羟基、醇基、乙烯基或烯丙基等亚烷基、具有多键的基团、另外的磺酸基的化合物等，另外，还可以列举将这些化合物利用甲醛等得到的缩聚物、以及共聚物等。作为这样的芳香族磺酸盐系表面活性剂，例如，可以列举烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐以及这些的甲醛等的缩聚物、萘磺酸盐的甲醛等的缩聚物、从苯磺酸亚烷基酯、萘磺酸亚烷基酯等得到的共聚物等。
作为上述芳香族磺酸盐系表面活性剂，还可以列举二苯醚二磺酸盐等的多个苯基磺酸盐通过醚键结合的化合物，还可以列举在该化合物取代有烷基、聚氧乙烯、聚氧乙烯烷基醚基等的化合物。作为这样的芳香族磺酸盐系表面活性剂，例如，可以列举烷基二苯醚二磺酸盐、烷基二苯醚二磺基琥珀酸盐等。
作为磷系表面活性剂，能够使用磷酸酯系表面活性剂、磷酸酯盐系表面活性剂等。具体而言，可以列举聚氧乙烯烷基醚磷酸酯、聚氧乙烯亚烷基化苯醚磷酸酯、烷基磷酸酯等和这些的盐。
作为非离子性表面活性剂，能够优选使用能够通过封孔处理液中的浓度的调节、与其它的表面活性剂的组合来将封孔处理液中的浊点为85℃以上的非离子性表面活性剂。作为这样的非离子性表面活性剂，例如，可以列举聚氧乙烯烷基醚、甘油酯聚氧乙烯醚、山梨糖醇酯、脂肪酸烷醇酰胺等。
作为两性表面活性剂，可以列举烷基甜菜碱、脂肪酸酰胺甜菜碱、氧化烷基胺等。
作为上述表面活性剂，优选阴离子系表面活性剂。其中，更优选硫酸盐系表面活性剂、磺酸盐系表面活性剂、磷系表面活性剂，更加优选磺酸盐系表面活性剂。
上述表面活性剂能够单独使用一种或混合两种以上使用。此外，上述非离子系表面活性剂以不使封孔处理液的浊点表变低为标准来选择即可。另外，混合使用非离子系表面活性剂和阴离子系表面活性剂时，能够提高表面活性剂的浊点。使用阴离子系表面活性剂时，选择不会与所含有的金属、两性表面活性剂发生反应产生浑浊的表面活性剂即可。
封孔处理液中的表面活性剂的浓度没有特别限定，优选为10mg/L～10g/L，更优选为20mg/L～5g/L。通过使表面活性剂的浓度在上述范围，能够进一步提高阳极氧化被膜的染色固定性，封孔处理液能够显示充分的封孔性能，能够抑制封孔处理后的阳极氧化被膜表面的粉化和雾浊外观不良。
(pH调节剂)
本发明的封孔处理液可以进一步含有pH调节剂。作为pH调节剂没有特别限定，能够使用现有公知的pH调节剂。
作为将封孔处理液调节到酸性侧的pH调节剂，例如，可以列举乙酸、氨基磺酸、硫酸、硝酸、有机磺酸等的稀释水溶液。这些之中，从封孔性能优异的方面考虑，优选硝酸。
作为将封孔处理液调节到碱性侧的pH调节剂，例如，可以列举，氨水、氢氧化钠水溶液、氢氧化钾水溶液等。这些之中，从封孔性能优异的方面考虑，优选氢氧化钠水溶液。
上述pH调节剂能够单独使用一种或混合两种以上使用。
封孔处理液中的pH调节剂的浓度没有特别限定，优选为0～20g/L，更优选为0～10g/L，更加优选为0～5g/L。通过使pH调节剂的浓度在上述范围，封孔处理液能够显示充分的封孔性能，能够抑制利用封孔处理液进行封孔处理的阳极氧化被膜的封孔度的降低。
(其它的成分)
为了提高封孔性能、液体的使用实用性，封孔处理液能够根据需要含有防霉剂、配位剂等的添加剂成分。作为添加剂，例如，可以列举苯甲酸、苯甲酸盐等防霉剂；柠檬酸、柠檬酸盐等配位剂等。另外，作为防霉剂，可以添加市售的防霉剂、例如“TAC KABIKORON”(奥野制药工业株式会社制)。
封孔处理液中的金属盐、pH缓冲剂和表面活性剂的含量的合计优选为0.2～100g/L，更优选为0.3～50g/L，更加优选为0.5～30g/L。通过使上述含量的合计在上述的范围，能够进一步提高阳极氧化被膜的染色固定性，封孔处理液能够显示充分的封孔性能，利用封孔处理液进行了封孔处理的铝合金的阳极氧化被膜能够显示充分的耐污染性，并且，能够抑制封孔处理后的阳极氧化被膜表面的粉化和雾浊外观不良。
封孔处理液只要含有金属盐、pH缓冲剂和表面活性剂即可，对于其它的成分没有特别限定，优选为含有上述的各成分的水溶液。
封孔处理液优选不含镍系金属盐等的金属盐。作为该金属盐，可以列举Ni、Co、Fe、Cr等的金属盐。
在工序3中，封孔处理液的pH优选为5.1～8.0，更优选为5.3～7.0，更加优选为5.5～6.0。通过使pH在上述范围，能够进一步提高染色固定性，封孔处理液能够显示充分的封孔性能，利用封孔处理液进行了封孔处理的铝合金的阳极氧化被膜能够显示充分的耐污染性，并且，能够抑制被处理物的表面附着有粉状附着物的外观不良(粉化、雾浊)。
封孔处理液的温度优选为85～100℃，更优选为88～98℃，更加优选为90～98℃。通过使封孔处理液的温度在上述范围，能够进一步提高阳极氧化被膜的染色固定性，并且，能够显示充分的封孔性能。
封孔处理时间通常能够根据作为处理对象的阳极氧化被膜的膜厚来确定。具体而言，优选将对于表示膜厚的数字(μm)乘以0.1～10得到的数字作为封孔处理时间(分钟)，更优选将对于表示膜厚的数字(μm)乘以0.2～5得到的数字作为封孔处理时间(分钟)，更加优选将对于表示膜厚的数字(μm)乘以0.5～4得到的数字作为封孔处理时间(分钟)。例如，当阳极氧化被膜的膜厚为10μm时，浸渍时间优选为对于10乘以0.2～5的2～50分钟左右。通过使封孔处理时间在上述范围，能够进一步提高染色固定性，封孔处理液能够显示充分的封孔性能，利用封孔处理液进行了封孔处理的铝合金的阳极氧化被膜能够显示充分的耐污染性，并且，能够抑制由于粉化、雾浊等外观不良导致的被处理物的外观的降低。
在工序3中，可以一边搅拌封孔处理液一边浸渍染色固定处理后的阳极氧化被膜。作为搅拌方法，优选循环搅拌、空气搅拌、气体搅拌、揺动搅拌。其中，优选循环搅拌、气体搅拌，更优选循环搅拌。作为上述气体搅拌，优选为使用氮气、氩气等不活泼气体的气体搅拌。在上述工序中，在使用作为金属盐含有Mg盐、Ca盐、Sr盐、Ba盐、Ra盐且pH为7以上的封孔处理液的情况下，封孔处理液有时吸收空气中的二氧化碳而产生浑浊。因此，作为搅拌方法优选为如上所述的循环搅拌，由于设备原因需要空气搅拌时，从能够抑制封孔处理液的浑浊的方面考虑，优选进行使用了上述不活泼气体的气体搅拌。
工序3中，可以进行去除上述封孔处理液中的浑浊的浑浊去除处理。另外，上述浑浊去除处理也可以在工序3以外的、例如直至将染色固定处理后的阳极氧化被膜浸渍于封孔处理液之前的等待期间、或生产线的休止期间进行。通过进行浑浊去除处理，能够抑制因浑浊引起的粉化、雾浊等的外观不良而导致的阳极氧化被膜的外观降低。
作为浑浊的去除方法没有特别限定，能够使用现有公知的去除方法。作为上述去除方法，可以列举过滤去除。具体而言，可以列举从进行封孔处理的槽向作为药品补给添加溶解槽的缓冲罐等的预备罐中，流出封孔处理液的一部分，将封孔处理液的温度冷却至优选50℃以下，使其经过过滤器来进行过滤，之后再返还至进行上述封孔处理的槽中的循环来过滤去除。在设备中没有缓冲罐的情况下，也可以通过单纯过滤循环进行过滤去除。
本发明的封孔处理方法中，处理对象物为铝合金的阳极氧化被膜。作为上述铝合金的阳极氧化被膜没有特别限定，只要是对一般的铝合金应用使用了硫酸、草酸等公知的阳极氧化法得到的铝合金的阳极氧化被膜即可。作为铝合金没有特别限定，能够将各种铝主体的合金作为阳极氧化的对象。作为铝合金的具体例，可以列举在JIS中规定的JIS－A 1千号段～7千号段所示的延展材料系合金、AC、ADC的各号段所示的铸造材料、压铸材料等为代表的铝主体的各种合金组等。
作为施加于铝合金的阳极氧化法，例如，可以列举使用硫酸浓度为100g/L～400g/L左右的水溶液，使液温为－10～30℃左右，以0.5～4A/dm2左右的阳极电流密度进行电解的方法。
实施例
下面示出实施例和比较例，对本发明进行具体的说明。但是，本发明不限于实施例。
根据以下的制造条件，制造了下述的实施例和比较例所使用的实施了阳极氧化和染色的铝合金试验片。
将铝合金的试验片(JIS A1050P板)浸渍于弱碱性脱脂液(奥野制药工业(株)制TOP ALCLEAN 404(商品名)30g/L的水溶液，浴温60℃)中5分钟进行脱脂，进过水洗后，在以硫酸作为主成分的阳极氧化浴(含有游离硫酸180g/L和溶解铝8.0g/L)中进行阳极氧化(浴温20℃±1℃，阳极电流密度：1a/dm2，电解时间：30分钟，膜厚：约10μm)。对所得到的阳极氧化被膜进行水洗，在水洗后浸渍于下述的染料水溶液(浴温55℃)中1分钟进行染色，通过水洗，得到实施了阳极氧化和染色的铝合金试验片(下面称为“经过阳极氧化－染色的试验片”)。
此外，染料使用了TAC YELLOW－SLH、TAC VIOLET－SLH或TAC YELLOW－SGL(均为奥野制药工业(株)制TAC染料)。分别准备了各染料的水溶液。染料水溶液中染料的浓度对于各染料均为1g/L。
(实施例1)
将根据上述制造条件制造的经过阳极氧化－染色的试验片在由含有乙酸锰1g/L、L－谷氨酸钠1g/L和萘磺酸甲醛缩合物0.5g/L、用硝酸调节至pH4.0的水溶液构成的染料固定处理剂(浴温75℃)中浸渍5分钟，进行水洗，进行了染色固定处理。接着，在由含有奥野制药工业(株)制TOP SEAL NIF 20ml/L的pH5.7的水溶液构成的封孔处理液(浴温95℃)中浸渍20分钟，进行水洗和干燥，进行了封孔处理。
(实施例2～7)
除了将处理条件如表1和2所示进行变更以外，与实施例1同样操作，进行了染色处理、染色固定处理和封孔处理。
(比较例1)
除了未进行染色固定处理以外，与实施例1同样操作，进行了染色处理和封孔处理。
(比较例2)
除了未进行染色固定处理以外，与实施例2同样操作，进行了染色处理和封孔处理。
对于上述实施例和比较例，通过下述的测试方法进行了评价。
染色固定性
对于使用上述各染料制造的经过阳极氧化－染色的试验片利用分光测色计(KONICA MINOLTA制CM－3700A)测定L*、a*、b*，作为基准值。接着，测定上述实施例和比较例中得到的试验片的L*、a*、b*，以相对于上述基准值的总变化量ΔE*ab进行了评价。需要说明的是，ΔE*ab越低表示染色固定性越高。
将结果示于表1和2。
[表1]
[表2]
如表1所示，使用含有锰盐且pH为5.0以下的染料固定处理剂进行了染色固定处理的实施例1和2与未进行染色固定处理的比较例1和2相比，ΔE*ab的值变低，由此可知，通过在染色处理后、封孔处理前使用上述染料固定处理剂进行染色固定处理，能够显示高染色固定性。
如表2所示，在作为染料使用了TAC YELLOW－SGL的实施例3～7中，ΔE*ab的值也变低了，由此可知，通过在染色处理后、封孔处理前进行使用了上述染料固定处理剂的染色固定处理，能够显示高染色固定性。另外，染料固定处理剂的pH分别为3.5、4.0和4.5的实施例4、5和6中，ΔE*ab的值尤其变低，能够显示特别高的染色固定性。
Claims (9)
1.含有选自乙酸锰、硝酸锰、硫酸锰、氯化锰、硼酸锰和碳酸锰中的至少一种锰盐以及pH缓冲剂的组合物在铝合金的阳极氧化被膜用染料固定处理剂的制造中的使用，其中，所述铝合金的阳极氧化被膜用染料固定处理剂的pH为5.0以下。
2.如权利要求1所述的使用，其特征在于：
所述组合物还含有阴离子系表面活性剂。
3.一种铝合金的阳极氧化被膜的封孔处理方法，其特征在于，包括：
(1)对铝合金的阳极氧化被膜进行染色处理的工序1；
(2)将染色后的阳极氧化被膜浸渍于染料固定处理剂来进行染色固定处理的工序2；和
(3)对染色固定处理后的阳极氧化被膜进行封孔处理的工序3，
其中，染料固定处理剂含有锰盐，且pH为5.0以下。
4.如权利要求3所述的封孔处理方法，其特征在于：
染料固定处理剂的温度为55～95℃。
5.如权利要求3或4所述的封孔处理方法，其特征在于：
在染料固定处理剂中的浸渍时间为1～30分钟。
6.如权利要求3或4所述的封孔处理方法，其特征在于：
工序3是将染色固定处理后的阳极氧化被膜浸渍于封孔处理液的工序。
7.如权利要求3或4所述的封孔处理方法，其特征在于：
封孔处理液的pH为5.1～8.0。
8.如权利要求6所述的封孔处理方法，其特征在于：
封孔处理液不含镍系金属盐。
9.一种具有铝合金的阳极氧化被膜的物品，其特征在于：
所述铝合金的阳极氧化被膜通过权利要求3所述的方法进行了封孔处理。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017165755 | 2017-08-30 | ||
| JP2017-165755 | 2017-08-30 | ||
| PCT/JP2018/009435 WO2019044004A1 (ja) | 2017-08-30 | 2018-03-12 | アルミニウム合金の陽極酸化皮膜用染料定着処理剤及び封孔処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN111032926A CN111032926A (zh) | 2020-04-17 |
| CN111032926B true CN111032926B (zh) | 2022-04-26 |
Family
ID=65527385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201880056257.5A Active CN111032926B (zh) | 2017-08-30 | 2018-03-12 | 铝合金的阳极氧化被膜用染料固定处理剂和封孔处理方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPWO2019044004A1 (zh) |
| CN (1) | CN111032926B (zh) |
| TW (1) | TWI741166B (zh) |
| WO (1) | WO2019044004A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110552041B (zh) * | 2019-09-16 | 2021-02-19 | 歌尔股份有限公司 | 金属材料的表面处理方法 |
| CN114351207A (zh) * | 2020-10-12 | 2022-04-15 | 广州市汉科建材科技有限公司 | 一种铝及铝合金阳极氧化荧光膜的制备工艺 |
| CN112538645B (zh) * | 2020-12-07 | 2022-03-29 | 赵雨 | 一种水性微胶囊封孔剂及制备方法 |
| CN113151876B (zh) * | 2021-04-20 | 2022-05-06 | 深圳市曼特表面处理科技有限公司 | 铝合金阳极染色用稳染剂及其制备方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1016080B (zh) * | 1989-10-11 | 1992-04-01 | 湖南大学 | 铝或铝合金阳极氧化膜电解着色工艺 |
| JP2008174807A (ja) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Nippon Hyomen Kagaku Kk | クロムを含まない金属表面処理液 |
| JP5593601B2 (ja) * | 2008-09-24 | 2014-09-24 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 合金化溶融亜鉛めっき鋼板およびその製造方法 |
| FR2939644B1 (fr) * | 2008-12-12 | 2011-02-11 | Oreal | Composition cosmetique comprenant au moins un orthodiphenol, un sel metallique, du peroxyde d'hydrogene, du (bi)carbonate, un tensio-actif, procede de coloration a partir de la composition |
| JP5408612B2 (ja) * | 2009-04-13 | 2014-02-05 | 奥野製薬工業株式会社 | アルミニウム合金の陽極酸化皮膜用封孔処理方法 |
| JP5827792B2 (ja) * | 2010-05-18 | 2015-12-02 | 日本パーカライジング株式会社 | 化成処理鉄系材料 |
| JP6187963B2 (ja) * | 2013-06-19 | 2017-08-30 | 奥野製薬工業株式会社 | アルミニウム合金の陽極酸化皮膜用封孔処理液 |
| JP6295843B2 (ja) * | 2014-06-04 | 2018-03-20 | スズキ株式会社 | アルミニウム又はアルミニウム合金に皮膜を形成する方法、それに用いる前処理液、およびそれに得られる部材 |
| CN105063710A (zh) * | 2015-08-17 | 2015-11-18 | 深圳市依诺威电子有限公司 | 金属表面处理工艺 |
-
2018
- 2018-03-12 JP JP2019538943A patent/JPWO2019044004A1/ja active Pending
- 2018-03-12 CN CN201880056257.5A patent/CN111032926B/zh active Active
- 2018-03-12 WO PCT/JP2018/009435 patent/WO2019044004A1/ja active Application Filing
- 2018-03-22 TW TW107109786A patent/TWI741166B/zh active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201912848A (zh) | 2019-04-01 |
| JPWO2019044004A1 (ja) | 2020-10-01 |
| CN111032926A (zh) | 2020-04-17 |
| WO2019044004A1 (ja) | 2019-03-07 |
| TWI741166B (zh) | 2021-10-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111032926B (zh) | 铝合金的阳极氧化被膜用染料固定处理剂和封孔处理方法 | |
| KR102210035B1 (ko) | 알루미늄 합금의 양극 산화 피막용 밀봉 처리액, 농축액 및 밀봉 처리 방법 | |
| JP6256906B2 (ja) | アルミニウム合金の陽極酸化皮膜用封孔処理液 | |
| JP5408612B2 (ja) | アルミニウム合金の陽極酸化皮膜用封孔処理方法 | |
| JP6187963B2 (ja) | アルミニウム合金の陽極酸化皮膜用封孔処理液 | |
| JP6490878B1 (ja) | 染色された、アルミニウム又はアルミニウム合金の陽極酸化皮膜の表面処理剤及びそれを用いた表面処理方法、封孔処理方法並びに物品 | |
| JPH05106087A (ja) | 水性シーラント組成物 | |
| US3787296A (en) | Non-poisonous zinc plating baths | |
| JPH03277797A (ja) | アルミニウム陽極酸化皮膜の封孔処理方法 | |
| JP7118402B2 (ja) | アルミニウム合金の陽極酸化皮膜用封孔処理液、濃縮液及び封孔処理方法 | |
| EP2781629B1 (en) | Solution for the electrodeposition of a gold alloy and the alloy derived therefrom | |
| JP7519683B2 (ja) | アルミニウム合金の陽極酸化皮膜用封孔処理液 | |
| JP7599750B2 (ja) | 染色されたアルミニウム又はアルミニウム合金の陽極酸化皮膜の耐光性向上剤、及び、皮膜の耐光性を向上させる方法 | |
| CA2217854C (en) | 1:2 chromium complexes, their production and use | |
| JPS5871386A (ja) | 光沢スズ被膜形成用電解液 | |
| CA2853422C (en) | Method and composition for electroless nickel and cobalt deposition | |
| JPS60138095A (ja) | 陽極酸化アルミニウム物品の着色方法 | |
| JP2019206734A (ja) | ニッケル除去剤及びニッケル除去方法 | |
| JP2022151715A (ja) | アルミニウムの陽極酸化皮膜用封孔処理液、及びアルミニウムの陽極酸化皮膜用封孔処理液の製造方法 | |
| JP2004277814A (ja) | 無電解スズメッキ浴の分割保存方法 | |
| SU346391A1 (ru) | Способ электролитического лужени | |
| JP6201144B2 (ja) | 酸性還元型無電解ビスマスメッキ浴、及び当該ビスマスメッキ方法 | |
| JPH0238680B2 (ja) | Sankahimakuojusuruaruminiumukeikinzokunohyomenshorihoho | |
| JPS63109198A (ja) | 酸化皮膜を有するアルミニウム系金属の表面処理剤 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |