CN110914890A - 罩部件和信息设备 - Google Patents
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Abstract
本发明的课题在于提供适合用于具备显示面板和显示面板以外的功能部的显示装置的罩部件以及具备该罩部件的信息设备。用于覆盖显示装置(10)的用途的罩部件(11)具备观看侧的第1主面(SA)、以及第1主面(SA)的相反侧的第2主面(SB)。罩部件(11)具有第1透光部(11a)和第2透光部(11b)。罩部件(11)的第2透光部(11b)中的第1主面(SA2)的算术平均高度(Sa)小于第1透光部(11a)中的第1主面(SA1)的算术平均高度(Sa)。
Description
技术领域
本发明涉及罩部件和信息设备。
背景技术
专利文献1中公开了一种用于覆盖具备显示面板的显示装置的用途中的罩部件。该罩部件中,通过使配置于观看侧的主面由凹凸面构成,可抑制背景的映入。另外,如专利文献2所公开,已知有具有覆盖显示装置的传感器的部分的罩部件。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2016-153914号公报
专利文献2:日本特开2016-145968号公报
发明内容
发明所要解决的课题
如上所述,对于覆盖显示装置的罩部件来说,除了显示面板以外,有时还要求覆盖例如传感器等功能部。像这样适用于具备显示面板以及显示面板以外的功能部的显示装置的罩部件在例如图像的可视性、作为功能部的传感器的灵敏度等方面仍有改善的余地。
本发明是鉴于这样的情况而完成的,其目的在于提供能够适当地用于具备显示面板和显示面板以外的功能部的显示装置的罩部件、以及具备该罩部件的信息设备。
用于解决课题的手段
用于解决上述课题的罩部件是用于覆盖显示装置的用途的罩部件,其具备观看侧的第1主面、以及上述第1主面的相反侧的第2主面,具有第1透光部和第2透光部,上述第2透光部中的第1主面的算术平均高度(Sa)小于上述第1透光部中的第1主面的算术平均高度(Sa)。
根据该构成,可以将罩部件的第1透光部用作覆盖显示装置的显示面板的部分,并且可以将罩部件的第2透光部用作覆盖显示装置的功能部的部分。此时能够利用具有上述构成的罩部件的第1透光部抑制背景的映入,并且能够利用罩部件的第2透光部确保透光性。由此可确保显示面板所显示的图像的可视性,并且例如在使用作为功能部的光学传感器时可抑制受光灵敏度的降低。
上述罩部件中,优选上述第2透光部中的第1主面的算术平均高度(Sa)小于20nm。
根据该构成,能够进一步提高第2透光部的透光性。因此,例如在将罩部件的第2透光部用作覆盖显示装置的光学传感器的部分的情况下,能够进一步抑制光学传感器的受光灵敏度的降低。
上述罩部件优选进一步具备防反射膜,该防反射膜被设于上述第1透光部中的第1主面侧的面。
根据该构成,能够利用罩部件的第1透光部进一步抑制背景的映入。因此,例如在将罩部件的第1透光部用作覆盖显示装置的显示面板的部分的情况下,能够进一步提高显示面板所显示的图像的可视性。
上述罩部件中,优选具有位于上述第1透光部与上述第2透光部之间的中间部,上述中间部具备设于上述第2主面侧的面的遮光层,上述中间部中的第1主面的算术平均高度(Sa)为比起离上述第2透光部中的第1主面的算术平均高度(Sa)而更接近上述第1透光部中的第1主面的算术平均高度(Sa)的值。
根据该构成,罩部件的中间部中的第1主面也与第1透光部中的第1主面同样地能够抑制背景的映入。
上述罩部件优选进一步具备上述防反射膜,该防反射膜被设于中间部和上述第2透光部中的第1主面侧的面。
根据该构成,不容易目视确认罩部件的中间部中的第1主面与第2透光部中的第1主面的边界部分。
信息设备具备上述罩部件、以及上述显示装置,上述显示装置具备显示面板、以及上述显示面板以外的功能部,上述罩部件的上述第1透光部按照覆盖上述显示装置的上述显示面板的方式配置,上述罩部件的上述第2透光部按照覆盖上述功能部的方式配置。
上述信息设备中,上述显示装置的上述功能部优选为光学传感器。
发明效果
根据本发明,可以提供能够适当地用于具备显示面板和显示面板以外的功能部的显示装置中的罩部件以及具备该罩部件的信息设备。
附图说明
图1是示出实施方式中的罩部件的俯视图。
图2是示出沿着图1的2-2线的罩部件以及显示装置的端面图。
图3是示出罩部件的变更例的端面图。
图4是示出罩部件的变更例的端面图。
图5(a)是试验例1的罩部件的照片,图5(b)是试验例2的罩部件的照片。
具体实施方式
以下参照附图对罩部件和信息设备的实施方式进行说明。需要说明的是,在附图中,为了便于说明,有时夸张地示出构成的一部分。另外,各部分的尺寸比例也可能与实际不同。
如图1和图2所示,被用于覆盖显示装置10的用途的罩部件11具有以位于观看侧的方式进行配置的第1主面SA、以及第1主面SA的相反侧的第2主面SB。本实施方式的罩部件11进一步具备罩主体12、以及被设于第1主面SA侧(观看侧)的罩主体12的面上的防反射膜13。
如图2所示,罩部件11具有:第1透光部11a和第2透光部11b、以及位于第1透光部11a与第2透光部11b之间的中间部11c。第1透光部11a和第2透光部11b在与罩部件11的厚度方向正交的面内的位置相互不同。
罩主体12的第1透光部11a具备基材B1、以及具有凹凸面的覆膜B2。罩主体12的第2透光部11b具备基材B1。
罩主体12的中间部11c具备基材B1、具有凹凸面的覆膜B2、以及遮光层B3。
中间部11c的遮光层B3在基材B1上层积于作为与观看侧相反一侧的背面。即,在罩部件11的第2主面SB侧(与观看侧相反的一侧)的中间部11c的面上设有遮光层B3。如图1所示,本实施方式的遮光层B3形成为在俯视观察时呈框状,以包围第2透光部11b的方式设置。
罩主体12的基材B1由玻璃或树脂材料构成。作为玻璃,可以使用例如无碱玻璃、铝硅酸盐玻璃、钠钙玻璃等公知的玻璃。另外,还可以使用化学强化玻璃等强化玻璃、LAS系结晶化玻璃等结晶化玻璃。玻璃优选为铝硅酸盐玻璃,铝硅酸盐玻璃更优选含有SiO2:50~80质量%、Al2O3:5~25质量%、B2O3:0~15质量%、Na2O:1~20质量%、K2O:0~10质量%。
作为树脂材料,只要为具有透光性的树脂材料就没有特别限定,可以举出例如聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系树脂、聚碳酸酯树脂以及环氧树脂。
基材B1的厚度考虑机械物性等进行设定即可,例如优选为0.05mm以上、10mm以下的范围。
覆膜B2通过利用凹凸面使光散射而抑制罩部件11的第1主面SA上的背景的映入。即,覆膜B2具有防眩(AG:anti-glare)的性能。覆膜B2优选由例如选自SiO2、Al2O3、ZrO2以及TiO2中的至少一种氧化物构成。覆膜B2的厚度例如为40~500nm的范围。
如图2所示,罩部件11的防反射膜13被设置在罩主体12的覆膜B2上。本实施方式的防反射膜13被设置在罩主体12的整个覆膜B2上。
防反射膜13优选为将高折射率膜与折射率低于高折射率膜的低折射率膜交替层积而成的电介质多层膜。作为高折射率膜的材料的示例,可以举出例如选自氧化铌、氧化钛、氧化钽、氧化镧、氧化钨以及氧化锆中的至少一种。高折射率膜优选包含氧化铌。作为低折射率膜的材料的示例,可以举出例如选自氧化硅和氧化铝中的至少一种。低折射率膜优选包含氧化硅。电介质多层膜中,高折射率膜与低折射率膜的合计层积数优选为4层以上、60层以下。
另外,作为防反射膜13的示例,此外还可以举出二氧化硅等低折射率膜,优选可以举出包含中空二氧化硅等中空无机氧化物的膜。
罩部件11的第1透光部11a中的第1主面SA1与第2透光部11b中的第1主面SA2具有相互不同的表面性状。罩部件11中,第2透光部11b中的第1主面SA2的算术平均高度(Sa)小于第1透光部11a中的第1主面SA1的算术平均高度(Sa)。第2透光部11b中的第1主面SA2的算术平均高度(Sa)优选小于20nm、更优选为10nm以下。这种情况下,可以进一步提高第2透光部11b的透光性。
第1透光部11a中的第1主面SA1的算术平均高度(Sa)优选为20nm以上、更优选为30nm以上、进一步优选为40nm以上。这种情况下,能够进一步抑制第1透光部11a中的背景的映入。第1透光部11a中的第1主面SA1的算术平均高度(Sa)优选为500nm以下、更优选为400nm以下、进一步优选为300nm以下。这种情况下,容易确保第1透光部11a的透光性。
从进一步抑制第1透光部11a中的背景的映入的方面出发,第1透光部11a的雾度值优选为5%以上。
罩部件11的中间部11c中的第1主面SA3与第2透光部11b中的第1主面SA2具有相互不同的表面性状。罩部件11的中间部11c中的第1主面SA3的算术平均高度(Sa)大于第2透光部11b中的第1主面SA2的算术平均高度(Sa)。罩部件11的中间部11c中的第1主面SA3的算术平均高度(Sa)为比起离第2透光部11b中的第1主面SA2的算术平均高度(Sa)而更接近第1透光部11a中的第1主面SA1的算术平均高度(Sa)的值。中间部11c中的第1主面SA3的算术平均高度(Sa)与第1透光部11a中的第1主面SA1的算术平均高度(Sa)之差优选为5nm以下、更优选无差别。
中间部11c中的第1主面SA3的算术平均高度(Sa)优选为20nm以上、更优选为30nm以上、进一步优选为40nm以上。这种情况下,能够进一步抑制中间部11c中的背景的映入。中间部11c中的第1主面SA3的算术平均高度(Sa)优选为500nm以下、更优选为400nm以下、进一步优选为300nm以下。这种情况下,容易从观看侧目视确认遮光层B3的色调。
罩部件11的第1主面SA中的算术平均高度(Sa)可以根据ISO25178进行测定。需要说明的是,在像本实施方式这样形成防反射膜13的情况下,通过真空蒸镀法在防反射膜13上形成厚度10nm的金膜后,测定罩部件11的第1主面SA中的算术平均高度(Sa)。罩部件11的雾度值可以根据JIS K7136(2000)进行测定。JIS K7136(2000)与国际标准ISO 14782相对应,两者的技术内容等同。
接着对罩部件11的制造方法进行说明。
本实施方式中的罩部件11的制造方法具备在基材B1上设置覆膜B2的工序。该工序中,在将基材B1的主面的一部分(形成罩主体12的第2透光部11b的部分)掩蔽后,在基材B1的主面上形成覆膜B2。
作为掩蔽材料,可以使用公知的橡胶系、树脂系或金属系的掩蔽材料。掩蔽材料可以为涂布型的掩蔽材料,也可以为带型的掩蔽材料。
覆膜B2是通过将含有覆膜B2的前体的涂布用溶液涂布在基材B1上、之后进行干燥而得到的。涂布用溶液的涂布方法优选为喷雾涂布法。涂布用溶液的喷雾涂布中可以使用公知的双流体喷嘴或单流体喷嘴等喷嘴。上述罩主体12的覆膜B2的表面性状可以通过例如从喷嘴喷射的涂布用溶液的液滴的粒径进行控制。
从喷嘴喷射的涂布用溶液的液滴的粒径例如优选为0.1~100μm、更优选为1~50μm。液滴的粒径为0.1μm以上的情况下,能够在更短时间内形成涂膜。液滴的粒径为100μm以下的情况下,容易提高覆膜B2的性能。液滴的粒径可以通过喷嘴的种类、喷雾压力、液量等进行调整。例如,在使用双流体喷嘴的情况下,喷雾压力越高,液滴越小,并且液量越多,液滴越大。需要说明的是,液滴的粒径为通过激光测定器测定出的索特平均粒径。
作为涂布用溶液中含有的前体的示例,可以举出例如二氧化硅前体、氧化铝前体、氧化锆前体、二氧化钛前体等无机前体。出于覆膜B2的折射率低以及容易控制反应性的原因,覆膜B2的前体优选包含二氧化硅前体。作为二氧化硅前体的示例,可以举出例如具有与硅原子键合的烃基和水解性基团的硅烷化合物、硅烷化合物的水解缩合物、以及硅氮烷化合物。从抑制覆膜B2中的裂纹的发生的方面出发,二氧化硅前体优选包含硅烷化合物及其水解缩合物中的至少一者。
在基材B1上设置覆膜B2后,从基材B1除去掩蔽材料,由此得到罩主体12。即,除去了掩蔽材料的部分形成第2透光部11b,该第2透光部11b的基材B1露出而未在基材B1上形成覆膜B2。
本实施方式中的罩部件11的制造方法进一步具备在覆膜B2上设置防反射膜13的工序。作为该工序中使用的成膜方法的示例,可以举出例如溅射法、真空蒸镀法、离子束法、离子镀法以及CVD法。这些成膜方法中,出于能够高精度地控制防反射膜13的厚度、并且可得到膜品质稳定的防反射膜13的原因,优选溅射法。
本实施方式中的罩部件11的制造方法具备在基材B1的与观看侧相反一侧的背面设置遮光层B3的工序。遮光层B3可通过例如使用遮光用的涂料(例如黑色的涂料)在基材B1的预定范围进行印刷的印刷法来设置。
显示装置10具有显示面板10a和功能部10b,显示面板10a对图像进行显示。显示面板10a的图像可以包含文字。作为显示面板10a的示例,可以举出例如液晶面板、有机EL面板、无机EL面板、等离子体面板等。本实施方式的显示装置10中的功能部10b为光学传感器。光学传感器例如为红外线传感器等利用了特定波长范围的传感器。光学传感器在具备显示装置10和罩部件11的信息设备14被用作例如数据的发送接收或接近传感器、人感传感器、或者运动传感器。作为信息设备14的示例,可以举出例如便携式信息终端、车辆用信息设备等。信息设备14可以具备触控面板功能。
根据以上详细说明的实施方式,发挥出下述的作用效果。
(1)用于覆盖显示装置10的用途的罩部件11具备观看侧的第1主面SA、以及第1主面SA的相反侧的第2主面SB。罩部件11具有第1透光部11a和第2透光部11b。罩部件11的第2透光部11b中的第1主面SA2的算术平均高度(Sa)小于第1透光部11a中的第1主面SA1的算术平均高度(Sa)。
根据该构成,可以将罩部件11的第1透光部11a用作覆盖显示装置10的显示面板10a的部分,并且可以将罩主体12的第2透光部11b用作覆盖显示装置10的功能部10b的部分。此时能够利用具有上述构成的罩部件11的第1透光部11a抑制背景的映入,并且能够利用罩部件11的第2透光部11b确保透光性。由此可确保显示面板10a所显示的图像的可视性,并且例如在使用作为功能部10b的光学传感器时可抑制受光灵敏度的降低。由此可提供能够适当地用于具备显示面板10a和功能部10b的显示装置10中的罩部件11。
(2)罩部件11中,第2透光部11b中的第1主面SA2的算术平均高度(Sa)优选小于20nm。这种情况下,能够进一步提高第2透光部11b的透光性。因此,能够进一步抑制显示装置10中的光学传感器的灵敏度的降低。由此可提供能够更适当地用于具备显示面板10a和光学传感器的显示装置10中的罩部件11。
(3)罩部件11进一步具备防反射膜13,该防反射膜13被设于第1透光部11a中的第1主面SA1侧(观看侧)的面上。
这种情况下,由于可利用第1透光部11a进一步抑制背景的映入,因而能够进一步提高显示装置10的显示面板10a所显示的图像的可视性。
(4)罩部件11具有位于第1透光部11a与第2透光部11b之间的中间部11c。中间部11c具备设于第2主面SB侧(与观看侧相反的一侧)的面上的遮光层B3。中间部11c中的第1主面SA3的算术平均高度(Sa)为比起离第2透光部11b中的第1主面SA2的算术平均高度(Sa)而更接近第1透光部11a中的第1主面SA1的算术平均高度(Sa)的值。
这种情况下,罩部件11的中间部11c中的第1主面SA3也与第1透光部11a中的第1主面SA1同样地能够抑制背景的映入。因此,能够更容易目视确认与中间部11c相邻的第1透光部11a、即显示装置10的显示面板10a所显示的图像。
(5)在罩部件的第1主面中,在像上述第2透光部11b和中间部11c那样算术平均高度(Sa)不同的部分相邻的情况下,其边界部分容易目视确认,由此可能有损于例如信息设备的高级感。
关于这一点,本实施方式的罩部件11中,在中间部11c的第1主面SA3侧的面和第2透光部11b的第1主面SA2侧的面设置防反射膜13,该防反射膜13可抑制从观看侧照射的可见光的反射。因此,罩部件11的中间部11c中的第1主面SA3与第2透光部11b中的第1主面SA2的边界部分难以被目视确认。由此,例如可使信息设备14具有高级感、可降低目视确认罩部件11时的不适感。
(变更例)
可以将上述实施方式如下进行变更来构成。
·罩部件11的覆膜B2也可以省略。例如,也能够通过对罩部件11的形成第1主面SA侧的基材B1的主面进行蚀刻来形成凹凸面,对例如罩部件11的第1透光部11a的第1主面SA1的算术平均高度(Sa)进行调整。这种情况下,可以应用将基材B1浸渍在氟化氢、或者包含氟化氢和铵的蚀刻液中的公知的蚀刻法。像这样使用蚀刻法的情况下,例如将基材B1中的形成第2透光部11b的部分用可耐受蚀刻液的抗蚀剂树脂或金属膜等覆盖,之后将基材B1浸渍在蚀刻液中即可。需要说明的是,除了蚀刻法以外,还可以通过使用二氧化硅、碳化硅、氧化铝等颗粒的喷砂法在基材B1上形成凹凸面。
·罩部件11的第2透光部11b中的第1主面SA2除了如上述实施方式所示通过基材B1的掩蔽而形成以外,还可以通过对覆膜B2的凹凸面或基材B1经蚀刻而形成的凹凸面进行表面研磨而形成。
·罩部件11中的第1透光部11a和第2透光部11b也可以如下形成。例如,对基材B1的主面的一部分进行前处理后,对基材B1的主面喷雾涂布上述涂布用溶液而形成覆膜B2。作为基材B1的前处理,可以通过实施亲水化处理或疏水化处理来调整经前处理的部分的覆膜B2的凹凸面的粗糙度。例如,对基材B1的主面的一部分实施亲水化处理后,喷雾涂布水系的涂布用溶液。由此,在基材B1的主面的一部分,经喷雾涂布的涂布用溶液的液滴变得平坦,因此覆膜B2的凹凸面中的算术平均高度(Sa)减小。另外,例如在对基材B1的主面的一部分实施疏水化处理后,喷雾涂布有机溶剂系的涂布用溶液。由此,在基材B1的主面的一部分,经喷雾涂布的涂布用溶液的液滴变得平坦,因此,覆膜B2的凹凸面中的算术平均高度(Sa)减小。作为亲水化处理,例如可以举出亲水性液态介质的涂布、等离子体处理。作为疏水化处理,例如可以举出浸渍在有机溶剂中之后进行干燥等。另外,也可以将亲水化处理与疏水化处理进行组合。例如,可以将基材B1整体浸渍在有机溶剂中、进行干燥,之后对主面的一部分进行等离子体处理。
·如图3所示,也可以将罩部件11的防反射膜13整体或部分省略。
·罩部件11的中间部11c中的第1主面SA3的算术平均高度(Sa)可以为比起离第1透光部11a中的第1主面SA1的算术平均高度(Sa)而更接近第2透光部11b中的第1主面SA2的算术平均高度(Sa)的值。例如,在中间部11c,罩主体12的第1主面SA3侧的面也可以不是覆膜B2的凹凸面、而由基材B1构成。
·在罩部件11中,罩主体12的中间部11c也可以省略。即,罩主体12的第1透光部11a与第2透光部11b可以相互相邻地配置。即使为像这样构成的罩部件11,也优选进一步具备防反射膜13。这种情况下,不容易目视确认第1透光部11a的第1主面SA1与第2透光部11b的第1主面SA2的边界部分。因此,例如可使信息设备14具备高级感、可降低目视确认罩部件11时的不适感。
·如图4所示,罩部件11可以进一步具备层积在罩主体12的第2透光部11b上并抑制红外线以外的光的透过的红外线透过层15。根据该构成,在使用红外线传感器作为被第2透光部11b覆盖的光学传感器的情况下,可以提高红外线传感器的可靠性。红外线透过层15例如由具有滤光器功能的膜或使用了红外线透过油墨的印刷层构成。
·如图4所示,罩部件11可以进一步具备设置在最靠近观看侧的位置的防污膜16。防污膜16可以由例如含氟有机硅化合物形成。作为防污膜16的成膜法的示例,可以举出湿涂法或真空蒸镀法。
·显示装置10的功能部10b可以为例如通过印刷或凹凸形成了图案、文字等的装饰部、光学传感器以外的传感器(例如静电电容式传感器等由人的手指触摸的传感器)。例如在将罩主体12的第2透光部11b以覆盖装饰部的方式配置的情况下,在第2透光部11b能够更鲜明的目视确认装饰部的色调。另外,例如在将罩主体12的第2透光部11b以覆盖由人的手指触摸的传感器的方式进行配置的情况下,在第2透光部11b能够识别出与第1透光部11a的触感的差异。
·罩部件11的外形可以根据显示装置10的形状进行变更。即,罩部件11的外形并不限于平板状,例如,也可以变更为曲板状。另外,罩部件11的外形并不限于俯视观察为四边形状,例如,也可以变更为椭圆形状。
·罩部件11可以以安装在显示装置10的壳体上的方式来构成,也可以以粘贴在显示装置10的主面(例如,玻璃面)上的方式来构成。
(试验例)
接着对试验例进行说明。
在试验例1中制作图2所示构成的罩部件。首先,使用硅酮橡胶作为掩蔽材料来掩蔽由玻璃板构成的基材的主面的一部分,之后喷雾涂布涂布用溶液,由此在基材上形成具有凹凸面的覆膜。接着利用溅射法在去除了硅酮橡胶的基材的主面上形成防反射膜。防反射膜为电介质多层膜,由从基材侧起的高折射率膜(氧化铌、厚度15nm)、低折射率膜(氧化硅、30nm)、高折射率膜(氧化铌、厚度110nm)以及低折射率膜(氧化硅、80nm)这4层构成。
试验例2中,除了省略防反射膜的成膜以外,与试验例1同样地制作图3所示结构的罩部件。
试验例1和试验例2的罩部件中,第1透光部中的第1主面的算术平均高度(Sa)以及中间部中的第1主面的算术平均高度(Sa)均为106nm。另外,试验例1和试验例2的罩部件中,第2透光部中的第1主面的算术平均高度(Sa)均小于10nm。
试验例1的罩部件中,第1透光部中的雾度值为16.0%。试验例2的罩部件中,第1透光部中的雾度值为17.3%。
图5(a)示出了利用荧光灯从观看侧对试验例1的罩部件进行光照射,从观看侧拍摄该罩部件的一部分而得到的照片。追加在照片上的L字状的白线表示第2透光部中的实际的拐角部分。由该照片可知,在试验例1的罩部件中,不容易目视确认中间部中的第1主面与第2透光部中的第1主面的边界部分。
图5(b)示出了利用荧光灯从观看侧对试验例1的罩部件进行光照射,从观看侧拍摄该罩部件的一部分而得到的照片。追加在照片上的L字状的白线表示第2透光部中的实际的拐角部分。由该照片可知,在试验例2的罩部件中,容易目视确认中间部中的第1主面与第2透光部中的第1主面的边界部分。
根据以上的结果,在如试验例1的罩部件这样具备防反射膜的情况下,不容易目视确认上述的边界部分,因而能够使例如信息设备具备高级感。
附图标记说明
10...显示装置、10a...显示面板、10b...功能部、11...罩部件、11a...第1透光部、11b...第2透光部、11c...中间部、13...防反射膜、14...信息设备、B3...遮光层、SA,SA1,SA2,SA3...第1主面、SB...第2主面。
Claims (7)
1.一种罩部件,其是用于覆盖显示装置的用途的罩部件,该罩部件的特征在于,
具备观看侧的第1主面、以及所述第1主面的相反侧的第2主面,
具有第1透光部和第2透光部,
所述第2透光部中的第1主面的算术平均高度(Sa)小于所述第1透光部中的第1主面的算术平均高度(Sa)。
2.如权利要求1所述的罩部件,其特征在于,所述第2透光部中的第1主面的算术平均高度(Sa)小于20nm。
3.如权利要求1或权利要求2所述的罩部件,其特征在于,该罩部件进一步具备防反射膜,该防反射膜被设于所述第1透光部中的第1主面侧的面。
4.如权利要求1~3中任一项所述的罩部件,其特征在于,
罩部件进一步具有位于所述第1透光部与所述第2透光部之间的中间部,
所述中间部具备设于所述第2主面侧的面的遮光层,
所述中间部中的第1主面的算术平均高度(Sa)为比起离所述第2透光部中的第1主面的算术平均高度(Sa)而更接近所述第1透光部中的第1主面的算术平均高度(Sa)的值。
5.如权利要求4所述的罩部件,其特征在于,该罩部件进一步具备防反射膜,该防反射膜被设于所述中间部和所述第2透光部中的第1主面侧的面。
6.一种信息设备,其特征在于,
该信息设备具备权利要求1~5中任一项所述的罩部件以及所述显示装置,
所述显示装置具备显示面板以及所述显示面板以外的功能部,
所述罩部件的所述第1透光部以覆盖所述显示装置的所述显示面板的方式配置,
所述罩部件的所述第2透光部以覆盖所述功能部的方式配置。
7.如权利要求6所述的信息设备,其特征在于,所述显示装置的所述功能部为光学传感器。
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