CN110908247B - 定位装置以及曝光装置 - Google Patents

定位装置以及曝光装置 Download PDF

Info

Publication number
CN110908247B
CN110908247B CN201910861358.6A CN201910861358A CN110908247B CN 110908247 B CN110908247 B CN 110908247B CN 201910861358 A CN201910861358 A CN 201910861358A CN 110908247 B CN110908247 B CN 110908247B
Authority
CN
China
Prior art keywords
block
positioning device
gravity
fastening
rail
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201910861358.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110908247A (zh
Inventor
远藤淳生
柴田雄吾
布施直人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Publication of CN110908247A publication Critical patent/CN110908247A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110908247B publication Critical patent/CN110908247B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70141Illumination system adjustment, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of illumination system
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70258Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70833Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Bearings For Parts Moving Linearly (AREA)

Abstract

本发明提供的定位装置具备:第1部件,具有与第1方向平行的第1面;第1轨道以及第2轨道,以在与上述第1方向交叉的第2方向相互隔离且与上述第1方向平行地配置的方式固定于上述第1部件;第1块体以及第2块体,由上述第1轨道支撑而能沿上述第1轨道移动;第3块体,由上述第2轨道支撑而能沿上述第2轨道移动;第2部件,具有面对上述第1面的第2面,并固定于上述第1块体、上述第2块体以及上述第3块体;以及紧固部,以上述第1面和上述第2面接触的方式将上述第1部件以及上述第2部件相互紧固,上述第1部件以及上述第2部件是刚性部件。

Description

定位装置以及曝光装置
技术领域
本发明涉及定位装置以及曝光装置。
背景技术
对于在平板显示器或半导体装置等那样要求微细加工的物品的制造中被使用的曝光装置,为了获得高分辨率,需要对光学元件的位置进行精密调整。另外,在光学元件的位置调整后,需要以高刚性来支撑光学元件,以便防止经由光学元件形成的图像的对比度因光学元件的振动而降低。在这样的用途中可使用直动载台那样的定位装置。
虽然与本发明申请的关联性低,但日本特开2013-225674号公报公开了将光模块连结在支撑结构体上的连结装置。该连结装置具有用于将光模块的支撑分区连结至支撑结构体的多个连结单元。
对于被搭载在要求对光学元件等物体的位置及姿势进行精密调整的装置上的定位装置,要求每当对物体进行定位及固定时物体的位置以及姿势都不变化,即要求物体的固定作业中的再现性。另外,对于这样的定位装置,要求在固定后具有高刚性。
发明内容
本发明提供对保证固定作业中的高再现性及高刚性有利的技术。
本发明的第1方面涉及定位装置,上述定位装置具备:第1部件,该第1部件具有与第1方向平行的第1面;第1轨道以及第2轨道,该第1轨道以及第2轨道以在与上述第1方向交叉的第2方向相互隔离且与上述第1方向平行地配置的方式固定于上述第1部件;第1块体以及第2块体,该第1块体以及第2块体由上述第1轨道支撑而能沿上述第1轨道移动;第3块体,该第3块体由上述第2轨道支撑而能沿上述第2轨道移动;第2部件,该第2部件具有面对上述第1面的第2面,并固定于上述第1块体、上述第2块体以及上述第3块体;以及紧固部,该紧固部以上述第1面和上述第2面接触的方式将上述第1部件以及上述第2部件相互紧固,上述第1部件以及上述第2部件是刚性部件。
本发明的第2方面涉及曝光装置,上述曝光装置具备上述第1方面所涉及的定位装置,上述定位装置具备固定于上述第2部件的光学元件。
附图说明
图1是示出本发明的第1实施方式的定位装置的构成的立体图。
图2是示出本发明的第1实施方式的定位装置的构成的俯视图。
图3是示出本发明的第2实施方式的定位装置的构成的立体图。
图4是示出本发明的第3实施方式的定位装置的构成的立体图。
图5是示出本发明的第4实施方式的定位装置的构成的立体图。
图6(a)和图6(b)是示出本发明的第5实施方式的定位装置的构成的立体图及剖视图。
图7是示出本发明的第6实施方式的定位装置的构成的俯视图。
图8是例示出本发明的若干实施方式中的紧固部的配置的图。
具体实施方式
以下,通过本发明的例示性实施方式来说明本发明。
图1以及图2示出了本发明的第1实施方式的定位装置100的构成。定位装置100可具备第1部件1、第1轨道21、第2轨道22、第1块体31、第2块体32、第3块体33、第4块体34、第2部件4以及紧固部5。第1部件1可具有与X方向(第1方向)平行的第1面S1。第1部件1例如可具有相互相向的两个第1面S1。第1部件1可包括底面部BP和分别从底面部BP的两个端部延伸的两个侧面部SP。底面部BP以及两个侧面部SP可分别具有板形状。两个第1面S1分别设于两个侧面部SP。换言之,可在一个第1侧面部SP设置一个第1面S1。第1轨道21以及第2轨道22可按照在与X方向正交的Y方向(第2方向)相互隔离且与X方向平行地配置的方式固定于第1部件1。在此,第1轨道21以及第2轨道22相互隔离的方向不一定非要是与X方向正交的Y方向,总括来讲只要是与X方向交叉的方向即可。第1轨道21以及第2轨道22可配置在底面部BP的上表面上。底面部BP的上表面可以是平坦面。
第1块体31以及第2块体32由作为引导件发挥功能的第1轨道21支撑,能沿第1轨道21在X方向移动。第3块体33以及第4块体34由作为引导件发挥功能的第2轨道22支撑,能沿第2轨道22在X方向移动。第1块体31、第2块体32、第3块体33以及第4块体34可按照构成以第1块体31的重心、第2块体32的重心、第3块体33的重心以及第4块体34的重心为顶点的四边形、优选长方形的方式配置。如作为后述的第6实施方式(图7)例示那样,也可以去掉第4块体34。此时,第1块体31、第2块体32以及第3块体33按照构成以第1块体31的重心、上述第2块体32的重心以及第3块体33的重心为顶点的三角形的方式配置。
第2部件4具有面对第1面S1的第2面S2,并固定于第1块体31、第2块体32、第3块体33以及第4块体34。在第1部件1具有两个第1面S1的场合,与之对应地,第2部件4具有两个第2面S2。第2部件4以第2部件4固定于第1块体31、第2块体32、第3块体33以及第4块体34的状态且未固定于第1部件1的状态,能在X方向移动。
紧固部5以第1面S1和第2面S2接触的方式将第1部件1以及第2部件4相互紧固。紧固部5可包括分别与第1块体31、第2块体32、第3块体33以及第4块体34对应的第1紧固件51、第2紧固件52、第3紧固件53以及第4紧固件54。第1紧固件51、第2紧固件52、第3紧固件53以及第4紧固件54例如分别是具有阳螺纹的螺栓,可经由设于第1部件1的长圆孔55与设于第2部件4的阴螺纹56螺纹紧固。长圆孔55的长度方向与第2部件4可移动的X方向一致,长圆孔55的长度方向的长度与紧固件51、52、53、54的直径的差异可决定X方向上的第2部件4的行程(可动范围)。第2部件4的位置的调整以及姿势在松缓了紧固件51、52、53、54的状态下达成。第2部件4相对第1部件1的固定(锁定)可通过将紧固件51、52、53、54紧固、即通过将紧固件51、52、53、54经由第1部件1的长圆孔55与第2部件4的阴螺纹56螺纹紧固来达成。
优选的是,如图2所例示的那样,X方向上的第1紧固件51的位置处于X方向上的第1块体31的两个端面之间(箭头AR所示的范围内)。同样,优选的是,X方向上的第2紧固件52的位置分别处于X方向上的第2块体32的两个端面之间(箭头AR所示的范围内)。同样,优选的是,X方向上的第3紧固件53的位置处于X方向上的第3块体33的两个端面之间(箭头AR所示的范围内)。同样,优选的是,X方向上的第4紧固件54的位置处于X方向上的第4块体34的两个端面之间(箭头AR所示的范围内)。另外,优选的是,第1紧固件51、第2紧固件52、第3紧固件53以及第4紧固件54配置在同一平面(与XY平面平行的面)内。以上的构成有利于以下方面:使基于相对第1部件1固定(锁定)第2部件4的操作而达成的第2部件4相对第1部件1的相对的位置及姿势的变化恒定,即提高第2部件4相对第1部件1的固定作业中的再现性。
在第2部件4相对第1部件1固定之前,仅仅是第2部件4固定于第1~第4块体31~34,另外,一般来讲,轨道21与块体31、32的结合部以及轨道22与块体33、34的结合部相对于旋转的刚性低。因此,在依靠紧固部5的紧固达成的第2部件4相对第1部件1的固定用的操作中,由于施加于紧固部5的力矩,第2部件4可绕与Y轴平行的轴旋转。上述那样的块体31~34以及紧固件51~54的配置有利于以下方面:抑制第2部件4固定时的上述那样的第2部件4的旋转,提高第2部件4相对第1部件1的固定作业中的再现性。为了提高相对于第1部件1固定第2部件4的作业中的再现性,优选的是,预先决定紧固件51~54的紧固顺序,每次都按照相同的紧固顺序来进行紧固件51~54的紧固。另外,优选的是,将紧固件51~54的紧固转矩设为固定值。
在第2部件4相对第1部件1可移动的状态下,在第1部件1的第1面S1与第2部件4的第2面S2之间存在微小的间隙。换言之,在第1部件1的第1面S1与第2部件4的第2面S2之间存在微小的间隙的状态下,第2部件4相对第1部件1可移动。在由紧固部5将第1部件1和第2部件4相互紧固或是固定的状态下,第1部件1稍微变形,第1部件1的第1面S1与第2部件4的第2面S2接触。第1部件1以及第2部件4是具有高刚性的刚性部件,由利用紧固部5相互紧固或是固定的第1部件1以及第2部件4构成的结构体可视作一个刚性部件。所谓刚性部件这样的用语,是区别于弹性部件以及挠性部件那样容易变形的部件(例如板簧)的用语。在与X方向垂直的剖面中,由利用紧固部5紧固的第1部件1以及第2部件4构成的结构体可具有中空的四棱柱形状。这样的结构体可具有高刚性。
第1部件1的第1面S1与第2部件4的第2面S2的间隙需要比第1部件1(的侧面部SP)的变形量小。该间隙的管理可通过适当设定第1部件1以及第2部件4的公差来达成。以下列举一个设计例。紧固部5的紧固件51~54可以是螺纹尺寸M5的螺栓。此时,典型的轴力为3000N左右。第1部件1的材质可以是不锈钢。第1部件1可以为以下尺寸:具有第1面S1的侧面部SP的厚度为5mm,从底面部BP的上表面至紧固件51~54为止的距离为50mm,第1部件1的X方向的长度为300mm。在该例中,第1部件1的变形量为6.2μm左右。第1部件1的第1面S1与第2部件4的第2面S2的间隙例如为6μm以下,优选的是5μm以下。若第1部件1的第1面S1与第2部件4的第2面S2的间隙过小,则当使第2部件4移动时第1面S1与第2面S2接触,用于使第2部件4移动所需的力会过度地变大。因此,该间隙优选为至少1μm。在该构成的实验中,有关固定作业中的旋转角度的再现性为±0.7μrad。另一方面,在不依据本实施方式的构成中,有关固定作业中的旋转角度的再现性为±30μrad。
定位装置100还可具备光学元件等物体。该物体固定于第2部件4,可通过第2部件4相对第1部件1的定位而被定位。光学元件例如可以是反射镜或者透镜。具备光学元件的定位装置例如可构成曝光装置的一部分。
第2部件4(以及固定于第2部件4的光学元件等物体)相对第1部件1的定位,可通过利用调整机构使第2部件4相对于第1部件1相对地移动来达成。该调整机构例如也可以是包括紧定螺钉和弹簧的手动调整机构,此时,可通过紧定螺钉的旋转来调整第2部件4相对第1部件1的位置。手动调整机构可有助于定位装置100的结构简化、低成本化。另外,手动调整机构在不具有促动器等发热源的方面,可有效地抑制因发热导致的光学元件等物体的变形。
另一方面,用于第2部件4相对第1部件1的定位的调整机构也可以是包括促动器的电动的调整机构。促动器例如可以是步进马达或者线性马达等。步进马达由于是通用促动器,故而比较廉价,另外,由于能够以驱动脉冲数来控制位置,因而在容易实现精密驱动的方面表现优异。线性马达由于是直线驱动促动器,因而,不需要在使用步进马达那样的旋转驱动促动器时所需的、将旋转运动变换为直进运动的滚珠丝杠等机构。因此,在结构简化的方面表现优异。为了避免因促动器的发热导致被安装于第2部件4的光学元件进而是周围的光学元件变形,优选的是,设置冷却机构,或是以短时间结束驱动并在驱动后切断电源等的运用。
为了检测第2部件4相对第1部件1的相对位置而可设置传感器。作为这样的传感器,例如可采用接触式的电测微计、非接触式的光学传感器、线性编码器等。接触式的传感器在设置时的调整作业简单的方面表现优异,非接触式的传感器在没有滞后现象的方面表现优异,线性编码器在容易增大行程的方面表现优异。
在作为紧固件51~54的螺栓与第1部件1之间,可配置垫圈。在此,既可以使用直径大于螺栓座面的垫圈,也可以使用直径小于该座面的垫圈,两者可期待互不相同的效果。在使用直径大于螺栓座面的垫圈的场合,能够缓和施加于第1部件1的压缩应力,因而,能够以更大的力将第1部件1和第2部件4相互紧固。另一方面,在使用直径小于螺栓座面的垫圈的场合,在拧紧螺栓时能够减小施加于第1部件1的力矩,因而能够提高固定作业中的再现性。
为了管理第1部件1的第1面S1和第2部件4的第2面S2的间隙,可管理第1部件1和第2部件S2的公差。或是,也可以在准备好第1部件1以及第2部件4之后加工第1部件1的第1面S1和第2部件4的第2面S2中一方或者双方。例如,也可以测量第1部件1和第2部件4中一方的精加工尺寸,基于该测量的结果来加工另一方。此时,能够缓和一方加工所要求的精度。作为第1部件1以及第2部件4的材料,例如适用铝、不锈钢、铁或陶瓷等具有高杨氏模量的材料。
另外,在第1部件1以及第2部件4的材料为铝的场合,第1部件1以及第2部件4的厚度优选为1.5mm以上且10.0mm以下。另外,在第1部件1以及第2部件4的材料为不锈钢或者铁的场合,第1部件1以及第2部件4的厚度优选为1.0mm以上且8.0mm以下。另外,在第1部件1以及第2部件4的材料为陶瓷的场合,第1部件1以及第2部件4的厚度优选为0.6mm以上且5.0mm以下。满足这样的厚度限定的第1部件1以及第2部件4具有充分高的刚性,可理解为刚性部件。
作为构成轨道21、22以及块体31、32、33、34的机构,线性导轨(日文:リニヤガイド)(注册商标)等的经由滚动体来引导可动体的直动引导机构是合适的。这样的直动引导机构由于摩擦系数小,故而在容易进行调整的方面表现优异。进而,具有滚动体和轨道以及在滚动体与块体之间没有间隙的构成的直动引导机构,由于第2部件4的移动或驱动时的晃动小,所以在容易进行调整的方面表现优异。
在图3中示出了本发明的第2实施方式的定位装置100的构成。作为第2实施方式未提及的事项可依照第1实施方式。在第2实施方式中,第1部件1包括底面部7以及从底面部7的两个端部分别延伸的两个侧面部6,两个侧面部6分别具有第1面S1。第1部件1构成为底面部7和两个侧面部6借助紧固件300而相互紧固。通过解除紧固件300的紧固,底面部7以及两个侧面部6分离成三个部件。在第2实施方式中,只要对应于第2部件4的尺寸将两个侧面部6安装于底面部7即可,因而,能够缓和第2部件4和两个侧面部6及底面部7所要求的加工精度。
如图8所例示的那样,从使固定作业中的再现性提高的观点出发,优选的是,用于将两个侧面部6紧固于底面部7的紧固件300(螺栓)被配置在距紧固部5等距离的位置上。
在图4中示出了本发明的第3实施方式的定位装置100的构成。作为第3实施方式未提及的事项可依照第1或者第2实施方式。在第3实施方式中,第2部件4包括上表面部91以及从上表面部91的两个端部分别延伸的两个侧面部92,两个侧面部92分别具有第2面S2。两个第2面S2可构成为位于一个平面内。另外,第1部件1例如可由具有第1面S1的平板部件构成。第1部件1和第2部件4可借助紧固部5相互紧固。
在未借助紧固部5将第1部件1与第2部件4相互紧固的状态下,在第1面S1与第2面S2之间存在微小的间隙,第2部件4能够沿X方向移动。在第2部件4被定位之后,借助紧固部5将第1部件1与第2部件4相互紧固或固定。在借助紧固部5将第1部件1与第2部件4相互紧固或固定的状态下,第1部件1稍微变形,第1部件1的第1面S1与第2部件4的第2面S2接触。第1部件1以及第2部件4是具有高刚性的刚性部件,由借助紧固部5相互紧固或固定的第1部件1和第2部件4构成的结构体可看作一个刚性部件。
可管理第2部件4、轨道21、22、块体31~34的尺寸,以便在第1面S1与第2面S2之间形成比因紧固部5造成的第1部件1以及第2部件4的变形(给第1面S1与第2面S2的间隙带来影响的变形)小的间隙。或是,也可以测量轨道21、22和块体31~34的实际尺寸,以在第1面S1与第2面S2之间形成适当的间隙的方式加工第2部件4。第3实施方式关于固定作业提供了用于从第1部件1的下方接触到紧固部5的选择项。
在图5中示出了本发明的第4实施方式的定位装置100的构成。第4实施方式提供第3实施方式的变形例,作为第4实施方式未提及的事项可依照第3实施方式,或是经由第3实施方式依照第1或第2实施方式。在第4实施方式中,第2部件4包括上表面部91和从上表面部91的两个端部分别延伸的两个侧面部92,两个侧面部92分别具有第2面S2。2个第2面S2可构成为位于一个平面内。第2部件4可构成为由紧固件500将上表面部91与两个侧面部92相互紧固。通过将紧固件500形成的紧固解除,上表面部12以及两个侧面部11分离成3个部件。在第4实施方式中,能够缓和针对轨道21、22、块体31~34、侧面部11所要求的加工精度。
在图6(a)和图6(b)中示出了本发明的第5实施方式的定位装置100的构成。作为第5实施方式未提及的事项可以依照第1至第4实施方式中的任一者或者组合。在第5实施方式中,第2部件4与第1部件1的两个侧面部SP由紧固部5紧固这方面与第1实施方式通用。另一方面,在第1实施方式的具体例中,构成紧固部5的紧固件51~54是螺栓,相对于此,在第5实施方式的具体例中,紧固部5是夹紧结构体15,在这方面两者不同。
第1部件1可包括底面部BP和从底面部BP的两个端部分别延伸的两个侧面部SP。各侧面部SP具有第1面S1。第2部件4可具有上表面部12和从上表面部12的两个端部分别延伸的两个侧壁部14。各侧壁部14具有第2面S2。夹紧结构体15能以使侧面部SP和侧壁部14相互推压的方式,换言之以第1面S1与第2面S2接触的方式,将第1部件1以及第2部件4夹紧。在第1实施方式的具体例中,因长圆孔55的尺寸限制了第2部件4的行程(可动范围),而第5实施方式有利于扩大第2部件4的行程。
紧固部5可包括附随于夹紧结构体15的螺栓17。夹紧动作通过螺栓17的紧固来达成。紧固部5也可以包括防止螺栓17松动的防松螺母16。紧固部5例如可具有螺栓17的末端与侧面部SP抵接的结构,但此时优选的是,螺栓17为其末端是圆形的圆头型螺栓。此时,可抑制在紧固时在侧面部SP发生损伤的情形,进而可抑制因该损伤导致固定作业的再现性降低的情形。另外,通过采用圆头型螺栓,可减小螺栓17与侧面部SP的接触面积,可减小紧固时从螺栓17施加至第1部件1的力矩。这会有助于固定作业的再现性提高。
同样,通过减小夹紧结构体15与第2部件4的侧壁部14接触的部分的面积,也有助于减小从夹紧结构体15施加给第2部件4的力矩而提高固定作业的再现性。
在图7中示出了本发明的第6实施方式的定位装置100的构成。作为第6实施方式未被提及的事项可以依照第1至第5实施方式中的任一者或组合。如第1实施方式的说明中简单提及的那样,块体的个数也可以是3个。第7实施方式的定位装置100具备第1块体31、第2块体32以及第3块体33,但不具备第4块体34。第1块体31以及第2块体32由作为引导件发挥功能的第1轨道21支撑,能沿第1轨道21在X方向移动。第3块体33由作为引导件发挥功能的第2轨道22支撑,能沿第2轨道22在X方向移动。
第1轨道21也可以被分割为支撑第1块体31的第1轨道部分和支撑第2块体32的第2轨道部分。此时,第1轨道部分和第2轨道部分既可以配置在同一条直线上,也可以分开地配置在相互平行的两条直线上。
第1块体31、第2块体32以及第3块体33按照构成以第1块体31的重心、上述第2块体32的重心以及第3块体33的重心为顶点的三角形的方式配置。在此,优选的是,第1块体31、第2块体32以及第3块体33按照构成以连结第1块体31的重心与第2块体32的重心的线段为底边的等腰三角形的方式配置。
第2部件4被固定于第1块体31、第2块体32以及第3块体33,具有面对第1面S1的第2面S2。第2部件4按照第2部件4固定于第1块体31、第2块体32以及第3块体33的状态且未固定于第1部件1的状态,能在X方向移动。紧固部5将第1部件1以及第2部件4相互紧固。
附图标记的说明
1:第1部件;21:第1轨道;22:第2轨道;31~34:块体;4:第2部件;5:紧固部。

Claims (16)

1.一种定位装置,其特征在于,该定位装置具备:
第1部件,该第1部件具有与第1方向平行的第1面;
第1轨道以及第2轨道,该第1轨道以及第2轨道以在与上述第1方向交叉的第2方向相互隔离且与上述第1方向平行地配置的方式固定于上述第1部件;
第1块体以及第2块体,该第1块体以及第2块体由上述第1轨道支撑而能沿上述第1轨道移动;
第3块体,该第3块体由上述第2轨道支撑而能沿上述第2轨道移动;
第2部件,该第2部件具有面对上述第1面的第2面,并固定于上述第1块体、上述第2块体以及上述第3块体;以及
紧固部,该紧固部以上述第1部件和上述第2部件相互固定而构成一个刚性部件的方式,使上述第1面和上述第2面接触并将上述第1部件以及上述第2部件相互紧固,
上述第1部件以及上述第2部件是刚性部件。
2.如权利要求1所述的定位装置,其特征在于,
上述紧固部包括第1紧固件、第2紧固件以及第3紧固件,
上述第1方向上的上述第1紧固件的位置处于上述第1方向上的上述第1块体的两个端面之间,上述第1方向上的上述第2紧固件的位置处于上述第1方向上的上述第2块体的两个端面之间,上述第1方向上的上述第3紧固件的位置处于上述第1方向上的上述第3块体的两个端面之间。
3.如权利要求1所述的定位装置,其特征在于,
上述第1部件具有包括上述第1面在内的两个第1面,上述两个第1面相互相向。
4.如权利要求3所述的定位装置,其特征在于,
上述第1部件包括底面部和分别从上述底面部的两个端部延伸的两个侧面部,
上述两个第1面分别设在上述两个侧面部。
5.如权利要求4所述的定位装置,其特征在于,
上述第1部件构成为上述底面部和上述两个侧面部相互紧固。
6.如权利要求4所述的定位装置,其特征在于,
上述第2部件和上述两个侧面部利用夹紧结构体而相互紧固。
7.如权利要求3所述的定位装置,其特征在于,
上述第2部件包括上表面部和分别从上述上表面部的两个端部延伸的两个侧面部,
上述两个第1面分别设在上述两个侧面部。
8.如权利要求7所述的定位装置,其特征在于,
上述上表面部和上述两个侧面部利用螺栓而相互紧固。
9.如权利要求1所述的定位装置,其特征在于,
该定位装置还具备由上述第2轨道支撑而能沿上述第2轨道移动的第4块体,
上述第2部件固定于上述第1块体、上述第2块体、上述第3块体以及上述第4块体。
10.如权利要求9所述的定位装置,其特征在于,
上述第1块体、上述第2块体、上述第3块体以及上述第4块体以构成长方形的方式配置,该长方形以上述第1块体的重心、上述第2块体的重心、上述第3块体的重心以及上述第4块体的重心为顶点。
11.如权利要求10所述的定位装置,其特征在于,
上述紧固部还包括第4紧固件,
上述第1方向上的上述第4紧固件的位置处于上述第1方向上的上述第4块体的两个端面之间。
12.如权利要求1所述的定位装置,其特征在于,
上述第1块体、上述第2块体以及上述第3块体以构成等腰三角形的方式配置,该等腰三角形以上述第1块体的重心、上述第2块体的重心以及上述第3块体的重心为顶点,且以连结上述第1块体的重心与上述第2块体的重心的线段为底边。
13.如权利要求12所述的定位装置,其特征在于,
上述第1轨道分离成支撑上述第1块体的第1轨道部分和支撑上述第2块体的第2轨道部分。
14.如权利要求1所述的定位装置,其特征在于,
在与上述第1方向垂直的剖面中,由利用上述紧固部紧固的上述第1部件以及上述第2部件构成的结构体具有中空的四棱柱形状。
15.如权利要求1~14中任一项所述的定位装置,其特征在于,
该定位装置还具备固定于上述第2部件的光学元件。
16.一种曝光装置,其特征在于,该曝光装置具备权利要求15所述的定位装置。
CN201910861358.6A 2018-09-18 2019-09-12 定位装置以及曝光装置 Active CN110908247B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018-174192 2018-09-18
JP2018174192A JP7190298B2 (ja) 2018-09-18 2018-09-18 位置決め装置および露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110908247A CN110908247A (zh) 2020-03-24
CN110908247B true CN110908247B (zh) 2024-01-16

Family

ID=69814581

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910861358.6A Active CN110908247B (zh) 2018-09-18 2019-09-12 定位装置以及曝光装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7190298B2 (zh)
CN (1) CN110908247B (zh)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001125216A (ja) * 1999-10-25 2001-05-11 Ricoh Co Ltd 画像読取装置及びそのレンズブロック傾き調整方法
JP2002203766A (ja) * 2000-12-27 2002-07-19 Nikon Corp 照明光学装置及びそれを備える露光装置
JP2005302838A (ja) * 2004-04-07 2005-10-27 Nsk Ltd 位置決め装置
JP2009047844A (ja) * 2007-08-17 2009-03-05 Ricoh Co Ltd 画像読取装置および画像形成装置
JP2011220516A (ja) * 2010-03-23 2011-11-04 Yaskawa Electric Corp 除振装置および精密ステージ装置
CN104625780A (zh) * 2013-11-11 2015-05-20 大隈株式会社 工件的防振夹具
TW201600743A (zh) * 2014-05-15 2016-01-01 Thk股份有限公司 運動裝置
CN105612025A (zh) * 2015-08-31 2016-05-25 山崎马扎克公司 工作台夹紧装置和具备工作台夹紧装置的随行夹具更换器
CN106164641A (zh) * 2014-03-31 2016-11-23 柯尼卡美能达株式会社 光学元件的测定用夹具、偏心测定装置以及偏心测定方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07164252A (ja) * 1993-12-08 1995-06-27 Advantest Corp 複数本の案内レールを有する案内装置の組み立て方法
JP3455016B2 (ja) * 1996-06-20 2003-10-06 シグマ光機株式会社 直線運動ステージの鋼球ガイド溝加工方法およびその装置
JP2005016719A (ja) * 2003-05-30 2005-01-20 Thk Co Ltd 制振材料及びこの制振材料を組み込んだ運動案内装置
JP2014134646A (ja) * 2013-01-09 2014-07-24 Hitachi High-Technologies Corp 液晶露光装置及びステージ装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001125216A (ja) * 1999-10-25 2001-05-11 Ricoh Co Ltd 画像読取装置及びそのレンズブロック傾き調整方法
JP2002203766A (ja) * 2000-12-27 2002-07-19 Nikon Corp 照明光学装置及びそれを備える露光装置
JP2005302838A (ja) * 2004-04-07 2005-10-27 Nsk Ltd 位置決め装置
JP2009047844A (ja) * 2007-08-17 2009-03-05 Ricoh Co Ltd 画像読取装置および画像形成装置
JP2011220516A (ja) * 2010-03-23 2011-11-04 Yaskawa Electric Corp 除振装置および精密ステージ装置
CN104625780A (zh) * 2013-11-11 2015-05-20 大隈株式会社 工件的防振夹具
CN106164641A (zh) * 2014-03-31 2016-11-23 柯尼卡美能达株式会社 光学元件的测定用夹具、偏心测定装置以及偏心测定方法
TW201600743A (zh) * 2014-05-15 2016-01-01 Thk股份有限公司 運動裝置
CN105612025A (zh) * 2015-08-31 2016-05-25 山崎马扎克公司 工作台夹紧装置和具备工作台夹紧装置的随行夹具更换器

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020046514A (ja) 2020-03-26
CN110908247A (zh) 2020-03-24
JP7190298B2 (ja) 2022-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100568206B1 (ko) 스테이지장치
CN110908247B (zh) 定位装置以及曝光装置
JP6938693B2 (ja) ジョイント
US8638026B2 (en) Stage drive device
US6947227B2 (en) Positioning device
CN1669800A (zh) 一种将物体精确定位于框架上的装置
JPH0434166B2 (zh)
JP7115894B2 (ja) ダイヤルスタンド
JP6406593B2 (ja) 駆動機構
JPH0637228Y2 (ja) 変位装置
US5287761A (en) Device and method for micro displacement
US10663040B2 (en) Method and precision nanopositioning apparatus with compact vertical and horizontal linear nanopositioning flexure stages for implementing enhanced nanopositioning performance
KR20050028829A (ko) 직동장치 및 그 레일유지치구
JP7277868B2 (ja) リニアアクチュエータおよびxyテーブル
CN219114006U (zh) 一种多自由度运动平台及位移台装置
JP2603645Y2 (ja) 直線作動ユニット
JP7218955B2 (ja) 駆動機構
JP2636063B2 (ja) 産業ロボットの位置検出手段の微調整機構
JP2000019415A (ja) 微動ステージ
JP2000120679A (ja) 機械部材間のクリアランス微調整機構
JP2921915B2 (ja) ロック機構
KR20240050349A (ko) 광학 계기를 위치시키는 장치 및 방법
JP2004084880A (ja) 機械の送り装置
JP2002093693A (ja) ステージ装置
JPH02120016A (ja) 射出成形機の型締装置固定方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant