CN110863178B - 一种镀膜均匀的镀膜装置 - Google Patents

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Abstract

本发明属于真空镀膜技术领域，尤其是一种镀膜均匀的镀膜装置，针对现有技术中蒸发镀膜不够均匀的问题，现提出以下方案，包括镀膜室，所述镀膜室内部的一侧设置有加热件和靶材，所述镀膜室的顶部固定有固定管，且固定管的顶端通过管道连接有真空泵，所述镀膜室远离加热件的一侧外壁固定有第一电机，且第一电机的输出轴固定有设置于镀膜室内部的固定座，所述固定座远离第一电机的一侧顶部和底部均固定有固定架，且两个固定架之间转动连接有固定杆。本发明中，通过第二电机转动固定杆使零部件在水平方向转动，通过第一电机转动固定座使零部件在竖直方向转动，从而使多个零部件以及零部件的各个位置均匀的与气化的靶材接触。

Description

一种镀膜均匀的镀膜装置
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种镀膜均匀的镀膜装置。
背景技术
真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上，此项技术最先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等，后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等，如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。
现在国内工厂应用的大部分是蒸发镀膜,蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜，但是实际进行蒸发镀膜的过程中，往往由于多个零件以及各个零件的各个位置与靶材之间的距离不同，使得实际的镀膜不够均匀。
发明内容
基于现有技术中蒸发镀膜不够均匀的技术问题，本发明提出了一种镀膜均匀的镀膜装置。
本发明提出的一种镀膜均匀的镀膜装置，包括镀膜室，所述镀膜室内部的一侧设置有加热件和靶材，所述镀膜室的顶部固定有固定管，且固定管的顶端通过管道连接有真空泵，所述镀膜室远离加热件的一侧外壁固定有第一电机，且第一电机的输出轴固定有设置于镀膜室内部的固定座，所述固定座远离第一电机的一侧顶部和底部均固定有固定架，且两个固定架之间转动连接有固定杆，所述固定杆的一端传动连接有第二电机，且第二电机固定于固定架上，所述固定杆的外壁可拆卸连接有多个固定件。
优选地，所述镀膜室一侧内壁与固定座对应的位置固定有限位环，且限位环的内壁通过轴承与固定座的外壁转动连接。
优选地，所述镀膜室的一端设置有安全门，且安全门的一端设置有观察窗。
优选地，所述镀膜室底部内壁远离固定座的一侧固定有定位筒，且加热件固定于定位筒的底部内壁，定位筒的顶部内壁固定有十字形结构的限位架，镀膜室顶部内壁与定位筒对应的位置固定有放置筒，靶材滑动设置于放置筒内部，放置筒的外壁底部和定位筒的外壁顶部均开设有多个穿孔。
优选地，所述镀膜室顶部内壁与放置筒对应的位置固定有固定筒，且固定筒内壁的底端与放置筒外壁的顶端之间通过轴承转动连接，固定筒的顶部设置有密封塞。
优选地，所述定位筒的底部外壁与镀膜室的底部内壁滑动连接，且定位筒的底部外壁连接有第三电机。
优选地，所述镀膜室顶部和底部内壁位于加热件和固定座之间的位置均固定有电动导轨，且电动导轨的底部连接有隔板。
优选地，所述隔板的一侧外壁开设有多个通孔，且两个隔板上的通孔之间相对应。
优选地，所述镀膜室靠近定位筒的一侧设置有盖板。
与现有技术相比，本发明提供了一种镀膜均匀的镀膜装置，具备以下有益效果：
1、该一种镀膜均匀的镀膜装置，通过在镀膜室内设置有加热件和靶材以对固定后的零部件进行镀膜处理，装置在镀膜室内远离加热件的一侧与第一电机连接的固定座，固定座的顶部和底部之间转动连接有固定杆，将待镀膜的零部件固定于固定杆外壁的固定件之间，通过第二电机转动固定杆使零部件在水平方向转动，通过第一电机转动固定座使零部件在竖直方向转动，从而使多个零部件以及零部件的各个位置均匀的与气化的靶材接触，提高装置实际镀膜的均匀效果。
2、该一种镀膜均匀的镀膜装置，装置将加热件设置于定位筒的底部内壁，靶材滑动放置于定位筒顶部的放置筒内，并通过限位架将靶材进行限位，通过穿孔使气化的靶材流通至镀膜室内，且随着靶材底部被加热融化后使靶材沿着放置筒自然滑下，以保证各个时刻对靶材加热融化的速率相同，从而增强设备的实际镀膜效果。
3、该一种镀膜均匀的镀膜装置，通过在加热件与固定架之间设置有两个与电动导轨连接的隔板，在进行镀膜处理时将两个隔板向中间位置移动使两个隔板的通孔相对应，以保证气化靶材的流动性，当需要更换零部件以及更换靶材时，可将两个隔板向两端移动使通孔错开以将镀膜室内分隔成两个腔室，从而可对两个腔室内分别进行作业，提高设备的实际使用效果。
附图说明
图1为本发明实施例1提出的一种镀膜均匀的镀膜装置的整体结构示意图；
图2为本发明实施例1提出的一种镀膜均匀的镀膜装置的剖视结构示意图；
图3为本发明实施例2提出的一种镀膜均匀的镀膜装置的整体结构示意图；
图4为本发明实施例2提出的一种镀膜均匀的镀膜装置的剖视结构示意图。
图中：1镀膜室、2加热件、3固定管、4固定座、5固定架、6固定杆、7固定件、8限位环、9安全门、10定位筒、11限位架、12放置筒、13穿孔、14固定筒、15密封塞、16电动导轨、17隔板、18通孔、19盖板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
实施例1
参照图1-2，一种镀膜均匀的镀膜装置，包括镀膜室1，镀膜室1内部的一侧设置有加热件2和靶材，镀膜室1的顶部固定有固定管3，且固定管3的顶端通过管道连接有真空泵，镀膜室1远离加热件2的一侧外壁固定有第一电机，且第一电机的输出轴固定有设置于镀膜室1内部的固定座4，固定座4远离第一电机的一侧顶部和底部均固定有固定架5，且两个固定架5之间转动连接有固定杆6，固定杆6的一端传动连接有第二电机，且第二电机固定于固定架5上，固定杆6的外壁可拆卸连接有多个固定件7，将待镀膜的零部件固定于相邻两个固定件7之间。
本发明中，镀膜室1一侧内壁与固定座4对应的位置固定有限位环8，且限位环8的内壁通过轴承与固定座4的外壁转动连接，镀膜室1的一端设置有安全门9，且安全门9的一端设置有观察窗，镀膜室1底部内壁远离固定座4的一侧固定有定位筒10，且加热件2固定于定位筒10的底部内壁，定位筒10的顶部内壁固定有十字形结构的限位架11，镀膜室1顶部内壁与定位筒10对应的位置固定有放置筒12，靶材滑动设置于放置筒12内部，放置筒12的外壁底部和定位筒10的外壁顶部均开设有多个穿孔13；
镀膜室1顶部内壁与放置筒12对应的位置固定有固定筒14，且固定筒14内壁的底端与放置筒12外壁的顶端之间通过轴承转动连接，固定筒14的顶部设置有密封塞15，定位筒10的底部外壁与镀膜室1的底部内壁滑动连接，且定位筒10的底部外壁连接有第三电机，第三电机固定于镀膜室1的底部外壁。
使用时，通过在镀膜室1内设置有加热件2和靶材以对固定后的零部件进行镀膜处理，装置在镀膜室1内远离加热件2的一侧与第一电机连接的固定座4，固定座4的顶部和底部之间转动连接有固定杆6，将待镀膜的零部件固定于固定杆6外壁的固定件7之间，通过第二电机转动固定杆6使零部件在水平方向转动，通过第一电机转动固定座4使零部件在竖直方向转动，从而使多个零部件以及零部件的各个位置均匀的与气化的靶材接触，提高装置实际镀膜的均匀效果；
装置将加热件2设置于定位筒10的底部内壁，靶材滑动放置于定位筒10顶部的放置筒12内，并通过限位架11将靶材进行限位，通过穿孔13使气化的靶材流通至镀膜室1内，且随着靶材底部被加热融化后使靶材沿着放置筒12自然滑下，以保证各个时刻对靶材加热融化的速率相同，从而增强设备的实际镀膜效果。
实施例2
参照图3-4，一种镀膜均匀的镀膜装置，镀膜室1顶部和底部内壁位于加热件2和固定座4之间的位置均固定有电动导轨16，且电动导轨16的底部连接有隔板17，隔板17的一侧外壁开设有多个通孔18，且两个隔板17上的通孔18之间相对应，镀膜室1靠近定位筒10的一侧设置有盖板19。
在进行镀膜处理时将两个隔板17向中间位置移动使两个隔板17的通孔18相对应，以保证气化靶材的流动性，当需要更换零部件以及更换靶材时，可将两个隔板17向两端移动使通孔18错开以将镀膜室1内分隔成两个腔室，从而可对两个腔室内分别进行作业，提高设备的实际使用效果。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种镀膜均匀的镀膜装置，包括镀膜室（1），其特征在于，所述镀膜室（1）内部的一侧设置有加热件（2）和靶材，所述镀膜室（1）的顶部固定有固定管（3），且固定管（3）的顶端通过管道连接有真空泵，所述镀膜室（1）远离加热件（2）的一侧外壁固定有第一电机，且第一电机的输出轴固定有设置于镀膜室（1）内部的固定座（4），所述固定座（4）远离第一电机的一侧顶部和底部均固定有固定架（5），且两个固定架（5）之间转动连接有固定杆（6），所述固定杆（6）的一端传动连接有第二电机，且第二电机固定于固定架（5）上，所述固定杆（6）的外壁可拆卸连接有多个固定件（7）；所述镀膜室（1）一侧内壁与固定座（4）对应的位置固定有限位环（8），且限位环（8）的内壁通过轴承与固定座（4）的外壁转动连接；
所述镀膜室（1）的一端设置有安全门（9），且安全门（9）的一端设置有观察窗；
所述镀膜室（1）底部内壁远离固定座（4）的一侧固定有定位筒（10），且加热件（2）固定于定位筒（10）的底部内壁，定位筒（10）的顶部内壁固定有十字形结构的限位架（11），镀膜室（1）顶部内壁与定位筒（10）对应的位置固定有放置筒（12），靶材滑动设置于放置筒（12）内部，放置筒（12）的外壁底部和定位筒（10）的外壁顶部均开设有多个穿孔（13）。
2.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室（1）顶部内壁与放置筒（12）对应的位置固定有固定筒（14），且固定筒（14）内壁的底端与放置筒（12）外壁的顶端之间通过轴承转动连接，固定筒（14）的顶部设置有密封塞（15）。
3.根据权利要求2所述的一种镀膜均匀的镀膜装置，其特征在于，所述定位筒（10）的底部外壁与镀膜室（1）的底部内壁滑动连接，且定位筒（10）的底部外壁连接有第三电机。
4.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室（1）顶部和底部内壁位于加热件（2）和固定座（4）之间的位置均固定有电动导轨（16），且电动导轨（16）的底部连接有隔板（17）。
5.根据权利要求4所述的一种镀膜均匀的镀膜装置，其特征在于，所述隔板（17）的一侧外壁开设有多个通孔（18），且两个隔板（17）上的通孔（18）之间相对应。
6.根据权利要求5所述的一种镀膜均匀的镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室（1）靠近定位筒（10）的一侧设置有盖板（19）。
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