CN110831909A - 托架设备以及加工托架设备的方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 109
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 388
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 371
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 123
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 75
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims description 15
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 7
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 5
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000006120 scratch resistant coating Substances 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000006119 easy-to-clean coating Substances 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229920002449 FKM Polymers 0.000 description 1
- 239000006125 LAS system Substances 0.000 description 1
- 229910008556 Li2O—Al2O3—SiO2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006126 MAS system Substances 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006127 ZAS system Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 1
- CNLWCVNCHLKFHK-UHFFFAOYSA-N aluminum;lithium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Li+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O CNLWCVNCHLKFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;bis(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1.C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001423 beryllium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- -1 but not limited to Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013536 elastomeric material Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- NGDNQOCGNPJKKO-UHFFFAOYSA-N hexalithium trioxido(trioxidosilyloxy)silane Chemical compound [Li+].[Li+].[Li+].[Li+].[Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])([O-])O[Si]([O-])([O-])[O-] NGDNQOCGNPJKKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 238000005289 physical deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000003283 slot draw process Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000500 β-quartz Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052644 β-spodumene Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
- C03C2218/328—Partly or completely removing a coating
- C03C2218/33—Partly or completely removing a coating by etching
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
一种包含制品的托架设备，所述制品包括第一主表面、第二主表面、在第一主表面与第二主表面之间的厚度，以及在第一主表面与第二主表面之间的厚度上延伸的外边缘。所述托架设备包括涂层和衬垫，所述涂层包括设置在制品的第一主表面上的中心部分以及设置在制品的外边缘上的外部暴露部分，所述衬垫包括接触涂层的第一表面。衬垫的第一表面与涂层之间的外部界面限定了外边界，其将涂层的中心部分与涂层的外部暴露部分隔离开。还提供了加工托架设备以从制品移除至少一部分涂层的方法。
Description
相关申请的交叉参考
本申请根据35U.S.C.§119要求于2017年3月21日提交的系列号为62/474365的美国临时申请的优先权权益，本申请以该申请的内容为基础，并通过引用的方式将其全文纳入本文。
技术领域
本公开一般涉及托架设备以及加工托架设备的方法，更具体地，涉及包含制品并且该制品包含设置在制品上的涂层的托架设备，以及通过将涂层的暴露部分暴露于蚀刻剂来加工托架设备的方法。
背景技术
玻璃片普遍用于例如显示应用，例如液晶显示器(LCD)、电泳显示器(EPD)、有机发光二极管显示器(OLED)、等离子体显示器面板(PDP)等。通常，通过如下方法来制造玻璃片：使熔融玻璃流到成形主体，借此可以通过各种带成形工艺形成玻璃带，例如狭缝拉制、浮法、下拉、熔合下拉、辊轧或者上拉。然后，可以接着分离玻璃带以提供适于进一步加工成所需显示应用的片材玻璃，所述显示应用包括但不限于移动装置、电视、电脑、平板电脑和其他显示监视器的屏幕或盖板玻璃。
需要高品质的玻璃片，这些玻璃片包含沉积在玻璃片主表面上的材料，以例如提供以下中的至少一项：在玻璃片上提供耐磨和耐刮擦涂层；以及增加玻璃片的强度以防止玻璃片断裂。需求扩展至包含平面(例如2D)部分的玻璃片，以及扩展至包含非平面(例如3D)部分的玻璃片。在玻璃片上沉积材料的一些方法包括处理和运输玻璃片。例如，一些玻璃涂覆沉积技术包括物理气相沉积、等离子体气相沉积和化学气相沉积中的至少一种，当在涂覆沉积过程期间处理和运输玻璃片时，其在玻璃片上提供涂层。涂层可以是光学透明的，以对可以显示在玻璃片上或通过玻璃片观看的图像具有极小干扰或没有干扰，或者不会使图像畸变。其他技术可以提供蓝宝石盖板玻璃以保护玻璃片免受刮擦影响；然而，通过沉积在玻璃片上的材料来提供的表面涂层防止了玻璃片上的磨损和刮擦并增加了玻璃片的强度，并且相比于例如蓝宝石盖板玻璃，该表面涂层可以提供更有效且更便宜的玻璃片，并因此可以用于各种显示应用且显著节约成本。
玻璃制品，例如盖板玻璃(如手机的盖板玻璃)可以通过一种或多种表面处理来制造以增强其功能并对终端用户提供积极体验。例如，盖板玻璃可以涂覆有一层或多层涂层以提供所需的特性。这种涂层可以包括抗反射涂层、易清洁涂层和耐刮擦涂层。可以利用各种真空沉积方法将这些涂层施涂在盖板玻璃的表面上，所述真空沉积方法例如溅射、等离子体气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。可将这些涂层施涂于盖板玻璃的整个表面[例如盖板玻璃表面的无边框涂层(edge-to-edgecoating)]。在一些实施方式中，在涂覆过程期间，可以使用压敏粘合剂(例如Kapton双面胶带)将盖板玻璃保持在支承板上。
另外，在涂覆过程期间，可能期望沉积在玻璃片上的材料仅沉积在例如可以与用户互动的主表面上。例如，在用户可以物理接触玻璃片以控制显示装置的特征的触屏应用中可以提供玻璃片。同样地，在玻璃的主表面用于供用户观看并因此其暴露于包含可使玻璃表面刮擦和磨损的灰尘、碎屑和其他物体的环境中的应用中，可以提供玻璃片。因此，需要包含玻璃片的托架设备以及加工托架设备的方法，其防止材料和/或随后从玻璃片移除材料，使得沉积在玻璃片上的材料例如仅沉积在例如可以与用户互动的主表面上。
发明内容
阐述了托架设备的示例性实施方式，所述托架设备包括制品，所述制品包括第一主表面，第二主表面，在第一主表面与第二主表面之间的厚度，以及在第一主表面与第二主表面之间的厚度上延伸的外边缘。还提供了加工托架设备的方法。
以下描述了本公开的一些示例性实施方式，同时应理解任意实施方式可以单独使用或彼此组合使用。
实施方式1：一种包含制品的托架设备，所述制品包括第一主表面，第二主表面，在第一主表面与第二主表面之间的厚度，以及在第一主表面与第二主表面之间的厚度上延伸的外边缘。所述托架设备包括涂层和衬垫，所述涂层包括设置在制品的第一主表面上的中心部分以及设置在制品的外边缘上的外部暴露部分，所述衬垫包括与涂层接触的第一表面。衬垫的第一表面与涂层之间的外部界面限定了外边界，所述外边界将涂层的中心部分与涂层的外部暴露部分隔离开。
实施方式2：如实施方式1所述的加工托架设备的方法，其包括：将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂。
实施方式3：如实施方式2所述的方法，将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂包括：将涂层的外部暴露部分浸没到包含蚀刻剂的浴槽中。
实施方式4：如实施方式2或实施方式3所述的方法，将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂使得从制品移除了涂层的外部暴露部分。
实施方式5：如实施方式4所述的方法，在从制品移除涂层的外部暴露部分后，涂层完全位于制品的第一主表面上。
实施方式6：如实施方式2-5中任一个实施方式所述的方法，所述托架设备还包括：包含支承表面的基底。衬垫的第二表面接触基底的支承表面，并且所述方法还包括：在朝向基底的支承表面的方向上，向制品施加力，由此压制基底的支承表面与涂层之间的衬垫。
实施方式7：如实施方式6所述的方法，在进行将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂的同时，向制品施加力。
实施方式8：如实施方式1所述的托架设备，所述制品还包括孔，所述孔限定在制品的第一主表面中的第一开口与制品的第二主表面中的第二开口之间，制品的内边缘在第一开口与第二开口之间的厚度上延伸。所述涂层包含设置在制品的内边缘上的内部暴露部分，并且在衬垫的第一表面与涂层之间的内部界面限定了内边界，所述内边界将涂层的中心部分与涂层的内部暴露部分隔离开。
实施方式9：如实施方式8所述的加工托架设备的方法，其包括：将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂。
实施方式10：如实施方式9所述的方法，将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂包括：将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分浸没到包含蚀刻剂的浴槽中。
实施方式11：如实施方式9或实施方式10所述的方法，将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂使得从制品移除了涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分。
实施方式12：如实施方式11所述的方法，在从制品移除涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分后，涂层完全位于制品的第一主表面上。
实施方式13：如实施方式9-12中任一个实施方式所述的方法，所述托架设备还包括：包含支承表面的基底。衬垫的第二表面接触基底的支承表面，并且所述方法还包括：在朝向基底的支承表面的方向上，向制品施加力，由此压制基底的支承表面与涂层之间的衬垫。
实施方式14：如实施方式13所述的方法，在进行将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂的同时，向制品施加力。
实施方式15：如实施方式2-7和9-14中任一个实施方式所述的方法，所述制品包括片材，所述片材包含玻璃、玻璃陶瓷、陶瓷或其组合。
实施方式16：一种包含制品的托架设备，所述制品包括第一主表面，第二主表面，在第一主表面与第二主表面之间的厚度，以及限定在制品的第一主表面中的第一开口与制品的第二主表面中的第二开口之间的孔，制品的内边缘在第一开口与第二开口之间的厚度上延伸。所述托架设备包括涂层和衬垫，所述涂层包括设置在制品的第一主表面上的中心部分以及设置在制品的内边缘上的内部暴露部分，所述衬垫包括与涂层接触的第一表面。衬垫的第一表面与涂层之间的内部界面限定了内边界，所述内边界将涂层的中心部分与涂层的内部暴露部分隔离开。
实施方式17：如实施方式16所述的加工托架设备的方法，其包括：将涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂。
实施方式18：如实施方式17所述的方法，将涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂包括：将涂层的内部暴露部分浸没到包含蚀刻剂的浴槽中。
实施方式19：如实施方式17或实施方式18所述的方法，将涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂使得从制品移除了涂层的内部暴露部分。
实施方式20：如实施方式19所述的方法，在从制品移除涂层的内部暴露部分后，涂层完全位于制品的第一主表面上。
实施方式21：如实施方式17-20中任一个实施方式所述的方法，所述托架设备还包括：包含支承表面的基底。衬垫的第二表面接触基底的支承表面，并且所述方法还包括：在朝向基底的支承表面的方向上，向制品施加力，由此压制基底的支承表面与涂层之间的衬垫。
实施方式22：如实施方式21所述的方法，在进行将涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂的同时，向制品施加力。
实施方式23：如实施方式17-22中任一个实施方式所述的方法，所述制品包括片材，所述片材包含玻璃、玻璃陶瓷、陶瓷或其组合。
实施方式24：一种包含制品的托架设备，所述制品包括第一主表面，第二主表面，在第一主表面与第二主表面之间的厚度，以及在第一主表面与第二主表面之间的厚度上延伸的外边缘。所述托架设备包括涂层和多个衬垫，所述涂层包括设置在制品的第一主表面上的中心部分以及设置在制品的外边缘上的外部暴露部分。所述多个衬垫中的第一衬垫包括与涂层接触的第一表面，在第一衬垫的第一表面与涂层之间的第一外部界面限定了第一外边界，所述第一外边界将涂层的中心部分与涂层的外部暴露部分隔离开。所述多个衬垫中的第二衬垫包括与制品的第二主表面接触的第二表面，并且在第二衬垫的第二表面与制品的第二主表面之间的第二外部界面限定了第二外边界，所述第二外边界将制品的第二主表面的中心部分与制品的第二主表面的外部暴露部分隔离开。
实施方式25：如实施方式24所述的托架设备，第一外边界侧向包围第二外边界。
实施方式26：如实施方式24或实施方式25所述的加工托架设备的方法，其包括：将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂。
实施方式27：如实施方式26所述的方法，将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂包括：将涂层的外部暴露部分浸没到包含蚀刻剂的浴槽中。
实施方式28：如实施方式26或实施方式27所述的方法，将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂使得从制品移除了涂层的外部暴露部分。
实施方式29：如实施方式28所述的方法，在从制品移除涂层的外部暴露部分后，涂层完全位于制品的第一主表面上。
实施方式30：如实施方式26-29中任一个实施方式所述的方法，所述托架设备还包括第一基底和第二基底，所述第一基底包括面向制品的第一主表面的支承表面，所述第二基底包括面向制品的第二主表面的支承表面。所述制品、涂层、第一衬垫和第二衬垫位于第一基底的支承表面与第二基底的支承表面之间。
实施方式31：如实施方式30所述的方法，其还包括：在朝向第二基底的支承表面的方向上向第一基底施加第一力，和/或在朝向第一基底的支承表面的方向上向第二基底施加第二力，由此将第一衬垫的第一表面压向涂层并将第二衬垫的第二表面压向制品的第二主表面。
实施方式32：如实施方式31所述的方法，在进行将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂的同时，向第一基底施加第一力和/或向第二基底施加第二力。
实施方式33：如实施方式24或实施方式25所述的托架设备，所述制品还包括孔，所述孔限定在制品的第一主表面中的第一开口与制品的第二主表面中的第二开口之间，制品的内边缘在第一开口与第二开口之间的厚度上延伸。所述涂层包含设置在制品的内边缘上的内部暴露部分，并且在第一衬垫的第一表面与涂层之间的第一内部界面限定了第一内边界，所述第一内边界将涂层的中心部分与涂层的内部暴露部分隔离开。在第二衬垫的第二表面与制品的第二主表面之间的第二内部界面限定了第二内边界，所述第二内边界将制品的第二主表面的中心部分与涂层的内部暴露部分隔离开。第二衬垫还包括连接第二外边界和第二内边界的侧向路径。
实施方式34：如实施方式33所述的加工托架设备的方法，其还包括：将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂。
实施方式35：如实施方式34所述的方法，将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂包括：至少将涂层的外部暴露部分浸没到包含蚀刻剂的浴槽中，所述蚀刻剂在第二衬垫的侧向路径中通过而从第二外边界到达第二内边界，由此将涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂。
实施方式36：如实施方式34或实施方式35所述的方法，将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂使得从制品移除了涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分。
实施方式37：如实施方式36所述的方法，在从制品移除涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分后，涂层完全位于制品的第一主表面上。
实施方式38：如实施方式34-37中任一个实施方式所述的方法，所述托架设备还包括第一基底和第二基底，所述第一基底包括面向制品的第一主表面的支承表面，所述第二基底包括面向制品的第二主表面的支承表面。所述制品、涂层、第一衬垫和第二衬垫位于第一基底的支承表面与第二基底的支承表面之间。
实施方式39：如实施方式38所述的方法，其还包括：在朝向第二基底的支承表面的方向上向第一基底施加第一力，和/或在朝向第一基底的支承表面的方向上向第二基底施加第二力，由此将第一衬垫的第一表面压向涂层并将第二衬垫的第二表面压向制品的第二主表面。
实施方式40：如实施方式39所述的方法，在进行将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂的同时，向第一基底施加第一力和/或向第二基底施加第二力。
实施方式41：如实施方式26-32和34-40中任一个实施方式所述的方法，所述制品包括片材，所述片材包含玻璃、玻璃陶瓷、陶瓷或其组合。
实施方式42：一种包含制品的托架设备，所述制品包括第一主表面，第二主表面，在第一主表面与第二主表面之间的厚度，以及限定在制品的第一主表面中的第一开口与制品的第二主表面中的第二开口之间的孔，制品的内边缘在第一开口与第二开口之间的厚度上延伸。所述托架设备包括涂层和多个衬垫，所述涂层包括设置在制品的第一主表面上的中心部分以及设置在制品的内边缘上的内部暴露部分。所述多个衬垫中的第一衬垫包括接触涂层的第一表面，在第一衬垫的第一表面与涂层之间的第一内部界面限定了第一内边界，所述第一内边界将涂层的中心部分与涂层的内部暴露部分隔离开。所述多个衬垫中的第二衬垫包括与制品的第二主表面接触的第二表面，并且在第二衬垫的第二表面与制品的第二主表面之间的第二外部界面限定了第二外边界，所述第二外边界将制品的第二主表面的中心部分与制品的第二主表面的外部暴露部分隔离开，并且在第二衬垫的第二表面与制品的第二主表面之间的第二内部界面限定了第二内边界，所述第二内边界将制品的第二主表面的中心部分与涂层的内部暴露部分隔离开。第二衬垫包括连接第二外边界和第二内边界的侧向路径。
实施方式43：如实施方式42所述的加工托架设备的方法，其包括：将涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂。
实施方式44：如实施方式43所述的方法，将涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂包括：使蚀刻剂在第二衬垫的侧向路径中通过而从第二外边界到第二内边界。
实施方式45：如实施方式43或实施方式44所述的方法，将涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂使得从制品移除了涂层的内部暴露部分。
实施方式46：如实施方式45所述的方法，在从制品移除涂层的内部暴露部分后，涂层完全位于制品的第一主表面上。
实施方式47：如实施方式43-46中任一个实施方式所述的方法，所述托架设备还包括第一基底和第二基底，所述第一基底包括面向制品的第一主表面的支承表面，所述第二基底包括面向制品的第二主表面的支承表面。所述制品、涂层、第一衬垫和第二衬垫位于第一基底的支承表面与第二基底的支承表面之间。
实施方式48：如实施方式47所述的方法，其包括：在朝向第二基底的支承表面的方向上向第一基底施加第一力，和/或在朝向第一基底的支承表面的方向上向第二基底施加第二力，由此将第一衬垫的第一表面压向涂层并将第二衬垫的第二表面压向制品的第二主表面。
实施方式49：如实施方式48所述的方法，在进行将涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂的同时，向第一基底施加第一力和/或向第二基底施加第二力。
实施方式50：如实施方式43-49中任一个实施方式所述的方法，所述制品包括片材，所述片材包含玻璃、玻璃陶瓷、陶瓷或其组合。
附图说明
参照附图阅读下文的具体实施方式，可以更好地理解本公开的实施方式的上述特征和优点以及其他特征和优点，其中：
图1例示了根据本公开的实施方式所述的一种示例性制品的平面图；
图2示出了根据本公开的实施方式所述的示例性制品沿着图1的线2-2的部分截面图；
图3例示了根据本公开的实施方式所述的包括设置在制品上的涂层的图1的示例性制品的平面图；
图4示出了根据本公开的实施方式所述的示例性制品和涂层沿着图3的线4-4的部分截面图；
图5例示了根据本公开的实施方式所述的一种示例性托架设备的底视图，所述托架设备包含制品和图3的涂层，并且还包括衬垫和包含支承表面的基底，为了清楚起见，未例示托架设备的一些特征；
图6示出了根据本公开的实施方式所述的示例性托架设备沿着图5的线6-6的截面图，并且还包括含有蚀刻剂的浴槽；
图7根据本公开的一些实施方式，示出了以图6的视图7截取的示例性托架设备的截面图的一部分的放大视图；
图8根据本公开的一些实施方式，示出了在将一部分涂层暴露于蚀刻剂后，图7的示例性托架设备的截面图的一部分的放大视图的示例性实施方式；
图9根据本公开的实施方式，例示了在将设置在制品上的一部分涂层暴露于蚀刻剂后，示例性制品的平面图；
图10示出了根据本公开的实施方式所述的示例性制品沿着图9的线10-10的部分截面图；
图11例示了根据本公开的实施方式所述的包含多个制品、多个衬垫、第一基底和第二基底的示例性托架设备的透视图；
图12根据本公开的实施方式，例示了包括制品和衬垫的示例性托架设备的平面图，所述制品包含孔以及设置在制品上的涂层，所述衬垫包含侧向路径；
图13例示了根据本公开的实施方式所述的包含多个制品、设置在多个制品中的每个制品上的涂层、多个衬垫、第一基底和第二基底的示例性托架设备的示例性截面图；以及
图14根据本公开的实施方式，示出了在将一部分涂层暴露于蚀刻剂后，示例性托架设备的示例性截面图的示例性实施方式，所述托架设备包括图13的多个制品、设置在所述多个制品中的每个制品上的涂层、多个衬垫、第一基底和第二基底。
具体实施方式
在此将参照附图更完整地描述各实施方式，附图中给出了示例性实施方式。只要可能，在所有附图中使用相同的附图标记来表示相同或类似的部分。但是，权利要求可以包含各个实施方式的许多不同方面，并且不应被理解成受限于本文提出的实施方式。
如上简述，在各个实施方式中，提供了用于加工制品的方法和设备。制品的实施方式可以包括硅晶片、陶瓷片、玻璃陶瓷片和玻璃片。也就是说，在一些实施方式中，制品可以包含玻璃、玻璃陶瓷、陶瓷、硅或其组合。当为玻璃陶瓷时，所述材料包括通过玻璃的受控结晶所产生的材料。在一些实施方式中，玻璃陶瓷具有约30％至约90％的结晶度。合适的玻璃陶瓷的实例可以包括Li2O-Al2O3-SiO2体系(即LAS体系)玻璃陶瓷、MgO-Al2O3-SiO2体系(即MAS体系)玻璃陶瓷、ZnO×Al2O3×nSiO2(即ZAS体系)和/或包含主晶相并且所述主晶相包括β-石英固溶体、β-锂辉石、堇青石和二硅酸锂的玻璃陶瓷。在一些实施方式中，玻璃陶瓷基材可利用本文公开的化学强化工艺进行强化。在一些实施方式中，MAS体系的玻璃陶瓷基材可以在Li2SO4熔融盐中强化，由此可发生2Li+对Mg2+的交换。在一些实施方式中，所述制品可以包括玻璃片，例如含有玻璃的片材，或者基本或完全由玻璃制造的片材。如果提供玻璃，则该玻璃可以包含各种玻璃组成，包括但不限于钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、铝硼硅酸盐玻璃、含碱金属的玻璃或不含碱金属的玻璃。在一些实施方式中，玻璃可以是经过化学或热强化的，当是化学强化时，所述强化可以是离子交换强化。下文论述的托架设备的特征将参照可作为托架设备的零件纳入的一个或多个玻璃片来描述，应理解，除非另有说明，否则除了玻璃片之外的制品同样可以作为托架设备的零件纳入。
玻璃片(例如，用于液晶显示器“LCD”、电泳显示器“EPD”、有机发光二极管显示器“OLED”、等离子体显示器面板“PDP”的玻璃片)的制造商常对玻璃片进行热处理和/或化学强化以改进或改良玻璃片性质。在一些实施方式中，在加工期间提供一种装置来支承制品(例如玻璃片)。如可以理解的，根据各个实施方式所述的玻璃片可以包括一个或多个边缘。例如，提供的玻璃片可以具有四个边缘，并且一般为正方形、矩形、梯形、平行四边形或其他形状。在一些实施方式中，可以提供具有一个连续边缘的圆形、长圆形或椭圆形玻璃片。也可以提供具有两个、三个、五个等边缘的其他玻璃片，并且认为它们在本公开的范围内。具有各种尺寸(包括不同长度、高度和厚度)的玻璃片也被认为包括在本公开的范围之内。在一些实施方式中，玻璃片中心部分的标称厚度(即，下文论述及附图中例示的厚度“t”)可以小于或等于约3mm，例如约30μm至约3mm、约30μm至约2mm、约30μm至约1.5mm、约30μm至约1mm、约30μm至约750μm、约30μm至约500μm、约30μm至约400μm、约30μm至约300μm、约30μm至约200μm、约30μm至约100μm、约30μm至约50μm，以及其间的所有厚度范围和子范围。
玻璃制品(包括涂层)可以用作盖板玻璃，例如，除其他方面外，其可以用于减少不期望的反射，防止在玻璃中形成机械缺陷(例如刮痕或裂纹)和/或提供易清洁的透明表面。可以将本文公开的玻璃制品并入另一种制品中，例如具有显示器(或显示制品)的制品[例如消费电子产品，包括手机、平板电脑、电脑、导航系统，可穿戴装置(如手表)等]；建筑制品；运输制品(例如汽车、火车、飞行器、船舶等)、器具制品或得益于一定的透明度、耐刮擦性、耐磨损性或以上性质的组合的任何制品。包含本文公开的任何一种玻璃制品的示例性制品是消费电子装置，其包括具有前表面、后表面和侧表面的壳体；至少部分或完全位于所述壳体内的电子部件，并且至少包含控制器、存储器和在壳体的前表面处或附近的显示器；以及在壳体的前表面处或上方的盖板基材以使得盖板基材在显示器上方。在一些实施方式中，盖板基材可以包括本文公开的任何玻璃制品。在一些实施方式中，盖板玻璃和/或一部分壳体可以包含本文公开的玻璃制品。
本公开提供了用于加工一个或多个制品的方法和设备，所述制品包括但不限于包含玻璃、玻璃陶瓷、陶瓷或其组合的片材。例如，图1-4和9-10例示了以玻璃片来例示的制品105的示例性特征，并且图5-8例示了包含制品105的托架设备100的示例性特征。另外，图11-14例示了包含多个制品105a、105b、105c的另一种托架设备1100的示例性特征，所述多个制品105a、105b、105c例示为多个玻璃片。如图所示，托架设备100可以包含制品105(例如所例示的玻璃片)并且/或者托架设备1100可以包含多个制品105a、105b、105c(例如所例示的多个玻璃片)。然而，在一些实施方式中，可以提供不具有制品的托架设备100、1100。例如，在一些实施方式中，可以提供不具有制品105的托架设备100的一个或多个特征，其中托架设备100的一个或多个特征可以被认为是完整的而无需具有制品105。同样地，在一些实施方式中，可以提供不具有例示的多个制品105a、105b、105c的托架设备1100的一个或多个特征，其中托架设备1100的一个或多个特征可以被认为是完整的而无需具有多个制品105a、105b、105c。因此，在一些实施方式中，托架设备100、1100可以在之后配备有作为托架设备100、1100的零件纳入的一个制品或多个制品。
除非另有说明，否则托架设备100的一个或多个特征可以是单独组合，或者与托架设备1100的一个或多个特征组合。同样地，除非另有说明，否则制品105的一个或多个特征可以是单独组合，或者与多个制品105a、105b、105c中的一个或多个制品的一个或多个特征组合。另外，虽然托架设备100例示为包含单个制品105，但是在一些实施方式中，托架设备100可以根据本公开的特征来改变，以包括多个制品。类似地，虽然托架设备1100以包含多个制品105a、105b、105c来例示，但是在一些实施方式中，可以根据本公开的特征来改变托架设备1100，以包括单个制品。此外，虽然图11-14中例示了三个制品105a、105b、105c，但是在一些实施方式中，托架设备1100(以及托架设备100)可以根据本公开的特征来改变，以包括一个、两个、三个、四个或更多个制品而不偏离本公开的范围。另外，在一些实施方式中，托架设备100和托架设备1100可以包括一个或多个制品，所述制品包含平面部分和非平面部分中的至少一种，而不偏离本公开的范围。
图1例示了制品105的平面图，图2示出了制品105沿着图1的线2-2的部分截面图。在一些实施方式中，制品105可以包含第一主表面106，第二主表面107，在第一主表面106与第二主表面107之间的厚度“t”，以及在第一主表面106与第二主表面107之间的厚度“t”上延伸的外边缘110。在一些实施方式中，制品105的外边缘110可以包含在第一主表面106与第二主表面107之间的厚度“t”的至少一部分上延伸的平面边缘表面。另外，在一些实施方式中，外边缘110可以包含在第一主表面106与第二主表面107之间的厚度“t”的至少一部分上延伸的非平面边缘表面(例如，如图2所示的圆化边缘表面)。此外，在一些实施方式中，制品105的外边缘110可以包含在第一主表面106和第二主表面107中的至少一者与平面边缘表面之间的角。类似地，在一些实施方式中，制品105的外边缘110可以包含在第一主表面106和第二主表面107中的至少一者与非平面边缘表面之间的角。在一些实施方式中，所述角可以包含方角，在该方角中，第一主表面106和第二主表面107中的至少一者以基本90度的角连接到平面边缘表面。或者，在一些实施方式中，所述角可以包含圆化角、割角、倒角、斜角或者将第一主表面106和第二主表面107中的至少一者连接到平面边缘表面或连接到非平面边缘表面的其他形状的角。因此，出于本公开的目的，无论形状如何，制品105的外边缘110可以定义为在第一主表面106与第二主表面107之间的制品105的厚度“t”上延伸，并且包围第一主表面106和第二主表面107而由此形成制品105的外周边的表面。
在一些实施方式中，第一主表面106和第二主表面107在制品105的外边缘110所限定的外周边中可以是连续的。或者，在一些实施方式中，制品105的第一主表面106和第二主表面107中的至少一者可以包含中断。例如，在一些实施方式中，制品105可以包含孔150，所述孔150限定在制品105的第一主表面106的第一开口151与制品105的第二主表面107的第二开口152之间。如图2所示，在一些实施方式中，制品105的内边缘155可以在第一开口151与第二开口152之间的厚度“t”上延伸。在一些实施方式中，制品105可以包括单个孔；然而，在一些实施方式中，制品105可以包含多个孔。在一些实施方式中，可单独或组合地应用孔150的一个或多个特征，以在制品105中提供多个孔而不偏离本公开的范围。
类似于制品105的外边缘110，在一些实施方式中，制品105的内边缘155可以包含在第一主表面106与第二主表面107之间的厚度“t”的至少一部分上延伸的平面边缘表面。另外，在一些实施方式中，内边缘155可以包含在第一主表面106与第二主表面107之间的厚度“t”的至少一部分上延伸的非平面边缘表面(例如，如图2所示的圆化边缘表面)。此外，在一些实施方式中，制品105的内边缘155可以包含在第一主表面106和第二主表面107中的至少一者与平面边缘表面之间的角。类似地，在一些实施方式中，制品105的内边缘155可以包含在第一主表面106和第二主表面107中的至少一者与非平面边缘表面之间的角。在一些实施方式中，所述角可以包含方角，在该方角中，第一主表面106和第二主表面107中的至少一者以基本90度的角连接到平面边缘表面。或者，在一些实施方式中，所述角可以包含圆化角、割角、倒角、斜角或者将第一主表面106和第二主表面107中的至少一者连接到平面边缘表面或连接到非平面边缘表面的其他形状的角。因此，出于本公开的目的，无论形状如何，制品105的内边缘155可以定义为在第一主表面106与第二主表面107之间的制品105的厚度“t”上延伸，并且包围制品105的第一主表面106中的第一开口151和制品105的第二主表面107中的第二开口152而由此形成制品105的孔150的内周边的表面。
图3是包含设置在制品105上的示例性涂层200的图1的制品105的平面图。为了清楚起见，如在图3中的制品105的平面图中所看到的，在涂层200下方的制品105的特征用虚线示出。图4是制品105沿着图3的线4-4的部分截面图。如图3和图4所示，在一些实施方式中，涂层200可以包含中心部分201和外部暴露部分202，所述中心部分设置在制品105的第一主表面106上，所述外部暴露部分设置在制品105的外边缘110上。另外，在一些实施方式中，例如，当制品105包含孔150时，涂层200可以包括设置在制品105的内边缘155上的内部暴露部分203。此外，在一些实施方式中，涂层200的外部暴露部分202和涂层200的内部暴露部分203中的至少一者的至少一部分可以沉积在制品105的第二主表面107的至少一部分上。例如，在一些实施方式中，制品105可以通过采用玻璃涂覆沉积技术来加工，以将材料沉积在制品105的第一主表面106上，所述玻璃涂覆沉积技术包括以下中的至少一种：物理沉积、等离子体沉积和化学气相沉积，例如溅射、等离子体气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)。在一些实施方式中，表面处理可以增强制品105的一种或多种性质、特性和功能，从而为终端用户提供积极体验。例如，为了提供所需的特性，盖板玻璃可以涂覆有一个或多个涂层，包括例如抗反射涂层、易清洁涂层和耐磨和耐刮擦涂层。在一些实施方式中，涂层200可以增加制品105的强度，以防止制品105断裂。另外，在一些实施方式中，涂层200可以是光学透明的，以对可以显示在制品105上或通过制品105观看的图像具有极小干扰或没有干扰，或者不会使图像畸变。
此外，在涂覆过程期间，可能期望沉积在制品105上的材料仅沉积在例如可以与用户互动的制品105的单个主表面(例如第一主表面106)上。例如，在用户可以物理接触制品105的单个主表面和/或向该单个主表面施加力以控制显示装置的特征的触屏应用中，可以提供制品105。同样地，在制品105的单个主表面可供用户观看，并且其因此可能暴露于包含可使制品105的单个主表面刮擦和磨损的灰尘、碎屑和其他物体的环境中的应用中，可以提供制品105。在一些实施方式中，在采用方法移除涂层200之前，以及在采用方法移除涂层200之后，可以将涂层200设置在第一主表面106和第二主表面107二者上，如下文所述。另外，在一些实施方式中，仅在制品105的单个主表面(例如第一主表面106)上提供涂层200可以提供多个额外的优点。
这些优点将针对以下中的至少一点来描述：(1)防止涂层200沉积在制品105的外边缘110和/或内边缘155的至少一部分(例如整个外边缘110和/或整个内边缘155)上，沉积在制品105的第一主表面106的一部分上和/或沉积在制品105的第二主表面107上；以及(2)随后移除可能已经沉积在制品105的外边缘110和/或内边缘155的至少一部分(例如整个外边缘110和/或整个内边缘155)上的涂层200，沉积在制品105的第一主表面106的一部分上的涂层200和/或沉积在制品105的第二主表面107上的涂层200。
如上所述的提供不具有涂层的制品105的区域的一个优点可以包括：制品105的尺寸精度有所增加。事实上，可能难以控制涂层200的确切厚度。因此，如上所述的提供不具有涂层200的制品105的区域可以增加制品105的尺寸精度。例如，在一些实施方式中，制品105的预定维度尺寸(例如，厚度“t”、宽度、长度等)在托架设备100的后续加工技术期间可以保持不变。在一些实施方式中，提供不具有涂层的整个外边缘110可以允许外边缘110的尺寸限定制品105的宽度和长度，由此增加尺寸精度。另外，仅对制品105的第一主表面106提供涂层200可以避免总厚度的尺寸不确定性，而如果制品的第二主表面107也包含涂层200的话，则可能出现总厚度的尺寸不确定性。
如上所述的提供不具有涂层200的制品105的区域的另外的优点可以包括：制品105的光学特性(例如精度、清晰度)有所增加。例如，在一些实施方式中，在制品105上沉积过量涂层200可降低、有损于或影响制品105的光学特性。因此，虽然涂层200可以提供优点(例如，增加耐刮擦性和/或强度)，但是应使涂层200的量最小化，以避免原本会不利地降低、有损于或影响制品105的光学特性的过量涂层200。
如上所述的提供不具有涂层200的制品105的区域的另外的优点可以包括：增加了制品105(包括制品105的一个或多个区域)的强度，如上文所述。例如，在一些实施方式中，沉积在制品105的外边缘110上的涂层200，以及随后未从制品105的外边缘110移除的涂层200可以在制品105的外边缘110上赋予应力，因此，通过防止涂层200沉积在制品105的外边缘110上以及/或者随后移除已经沉积在制品105的外边缘110上的涂层200，可以减少或消除这种应力。
因此，在一些实施方式中，在涂覆过程期间，可以采用方法和设备来使制品105的部分(例如外边缘110、第一主表面106的一部分和/或第二主表面107)在涂覆过程期间与涂层200隔离，以避免涂层200沉积在制品105的这些部分上。在一些实施方式中，这种隔离可能不会发生，或者，无论多努力地隔离，期望不含涂层200的制品部分可能仍然包含涂层200。因此，如在本公开中所述，可以提供方法和设备来使制品105的外边缘110和/或内边缘155的至少一部分(例如整个外边缘110和/或整个内边缘115)不含涂层200，使制品105的第一主表面106的一部分不含涂层200，以及/或者使制品105的第二主表面107不含涂层200。
在一些实施方式中，采用本公开的方法和设备以随后移除沉积在制品105的区域上的涂层200可以减少在涂覆过程期间与采用方法和设备来隔离制品105的这些区域以避免暴露于涂层200有关的费用和精力。例如，由于根据本公开的实施方式，随后可以从制品105移除涂层200的部分，因此可以避免在涂覆过程期间采用额外的措施来隔离制品105的区域，由此减少涂覆过程的费用并提高效率。
现将参考图5-8所示的用于加工托架设备100的方法和设备来描述用于加工制品105以移除沉积在制品105的区域上的涂层200的方法和设备。例如，图5例示了托架设备100的底视图，图6例示了托架设备100沿着图5的线6-6的部分截面图。如图所示，托架设备100可以包括衬垫500和基底550，所述基底550包含支承表面555。如图6所示，在一些实施方式中，衬垫500可以包含与涂层200接触的第一表面501以及与基底550的支承表面555接触的第二表面502。在一些实施方式中，衬垫500可以包括金属箔，包括但不限于不锈钢箔、铝箔及钛箔中的一种或多种。另外，在一些实施方式中，衬垫500可以包含聚合材料和弹性材料中的至少一种。例如，在一些实施方式中，衬垫500可以包括PEEK、特氟龙、硅、抗等离子体的Kalrez、Viton、聚酰亚胺、或者经受例如加工温度(包括高温)时具有很少或没有排气的其他材料。在一些实施方式中，衬垫500可以包括金属箔，其包含施加于金属箔的无研磨性涂层。在一些实施方式中，衬垫500可以是挠性的，以顺应制品105的形状和/或基底550的形状。在一些实施方式中，衬垫500可以包含弹性变形部分和塑性变形部分中的至少一种。例如，在一些实施方式中，可以对衬垫500进行成形(例如冲压、压制、弯曲)，以使至少一部分的衬垫500塑性变形而包含塑性变形部分(例如，凹陷、突起、开口、通道、路径等)。另外，在一些实施方式中，衬垫500可以包含预成形部分。例如，在一些实施方式中，可以制造(例如，挤出、模制、注塑、真空成形、浇铸)衬垫500，以使至少一部分的衬垫500预成形而包含预成形部分(例如，凹陷、突起、开口、通道、路径等)。在一些实施方式中，衬垫500可以是实心的(例如全部是实心的)；然而，在一些实施方式中，衬垫500可以是中空的，包含孔，或者包含网络，所述网络是使实心结构和中空结构中的至少一种结构连接在一起，并且在所述实心结构和中空结构中的至少一种结构之间具有空间。此外，在一些实施方式中，衬垫500可以包含弹性变形部分、塑性变形部分和预成形部分中的一种或多种。
在一些实施方式中，可以在朝向基底550的支承表面555的方向上，向制品105施加力“F”，由此压制基底550的支承表面555与设置在制品105上的涂层200之间的衬垫500。例如，在一些实施方式中，衬垫500的第一表面501可以邻接涂层200，并且衬垫500的第二表面502可以邻接基底550的支承表面555。在一些实施方式中，通过使制品105和/或涂层200物理接触在朝向基底550的支承表面555的方向上施加力“F”的物体(例如工具、表面等)来施加力“F”。附加地或另外地，在一些实施方式中，可以通过物理接触基底550(如果提供)来施加力“F”，以迫使衬垫500的第一表面501靠向涂层200，但是也可利用其他构造来使衬垫500的第一表面501靠向涂层200。例如，在一些实施方式中，基底550可以向制品105和/或涂层200提供吸力(例如真空、负压)，由此在朝向基底550的支承表面555的方向上施加力“F”，并且压制位于基底550的支承表面555与设置在制品105上的涂层200之间的衬垫500。
图7示出了以图6的视图7截取的托架设备100的截面图的一部分的放大视图。在一些实施方式中，衬垫500的第一表面501与涂层200之间的外部界面限定了外部边界701，所述外部边界701将涂层200的中心部分201与涂层200的外部暴露部分202隔离开。在一些实施方式中，外部边界701可以限定密封腔体和/或密封屏障，其将涂层200的中心部分201与涂层200的外部暴露部分202隔离开。在一些实施方式中，由外部边界701所限定的所述密封腔体和/或密封屏障对包含固体物质和流体(例如液体、气体)物质在内的物质可以是不可渗透的，由此将涂层200的中心部分201与这些物质隔离开。类似地，在一些实施方式中，衬垫500的第一表面501与涂层200之间的内部界面限定了内部边界702，所述内部边界702将涂层200的中心部分201与涂层200的内部暴露部分203隔离开。在一些实施方式中，内部边界702可以限定密封腔体和/或密封屏障，其将涂层200的中心部分201与涂层200的外部暴露部分202隔离开。在一些实施方式中，由内部边界702所限定的所述密封腔体和/或密封屏障对包含固体物质和流体(例如液体、气体)物质在内的物质可以是不可渗透的，由此将涂层200的中心部分201与这些物质隔离开。
回来参考图6，在一些实施方式中，加工托架设备100的方法可以包括：使设置在制品105上的至少一部分涂层200暴露于蚀刻剂。在一些实施方式中，蚀刻剂可以包含化学物质(例如酸、腐蚀性化学物质、去垢剂、溶液、化合物等)，并且将至少一部分的涂层200暴露于化学物质可以崩解、破坏、洗涤、腐蚀、分解至少一部分的涂层200，并且从制品105移除至少一部分的涂层200。例如，在一些实施方式中，托架设备100可以包括：包含蚀刻剂605的浴槽610。在一些实施方式中，浴槽601可以包括带壁容器(例如盛具)，在其中可以容纳蚀刻剂605，以提供蚀刻剂605的自由表面。在一些实施方式中，将至少一部分的涂层200暴露于蚀刻剂605可以包括：将至少一部分的涂层200、整个涂层200、至少一部分的制品105、整个制品105、至少一部分的衬垫500、整个衬垫500、至少一部分的基底550以及整个基底550中的一者或多者浸没到包含蚀刻剂605的浴槽610中。在一些实施方式中，将至少一部分的涂层200、整个涂层200、至少一部分的制品105、整个制品105、至少一部分的衬垫500、整个衬垫500、至少一部分的基底550以及整个基底550中的一者或多者浸没到包含蚀刻剂605的浴槽610中可以进行一次、多次(例如重复进行)，并且可以包括：使至少一部分的涂层200、整个涂层200、至少一部分的制品105、整个制品105、至少一部分的衬垫500、整个衬垫500、至少一部分的基底550以及整个基底550中的一者或多者浸没在包含蚀刻剂605的浴槽610中持续预定的时间。附加或替代性地，在一些实施方式中，可以提供一个或多个出口(未示出)，包括例如喷嘴、孔口、喷洒器和喷射器，以将蚀刻剂喷洒到至少一部分的涂层200上。此外，在一些实施方式中(未示出)，可以采用其他蚀刻剂施加技术(包括但不限于线性或传送加工)来将至少一部分的涂层200暴露于蚀刻剂。
在一些实施方式中，加工托架设备100的方法可以包括：将涂层200的外部暴露部分202暴露于蚀刻剂605。例如，在一些实施方式中，将涂层200的外部暴露部分202暴露于蚀刻剂605可以包括：将涂层200的外部暴露部分202浸没到包含蚀刻剂605的浴槽610中。类似地，在一些实施方式中，加工托架设备100的方法可以包括：将涂层200的内部暴露部分203暴露于蚀刻剂605。例如，在一些实施方式中，将涂层200的内部暴露部分203暴露于蚀刻剂605可以包括：将涂层200的内部暴露部分203浸没到包含蚀刻剂605的浴槽610中。此外，在一些实施方式中，加工托架设备100的方法可以包括：将涂层200的外部暴露部分202和涂层200的内部暴露部分203暴露于蚀刻剂605。例如，在一些实施方式中，将涂层200的外部暴露部分202和涂层200的内部暴露部分203暴露于蚀刻剂605可以包括：将涂层200的外部暴露部分202和涂层200的内部暴露部分203浸没到包含蚀刻剂605的浴槽610中。
图8示出了在将设置在制品105上的一部分涂层200暴露于蚀刻剂605后，图7的托架设备100的截面图的一部分的放大视图的示例性实施方式。此外，图9例示了在将一部分涂层200暴露于蚀刻剂605后，制品105的平面图，并且图10示出了在将一部分涂层200暴露于蚀刻剂605后，制品105沿着图9的线10-10的部分截面图。因此，如图8-10所示，在一些实施方式中，将设置在制品105上的涂层200的外部暴露部分202暴露于蚀刻剂605使得从制品105移除了涂层200的外部暴露部分202。在一些实施方式中，在从制品105移除涂层200的外部暴露部分202后，涂层200可以完全位于制品105的第一主表面106上。在一些实施方式中，将涂层200的内部暴露部分203暴露于蚀刻剂605可以从制品105移除涂层200的内部暴露部分203。在一些实施方式中，在从制品105移除涂层200的内部暴露部分203后，涂层200可以完全位于制品105的第一主表面106上。
在一些实施方式中，可以将涂层200的外部暴露部分202和涂层200的内部暴露部分203均暴露于蚀刻剂605，由此从制品105移除涂层200的外部暴露部分202和涂层200的内部暴露部分203。在一些实施方式中，在从制品105移除涂层200的外部暴露部分202和涂层200的内部暴露部分203后，涂层200可以完全位于制品105的第一主表面106上。也就是说，在一些实施方式中，涂层200可以完全位于制品105的第一主表面106上而在外边缘110或内边缘155上没有任何涂层，并且在制品105的第二主表面107上没有任何涂层。另外，在一些实施方式中，还可以从制品105的第一主表面106的一个或多个部分移除涂层200，其中，涂层200完全位于第一主表面106上但是不涂覆整个第一主表面106。
回到图6，在一些实施方式中，在进行将涂层200的外部暴露部分202和/或内部暴露部分203暴露于蚀刻剂605的同时，向制品105施加力“F”。在一些实施方式中，在将涂层200的外部暴露部分202和/或内部暴露部分203暴露于蚀刻剂605的同时向制品105施加力“F”可以提供密封腔体和/或密封屏障，其使涂层200的中心部分201与涂层200的外部暴露部分202和内部暴露部分203隔离。事实上，施加力“F”可以确保衬垫500的第一表面501与涂层200邻接，使得外边界701和内边界702对包含固体物质和流体(例如液体、气体)物质在内的物质可以是不可渗透的，由此将涂层200的中心部分201与这些物质(例如蚀刻剂605)隔离开。
在一些实施方式中，基底550和/或衬垫500可以提供制品105可以附接于其的结构，以用于加工、储存和运输中的至少一项。因此，在一些实施方式中，基底550和/或衬垫500可以保护制品105免受机械冲击、振动及托架设备100和/或制品105可能经受的其他外力的影响。例如，在一些实施方式中，基底550和/或衬垫500的一个或多个特征可以侧向包围制品105的外边缘110，由此保护和/或隔离制品105的外边缘110免受机械冲击、振动及托架设备100可能经受的其他外力的影响。在本公开中，“侧向包围”第二特征的第一特征旨在表示在垂直于制品105的一个或多个主表面的方向上的顶视图或底视图中，例如，由第一特征限定的外周围绕由第二特征限定的外周。因此，例如，如图5的底视图所示，基底550和/或衬垫500的外周围绕由制品105的外边缘110限定的外周。
转到图11-14，提供了托架设备1110。在一些实施方式中，托架设备1100可以包括托架设备100的一个或多个特征。因此，除非另有说明，否则结构与托架设备100的特征相同或相似的托架设备1100的特征，以及功能与托架设备100的特征相同或相似的托架设备1100的特征在上文中关于托架设备100进行了描述，同时应理解，托架设备100的这些特征可以以相同或相似的方式应用于托架设备1100而无需明确公开，并且其不偏离本公开的范围。如图11所示，托架设备1100可以包括多个制品105a、105b、105c。因此，除非另有说明，否则结构与制品105的特征相同或相似的多个制品105a、105b、105c中的一个或多个制品的特征，以及功能与制品105的特征相同或相似的多个制品105a、105b、105c中的一个或多个制品的特征在上文中关于制品105进行了描述，同时应理解，制品105的这些特征可以以相同或相似的方式应用于多个制品105a、105b、105c中的一个或多个制品而无需明确公开，并且其不偏离本公开的范围。
在一些实施方式中，托架设备1100可以包括多个衬垫500a、500b、500c、500d、包含支承表面1103的第一基底1101以及包含支承表面1104的第二基底1102。为了清楚起见，图11示出了没有涂层的多个制品105a、105b、105c；然而，应理解，如关于图12-14所公开的，在一些实施方式中，多个制品中的每个制品105a、105b、105c可以包含涂层，例如上文关于图3-10论述的制品105所例示的涂层200。另外，在一些实施方式中，多个制品105a、105b、105c中的一个或多个制品可以是经过涂覆的，并且一个或多个制品可以是未经涂覆的。另外，在一些实施方式中，托架设备1100可以包括一个或多个特征，以例如促进多个制品105a、105b、105c，多个衬垫500a、500b、500c、500d，第一基底1101和第二基底1102的组装。例如，在一些实施方式中，托架设备1100可以包括从第二基底1102延伸的一个或多个对准销1120，其与在第一基底1101中提供的一个或多个对准凹凸特征1125(例如，突起和凹陷中的至少一种)相互作用，以促进第一基底1101和第二基底1102相对于彼此对齐。同样地，在一些实施方式中，托架设备1100可以包括从第二基底1102延伸的一个或多个对准销1130，其与在一个或多个衬垫500a、500b、500c、500d上提供的一个或多个对准凹凸特征(例如，参见衬垫500a上提供的对准凹凸特征1137)以及在第一基底1101上提供的一个或多个对准凹凸特征1135相互作用，以促进第一基底1101、第二基底1102以及多个衬垫中的一个或多个衬垫500a、500b、500c、500d相对于彼此对齐。另外，在一些实施方式中，可以提供一个或多个紧固件(未示出)来促进托架设备1100的各特征的组装，所述一个或多个紧固件例如以下中的一种或多种：夹具、支架、可拆卸的铆钉、夹子、螺栓、螺钉、销、插销、铰钉、卡钉、套索栓等。因此，除非另有说明，否则在不偏离本公开的范围内，在一些实施方式中可以提供各种特征，包括未明确公开的特征，以促进托架设备1100的各个特征的组装。
图13例示了托架设备1100的示例性截面图，图14示出了在将一部分涂层暴露于蚀刻剂之后，图13的示例性截面图的一个示例性实施方式。在一些实施方式中，制品105a、105b、105c可以包含对应的第一主表面106a、106b、106c；对应的第二主表面107a、107b、107c；在对应的第一主表面与第二主表面之间的厚度“ta”、“tb”、“tc”；以及在对应的第一主表面与第二主表面之间的对应的厚度“ta”、“tb”、“tc”上延伸的对应的外边缘110a、110b、110c。与上述实施方式中论述的制品105一样，每个制品105a、105b、105c可以任选地包含孔150a、150b、150c，其如图14所示可以被限定在制品105a、105b、105c的对应的第一主表面106a、106b、106c中的第一开口151a、151b、151c与制品105a、105b、105c的对应的第二主表面107a、107b、107c中的第二开口152a、152b、152c之间。如图进一步所示，每个制品105a、105b、105c可以包含对应的内边缘155a、155b、155c，其在对应的第一主表面与第二主表面之间的厚度“ta”、“tb”、“tc”上延伸。
另外，在一些实施方式中，每个制品105a、105b、105c可以提供有对应的涂层200a、200b、200c，包括设置在每个制品105a、105b、105c的第一主表面106a、106b、106c上的中心部分201a、201b、201c。在一些实施方式中，每个对应的涂层200a、200b、200c还可以包括设置在每个制品105a、105b、105c的对应的外边缘110a、110b、110c上的对应的外部暴露部分202a、202b、202c。在一些实施方式中，每个涂层200a、200b、200c可以包括设置在每个制品的对应的内边缘155a、155b、155c上的内部暴露部分203a、203b、203c。同样地，在一些实施方式中，一个或多个制品105a、105b、105c的第二主表面107a、107b、107c至少可以包含涂层200a、200b、200c的对应部分。
在一些实施方式中，第一基底1101的支承表面1103可以面向制品105a、105b、105c的第一主表面106a、106b、106c，并且第二基底1102的支承表面1104可以面向制品105a、105b、105c的第二主表面107a、107b、107c。因此，在一些实施方式中，制品105a、105b、105c，涂层200a、200b、200c以及多个衬垫中的每个衬垫500a、500b、500c、500d可以位于第一基底1101的支承表面1103与第二基底1102的支承表面1104之间。在一些实施方式中，一种加工托架设备1100的方法可以包括：在朝向第二基底1102的支承表面1104的方向上向第一基底1101施加第一力“F1”，和/或在朝向第一基底1101的支承表面1103的方向上向第二基底1102施加第二力“F2”，由此将多个衬垫中的一个或多个衬垫500a、500b、500c、500d和多个制品中的一个或多个制品105a、105b、105c(包含一个或多个涂层200a、200b、200c)压制在一起。
现将关于制品105a描述托架设备1100的一个示例性实施方式，同时应理解，在一些实施方式中，可以单独或组合应用一个或多个特征，并且以与多个制品中的一个或多个制品(例如制品105b、105c)相同或相似的方式来应用而不偏离本公开的范围。在一些实施方式中，多个衬垫中的第一衬垫500a可以包括接触涂层200a的第一表面501a，在第一衬垫500a的第一表面501a与涂层200a之间的第一外部界面可以限定第一外边界701a，所述第一外边界701a将涂层200a的中心部分201a与涂层200a的外部暴露部分202a隔离开。
另外，在一些实施方式中，多个衬垫中的第二衬垫500b可以包括与制品105a的第二主表面107a接触的第二表面502b，并且在第二衬垫500b的第二表面502b与制品105a的第二主表面107a之间的第二外部界面可以限定第二外边界703a，所述第二外边界703a将制品105a的第二主表面107a的中心部分108a与制品105a的第二主表面107a的外部暴露部分109a隔离开。在一些实施方式中，第一外边界701a可以侧向包围第二外边界703a。例如，在一些实施方式中，由于第一外边界701a侧向包围第二外边界703a，可以暴露出涂层200a的外部暴露部分202a，同时使涂层200a的中心部分201a与涂层200a的外部暴露部分202a隔离开。另外，可以暴露出制品105a的第二主表面107a的外部暴露部分109a，同时使制品105a的第二主表面107a的中心部分108a与制品105a的第二主表面107a的外部暴露部分109a隔离开。
在一些实施方式中，在第一衬垫500a的第一表面501a与涂层200a之间的第一内部界面可以限定第一内边界702a，其将涂层200a的中心部分201a与涂层200a的内部暴露部分203a隔离开。另外，在一些实施方式中，在第二衬垫500b的第二表面502b与制品105a的第二主表面107a之间的第二内部界面可以限定第二内边界704a，其将制品105a的第二主表面107a的中心部分108a与涂层200a的内部暴露部分203a隔离开。
图12关于制品105a例示了第二衬垫500b的平面图。在一些实施方式中，第二衬垫500b还包括连接第二外边界703a和第二内边界704a的侧向路径575b。在一些实施方式中，侧向路径575b可以限定从涂层200a的外部暴露部分202a到涂层200a的内部暴露部分203a的路径。此外，在一些实施方式中，每个衬垫500a、500b、500c、500d可以包含表面501a、501b、501c、501d和表面502a、502b、502c、502d以及侧向路径575a、575b、575c、575d。同样地，在一些实施方式中，托架设备1100的特征可以限定一个或多个第一外边界701a、701b、701c，第一内边界702a、702b、702c，第二外边界703a、703b、703c，第二内边界704a、704b、704c，制品105a、105b、105c的第二主表面107a、107b、107c的外部暴露部分109a、109b、109c和中心部分108a、108b、108c。因此，虽然是关于制品105a来进行描述，但是在一些实施方式中，可以单独或组合应用一个或多个特征，并且以与多个制品中的一个或多个制品(例如制品105b、105c)相同或相似的方式来应用而不偏离本公开的范围。
将关于制品105a的涂层200a来描述加工托架设备1100的方法，同时应理解，对托架设备1100的一个或多个(包括全部)制品105a、105b、105c可以例如同时采用相似或相同的方法。所述方法可以包括：将涂层200a的外部暴露部分202a暴露于蚀刻剂(例如蚀刻剂605，如图6所示)。在一些实施方式中，将涂层200a的外部暴露部分202a暴露于蚀刻剂可以包括：将涂层200a的外部暴露部分202a浸没到包含蚀刻剂的浴槽中(例如，包含蚀刻剂605的浴槽610，如图6所示)。在一些实施方式中，加工托架设备1100的方法可以包括：将涂层200a的内部暴露部分203a暴露于蚀刻剂。在一些实施方式中，将涂层200a的内部暴露部分203a暴露于蚀刻剂可以包括：使蚀刻剂在第二衬垫500b的侧向路径575b中通过而从第二外边界703a到第二内边界704a。在一些实施方式中，加工托架设备1100的方法可以包括：将涂层200a的外部暴露部分202a和涂层200a的内部暴露部分203a暴露于蚀刻剂。在一些实施方式中，将涂层200a的外部暴露部分202a和涂层200a的内部暴露部分203a暴露于蚀刻剂可以包括：至少将涂层200a的外部暴露部分202a浸没到包含蚀刻剂的浴槽中，其中，蚀刻剂在第二衬垫500b的侧向路径575b中通过而从第二外边界703a到达第二内边界704a，由此将涂层200a的内部暴露部分203a暴露于蚀刻剂。在一些实施方式中，可以在将涂层200a的外部暴露部分202a暴露于蚀刻剂，将涂层200a的内部暴露部分203a暴露于蚀刻剂，以及将涂层200a的外部暴露部分202a和涂层200a的内部暴露部分203a暴露于蚀刻剂的同时，向第一基底1101施加第一力“F1”和/或向第二基底1102施加第二力“F2”，由此将第一衬垫500a的第一表面501a压向涂层200a，以及将第二衬垫500b的第二表面502b压向制品105a的第二主表面107a。
在一些实施方式中，将涂层200a的外部暴露部分202a暴露于蚀刻剂使得从制品105a移除了涂层200a的外部暴露部分202a。在一些实施方式中，在从制品105a移除涂层200a的外部暴露部分202a后，涂层200a可以完全位于制品105a的第一主表面106a上。同样地，在一些实施方式中，将涂层200a的内部暴露部分203a暴露于蚀刻剂使得从制品105a移除了涂层200a的内部暴露部分203a。在一些实施方式中，在从制品105a移除涂层200a的内部暴露部分203a后，涂层200a可以完全位于制品105a的第一主表面106a上。另外，在一些实施方式中，将涂层200a的外部暴露部分202a和涂层200a的内部暴露部分203a暴露于蚀刻剂使得从制品105a移除了涂层200a的外部暴露部分202a和涂层200a的内部暴露部分203a。在一些实施方式中，在从制品105a移除涂层200a的外部暴露部分202a和涂层200a的内部暴露部分203a后，涂层200a可以完全位于制品105a的第一主表面106a上。也就是说，在一些实施方式中，由于涂层200a完全位于制品105a的第一主表面106a上，制品105a的至少一部分外边缘110a、制品105a的整个外边缘110a、制品105a的一部分第一主表面106a以及制品105a的第二主表面107a中的一者或多者可以完全不含涂层200a。如所公开的，在一些实施方式中，移除可能已经沉积在制品105a的至少一部分外边缘110a、制品105a的整个外边缘110a、制品105a的一部分第一主表面106a以及制品105a的第二主表面107a上的涂层200a可以提供多个优点。
本文所用的方向术语，例如上、下、右、左、前、后、顶、底，仅仅是参照绘制的附图而言，并不用来表示绝对的取向。
本文所用的冠词“该”、“一个”或“一种”表示“至少一个(一种)”，并且不应局限为“仅一个(一种)”，除非有明确相反的说明。因此，例如，提到的“一个部件”包括具有两个或更多个这类部件的实施方式，除非上下文有另外明确的表示。
如本文所用，术语“约”指量、尺寸、公式、参数和其他数量和特征不是精确的且无需精确的，但可按照要求是大致的和/或更大或者更小，如反射公差、转化因子、四舍五入、测量误差等，以及本领域技术人员所知的其他因子。当使用术语“约”来描述范围的值或端点时，应理解本公开包括所参考的具体值或者端点。无论说明书中的范围的数值或端点是否使用“约”列举，范围的数值或端点旨在包括两种实施方式：一种用“约”修饰，另一种未用“约”修饰。还应理解，每个范围的端点在与另一个端点有关及独立于另一个端点时都是重要的。
本文所用的术语“基本”、“基本上”及其变化形式旨在表示所述的特征等于或近似等于一数值或描述。例如，“基本上平坦的”表面旨在表示平坦的或大致平坦的表面。此外，如上文所定义，“基本上相似”旨在表示两个值相等或近似相等。在一些实施方式中，“基本上相似”可以表示彼此相差在约10％以内的值，例如彼此相差在约5％以内，或彼此相差在约2％以内的值。
以上实施方式及这些实施方式的特征是示例性的，并且可单独或与本文提供的其他实施方式的任意一个或多个特征以任意形式组合来提供而不会偏离本公开的范围。
对本领域的技术人员而言，显而易见的是，可以对本公开进行各种修改和变动而不偏离本公开的范围和精神。因此，本公开旨在涵盖对本公开的这些修改和变动，只要这些修改和变动在所附权利要求及其等同方案的范围之内。
Claims (33)
1.一种托架设备，其包括：
制品，所述制品包括第一主表面，第二主表面，在第一主表面与第二主表面之间的厚度，以及在第一主表面与第二主表面之间的厚度上延伸的外边缘；
涂层，其包括设置在制品的第一主表面上的中心部分以及设置在制品的外边缘上的外部暴露部分；和
衬垫，其包括与涂层接触的第一表面，在衬垫的第一表面与涂层之间的外部界面限定了外边界，所述外边界将涂层的中心部分与涂层的外部暴露部分隔离开。
2.如权利要求1所述的加工托架设备的方法，其包括：将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂。
3.如权利要求2所述的方法，将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂包括：将涂层的外部暴露部分浸没到包含蚀刻剂的浴槽中。
4.如权利要求2或权利要求3所述的方法，将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂使得从制品移除了涂层的外部暴露部分。
5.如权利要求4所述的方法，在从制品移除涂层的外部暴露部分后，涂层完全位于制品的第一主表面上。
6.如权利要求2-5中任一项所述的方法，所述托架设备还包括：包含支承表面的基底，衬垫的第二表面接触基底的支承表面，并且所述方法还包括：在朝向基底的支承表面的方向上，向制品施加力，由此压制基底的支承表面与涂层之间的衬垫。
7.如权利要求6所述的方法，在进行将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂的同时，向制品施加力。
8.如权利要求1所述的托架设备，所述制品还包括孔，所述孔限定在制品的第一主表面中的第一开口与制品的第二主表面中的第二开口之间，制品的内边缘在第一开口与第二开口之间的厚度上延伸，所述涂层包含设置在制品的内边缘上的内部暴露部分，并且在衬垫的第一表面与涂层之间的内部界面限定了内边界，其将涂层的中心部分与涂层的内部暴露部分隔离开。
9.如权利要求8所述的加工托架设备的方法，其包括：将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂。
10.如权利要求9所述的方法，将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂包括：将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分浸没到包含蚀刻剂的浴槽中。
11.如权利要求9或权利要求10所述的方法，将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂使得从制品移除了涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分。
12.如权利要求11所述的方法，在从制品移除涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分后，涂层完全位于制品的第一主表面上。
13.如权利要求9-12中任一项所述的方法，所述托架设备还包括：包含支承表面的基底，衬垫的第二表面接触基底的支承表面，并且所述方法还包括：在朝向基底的支承表面的方向上，向制品施加力，由此压制基底的支承表面与涂层之间的衬垫。
14.如权利要求13所述的方法，在进行将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂的同时，向制品施加力。
15.如权利要求2-7和9-14中任一项所述的方法，所述制品包括片材，所述片材包含玻璃、玻璃陶瓷、陶瓷或其组合。
16.一种托架设备，其包括：
制品，所述制品包括第一主表面，第二主表面，在第一主表面与第二主表面之间的厚度，以及在第一主表面与第二主表面之间的厚度上延伸的外边缘；
涂层，其包括设置在制品的第一主表面上的中心部分以及设置在制品的外边缘上的外部暴露部分；和
多个衬垫，所述多个衬垫中的第一衬垫包括与涂层接触的第一表面，在第一衬垫的第一表面与涂层之间的第一外部界面限定了第一外边界，其将涂层的中心部分与涂层的外部暴露部分隔离开，并且所述多个衬垫中的第二衬垫包含与制品的第二主表面接触的第二表面，在第二衬垫的第二表面与制品的第二主表面之间的第二外部界面限定了第二外边界，其将制品的第二主表面的中心部分与制品的第二主表面的外部暴露部分隔离开。
17.如权利要求16所述的托架设备，第一外边界侧向包围第二外边界。
18.如权利要求16或权利要求17所述的加工托架设备的方法，其包括：将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂。
19.如权利要求18所述的方法，将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂包括：将涂层的外部暴露部分浸没到包含蚀刻剂的浴槽中。
20.如权利要求18或权利要求19所述的方法，将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂使得从制品移除了涂层的外部暴露部分。
21.如权利要求20所述的方法，在从制品移除涂层的外部暴露部分后，涂层完全位于制品的第一主表面上。
22.如权利要求18-21中任一项所述的方法，所述托架设备还包括第一基底和第二基底，所述第一基底包括面向制品的第一主表面的支承表面，所述第二基底包括面向制品的第二主表面的支承表面，制品、涂层、第一衬垫和第二衬垫位于第一基底的支承表面与第二基底的支承表面之间。
23.如权利要求22所述的方法，其包括：在朝向第二基底的支承表面的方向上向第一基底施加第一力，和/或在朝向第一基底的支承表面的方向上向第二基底施加第二力，由此将第一衬垫的第一表面压向涂层并将第二衬垫的第二表面压向制品的第二主表面。
24.如权利要求23所述的方法，在进行将涂层的外部暴露部分暴露于蚀刻剂的同时，向第一基底施加第一力和/或向第二基底施加第二力。
25.如权利要求16或权利要求17所述的托架设备，所述制品还包括孔，所述孔限定在制品的第一主表面中的第一开口与制品的第二主表面中的第二开口之间，制品的内边缘在第一开口与第二开口之间的厚度上延伸，所述涂层包含设置在制品的内边缘上的内部暴露部分，在第一衬垫的第一表面与涂层之间的第一内部界面限定了第二内边界，其将涂层的中心部分与涂层的内部暴露部分隔离开，在第二衬垫的第二表面与制品的第二主表面之间的第二内部界面限定了第二内边界，其将制品的第二主表面的中心部分与涂层的内部暴露部分隔离开，并且第二衬垫还包括连接第二外边界和第二内边界的侧向路径。
26.如权利要求25所述的加工托架设备的方法，其包括：将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂。
27.如权利要求26所述的方法，将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂包括：至少将涂层的外部暴露部分浸没到包含蚀刻剂的浴槽中，所述蚀刻剂在第二衬垫的侧向路径中通过而从第二外边界到达第二内边界，由此将涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂。
28.如权利要求26或权利要求27所述的方法，将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂使得从制品移除了涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分。
29.如权利要求28所述的方法，在从制品移除涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分后，涂层完全位于制品的第一主表面上。
30.如权利要求26-29中任一项所述的方法，所述托架设备还包括第一基底，其包含面向制品的第一主表面的支承表面，第二基底，其包含面向制品的第二主表面的支承表面，制品、涂层、第一衬垫和第二衬垫位于第一基底的支承表面与第二基底的支承表面之间。
31.如权利要求30所述的方法，其包括：在朝向第二基底的支承表面的方向上向第一基底施加第一力，和/或在朝向第一基底的支承表面的方向上向第二基底施加第二力，由此将第一衬垫的第一表面压向涂层并将第二衬垫的第二表面压向制品的第二主表面。
32.如权利要求31所述的方法，在进行将涂层的外部暴露部分和涂层的内部暴露部分暴露于蚀刻剂的同时，向第一基底施加第一力和/或向第二基底施加第二力。
33.如权利要求18-24和26-32中任一项所述的方法，所述制品包括片材，所述片材包含玻璃、玻璃陶瓷、陶瓷或其组合。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201762474365P | 2017-03-21 | 2017-03-21 | |
| US62/474,365 | 2017-03-21 | ||
| PCT/US2018/023504 WO2018175541A1 (en) | 2017-03-21 | 2018-03-21 | Carrier apparatus and methods of processing a carrier apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN110831909A true CN110831909A (zh) | 2020-02-21 |
Family
ID=61911733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201880033497.3A Pending CN110831909A (zh) | 2017-03-21 | 2018-03-21 | 托架设备以及加工托架设备的方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10836674B2 (zh) |
| CN (1) | CN110831909A (zh) |
| TW (1) | TW201838024A (zh) |
| WO (1) | WO2018175541A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US11213904B1 (en) * | 2020-06-16 | 2022-01-04 | Joseph Morette | Apparatuses, systems, and methods for removing and installing a slasher tooth in a saw blade |
| CN115650595B (zh) * | 2022-10-20 | 2024-04-26 | 济宁海富光学科技有限公司 | 玻璃盖板成型方法、成型设备及可存储介质 |
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-
2018
- 2018-03-14 TW TW107108525A patent/TW201838024A/zh unknown
- 2018-03-21 US US16/496,214 patent/US10836674B2/en active Active
- 2018-03-21 CN CN201880033497.3A patent/CN110831909A/zh active Pending
- 2018-03-21 WO PCT/US2018/023504 patent/WO2018175541A1/en active Application Filing
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20200048142A1 (en) | 2020-02-13 |
| TW201838024A (zh) | 2018-10-16 |
| US10836674B2 (en) | 2020-11-17 |
| WO2018175541A1 (en) | 2018-09-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20200221 |