CN110783230A - 湿式工作台及使用湿式工作台的化学处理方法 - Google Patents

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Abstract

本揭示涉及湿式工作台及使用湿式工作台的化学处理方法。一种湿式工作台包括外槽及内槽。外槽具有界定第一包含空间的第一底板以及多个第一侧壁。第一底板的第一部分高于第一底板的第二部分。内槽具有在第一包含空间中的一部分并且延伸穿过外槽的第一底板。内槽具有界定第二包含空间的第二底板以及多个第二侧壁。

Description

湿式工作台及使用湿式工作台的化学处理方法
技术领域
本揭示涉及湿式工作台及使用湿式工作台的化学处理方法。
背景技术
半导体元件在各种电子应用中使用，诸如个人电脑、蜂巢电话、数字摄影机及其他电子设备。半导体元件通常通过下列步骤制造：在半导体基板上方相继沉积材料的绝缘或介电层、导电层及半导电层，并且使用微影术图案化或处理基板及/或各种材料层以在其上形成电路部件及元件，以及形成集成电路。通常在单个半导体晶圆上制造集成电路。通过沿着刻划线锯断集成电路来分离个别晶粒。例如，随后在多晶片模组中单独地封装个别晶粒，或者以其他封装类型封装个别晶粒。
在制造半导体元件期间，使用各种处理步骤以在半导体晶圆上制造集成电路。例如，使用若干湿式化学处理操作在半导体基板上形成半导体元件。湿式化学处理操作可包括清洁操作、剥离操作及蚀刻操作，其中化学浴的化学物质与正经蚀刻或移除的材料反应。
发明内容
本揭示的一些实施例提供一种湿式工作台，其包含一外槽及一内槽。该外槽具有界定一第一包含空间的一第一底板及多个第一侧壁，其中该第一底板的一第一部分高于该第一底板的一第二部分。该内槽在该第一包含空间中具有一部分，延伸穿过该外槽的该第一底板，并且具有界定一第二包含空间的一第二底板及多个第二侧壁。
本揭示的一些实施例提供一种湿式工作台，其包含外槽及一内槽。该外槽具有一第一底板，该第一底板具有界定一沉积区的一第一部分以及朝向该沉积区向下倾斜的一第二部分。该内槽部分地设置在该外槽内，并且具有多个侧壁。该第一底板的该第二部分连接到该内槽的所述多个侧壁。
本揭示的一些实施例提供一种使用湿式工作台的化学处理方法，包含：将一晶圆放置到一内槽中，其中该内槽由一外槽围绕，该外槽的一底部的一第一部分高于该外槽的该底部的一第二部分；用一化学液体过量填充该内槽，其中该化学液体从该内槽流动到该外槽，并且随后穿过该外槽的该底部的该第一部分上方的一区域流动到该外槽的该底部的该第二部分上方的一沉积区；以及将该化学液体从该沉积区再循环到该内槽。
附图说明
当结合随附附图阅读时，自以下详细描述将很好地理解本揭示的态样。应注意，根据工业中的标准实务，各个特征并非按比例绘制。事实上，出于论述清晰的目的，可任意增加或减小各个特征的尺寸。
图1是根据本揭示的一些实施例的一些实施例的湿式工作台的示意图；
图2是图1的湿式工作台的侧视图；
图3是图示根据本揭示的一些实施例的湿式工作台的操作过程的流程图；
图4是图2的通道的出口部分的局部放大图。
【符号说明】
100 湿式工作台
110 外槽
111 第一底板
111a 第一附属底板
111b 第二附属底板
111c 延伸板
112 第一侧壁
113 顶部边缘
120 内槽
121 第二底板
122 第二侧壁
123 顶部边缘
123a 顶部边缘
123b 顶部边缘
123c 顶部边缘
140 通道
141 入口
142 出口部分
150 泵
155 控制器
159 阻尼器
160 过滤器
170 通道
180 化学容器
190 泵
195 控制器
300 方法
C1 第一包含空间
C2 第二包含空间
D 方向
L 化学液体
O 出口孔
OT1 开放顶部
OT2 开放顶部
P 副产物
S301 步骤
S302 步骤
S303 步骤
S304 步骤
Z 沉积区
具体实施方式
以下揭示内容提供许多不同实施例或实例，以便实施所提供标的的不同特征。下文描述部件及布置的具体实例以简化本揭示一些实施例。当然，此等仅为实例且并不意欲为限制性。例如，以下描述中在第二特征上方或第二特征上形成第一特征可包括以直接接触形成第一特征及第二特征的实施例，且亦可包括在第一特征与第二特征之间形成额外特征以使得第一特征及第二特征可不处于直接接触的实施例。另外，本揭示可在各个实例中重复元件符号及/或字母。此重复是出于简便性及清晰的目的且本身并不指示所论述的各个实施例及/或配置之间的关系。
另外，为了便于描述，本文可使用空间相对性术语(诸如“之下”、“下方”、“下部”、“上方”、“上部”及类似者)来描述诸图中所示出的一个元件或特征与另一元件(或多个元件)或特征(或多个特征)的关系。除了诸图所描绘的定向外，空间相对性术语意欲包含使用或操作中装置的不同定向。设备可经其他方式定向(旋转90度或处于其他定向)且由此可类似解读本文所使用的空间相对性描述词。
参考图1及图2。图1是根据本揭示的一些实施例的湿式工作台100的示意图，并且图2是图1的湿式工作台100的侧视图。在一些实施例中，湿式工作台100包括外槽110及内槽120。外槽110具有第一底板111及多个第一侧壁112。第一侧壁112相互连接以封闭第一底板111的周边，由此界定具有开放顶部OT1的第一包含空间C1。内槽120具有第二底板121及多个第二侧壁122。第二侧壁122相互连接以封闭第二底板121的周边，由此界定具有开放顶部OT2的第二包含空间C2。内槽120具有容纳在第一包含空间C1中的一部分，延伸穿过第一底板111，并且由外槽120的第一侧壁112围绕。内槽120的第二底板121是至少部分在外槽110的外部。换言之，在外槽110外部定位第二底板121。第一底板111具有第一部分及低于第一部分的第二部分。在一些实施例中，将第一底板111的第一部分提升到高于内槽120的第二底板121，并且将第一底板121的第二部分提升到低于内槽120的第二底板121。内槽120经配置为容纳晶圆(未图示)以便湿式化学处理。在一些实施例中，将一批或批量的直径为200mm或300mm的晶圆穿过开放顶部OT2放置在内槽120的第二包含空间C2中以便湿式化学处理。在一些实施例中，穿过开放顶部OT2放置在内槽120的第二包含空间C2中的晶圆具有在从约150mm至400mm的范围中、在从约150mm至约300mm的范围中或在其他范围中的直径。
内槽120的第二侧壁122与外槽110的第一侧壁112隔开一距离。亦即，内槽120的第二侧壁122中的每一者与外槽110的对应的第一侧壁112彼此隔开，两者之间具有明显间隔，从而促进化学液体L在内槽120的第二侧壁122与外槽110的第一侧壁112之间的流动路径。
在湿式工作台100的操作期间，内槽120用化学液体L过量填充。随后，将晶圆放置到内槽120中并且浸没在化学液体L中，其中化学液体L与晶圆反应。注意到，在操作期间，化学液体L填满内槽120，并且穿过开放顶部OT2溢流到外槽110。同时，由外槽110收集的化学液体L流出外槽110并且经由将在后文描述的通道140返回到内槽120。换言之，在对晶圆执行湿式化学处理期间建立化学液体L的再循环回路。
如图2所示，外槽110的第一底板111包括第一附属底板111a、延伸板111c及第二附属底板111b。通过延伸板111c将第一附属底板111a连接到第二附属底板111b，并且相对于水平地面倾斜。在一些实施例中，延伸板111c实质上相对于第二附属底板111b垂直。将第一附属底板111a提升到高于第二附属底板111b。内槽120延伸穿过第一附属底板111a，并且将第一附属底板111a连接到内槽120的第二侧壁122。在一些实施例中，第二附属底板111b是实质上水平的。第一附属底板111a亦相对于第二附属底板111b及延伸板111c倾斜。延伸板111c及第二附属底板111b一起界定沉积区Z。如图2所示，在第一底板111的第二附属底板111b上方并且邻近第一底板111的延伸板111c定位沉积区Z。此外，第一附属底板111a朝向沉积区Z向下倾斜。换言之，在外槽110的下部处定位沉积区Z，并且可以理解为外槽110的第一包含空间C1的下部。在一些实施例中，将第一附属底板110a的一部分提升到高于第二底部121，并且将第二附属底板111b提升到低于第二底板121。
在一些实施例中，第一附属底板111a实质上相对于第二附属底板111b倾斜角度θ。若内槽120的第二底板121实质上与第二附属底板111b平行，则第一附属底板111a亦实质上相对于第二底板121倾斜角度θ。在一些实施例中，角度θ是在从约15度至约45度的范围中。在一些实施例中，角度θ是在从约15度至约30度的范围中、在从约15度至约60度的范围中、在从约20度至约40度的范围中或在其他范围中。
另外，如图1及图2所示，第二侧壁122中的每一者具有顶部边缘123。沿着方向D远离第二底板121定位顶部边缘123。另一方面，第一侧壁112中的每一者具有顶部边缘113。沿着方向D远离第二底板121定位顶部边缘113。在一些实施例中，将第二侧壁122中的每一者的顶部边缘123提升到高于第一侧壁112中的每一者的顶部边缘113。因此，若化学液体L从外槽110的开放顶部OT1溢流，则化学液体L将不穿过内槽120的开放顶部OT2流回内槽120中。换言之，由于外槽110的开放顶部OT1低于内槽120的开放顶部OT2，在外槽120中的化学液体L不穿过开放顶部OT1流动到内槽110中。化学液体L从顶部边缘123上方的内槽120的开放顶部OT2溢流到外槽110是在单向方向上。
出于方便解释的缘故，如图1及图2所示，将内槽120的第二侧壁122的顶部边缘123进一步标记为123a、123b及123c。顶部边缘123a与顶部边缘123c彼此相对。两个顶部边缘123b彼此相对并且在顶部边缘123a与顶部边缘123c之间连接。在一些实施例中，顶部边缘123a、123b及123c形成矩形。
在一些实施例中，湿式工作台100进一步包括通道140。具体而言，如图2所示，通道140穿透具有顶部边缘123c的第二侧壁122。通道140具有入口141及出口部分142。入口141及出口部分142是处于通道140的相对端。在外槽110的第一包含空间C1内部及内槽120的第二包含空间C2外部布置通道140的入口141。在一些实施例中，将通道140的入口141定位到低于第二底板121。通道140的出口部分142是在内槽120的第二包含空间C2内部。亦即，通道140在外槽110的第一包含空间C1与内槽120的第二包含空间C2之间连接。在一些实施例中，通道140穿过开放顶部OT1延伸出外槽110，并且穿过外槽110再次进入内槽120，具体而言穿过外槽110的第一侧壁112中的一者以及内槽120的第二侧壁122中的一者。
此外，湿式工作台100进一步包括泵150。将泵150设置为在入口141与出口部分142之间流体连通。在实际应用中，泵150经配置为泵送化学液体L，使得化学液体L从在外槽110的第一包含空间C1中定位的入口141流动到在内槽110的第二包含空间C2中定位的出口部分142。换言之，泵150用于在外槽110的第一包含空间C1中泵送化学液体L，化学液体L穿过在第二侧壁122的顶部边缘123上方的开放顶部OT2从内槽120溢流，返回到内槽120的第二包含空间C2。因此，建立化学液体L在内槽120的第二包含空间C2与外槽110的第一包含空间C1之间的循环回路。在一些实施例中，湿式工作台100进一步包括控制器155。控制器155与泵150电气连接并且经配置为控制泵150的操作。
具体而言，如图2所示，靠近外槽110的第一底板111定位通道140的入口141。更具体而言，在第二附属底板111b上方并且靠近第一底板111的第二附属底板111b定位通道140的入口141。如上文提及，在第一底板111的第二附属底板111b上方定位沉积区Z。换言之，实质上在外槽110的沉积区Z处定位通道140的入口141。由于从内槽120的第二包含空间C1溢流到外槽110的第一包含空间C1的过量化学液体L在重力的作用下流动到外槽110的沉积区Z，在外槽110的第一包含空间C1内部的化学液体L可以在泵150的作用下有效地抽吸到通道140的入口141中。换言之，建立用于使化学液体L从略微在第二附属底板111b上方的区域流动出外槽110的流动路径，并且化学液体L随后穿过通道140返回到内槽120。随后，使得化学液体L在内槽120的第二包含空间C2与外槽110的第一包含空间C1之间的循环回路为有效的。
另外，在一些实施例中，湿式工作台100进一步包括过滤器160。如图1及图2所示，过滤器160与通道140流体连通并且在入口141与出口部分142之间流体连通。具体而言，在来自外槽110的沉积区Z的化学液体L进入通道140的入口141之后，过滤器160从通道140的入口141过滤化学液体L，并且经过滤的化学液体L在泵150的作用下流出通道140的出口部分142。在一些实施例中，将过滤器160布置为在泵150与出口部分142之间流体连通。
在一些实施例中，湿式工作台100进一步包括阻尼器159，此阻尼器与通道140流体连通并且在入口141与过滤器160之间流体连通。在一些实施例中，如图1及图2所示，阻尼器159在电动机150与过滤器160之间流体连通。阻尼器159经配置为阻止在通道140中流动的化学液体L对过滤器160的影响，以便保护过滤器160不受化学液体L流动的破坏。
另一方面，如图1及图2所示，湿式工作台100进一步包括通道170、化学容器180及泵190。通道170在化学容器180与外槽120的第一包含空间C1之间流体连通。化学容器180经配置为储存将添加到化学液体L中的化学溶液。在一些实施例中，例如，化学溶液可以是氢氧化铵(NH4OH)、过氧化氢(H2O2)、氢氯酸(HCL)、氢氟酸(HF)或硫酸(H2SO4)。泵190与通道170流体连通并且经配置为当第一包含空间C1中的化学液体L中的化学溶液的浓度下降时将化学溶液从化学容器180泵送到外槽120的第一包含空间C1。在一些实施例中，湿式工作台100进一步包括控制器195。控制器195与泵190电气连接并且经配置为控制泵190的操作。
参考图1、图2及图3。图3是图示根据本揭示的一些实施例的湿式工作台100的操作过程的流程图。在一些实施例中，如图3所示，在湿式工作台100中对晶圆执行湿式化学处理的方法300包括以下过程：
(1)将晶圆放置到用化学液体L过量填充的内槽120中(步骤S301)，使得对晶圆执行化学反应，并且随后产生副产物P。
(2)建立流动路径，化学液体L连同副产物P一起沿着此流动路径从内槽120的开放顶部OT2溢流到外槽110(步骤S302)。
(3)归因于重力，化学液体L连同副产物P一起流动到外槽110处的沉积区Z，并且副产物P在沉积区Z处积累(步骤S303)。
(4)建立流动路径，用于使沉积区Z处的化学液体L流出外槽110，并且将经过滤的化学液体L返回到内槽120(步骤S304)。换言之，化学液体L从沉积区Z再循环到内槽120。
详细而言，在湿式工作台100中对晶圆执行湿式化学处理的操作期间，化学液体L与浸没在内槽120的第二包含空间C2中的晶圆化学反应，并且副产物P(如图2所示)随后由化学反应产生。副产物P实际上被认为是不期望的物质，此等物质将阻碍化学液体L与晶圆的化学反应并且因此降低湿式工作台100的操作效率。当过量的化学液体L从内槽120的第二包含空间C2穿过开放顶部OT2溢流到外槽110的第一包含空间C1时，在对晶圆执行湿式化学处理期间形成的副产物P连同化学液体L一起从内槽120的第二包含空间C2穿过开放顶部OT2流动到外槽110的第一包含空间C1。通常，副产物P中的每一者具有与化学液体L相比较高的密度。换言之，副产物P的重量与化学液体L相比较重，因此副产物P在外槽110的第一包含空间C1中沉入化学液体L并且接近第一底板111。
当在对晶圆执行湿式化学处理期间产生的副产物P连同化学液体L一起从内槽120的第二包含空间C2流动到外槽110的第一包含空间C1时，副产物P及化学液体L流动到在内槽120的第二侧壁122与外槽110的第一侧壁112之间的空间。
如上文提及，外槽110的第一底板111包括第一附属底板111a及第二附属底板111b，并且第一附属底板111a相对于第二附属底板111b倾斜角度θ，此角度θ在从约15度至约45度的范围中。具体地，第一附属底板111a朝向第二附属底板111b、延伸板111及沉积区Z向下倾斜。因此，当副产物P及化学液体L溢流并且经过顶部边缘123b到内槽120的第二侧壁122与外槽110的第一侧壁112之间的空间时，副产物P及化学液体L在重力的作用下在倾斜的第一附属底板111a上流动并且随后接近如上文提及的沉积区Z。换言之，导引副产物P及化学液体L以跨过具有顶部边缘123b的第二侧壁122朝向沉积区Z流动。如上文提及，沉积区Z可以理解为外槽110的第一包含空间C1的下部。换言之，沉积区Z的位置低于副产物P及化学液体L跨过具有顶部边缘123b的第二侧壁122的流动路径。
此外，由于副产物P的密度通常大于如上文提及的化学液体L，副产物P在第一底板111的倾斜的第一附属底板111a上方朝向沉积区Z流动。随后，副产物P在重力的作用下在沉积区Z处积累。
另外，在湿式工作台100中对晶圆执行湿式化学处理的操作期间，副产物P及化学液体L亦在第二侧壁122的顶部边缘123a上方从内槽120的第二包含空间C2流动。因此，在具有顶部边缘123a的第二侧壁122与对应的第一侧壁112之间的空间亦接收从内槽120溢流的副产物P及化学液体L。由于经过顶部边缘123b的副产物P及化学液体L在如上文提及的重力的作用下在倾斜的第一附属底板111a上流动以接近沉积区Z，在具有顶部边缘123a的第二侧壁122与对应的第一侧壁112之间的空间处的副产物P及化学液体L随后流动到在具有顶部边缘123b的第二侧壁122与外槽110的对应的第一侧壁112之间的空间，并且随后在倾斜的第一附属底板111a上流动以接近沉积区Z。因此，经过第二侧壁122的顶部边缘123a的副产物P及化学液体L亦在重力的作用下在沉积区Z处积累。若角度θ小于约15度，则重力对副产物P在向下方向上流动的影响较小，并且因此副产物P将不会如此有效地在沉积区Z处沉积。若角度θ大于约45度，则为了在具有顶部边缘123a的第二侧壁122与对应的第一侧壁112之间维持足够的间距，外槽110的总高度过度增加，并且由此外槽110的第一包含空间C1的体积因此过度增加。或者，若角度θ大于约45度，则为了维持外槽110的相同高度，在具有顶部边缘123a的第二侧壁122与对应的第一侧壁112之间的间距过度减小，并且由此经过顶部边缘123a流动到外槽110中的化学液体L可在对应的第一侧壁112上方溢出外槽110。若角度θ大于约45度，则重力对副产物P朝向沉积区Z流动的有效性的增加不足以证明上文提及的增加角度θ的影响。
另一方面，在湿式工作台100中对晶圆执行湿式化学处理的操作期间，副产物P及化学液体L亦在第二侧壁122的顶部边缘123c上方从内槽120的第二包含空间C2流动。具体而言，副产物P及化学液体L从内槽120的第二包含空间C2经过顶部边缘123c流动到在具有顶部边缘123c的第二侧壁122与外槽110的对应的第一侧壁112之间的空间，此空间是在沉积区Z上方。因此，经过顶部边缘123c的副产物P及化学液体L亦在重力的作用下在沉积区Z处积累。
总而言之，在湿式工作台100的操作期间，建立流动路径，化学液体L沿着此流动路径穿过在外槽110的第一附属底板111a上方的区域从内槽120溢流到第二附属底板111b上方的区域。同时，通过对晶圆执行湿式化学处理产生的副产物P经过内槽120的顶部边缘123a、123b及123c并且流动到外槽110，随后在重力的作用下相继穿过在第一附属底板111a上方的区域以及在第二附属底板111b上方的区域，在外槽110的沉积区Z处积累。此外，内槽120及其第二侧壁122延伸穿过第一附属底板111a。由于内槽120延伸出外槽110的第一底板111，在外槽110的第一底板111与内槽120的第二底板121之间没有外槽110的第一包含空间C1的部分，并且有效避免在内槽120的第二底板121与外槽110的第一底板111之间积累副产物P。因此，在操作之后清洁内槽120的第二底板121变得简单。
另外，如上文提及，由于第一附属底板111a相对于第二附属底板111b倾斜角度θ，此角度θ在从约15度至约45度的范围中，外槽110的第一包含空间C1的体积因此减小。作为结果，外槽110的第一包含空间C1中的化学液体L的使用随之减少。换言之，有效减少了湿式工作台100中用于操作的化学液体L的总体使用，并且因此亦相应地减少了湿式工作台100的操作成本。
具体而言，如上文提及，通过对晶圆执行化学处理产生的副产物P经过内槽120的顶部边缘123a、123b及123c并且流动到外槽110，在重力的作用下在外槽110的沉积区Z处积累。实质上在外槽110的沉积区Z处的副产物P之中定位通道140的入口141。以此方式，在沉积区Z处积累的副产物P能够与化学液体L一起流动，并且以有效方式进入通道140的入口141。其后，由过滤器160俘获进入通道140的副产物P，并且流出通道140的出口部分142的化学液体L不含有副产物P。换言之，当穿过过滤器160流回内槽120时，化学液体L变得清洁。以此方式，由泵150、过滤器160及通道140形成的循环系统用于维持化学液体L在内槽120中的清洁度，来用于在湿式工作台100的操作期间对晶圆执行化学处理，以便在整个操作中维持湿式工作台100的效率。
另外，如图2所示，靠近内槽120的第二底板121并且实质上与此第二底板平行定位具有出口部分142的通道140的一部分。因此，经过滤的化学液体L在泵150的作用下流出通道140的出口部分142，穿过靠近内槽120的底部布置的出口部分142进入内槽120的第二包含空间C2，并且穿过第二侧壁122的开放顶部OT2离开内槽120的第二包含空间C2。以此方式，可以控制在内槽120的第二包含空间C2中的化学液体L以从内槽120的底部实质垂直向上地流动，在第二侧壁122的顶部边缘123上方流出之前穿过内槽120的整个高度。此外，由于通道140的出口部分142实质上平行于内槽120的第二底板121，并且跨越实质上大于第二底板121的长度的一半，化学液体L从内槽120的底部到顶部的流动跨越内槽120的实质长度，并且不限于内槽120的狭窄区域。由此，可以有效地远离内槽120的第二包含空间C2递送在内槽120的第二包含空间C2中对晶圆执行化学处理期间形成的副产物P。另一方面，有效地避免在内槽120的第二包含空间C2内部发生化学液体L的紊流。
参考图4。图4是图2的通道140的出口部分142的局部放大图。在一些实施例中，如图4所示，通道140的出口部分142具有多个出口孔O。另外，出口孔O沿着通道140的出口部分142靠近第二底板121分布并且实质上与第二底板121平行地延伸。另外，出口孔O背对内槽120的第二底板121。换言之，通道140的部分包括背对内槽120的第二底板121的多个出口孔O。以此方式，当经过滤的化学液体L在泵150的作用下流出通道140的出口孔O时，经过滤的化学液体L在内槽120中向上流动，从而促进过量化学液体L从内槽120的第二包含空间C2溢流到外槽110的第一包含空间C1。此外，有效地避免在内槽120的第二包含空间C2内部发生化学液体L的紊流。因此，使得化学液体L在内槽120的第二包含空间C2与外槽110的第一包含空间C1之间循环为有效的。
另外，在一些实施例中，将泵150及过滤器160设置在外槽110的第一包含空间C1外部。换言之，泵150及过滤器160未浸没在化学液体L中。以此方式，维护或替换泵150及过滤器160变得简单且方便。
在一些实施例中，外槽110及内槽120包括石英。在实际应用中，由于石英的惰性性质，有效地避免在化学液体L与外槽110或内槽120之间的不期望的化学反应。在一些其他实施例中，由于如上文提及的相同原因，外槽110及内槽120包括塑性材料。
总而言之，由于第一附属底板朝向沉积区向下倾斜，通过对晶圆执行化学处理产生的副产物经过具有化学液体的内槽的顶部边缘，流动到外槽，并且因重力而在外槽的沉积区处积累。此外，由于外槽的第一底板及内槽的第二底板不重迭，有效地避免在内槽的第二底板与外槽的第一底板之间积累副产物。另外，由于第一附属底板相对于第二附属底板倾斜从约15度至约45度的范围中的角度，外槽的第一包含空间的体积因此减小。作为结果，外槽的第一包含空间中的化学液体的使用随之减少。换言之，有效减少了湿式工作台中用于操作的化学液体的总体使用，并且因此亦相应地减少了湿式工作台的操作成本。
根据一些实施例，一种湿式工作台包括外槽及内槽。外槽具有界定第一包含空间的第一底板以及多个第一侧壁。第一底板的第一部分高于第一底板的第二部分。内槽具有在第一包含空间中的一部分并且延伸穿过外槽的第一底板。内槽具有界定第二包含空间的第二底板以及多个第二侧壁。在一些实施例中，该第一底板包含一第一附属底板及一第二附属底板，并且该第一附属底板朝向该第二附属底板向下倾斜。在一些实施例中，该第一附属底板相对于该第二附属底板倾斜一角度，并且该角度是在从约15度至约45度的一范围中。在一些实施例中，该第一底板进一步包含一延伸板，其连接在该第一附属底板与该第二附属底板之间并且实质上与该第二附属底板正交。在一些实施例中，该第一附属底板的至少一部分高于该第二底板。在一些实施例中，该第二附属底板低于该第二底板。在一些实施例中，该内槽与所述多个第一侧壁中的每一者隔开。在一些实施例中，所述多个第二侧壁的顶部边缘高于所述多个第一侧壁的顶部边缘。在一些实施例中，该湿式工作台进一步包含：一通道，其在该外槽的该第一包含空间与该内槽的该第二包含空间之间流体连通。在一些实施例中，该通道具有在该第一包含空间中布置的一入口。在一些实施例中，该通道具有在该第二包含空间中布置的一出口部分。在一些实施例中，该通道的该出口部分具有背对该第二底板的多个出口孔。在一些实施例中，该湿式工作台，进一步包含一过滤器，其与该通道流体连通。在一些实施例中，该湿式工作台进一步包含一泵，与该通道流体连通。
根据一些实施例，一种湿式工作台包括外槽及内槽。外槽具有第一底板。第一底板具有界定沉积区的第一部分以及朝向沉积区向下倾斜的第二部分。内槽部分设置在外槽内。内槽具有第二底板及多个侧壁，其中第一底板的第二部分连接到内槽的侧壁。在一些实施例中，该内槽具有一第二底板，并且该第一底板的该第二部分相对于该第二底板倾斜。在一些实施例中，该第二底板至少部分在该外槽的外部。
根据一些实施例中，一种方法包括：将晶圆放置到内槽中，其中内槽由外槽围绕，外槽的底部的第一部分高于外槽的底部的第二部分；用化学液体过量填充内槽，其中化学液体从内槽流动到外槽并且随后穿过外槽的底部的第一部分上方的区域流动到外槽的底部的第二部分上方的沉积区；以及将化学液体从沉积区再循环到内槽。在一些实施例中，再循环该化学液体包含过滤该化学液体。在一些实施例中，该外槽的该底部的该第一部分朝向该沉积区向下倾斜。
上文概述若干实施例的特征，使得熟悉此项技术者可更好地理解本揭示的态样。熟悉此项技术者应了解，可轻易使用本揭示一些实施例作为设计或修改其他制程及结构的基础，以便实施本文所介绍的实施例的相同目的及/或实现相同优点。熟悉此项技术者亦应认识到，此类等效配置并未脱离本揭示一些实施例的精神及范畴，且可在不脱离本揭示一些实施例的精神及范畴的情况下产生本文的各种变化、替代及更改。

Claims (10)

1.一种湿式工作台，其特征在于，包含：
一外槽，具有界定一第一包含空间的一第一底板及多个第一侧壁，其中该第一底板的一第一部分高于该第一底板的一第二部分；以及
一内槽，在该第一包含空间中具有一部分，该内槽延伸穿过该外槽的该第一底板并且具有界定一第二包含空间的一第二底板及多个第二侧壁。
2.根据权利要求1所述的湿式工作台，其特征在于，该第一底板包含一第一附属底板及一第二附属底板，并且该第一附属底板朝向该第二附属底板向下倾斜。
3.根据权利要求2所述的湿式工作台，其特征在于，该第一附属底板相对于该第二附属底板倾斜一角度，并且该角度是在从约15度至约45度的一范围中。
4.根据权利要求1所述的湿式工作台，其特征在于，所述多个第二侧壁的顶部边缘高于所述多个第一侧壁的顶部边缘。
5.根据权利要求1所述的湿式工作台，其特征在于，进一步包含：
一通道，在该外槽的该第一包含空间与该内槽的该第二包含空间之间流体连通。
6.一种湿式工作台，其特征在于，包含：
一外槽，具有一第一底板，该第一底板具有界定一沉积区的一第一部分以及朝向该沉积区向下倾斜的一第二部分；以及
一内槽，部分设置在该外槽内，该内槽具有多个侧壁，其中该第一底板的该第二部分连接到该内槽的所述多个侧壁。
7.根据权利要求6所述的湿式工作台，其特征在于，该内槽具有一第二底板，并且该第一底板的该第二部分相对于该第二底板倾斜。
8.一种使用湿式工作台的化学处理方法，其特征在于，包含：
将一晶圆放置到一内槽中，其中该内槽由一外槽围绕，该外槽的一底部的一第一部分高于该外槽的该底部的一第二部分；
用一化学液体过量填充该内槽，其中该化学液体从该内槽流动到该外槽，并且随后穿过该外槽的该底部的该第一部分上方的一区域流动到该外槽的该底部的该第二部分上方的一沉积区；以及
将该化学液体从该沉积区再循环到该内槽。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，再循环该化学液体包含：
过滤该化学液体。
10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，该外槽的该底部的该第一部分朝向该沉积区向下倾斜。
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