CN110770828B - 光盘和光盘的制造方法 - Google Patents

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Abstract

以往，在经由紫外线固化型粘接层将记录基板彼此贴合来制成双面型光盘的情况下，粘接层的固化缓慢成为课题。据信这是由于从记录基板中渗出的释气阻碍了粘接层中的固化反应所致的。与之相对，本公开的光盘中，在基板的贴合面设置气体阻隔层来抑制释气从基板向紫外线固化型粘接层的渗出，由此在经由紫外线固化型粘接层将记录基板彼此贴合时，能够在短时间内使粘接层固化。

Description

光盘和光盘的制造方法
技术领域
本申请公开了双面型的光盘及其制造方法。
背景技术
光盘的运用成本低，因此作为用于长期保存访问频率低的数据的记录介质，要求其大容量化。作为大容量的光盘，将2片记录基板贴合而成的双面型光盘是熟知的。例如如专利文献1、2所公开，双面型光盘可以通过将在基板的一面侧具有记录层、在该基板的相反面侧具有贴合面的记录基板经由紫外线固化型粘接层成对地贴合来进行制作。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2015-197936号公报
专利文献2：日本特开2017-174487号公报
发明内容
发明所要解决的课题
根据本发明人的新技术思想，在经由紫外线固化型粘接层将记录基板彼此贴合的情况下，存在紫外线固化型粘接层的固化缓慢的问题。
用于解决课题的手段
本申请中，作为解决上述课题的手段之一，公开了一种光盘，其是记录基板成对地贴合而成的光盘，该记录基板在基板的一面侧具有记录层，在该基板的相反面侧具有贴合面，该光盘的特征在于，上述记录基板经由紫外线固化型粘接层进行贴合，上述记录基板在上述基板的上述相反面侧具备气体阻隔层。
“气体阻隔层”是气体的透过性低于上述构成记录基板的基板的层，是指能够抑制气体从记录基板向紫外线固化型粘接层的渗出的层。气体阻隔层可以为由有机物构成的层，可以为由无机物构成的层，也可以为由有机物和无机物的混合物构成的层。
本公开的光盘中，优选：在俯视下，上述气体阻隔层具有与上述记录层相对应的形状；上述气体阻隔层的内径小于或等于上述记录层的内径、和/或上述气体阻隔层的外径大于或等于上述记录层的外径。
本公开的光盘中，优选：在俯视下，上述气体阻隔层具有与上述基板相对应的形状；在上述基板的内周部具有未形成上述气体阻隔层的区域(X)、和/或在上述基板的外周部具有未形成上述气体阻隔层的区域(Y)；上述区域(X)的内周端位于与上述基板的内周端一致的位置，上述区域(X)的外周端位于距上述基板的内周端0.2mm以上22.5mm以下的位置；上述区域(Y)的外周端位于与上述基板的外周端一致的位置，上述区域(Y)的内周端位于距上述基板的外周端0.2mm以上3.0mm以下的位置。
本公开的光盘中，优选上述气体阻隔层由选自金属、金属氧化物、金属氮化物和金属硫化物中的至少一种无机物构成。
本公开的光盘中，优选上述气体阻隔层的厚度为2nm以上200nm以下。
本公开的光盘中，优选上述气体阻隔层的折射率为1.4以上3.0以下。
本公开的光盘中，优选上述气体阻隔层的消光系数为1以下。
本公开的光盘中，优选上述基板由聚碳酸酯树脂构成。
本公开的光盘中，优选上述记录基板在透过波长360nm的光时的透过率为3％以下。
本公开的光盘中，优选上述记录层包含具有30nm以上的厚度的金属层。
本公开的光盘中，优选上述记录基板的厚度为400μm以上1400μm以下。
本公开的光盘中，优选上述紫外线固化型粘接层的厚度为10μm以上100μm以下。
本申请中，作为解决上述课题的手段之一，公开了一种光盘的制造方法，其具备下述工序：第1工序，在基板的一面侧形成记录层，在该基板的相反面侧形成气体阻隔层，得到记录基板；以及第2工序，准备2片上述记录基板，将上述基板的上述相反面侧作为贴合面，将上述记录基板彼此经由自由基聚合系紫外线固化型粘接层进行贴合。
本公开的制造方法中，优选在上述第2工序中，从上述记录基板的形成有上述记录层的面、和/或从上述记录基板的侧面照射紫外线，使上述自由基聚合系紫外线固化型粘接层固化。
本公开的制造方法中，优选在上述第2工序中，从一个上述记录基板的形成有上述记录层的面、以及另一个上述记录基板的形成有上述记录层的面这两方照射紫外线，使上述自由基聚合系紫外线固化型粘接层固化。
发明的效果
在记录基板的贴合面侧设置气体阻隔层的情况下，与未设置气体阻隔层的情况相比，将记录基板彼此贴合时的紫外线固化型粘接层的固化更迅速。这被认为是由于以下的机理所致的。即，据信，在如现有技术所述不设置气体阻隔层而经由紫外线固化型粘接层将记录基板彼此贴合的情况下，记录基板中包含的气体(空气、水蒸气等)以释气(outgas)的形式渗出到紫外线固化型粘接层中，该释气阻碍紫外线固化型粘接层的固化反应。与之相对，本公开的光盘中，由于在记录基板的贴合面侧设有气体阻隔层，因此认为能够抑制释气从记录基板向紫外线固化型粘接层中的渗出，容易进行紫外线固化型粘接层的固化。
附图说明
图1是用于说明光盘的构成的一例的示意图。
图2是用于说明记录基板的构成的一例的示意图。
图3是用于说明基板与气体阻隔层的位置关系的一例的示意图。
图4是用于说明记录层与气体阻隔层的位置关系的一例的示意图。
图5是用于说明光盘的制造方法的流程的一例的图。
图6是用于说明光盘的制造方法的一例的示意图。
图7是用于说明光盘的制造方法的一例的示意图。
图8是示出实施例中使用的记录基板的光线透过光谱的图。
图9是用于说明由实施例得到的效果的示意图。
图10是用于说明由实施例得到的效果的示意图。
具体实施方式
1.光盘100
图1中示意性示出了光盘100的构成。图1的(A)为俯视图，图1的(B)为截面图。如图1所示，光盘100是记录基板10成对地贴合而成的，记录基板10中，在基板1的一面侧具有记录层2，在该基板1的相反面侧具有贴合面。另外，如图1所示，光盘100中，记录基板10、10经由紫外线固化型粘接层20进行贴合。图2中示意性示出了构成光盘100的记录基板10的构成。如图2所示，记录基板10在基板1的相反面侧具备气体阻隔层3。
1.1.记录基板10
如图2所示，记录基板10具有基板1、设于基板的一面侧的记录层2、以及设于基板1的相反面侧的气体阻隔层3，基板1的相反面侧为贴合面。
1.1.1.基板1
基板1可以采用任何作为光盘的基板公知的材料。构成基板1的材质只要是能够确保作为光盘的功能的材质即可。例如可以举出丙烯酸系树脂、甲基丙烯酸系树脂、聚碳酸酯树脂、聚烯烃系树脂(特别是非晶态聚烯烃)、聚酯系树脂、聚苯乙烯树脂、环氧树脂等。其中，从强度、透明性等方面出发，优选由聚碳酸酯树脂构成。基板1的形状根据标准适宜地决定即可，例如优选为在俯视下在中心部具有孔的圆盘状。基板1的厚度没有特别限定，从强度、透明性等方面出发，优选为例如300μm以上1300μm以下。下限更优选为450μm以上。
1.1.2.记录层2
记录层2可以采用任何作为光盘的记录层公知的材料。记录层2可以为多层结构。本公开的技术对于非重写型的半透明盘和重写型的不透明盘中的任一种均是有效的。非重写型的情况下，记录层2具有半透明的氧化物层。另一方面，重写型的情况下，记录层2具有不透明的金属层。特别优选记录层2包含具有30nm以上的厚度的金属层。即使在具有这样的较厚的金属层的情况下，根据本公开的技术，也能够使紫外线固化型粘接层20适当地固化。例如，根据本发明人的见解，在具有金属层的重写型的不透明盘中，尽管透过率小，但紫外线仍会透过金属层。利用这样的微量的紫外线，可以使后述的紫外线固化型粘接层20快速地固化。或者，本公开的技术也能够适用于从光盘的侧面照射紫外线的情况(参照图7的(B))，因此无论记录层2有无金属层，均能够使紫外线透射到紫外线固化型粘接层20内。
1.1.3.气体阻隔层3
气体阻隔层3是气体的透过性低于构成记录基板10的基板1的层，是指能够抑制气体从记录基板10向紫外线固化型粘接层20的渗出的层。气体阻隔层3可以为由有机物构成的层，可以为由无机物构成的层，也可以为由有机物和无机物的混合物构成的层。作为可以构成气体阻隔层3的有机物，可以举出聚酰胺系树脂、环氧系树脂、乙烯-乙烯醇共聚物、聚偏二氯乙烯等。作为可以构成气体阻隔层3的无机物，可以举出金属、金属氧化物、金属氮化物和金属硫化物等。
气体阻隔层3优选由选自金属、金属氧化物、金属氮化物和金属硫化物中的至少一种无机物构成。由这些物质构成是由于即使气体阻隔层薄也可确保高气体阻隔性。具体地说，气体阻隔层3优选由选自由下述物质组成的组中的任意一种以上的无机物构成：铝、硅、钛、铌、银和它们为主成分的合金等金属；氧化镁、氧化铝、氧化硅、氧化钛、氧化钒、氧化铬、氧化锌、氧化镓、氧化锗、氧化钇、氧化锆、氧化铌、氧化钼、氧化铟、氧化锡、氧化锑、氧化碲、氧化铪、氧化钽、氧化钨、氧化铋等金属氧化物；氮化铝、氮化硅等金属氮化物；以及硫化锌、二硫化钼等金属硫化物。
其中，气体阻隔层3更优选由选自金属氧化物和金属氮化物中的至少一种无机物构成。这是由于可使其透明性优异，可使紫外线更有效地透射到后述的紫外线固化型粘接层20中。具体地说，气体阻隔层3更优选由选自由氧化铝、氧化硅、氧化钛、氧化铬、氧化锌、氧化镓、氧化锗、氧化锆、氧化铌、氧化铟、氧化锡、氧化钽、氮化铝、氮化硅组成的组中的任意一种以上的无机物构成，特别优选由选自由氧化铝、氧化硅、氧化钛、氧化锌、氧化锆、氧化铌、氧化铟、氧化锡、氮化铝、氮化硅组成的组中的任意一种以上的无机物构成。
气体阻隔层3的厚度没有特别限定。气体阻隔层3厚时，气体阻隔性优异；另一方面，气体阻隔层3薄时，透明性优异。考虑兼顾气体阻隔性和透明性等的情况下，气体阻隔层3的厚度优选为2nm以上200nm以下。下限更优选为3nm以上、进一步优选为5nm以上，上限更优选为50nm以下、进一步优选为30nm以下。
气体阻隔层3的折射率没有特别限定，从进一步提高光学效果的方面出发，优选其与基板1的折射率之差小。例如，气体阻隔层3的折射率优选为1.4以上3.0以下。上限更优选为2.5以下、进一步优选为2.3以下。或者，气体阻隔层3的折射率与基板1的折射率之差优选为1.4以下。更优选为0.9以下、进一步优选为0.7以下。
气体阻隔层3的消光系数没有特别限定，从进一步提高光学效果的方面出发，消光系数优选为1以下。消光系数的上限更优选为0.5以下、进一步优选为0.1以下。
1.1.4.基板1与气体阻隔层3的位置关系
光盘100中，优选在俯视下，气体阻隔层3具有与基板1相对应的形状。即，如图3的(A)所示，在俯视下的基板1的形状为在中心具有孔的圆形的情况下，优选气体阻隔层3的形状也为在中心具有孔的圆形。这种情况下，优选设置：在基板1的一部分未形成气体阻隔层3的区域。根据本发明人的新见解，通过具备这样的区域，记录基板10与紫外线固化型粘接层20的粘接强度提高。特别是如图3的(A)所示，光盘100优选具有在基板1的内周部未形成气体阻隔层3的区域(X)、和/或在基板1的外周部未形成气体阻隔层3的区域(Y)。特别是更优选具有区域(Y)。具体地说，如图3的(B)所示，优选：区域(X)的内周端位于与基板1的内周端一致的位置，区域(X)的外周端位于距基板1的内周端0.2mm以上22.5mm以下的位置(即，俯视下的区域(X)的宽度为0.2mm以上22.5mm以下)，区域(Y)的外周端位于与基板1的外周端一致的位置，区域(Y)的内周端位于距基板1的外周端0.2mm以上3.0mm以下的位置(即，俯视下的区域(Y)的宽度为0.2mm以上3.0mm以下)。区域(X)的外周端位于距基板1的内周端更优选为2.5mm以上、进一步优选为4.5mm以上、更优选为16.5mm以下、进一步优选为10.5mm以下的位置。区域(Y)的内周端位于距基板1的外周端更优选为0.5mm以上、进一步优选为1.0mm以上、更优选为2.5mm以下、进一步优选为2.0mm以下的位置，特别优选位于距基板1的外周端1.5mm的位置。
另外，在设置在基板1的一部分未形成气体阻隔层3的区域的情况下，在俯视下，气体阻隔层3的面积(A3)相对于基板1的面积(A1)之比(A3/A1)优选为0.66以上0.995以下。另外，在基板1的内周部和/或外周部设置区域(X)和/或区域(Y)的情况下，在俯视下，区域(X)的面积(A3X)相对于基板1的面积(A1)之比(A3X/A1)优选为0.00085以上0.24以下，在俯视下，区域(Y)的面积(A3Y)相对于基板1的面积(A1)之比(A3Y/A1)优选为0.00675以上0.0995以下。
1.1.5.记录层2与气体阻隔层3的位置关系
光盘100中，在俯视下，气体阻隔层3优选具有与记录层2相对应的形状。即，如图1～4所示，在俯视下，在记录层2的形状为在中心具有孔的圆形的情况下，优选气体阻隔层3的形状也为在中心具有孔的圆形。这种情况下，优选气体阻隔层3的内径小于或等于记录层2的内径、和/或气体阻隔层3的外径大于或等于记录层2的外径。即，优选图4所示的记录层2的内径D1a与气体阻隔层3的内径D2a的关系为D1a≧D2a、记录层2的外径D1b与气体阻隔层3的外径D2b的关系为D2b≧D1b。在像这样调整记录层2与气体阻隔层3的位置关系的情况下，能够抑制来自基板的释气渗出到紫外线固化型粘接层中，因此能够利用透过记录层的少量的紫外线使粘接层快速地固化。
1.2.紫外线固化型粘接层20
紫外线固化型粘接层20包含紫外线固化树脂。紫外线固化树脂的具体例没有特别限定，通常的紫外线固化树脂均可采用。例如可以举出阳离子聚合系或自由基聚合系的紫外线固化树脂，特别优选自由基聚合系的紫外线固化树脂。紫外线固化型粘接层20的厚度也没有特别限定，只要为能够适当地粘接记录基板10、10的厚度即可。在考虑兼顾粘接强度与固化的容易性等的情况下，例如优选使紫外线固化型粘接层20的厚度为10μm以上100μm以下。下限更优选为20μm以上，上限更优选为80μm以下，特别优选为40μm。优选在记录基板10的贴合面的整个面设置紫外线固化型粘接层20。
1.3.其他
如上所述，记录基板10可以为非重写型的半透明盘、也可以为重写型的不透明盘，出于显著发挥出本发明的效果的原因，优选为重写型的不透明盘。具体地说，记录基板10优选透过波长360nm的光时的透过率为3％以下。更优选为1％以下。下限没有特别限定，优选为0.01％以上。根据本公开的技术，即使记录层2不透明、记录基板10的紫外线的透过率微弱，也能够使紫外线固化型粘接层20适当地固化。
记录基板10的厚度(作为包含基板1、记录层2和气体阻隔层3的整体的厚度)没有特别限定，从光学特性、强度等方面出发，例如优选为400μm以上1400μm以下。下限更优选为550μm以上。
需要说明的是，记录基板10中，除了基板1、记录层2和气体阻隔层3以外，还可以在能够解决上述课题的范围内具备某些层。例如用于保护记录层2的覆盖层、用于防止读取面的划伤/污染的硬涂层、用于提高气体阻隔层3与紫外线固化型粘接层20的粘接性的层等。
2.光盘的制造方法S10
图5所示的光盘100的制造方法S10中具备下述工序：第1工序S1，在基板1的一面侧形成记录层2，在基板1的相反面侧形成气体阻隔层3，得到记录基板10；以及第2工序S2，准备2片记录基板10，将基板1的相反面侧作为贴合面，将记录基板10、10彼此经由自由基聚合系紫外线固化型粘接层20进行贴合。
2.1.第1工序S1
第1工序S1中，在基板1的一面侧形成记录层2，在基板1的相反面侧形成气体阻隔层3，得到记录基板10。记录层2与气体阻隔层3的形成顺序没有特别限定，可以先形成任意一者。
关于在基板1的一面侧形成记录层2的方法为公知的，因而此处省略详细的说明。另一方面，关于在基板1的相反面侧形成气体阻隔层3的方法，根据气体阻隔层3的材质选择最佳的方法即可。例如，作为气体阻隔层3设置由有机物构成的层或由有机物和无机物的混合物构成的层的情况下，可以采用将包含该有机物等的涂布液涂布至基板1的相反面侧并进行干燥并固化的方法；或者将该有机物等在基板1的表面进行合成并成膜的方法；等等。另一方面，作为气体阻隔层3设置由无机物构成的层的情况下，可以采用蒸镀、溅射、CVD、ALD等各种成膜法。特别优选溅射。
2.2.第2工序S2
第2工序S2中，准备2片记录基板10，将基板1的相反面侧作为贴合面，将记录基板10、10彼此经由自由基聚合系紫外线固化型粘接层20进行贴合。
第2工序S2例如可按图6所示的流程实施。即，将紫外线固化树脂通过旋涂涂布至记录基板10的贴合面(图6的(A))，甩落多余的树脂后(图6的(B))，在真空下将涂布有紫外线固化树脂的记录基板10、10彼此贴合(图6的(C))，之后使用紫外线灯等对记录基板10照射紫外线，由此使紫外线固化树脂固化(图6的(D))。图6的(A)～(D)的流程本身对于本领域技术人员是显而易见的，因而省略进一步的说明。
此处，对于将紫外线照射至记录基板10的情况下的照射方向没有特别限定。例如，如图7所示，在第2工序S2中，可以从记录基板10的形成有记录层2的面(图7的(A))、或者从记录基板10的侧面(图7的(B))照射紫外线，使自由基聚合系紫外线固化型粘接层20固化。另外，也可以从记录基板10的形成有记录层2的面和记录基板10的侧面(图7的(C))照射紫外线。
特别是在第2工序S2中，优选从一个记录基板10的形成有记录层2的面、以及另一个记录基板10的形成有记录层2的面这两方照射紫外线，使自由基聚合系紫外线固化型粘接层20固化。更优选进一步将其与从记录基板10的侧面照射紫外线的方法进行组合。
如上所述，根据光盘100，通过在记录基板10的贴合面侧设置气体阻隔层3，能够抑制释气从记录基板10向紫外线固化型粘接层20中的渗出，与不设置气体阻隔层3的情况相比，能够加速将记录基板10、10彼此贴合时的紫外线固化型粘接层20的固化。
实施例
1.重写型记录基板的制作和光线透过光谱的确认
制作具有金属层的不透明的重写型记录基板，确认光线透过光谱。
上述重写型的记录基板按下述工艺制作。首先，通过注射成型制作厚度0.5mm的带槽的聚碳酸酯基板。之后，通过溅射在基板上成膜出记录层。记录层由下述多个层构成。
Sn-Zn-In-Si-O 6nm、Ag-Cu-Nd 70nm、CrTaO-SiO2 8nm、ZnS-SiO2 2nm、GeInSbTe26nm、ZrO2-ZnS 5nm、ZnS-SiO2 28nm。
在记录层上分别通过旋涂形成覆盖层和硬涂层，由此制作出该记录基板，所述覆盖层由紫外线固化树脂构成，总厚度为100μm，用于保护记录层；所述硬涂层用于防止读取面的划伤/污染。
将上述重写型记录基板的光线透过光谱示于图8。如图8所示可知，在具有金属层的不透明的重写型记录基板中，尽管透过率小，但仍有紫外线透过。下文中对于在为这样微量的紫外线时是否仍能够利用紫外线固化树脂将记录基板彼此贴合进行了研究。
2.比较例1的光盘的制作和评价
准备2片上述的重写型记录基板，将与记录层相反侧的面作为贴合面，按照图6所示的流程将记录基板彼此利用紫外线固化树脂(自由基聚合系、Dexerials公司制造SK6570)进行贴合。设紫外线的照射方向为图7的(A)所示的方向，设紫外线的照度为100mW/cm2、照射时间为4秒。设紫外线固化树脂的厚度(2片记录基板的贴合面间的距离)为40μm。其结果，紫外线固化树脂的固化反应未充分进行，在大致整个粘接层存在有未固化部分。本发明人进行了深入研究，结果认为基板中包含的气体(空气、水蒸气等)阻碍了紫外线固化树脂的固化反应。即考虑了应该可以通过在基板的与记录层相反侧的面上设置气体阻隔层来抑制释气的影响从而加速紫外线固化树脂的固化。
3.由气体阻隔层带来的释气抑制效果的确认
3.1.实施例1
在上述的重写型记录基板的与记录层相反侧的面上设置作为气体阻隔层的由Sn-Zn-In-Si-O构成的金属氧化物的溅射薄膜(厚度9nm)。实施例1中，设基板的内径(孔径)为15mm、基板的外径为120mm、记录层的内径D1a为35mm、记录层的外径D1b为119mm、气体阻隔层的内径D2a为43mm、气体阻隔层的外径D2b为119mm。同样地准备2片设有溅射薄膜的记录基板，将与记录层相反侧的面作为贴合面，利用与比较例1相同的方法将记录基板彼此用紫外线固化树脂贴合，得到实施例1的光盘。
3.2.实施例2
将紫外线的照射方向变更为图7的(B)所示的方向，除此以外通过与实施例1相同的方法将记录基板彼此利用紫外线固化树脂贴合，得到实施例2的光盘。
3.3.目视观察
实施例1、2的光盘中，关于在俯视下位于设有气体阻隔层的区域的紫外线固化树脂，均充分进行了固化反应；另一方面，关于在俯视下位于未设有气体阻隔层的区域的紫外线固化树脂，与比较例1同样地存在有未固化部分。如上文所述确认到了由气体阻隔层带来的效果。即，如图9所示，可认为在不具有气体阻隔层3的比较例中，由于释气从记录基板10渗出到紫外线固化型粘接层20中，因此阻碍了紫外线固化树脂的固化反应。另一方面，可认为在具有气体阻隔层3的实施例中，能够抑制释气从记录基板10向紫外线固化型粘接层20中的渗出，能够快速地将紫外线固化树脂适当地固化。
4.光波导形成效果的确认
4.1.实施例3
作为气体阻隔层设置由Ag-Cu-Nd构成的合金的溅射薄膜(厚度100nm)，除此以外利用与实施例2相同的方法将记录基板彼此利用紫外线固化树脂贴合，得到实施例3的光盘。
4.2.实施例4
作为气体阻隔层设置由SiO2构成的溅射薄膜(厚度12nm)，除此以外利用与实施例2相同的方法将记录基板彼此利用紫外线固化树脂贴合，得到实施例4的光盘。
将实施例4的光盘与实施例3的光盘比较的情况下，实施例4的光盘中，紫外线固化树脂更快速地发生了固化。这被认为是由于以下机理所致的。即，如图10所示，实施例3的光盘中，由于气体阻隔层3由不透明的Ag-Cu-Nd构成，因此仅从一个气体阻隔层3与另一个气体阻隔层3之间的小间隙向紫外线固化型粘接层20供给紫外线。即，可认为紫外线的入口小，紫外线难以进入到紫外线固化型粘接层20的里侧(盘中心侧)。另一方面，实施例4的光盘中，由于气体阻隔层3由半透明的SiO2构成、并且气体阻隔层3与基板1的折射率差也小，因此紫外线可在一个记录层2与另一个记录层2之间的整个面上进行反射、扩散。即，可认为紫外线能够从多个方向供给至紫外线固化型粘接层20，能够使紫外线固化型粘接层20整体有效地固化。根据以上说明可认为，作为气体阻隔层，优选采用属于容易透明/半透明化的无机物的金属氧化物、金属氮化物。
5.粘接强度的确认
5.1.实施例5
将紫外线的照射方向变更为图7(C)所示的方向，除此以外通过与实施例1相同的方法将记录基板彼此利用紫外线固化树脂贴合，得到实施例5的光盘。
5.2.实施例6
在基板上设置气体阻隔层时，设置以下的未形成气体阻隔层的区域(Y)，除此以外通过与实施例5相同的方法将记录基板彼此利用紫外线固化树脂贴合，得到实施例6的光盘。
·在基板的外周部设置未形成气体阻隔层的区域(Y)。
·区域(Y)的外周端与基板的外周端一致。
·区域(Y)的内周端位于距基板的外周端1.5mm的位置。
5.3.目视观察
实施例5和6的光盘中，关于在俯视下位于设有气体阻隔层的区域的紫外线固化树脂，均充分进行了固化反应。
5.4.利用盘下落试验进行的粘接强度的评价
对于实施例5和6的光盘，分别使其从76cm的高度自由下落，确认有无发生端部的缺损、粘接界面的剥落。其结果，实施例5和6均具有现有光盘的同等以上的粘接强度。特别可知实施例6的粘接强度高于实施例5。可认为实施例5的光盘中的气体阻隔层与紫外线固化型粘接层之间的粘接强度小。与之相对，通过如实施例6的光盘这样在基板的一部分设置未形成气体阻隔层的区域，可以在气体阻隔层附近将紫外线固化型粘接层适当地固化的同时，将紫外线固化型粘接层的一部分与聚碳酸酯基板牢固地粘接，提高了粘接强度。
根据本发明人发现的趋势，在考虑紫外线固化型粘接层的固化度与粘接强度的平衡的情况下，基板中的未形成气体阻隔层的区域优选如下所述。
·在基板的内周部设置未形成气体阻隔层的区域(X)、和/或在基板的外周部设置未形成气体阻隔层的区域(Y)。
·区域(X)的内周端与基板的内周端一致。
·区域(X)的外周端位于距基板的内周端0.2mm以上22.5mm以下的位置。
·区域(Y)的外周端与基板的外周端一致。
·区域(Y)的内周端位于距基板的外周端0.2mm以上3.0mm以下的位置。
需要说明的是，在上述的实施例中确认了在重写型光盘中设置气体阻隔层的情况下的效果，但认为，本公开的技术在非重写型光盘中也可发挥出效果。即认为，在制造非重写型光盘的情况下，在使紫外线固化型粘接层固化时，释气也从基板渗出到紫外线固化型粘接层中，阻碍紫外线固化树脂的固化反应，结果通过在基板的贴合面侧设置气体阻隔层能够抑制释气的渗出、能够使紫外线固化树脂快速地固化。
在上述的实施例中，以设置由Sn-Zn-In-Si-O或Ag-Cu-Nd构成的合金、SiO2的薄膜作为气体阻隔层的情况为中心进行了说明，但本公开的技术中，气体阻隔层的材质并不限于此。认为不论是有机物还是无机物，只要是具有气体阻隔性的层，均能够发挥出所期望的效果。但是，从适当地透过紫外线的方面出发，气体阻隔层优选为透明或半透明。另外，气体阻隔层优选在确保充分的气体阻隔性的同时尽可能地薄。从这方面出发，考虑到透明性、气体阻隔性和厚度，气体阻隔层优选由无机物构成，更优选由金属氧化物和/或金属氮化物构成。需要说明的是，在气体阻隔层为金属层的情况下，可以通过尽可能减薄金属层来确保紫外线透过性。
工业实用性
本发明的光盘能够作为例如用于长期保存访问频率低的数据的大容量记录介质使用。
符号的说明
1 基板
2 记录层
3 气体阻隔层
10 记录基板
20 紫外线固化型粘接层
100 光盘

Claims (16)

1.一种光盘，其是记录基板成对地贴合而成的光盘，所述光盘的特征在于，
所述记录基板在基板的一面侧具有记录层，在所述基板的相反面侧具有贴合面，
所述记录基板经由紫外线固化型粘接层进行贴合，
所述记录基板在所述基板的所述相反面侧具备气体阻隔层，其中所述气体阻隔层是气体的透过性低于构成所述记录基板的所述基板的层，并且是能够抑制气体从所述记录基板向所述紫外线固化型粘接层的渗出的层。
2.如权利要求1所述的光盘，其中，
在俯视下，所述气体阻隔层具有与所述记录层相对应的形状，
所述气体阻隔层的内径小于或等于所述记录层的内径、和/或所述气体阻隔层的外径大于或等于所述记录层的外径。
3.如权利要求1或2所述的光盘，其特征在于，
在俯视下，所述气体阻隔层具有与所述基板相对应的形状，
在所述基板的内周部具有未形成所述气体阻隔层的区域(X)、和/或在所述基板的外周部具有未形成所述气体阻隔层的区域(Y)，
所述区域(X)的内周端位于与所述基板的内周端一致的位置，所述区域(X)的外周端位于距所述基板的内周端0.2mm以上22.5mm以下的位置，
所述区域(Y)的外周端位于与所述基板的外周端一致的位置，所述区域(Y)的内周端位于距所述基板的外周端0.2mm以上3.0mm以下的位置。
4.如权利要求1或2中任一项所述的光盘，其中，所述气体阻隔层由选自金属、金属氧化物、金属氮化物和金属硫化物中的至少一种无机物构成。
5.如权利要求1或2中任一项所述的光盘，其中，所述气体阻隔层的厚度为2nm以上200nm以下。
6.如权利要求1或2中任一项所述的光盘，其中，所述气体阻隔层的折射率为1.4以上3.0以下。
7.如权利要求1或2中任一项所述的光盘，其中，所述气体阻隔层的折射率与所述基板的折射率之差为0.7以下。
8.如权利要求1或2中任一项所述的光盘，其中，所述气体阻隔层的消光系数为1以下。
9.如权利要求1或2中任一项所述的光盘，其中，所述基板由聚碳酸酯树脂构成。
10.如权利要求1或2中任一项所述的光盘，其中，所述记录基板在透过波长360nm的光时的透过率为3％以下。
11.如权利要求1或2中任一项所述的光盘，其中，所述记录层包含具有30nm以上的厚度的金属层。
12.如权利要求1或2中任一项所述的光盘，其中，所述记录基板的厚度为400μm以上1400μm以下。
13.如权利要求1或2中任一项所述的光盘，其中，所述紫外线固化型粘接层的厚度为10μm以上100μm以下。
14.一种光盘的制造方法，其具备下述工序：
第1工序，在基板的一面侧形成记录层，在所述基板的相反面侧形成气体阻隔层，得到记录基板，其中所述气体阻隔层是气体的透过性低于构成所述记录基板的所述基板的层，并且是能够抑制气体从所述记录基板向所述紫外线固化型粘接层的渗出的层，以及
第2工序，准备2片所述记录基板，将所述基板的所述相反面侧作为贴合面，将所述记录基板彼此经由自由基聚合系紫外线固化型粘接层进行贴合。
15.如权利要求14所述的制造方法，其中，在所述第2工序中，从所述记录基板的形成有所述记录层的面、和/或从所述记录基板的侧面照射紫外线，使所述自由基聚合系紫外线固化型粘接层固化。
16.如权利要求15所述的制造方法，其中，在所述第2工序中，从一个所述记录基板的形成有所述记录层的面、以及另一个所述记录基板的形成有所述记录层的面这两方照射紫外线，使所述自由基聚合系紫外线固化型粘接层固化。
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