JP2005339687A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】 所望のように、反りを抑制することができる光記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】 光記録媒体１は、支持基板２と、支持基板２の一方の表面上に形成された情報層３と、情報層３上に形成された第一の樹脂層４と、第一の樹脂層４上に形成された第一のハードコート層５と、支持基板２の他方の表面上に形成された防湿層６と、防湿層６上に形成された第二の樹脂層７と、第二の樹脂層７上に形成された第二のハードコート層８を備えている。防湿層６は、第二の樹脂層７を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度が、第一の樹脂層４を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度と５℃以下の温度差となるように形成されている。
【選択図】 図２

Description

本発明は、光記録媒体に関するものであり、より詳細には、所望のように、反りを抑制することができる光記録媒体に関するものである。

従来より、デジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光記録媒体が広く利用されている。これらの光記録媒体は、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒのように、データの追記はできるが、データの書き換えができない追記型光記録媒体と、ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷのように、データの書き換えが可能な書き換え型光記録媒体とに大別することができる。

これらの光記録媒体からデータを再生するにあたっては、まず、光記録媒体に、再生用のパワーに設定されたレーザビームが照射される。光記録媒体に形成された記録マークは、それ以外の領域と、レーザビームに対する反射率が異なるため、反射されたレーザビームの光量は、記録マークの有無によって、変化する。したがって、反射されたレーザビームの光量を、光検出器によって検出して、電気信号に変換することにより、再生信号が生成され、データが再生される。

したがって、光記録媒体に記録されたデータを、所望のように、読み取るためには、光記録媒体によって反射されたレーザビームを、光検出器の受光面に、確実に入射させることが必要である。

しかしながら、使用中の温度や湿度の変化などによって、光記録媒体に大きな反りが生じた場合には、光記録媒体に対するレーザビームの入射角が変動するため、反射されたレーザビームが、光検出器に確実に入射しなくなるおそれがある。

したがって、光記録媒体に記録されたデータを、所望のように、再生するには、光記録媒体の反りを最小限に抑えることが要求され、たとえば、特許文献１には、光記録媒体の裏面側に、反りを防止するための層を形成することにより、反りを小さく抑えた光記録媒体が開示されている。

特許文献１に記載された光記録媒体は、基板の表面側に形成された第一の誘電体層と、基板の裏面側に形成され、第一の誘電体層と同等の熱膨張率を有する第二の誘電体層とを備えている。かかる光記録媒体においては、使用中の温度や湿度の変化などによって、第一の誘電体層に生じた応力や曲げモーメントを、第二の誘電体層に生じた応力や曲げモーメントにより、打ち消すことによって、光記録媒体に反りが生じることの防止が図られている。

一方、近年においては、より大容量で、かつ、高いデータ転送レートを有する次世代型の光記録媒体が提案されている。かかる次世代型の光記録媒体においては、レーザビームを集束するための対物レンズの開口数ＮＡを大きくするとともに、レーザビームの波長λを短くすることによって、記録密度の向上が図られている。

しかしながら、レーザビームを集束するための対物レンズの開口数ＮＡを高くすると、次式（１）で示されるように、光記録媒体に対するレーザビームの光軸の傾きに許される角度誤差、すなわち、チルトマージンＴが非常に狭くなるという問題が生じる。

式（１）において、ｄは、光入射面から、データが記録される情報層の表面までの距離、すなわち、レーザビームが情報層に達するまでに、レーザビームが透過する層の厚さである。式（１）から明らかなように、チルトマージンＴは、対物レンズのＮＡが高いほど、小さくなり、レーザビームが透過する層の厚さｄが薄いほど、大きくなる。

そこで、次世代型の光記録媒体においては、情報層上に、約１００μｍの厚さを有する薄い樹脂層を形成し、この樹脂層側からレーザビームを照射して、データを記録し、再生するように構成することによって、チルトマージンの拡大が図られている。

このため、次世代型の光記録媒体は、通常、約１．１ｍｍの厚さの支持基板上に、情報層および樹脂層が、順次、積層されて、形成されおり、情報層を挟んで、厚さ０．６ｍｍのディスク状の基板２枚が貼り合わされ、対称な構造を有するＤＶＤ型の光記録媒体とは異なり、非対称な構造を有している。

したがって、次世代型の光記録媒体においては、支持基板と樹脂層の厚さが異なるため、温度や湿度の変化などによって、光記録媒体に反りが生じやすく、とくに、支持基板と樹脂層が異なる材料から形成されている場合には、支持基板を形成している材料と樹脂層を形成している材料の剛性、線膨張係数、ヤング率、内部応力などの物性が異なるため、より一層、光記録媒体に反りが生じやすくなる。

特開平４−１９５７４５号公報

上述のように、次世代型の光記録媒体においては、とくに、反りが生じやすいという問題があるため、次世代型の光記録媒体においても、支持基板の裏面側に、支持基板の表面側に形成された樹脂層の物性と、ほぼ同じ物性を有する樹脂層を形成し、支持基板の表面と裏面に加わる応力を相殺させることによって、光記録媒体に生じる反りを最小限に抑えようとする試みがなされている。

しかしながら、現実には、同一の樹脂材料を用いて、支持基板の表面と裏面の双方に、樹脂層を形成しても、各樹脂層の物性がばらつくことは避けられず、光記録媒体に生じる反りを、所望のように、抑制することは、困難であった。

また、次世代型の光記録媒体においては、個人ユーザー用の光記録媒体だけでなく、業務用の光記録媒体の開発も望まれているが、業務用の光記録媒体は、個人ユーザー用の光記録媒体に比べて、許容される反り量が小さく、厳しい条件が課されているため、より一層、光記録媒体の反りを小さくすることが求められていた。

したがって、本発明は、所望のように、反りを抑制することができる光記録媒体を提供することを目的とする。

本発明者は、前記目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、同一の紫外線硬化性樹脂を用いて、支持基板の表面側および裏面側に、樹脂層を形成しても、支持基板の表面側に形成された樹脂層と、支持基板の裏面側に形成された樹脂層とで、物性にばらつきが生じるのは、紫外線硬化性樹脂を硬化させる過程で、樹脂層の下地となっている層の影響を受けて、一方の樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度と、他方の樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度とが大きくばらつき、その結果として、双方の樹脂層に、異なる変質が生じるためではないかとの結論に達した。

そこで、本発明者は、さらに、種々の試行錯誤を重ねた結果、一方の樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度と、他方の樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度との温度差を、５℃以下とした場合に、一方の樹脂層を形成するときと、他方の樹脂層を形成するときとで、各樹脂層に異なる変質が生じるのが防止され、双方の樹脂層の物性が大きく相違することを防止し得るのを見出した。

本発明は、かかる知見に基づくものであり、本発明の前記目的は、支持基板と、前記支持基板の両側に形成された第一の樹脂層および第二の樹脂層と、前記第一の樹脂層と前記支持基板との間に形成された情報層と、前記第二の樹脂層と前記支持基板との間に形成された防湿層を備え、前記防湿層が、前記第二の樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度が、前記第一の樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度と５℃以下の温度差となるように形成されていることを特徴とする光記録媒体によって達成される。

本発明によれば、支持基板の表面側の樹脂層である第一の樹脂層と、支持基板の裏面側の樹脂層である第二の樹脂層との物性が大きく相違することを防止することができるから、支持基板の表面と裏面に加わる応力を相殺させることができ、したがって、所望のように、温度や湿度の変化などによって、光記録媒体に生じる反りを抑制することが可能となる。

本発明において、好ましくは、前記情報層が、記録膜を含み、前記防湿層が、前記記録膜に含まれる元素のうちの少なくとも１つの元素を含んでいる。

本発明において、好ましくは、前記記録膜が、ＳｂおよびＴｅを含み、前記防湿層が、ＳｂおよびＴｅのうちの少なくとも１つの元素を含んでいる。

本発明において、好ましくは、前記防湿層が、前記記録膜に主成分として含まれる元素と、同一の元素を主成分として含んでいる。

本発明において、さらに好ましくは、前記記録膜が、相変化材料を主成分として含み、前記防湿層が、前記記録膜に主成分として含まれる前記相変化材料と同一の相変化材料を主成分として含んでいる。

本発明において、防湿層は、２０ｎｍないし３００ｎｍの厚さを有するように形成されていることが好ましく、３０ｎｍないし２００ｎｍの厚さを有するように形成されていることが、さらに好ましい。防湿層の厚さが、２０ｎｍの未満の場合には、防湿特性が不足するおそれがあり、一方、３００ｎｍを超えると、成膜時間が長くなり、生産性が低下するおそれがある。

本発明によれば、所望のように、反りを抑制することができる光記録媒体を提供することができる。

図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略斜視図であり、図２は、図１のＡで示された部分の略拡大断面図である。

図１に示されるように、光記録媒体１は、ディスク形状をなし、その中央部には、光記録媒体１を、データ記録再生装置にセットするためのセンターホールが形成されている。

図１および図２に示された光記録媒体１は、図２において、矢印で示される方向から、３８０ｎｍないし４５０ｎｍの波長を有するレーザビームが、λ／ＮＡ≦６４０ｎｍを満たす開口数ＮＡを有する対物レンズ（図示せず）を介して、照射されて、データが記録され、再生されるように構成されている。

図２に示されるように、光記録媒体１は、支持基板２と、支持基板２の一方の表面上に形成された情報層３と、情報層３上に形成された第一の樹脂層４と、第一の樹脂層４上に形成された第一のハードコート層５と、支持基板２の他方の表面上に形成された防湿層６と、防湿層６上に形成された第二の樹脂層７と、第二の樹脂層７上に形成された第二のハードコート層８を備えている。

支持基板２は、光記録媒体１の支持体として機能するものである。

支持基板２を形成するための材料は、光記録媒体１の支持体として機能することができれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、ポリカーボネート樹脂、オレフィン樹脂などを用いることができる。支持基板２の厚さは、とくに限定されるものではないが、約１．１ｍｍであることが好ましい。

支持基板２の一方の面には、その中心部近傍から外縁部に向けて、あるいは、外縁部から中心部近傍に向けて、レーザビームをガイドするためのグルーブ２ａおよびランド２ｂが螺旋状に形成されている。とくに限定されるものではないが、グルーブ２ａの深さは、１０ｎｍないし４０ｎｍであることが好ましく、グルーブ２ａのピッチは、０．２μｍないし０．４μｍであることが好ましい。

図２に示されるように、情報層３は、支持基板２上に形成された反射膜３１と、反射膜３１上に形成された第二の誘電体膜３２と、第二の誘電体膜３２上に形成された記録膜３３と、記録膜３３上に形成された第一の誘電体膜３４と、第一の誘電体膜３４上に形成された放熱膜３５とを備えている。

反射膜３１は、第一の樹脂層４側から入射するレーザビームを反射し、再び、第一の樹脂層４から出射させる役割を果たすとともに、多重干渉効果により再生信号のＣ／Ｎ比を高める役割を果たす。

反射膜３１を形成するための材料は、レーザビームを反射できれば、とくに限定されるものではなく、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｎｄ、Ｉｎ、Ｓｎなどによって、反射膜３１を形成することができる。これらのうち、高い反射率を有しているＡｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、または、ＡｇとＣｕとの合金などのこれらの金属の少なくとも１つを含む合金などの金属が、反射膜３１を形成するために、好ましく用いられる。

反射膜３１の厚さは、とくに限定されるものではないが、１０ｎｍないし３００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍないし２００ｎｍであることが、とくに好ましい。

第一の誘電体膜３４および第二の誘電体膜３２は、記録膜３３を物理的、化学的に保護するとともに、記録膜３３に記録されたデータを再生するときに、多重干渉効果によって、後述する記録マークの領域と、それ以外の領域との反射率の差を拡大して、Ｃ／Ｎ比の高い再生信号を得られるように光学特性を調整する機能を有している。

第一の誘電体膜３４および第二の誘電体膜３２を形成するための材料は、とくに限定されるものではないが、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｖ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｇよりなる群から選ばれる少なくとも一種の金属を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物を用いることが好ましい。

第一の誘電体膜３４の厚さは、１０ｎｍないし５０ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍないし３０ｎｍであることが、さらに好ましい。第一の誘電体膜３４の厚さが、１０ｎｍ未満の場合には、記録膜３３を保護したり、光学特性を向上させるのが困難となるおそれがあり、一方、５０ｎｍを超える場合には、成膜時間が長くなり、生産性が低下するおそれがある。

また、第二の誘電体膜３２の厚さは、５ｎｍないし２０ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍないし１５ｎｍであることが、さらに好ましい。第二の誘電体膜３２の厚さが、５ｎｍ未満の場合には、記録膜３３を保護するのが困難となるおそれがあり、一方、２０ｎｍを超える場合には、成膜時間が長くなり、生産性が低下するおそれがある。

記録膜３３は、データが記録される層である。本実施態様において、記録膜３３は、相変化材料によって形成されており、相変化材料が結晶状態にある場合の反射率と、アモルファス状態にある場合の反射率の差を利用して、記録膜３３にデータが記録され、記録膜３３からデータが再生される。

記録膜３３に、データを記録する場合には、記録パワーＰｗと基底パワーＰｂとの間で、そのパワーが変調されたレーザビームが記録膜３３に照射されて、レーザビームが照射された記録膜３３の領域が、融点以上の温度に加熱され、その後、レーザビームのパワーが基底パワーＰｂに設定されて、加熱された記録膜３３の領域が急冷され、相変化材料がアモルファス化されて、記録マークが形成される。

一方、記録膜３３に記録されたデータを、消去する場合には、記録パワーＰｗ、基底パワーＰｂおよび消去パワーＰｅとの間で、そのパワーが変調されたレーザビームが記録膜３３に照射されて、記録膜３３の領域が結晶化温度以上に加熱され、アモルファス状態の相変化材料が結晶化されて、記録マークが消去される。記録膜３３に含まれた相変化材料の結晶化反応とアモルファス化は、可逆的であり、したがって、記録膜３３に記録されたデータは、繰り返し、書き換えることができる。

記録膜３３を形成するための相変化材料は、とくに限定されるものではないが、記録膜３３に記録されたデータを、速やかに書き換えるためには、結晶化時間の短い材料が好ましく、こうした材料としては、ＳｂＴｅ系の相変化材料を挙げることができる。ＳｂＴｅ系材料としては、ＳｂＴｅのみでもよいし、結晶化時間を、より短縮化するとともに、長期の保存に対する信頼性を高める目的で、他の元素が添加されてもよい。

具体的には、組成式：（Ｓｂ_ｘＴｅ_１−ｘ）_１−ｙＭ_ｙで表わされ、０．５５≦ｘ≦０．９、０≦ｙ≦０．２５である相変化材料が好ましく、０．６５≦ｘ≦０．８５、０≦ｙ≦０．２５であると、さらに好ましい。

元素Ｍは、ＳｂおよびＴｅを除く元素であり、その種類は、とくに限定されるものではないが、結晶化時間の短縮化および保存信頼性の向上の観点から、Ｉｎ、Ａｇ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ａｌ、Ｐ、Ｇｅ、Ｈ、Ｓｉ、Ｃ、Ｖ、Ｗ、Ｔａ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ｐｂ、Ｎ、Ｏおよび希土類元素よりなる群から選ばれる１または２以上の元素が好ましい。

記録膜３３は、２ｎｍないし４０ｎｍの厚さに形成されることが好ましく、より好ましくは、４ｎｍないし３０ｎｍの厚さを有するように形成され、さらに好ましくは、５ｎｍないし２０ｎｍの厚さを有するように形成される。記録膜３３の厚さが、２ｎｍ未満のときには、記録前後における光学特性の差が少なくなり、データの再生時に高いＣ／Ｎ比の再生信号を得ることができなくなり、一方、４０ｎｍを超えるときには、記録マークを形成するのに必要な熱容量が増大し、記録感度が悪化するおそれがある。

放熱膜３５は、記録膜３３に生じた熱を、光入射面側に速やかに逃がす役割を果たす。

放熱膜３５を形成するための材料は、記録膜３３の熱を速やかに放熱することができれば、とくに限定されるものではないが、第一の誘電体膜３４の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する材料が好ましく、具体的には、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃｅ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｔａよりなる群から選ばれる少なくとも一種の金属を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物などが好ましい。

放熱膜３５の厚さは、１５ｎｍないし４０ｎｍであることが好ましい。放熱膜３５の厚さが、１５ｎｍ未満の場合には、放熱特性が不足するおそれがあり、一方、４０ｎｍを超えると、成膜時間が長くなり、生産性が低下するおそれがある。

第一の樹脂層４は、レーザビームが透過する層であり、情報層３の表面を保護する保護層としての役割を果たす。

第一の樹脂層４は、光学的に透明で、使用されるレーザビームの波長領域である３８０ｎｍないし４５０ｎｍでの光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さいことが要求され、たとえば、紫外線硬化性樹脂によって形成される。

第一の樹脂層４を形成するために用いられる紫外線硬化性樹脂は、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、光開始剤および所望によりその他の添加剤を含んでいる。光重合性モノマーとしては、分子量２０００未満のモノマーが好適であり、たとえば、単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートなどが挙げられる。また、光重合性オリゴマーとしては、アクリル系二重結合、アリル系二重結合、不飽和二重結合などの紫外線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有または導入したオリゴマーなどを挙げることができる。また、光開始剤としては、公知のいずれのものを用いてもよく、たとえば、分子開裂型光重合開始剤を用いることができる。

第一の樹脂層４の厚さは、３０μｍないし２００μｍであることが好ましい。

第一のハードコート層５は、第一の樹脂層４を物理的に保護し、第一の樹脂層４に傷がつくのを防止する役割を果たす。

第一のハードコート層５を形成するための材料は、とくに限定されるものではないが、透明性および耐摩耗性に優れる材料が好ましく、第一のハードコート層５は、紫外線硬化性樹脂に、１００ｎｍ以下の平均粒子径を有する無機微粒子が添加されたハードコート剤組成物によって、形成されるのが好ましい。

第一のハードコート層５の厚さは、１μｍないし１０μｍであることが好ましく、１μｍないし５μｍであることが、さらに好ましい。第一のハードコート層５の厚さが、１μｍの未満の場合には、第一のハードコート層５に求められる硬さや耐摩耗性を満たすことができないおそれがあり、一方、１０μｍを超える場合には、内部応力によって、第一のハードコート層５にクラックが発生するおそれがある。

図２に示されるように、支持基板２の他方の表面上には、防湿層６、第二の樹脂層７および第二のハードコート層８が形成されている。

防湿層６は、第二の樹脂層７を介して、支持基板２に水分が侵入することを防止する役割を果たす。

防湿層６は、第二の樹脂層７を形成するときの下地となる層であり、本実施態様において、防湿層６は、第二の樹脂層７を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度が、第一の樹脂層４を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度と５℃以下の温度差となるような材料が選択されて、形成されている。

具体的には、防湿層６は、記録膜３３に含まれる元素であるＳｂおよびＴｅのうち、少なくとも１つの元素を含むように形成されていることが好ましく、記録膜３３に主成分として含まれる相変化材料と、同一の相変化材料を主成分として含むように形成されていることがさらに好ましい。

防湿層６の厚さは、２０ｎｍないし３００ｎｍであることが好ましく、３０ｎｍないし２００ｎｍであることが、さらに好ましい。防湿層６の厚さが、２０ｎｍの未満の場合には、防湿特性が不足するおそれがあり、一方、３００ｎｍを超えると、成膜時間が長くなり、生産性が低下するおそれがある。

第二の樹脂層７は、第二の樹脂層７に生じる応力や曲げモーメントにより、第一の樹脂層４に生じる応力や曲げモーメントを打ち消すことによって、光記録媒体１に反りが生じるのを抑制する役割を果たしている。

第二の樹脂層７は、剛性、線膨張係数、ヤング率、内部応力などの物性が、第一の樹脂層４の物性と同じであることが好ましく、したがって、第二の樹脂層７は、第一の樹脂層４を形成するのに用いられる紫外線硬化性樹脂と同じ紫外線硬化性樹脂によって形成することが好ましい。しかしながら、第二の樹脂層７を形成するための紫外線硬化性樹脂は、硬化後の物性が第一の樹脂層４の物性とほぼ同じであればよく、第一の樹脂層４と同一の紫外線硬化性樹脂によって、第二の樹脂層７を形成することは必ずしも必要でない。

本明細書において、硬化後の物性が第一の樹脂層４の物性と、ほぼ同じである紫外線硬化性樹脂とは、剛性、線膨張係数、ヤング率、内部応力などの物性のうち、少なくともヤング率と線膨張係数の差が、第一の樹脂層４と５％以内である紫外線硬化性樹脂をいう。

第二の樹脂層７の厚さは、第一の樹脂層４と同様に、３０μｍないし２００μｍであることが好ましい。しかしながら、第二の樹脂層７の厚さは、必ずしも第一の樹脂層４の厚さと同一である必要はなく、第二の樹脂層７の物性が、第一の樹脂層４の物性と大きく相違しない範囲であれば、第一の樹脂層４と異なる厚さを有していてもよい。

第二のハードコート層８は、その内部で発生した応力によって、第一のハードコート層５内に生じた応力を相殺させる機能を有している。

第二のハードコート層８は、第一のハードコート層５と、同じ物性を有していることが好ましく、第二のハードコート層８は、第一のハードコート層５と同じハードコート剤組成物によって形成されることが好ましい。

第二のハードコート層８の厚さは、第一のハードコート層５と同様に、１μｍないし１０μｍであることが好ましく、１μｍないし５μｍであることが、さらに好ましい。

以上のような構成を有する光記録媒体１は、以下のようにして、製造される。

まず、スタンパを用いて、一方の表面に、グルーブ２ａおよびランド２ｂを有する支持基板２が、射出成形によって形成される。

次いで、グルーブ２ａおよびランド２ｂが形成されている支持基板２の表面のほぼ全面に、スパッタリング法などの気相成長法によって、反射膜３１、第二の誘電体膜３２、記録膜３３、第一の誘電体膜３４および放熱膜３５が順次、形成されて、情報層３が形成される。

次いで、情報層３上に、紫外線硬化性樹脂が、スピンコーティング法によって塗布されて、塗膜が形成され、塗膜に紫外線が照射されて、紫外線硬化性樹脂が硬化され、第一の樹脂層４が形成される。

次いで、第一の樹脂層４上に、紫外線硬化性樹脂と、無機微粒子を含むハードコート剤組成物が、スピンコーティング法によって塗布されて、塗膜が形成され、塗膜に紫外線が照射されることによって、第一のハードコート層５が形成される。

次いで、支持基板２が、支持基板２のグルーブ２ａおよびランド２ｂが形成されていない表面が上方に位置するように、スパッタリング装置にセットされ、支持基板２の表面上に、記録膜３３に含まれる元素のうちの少なくとも１つの元素を含むターゲットを用いて、スパッタリング法などの気相成長法により、防湿層６が形成される。

次いで、防湿層６上に、硬化後の物性が第一の樹脂層４の物性と同一の紫外線硬化性樹脂が、スピンコーティング法によって塗布されて、塗膜が形成され、塗膜に紫外線が照射されて、紫外線硬化性樹脂が硬化され、第二の樹脂層７が形成される。

本実施態様においては、第二の樹脂層７を形成するときの下地となる防湿層６が、第二の樹脂層７を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度を、第一の樹脂層４を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度と５℃以下の温度差とするように形成されているので、第二の樹脂層７を形成するための紫外線硬化性樹脂が硬化するときの温度は、第一の樹脂層４を形成するための紫外線硬化性樹脂が硬化するときの温度と、温度差が５℃以下となる。

本発明者の研究によれば、第二の樹脂層７を形成するための紫外線硬化性樹脂が硬化するときの温度と、第一の樹脂層４を形成するための紫外線硬化性樹脂が硬化するときの温度との温度差を５℃以下とした場合には、第一の樹脂層４を形成するときと、第二の樹脂層７を形成するときとで、各樹脂層に異なる変質が生じるのが防止され、第一の樹脂層４の物性と第二の樹脂層７との物性が、大きく相違するのを防止し得るのが見出されている。したがって、本実施態様によれば、支持基板２の両側に、ほぼ同じ物性を有する２つの樹脂層を形成することができる。

最後に、第二の樹脂層７上に、硬化後の物性が第一のハードコート層５の物性と同一のハードコート組成物が、スピンコーティング法によって塗布されて、塗膜が形成され、塗膜に紫外線が照射されて、ハードコート組成物が硬化され、第二のハードコート層８が形成される。

こうして、光記録媒体１が作製される。

以上のように、本実施態様によれば、支持基板２の両側に、ほぼ同じ物性を有する第一の樹脂層４および第二の樹脂層７を形成することができるから、光記録媒体１に生じる反りを最小限に抑制することが可能となる。

以下、本発明の効果をより明瞭なものとするため、実施例を掲げる。

以下のようにして、サンプル＃１を作製した。

まず、射出成型法により、１．１ｍｍの厚さと、１２０ｍｍの外径を有するディスク状のポリカーボネート基板を作製した。

次いで、スパッタリング法により、ポリカーボネート基板の一方の表面上に、Ａｇを主成分として含み、１００ｎｍの厚さの反射膜と、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物を含み、１０ｎｍの厚さの第二の誘電体膜と、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅを主成分として含み、１０ｎｍの厚さの記録膜と、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物を含み、２０ｎｍの厚さの第一の誘電体膜と、ＡｌＮを主成分として含み、３０ｎｍの厚さの放熱膜を、順次、形成して、情報層を形成した。その後、情報層の表面に、サーモラベルを貼り付けた。

次いで、情報層が形成されたポリカーボネート基板をスピンコーティング装置にセットし、以下の組成を有する紫外線硬化性樹脂を、情報層上に、スピンコーティング法によって、塗布して、塗膜を形成した。さらに、塗膜に、３０００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で、紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化するとともに、サーモラベルを介して、紫外線硬化性樹脂が硬化するときの温度を測定した。紫外線硬化性樹脂が硬化するときの温度は、７５℃であった。こうして、１００μｍの厚さを有する第一の樹脂層を形成した。

ウレタンアクリレート（根上工業株式会社製：商品名「アートレジンＵＮ−５２００」） ５０質量％
トリメチロルプロパントリアクリレート（日本化薬株式会社製：商品名「カヤラッドＴＭＰＴＡ」） ３３質量％
フェノキシヒドロキシプロピルアクリレート（日本化薬株式会社製：商品名「カヤラッドＲ−１２８」） １４質量％
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバガイギー株式会社製：商品名「ＩＲＧ１８４」） ３質量％

次いで、第一の樹脂層が形成されたポリカーボネート基板を裏返し、ポリカーボネート基板の他方の表面上に、スパッタリング法によって、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅを主成分として含み、１００ｎｍの厚さの防湿層を形成し、その後、防湿層の表面にサーモラベルを貼り付けた。

最後に、第一の樹脂層を形成するのに用いたのと同じ紫外線硬化性樹脂を、防湿層上に、スピンコーティング法によって、塗布して、塗膜を形成した。さらに、塗膜に、３０００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で、紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化するとともに、サーモラベルを介して、紫外線硬化性樹脂が硬化するときの温度を測定した。紫外線硬化性樹脂が硬化するときの温度は、７５℃であった。こうして、１００μｍの厚さを有する第二の樹脂層を形成し、サンプル＃１を作製した。

次いで、Ａｇを主成分として含む防湿層を形成した点を除き、サンプル＃１と同様にして、サンプル＃２を作製した。サンプル＃２において、第一の樹脂層を形成したときの紫外線硬化性樹脂の温度は、７５℃であり、第二の樹脂層を形成したときの紫外線硬化性樹脂の温度は、６５℃であった。

次いで、サンプル＃１および＃２を、それぞれ、温度２５℃、相対湿度９５％の雰囲気下に、各サンプル中の水分が飽和し、温度が２５℃になるまで、保持した後、各サンプルを、株式会社キーエンス製の高精度レーザ反り角測定器「ＬＡ−２０００」（商品名）にセットして、各サンプルの中心から５８ｍｍの位置における反り角β_１を測定した。

さらに、サンプル＃１および＃２を、それぞれ、温度２５℃、相対湿度１０％の雰囲気下で、上述の高精度レーザ反り角測定器にセットして、各サンプルの中心から５８ｍｍの位置における反り角β_２を測定した。反り角β_２を測定するにあたっては、各サンプルを、温度２５℃、相対湿度１０％の雰囲気下で、各サンプルの反り角が変化しなくなるまで、継続的に、反り角を測定し、そのうちの最大値を反り角β_２として決定した。

ここに、反り角β_１、β_２は、いずれも、サンプルが第一の樹脂層側に反っている場合に正で、第二の樹脂層側に反っている場合を負と、定義した。

次いで、各サンプルの反り角β_２と反り角β_１の差（β_２−β_１）を求め、各サンプルの反りの程度を評価した。反りの程度の評価にあたっては、反り角差（β_２−β_１）が、０．３５ｄｅｇ以下であった場合に、「ＧＯＯＤ」として、０．３５ｄｅｇを超えた場合に、「ＢＡＤ」とした。測定結果は、表１に示されている。

温度差が５℃以下であったサンプル＃１においては、反り角差が０．３０ｄｅｇで、０．３５ｄｅｇ以下となり、光記録媒体に反りが生じることを抑制できていることがわかった。これに対して、温度差が５℃を超えたサンプル＃２は、反り角差が０．７５ｄｅｇで、反り角差を０．３５ｄｅｇ以下に抑制することができなかった。

本発明は、以上の実施態様および実施例に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。

たとえば、図１および図２に示された光記録媒体１は、支持基板２の一方の側に第一のハードコート層５が形成され、支持基板２の他方の側に第二のハードコート層８が形成されているが、２つのハードコート層を設けることは必ずしも必要ではなく、第一のハードコート層５および第二のハードコート層８の一方または双方を省略することもできる。

また、前記実施態様においては、記録膜３３の両側に、第一の誘電体膜３４および第二の誘電体膜３２が形成されているが、記録膜３３の両側に、第一の誘電体膜３４および第二の誘電体膜３２が形成されていることは必ずしも必要ではなく、記録マークが形成された領域と、記録マークが形成されていない領域との光反射率の差が大きい場合には、第一の誘電体膜３４を省略することもできる。

また、前記実施態様においては、放熱膜３５が設けられているが、放熱膜３５を設けることは必ずしも必要ではなく、記録膜３３の近傍に形成されている誘電体膜、あるいは、記録膜３３自身により、記録膜３３に生じた熱を速やかに放熱することができる場合には、放熱膜３５を省略することもできる。

さらに、前記実施態様においては、反射膜３１が設けられているが、反射膜３１を設けることは必ずしも必要ではなく、記録マークが形成された領域と、記録マークが形成されていない領域との光反射率の差が大きい場合には、反射膜３１を省略することもできる。

図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略斜視図である。 図２は、図１のＡで示された部分の略拡大断面図である。

符号の説明

１…光記録媒体、２…支持基板、２ａ…グルーブ、２ｂ…ランド、３…情報層、４…第一の樹脂層、５…第一のハードコート層、６…防湿層、７…第二の樹脂層、８…第二のハードコート層、３１…反射膜、３２…第二の誘電体膜、３３…記録膜、３４…第一の誘電体膜、３５…放熱膜

Claims (6)

1. 支持基板と、前記支持基板の両側に形成された第一の樹脂層および第二の樹脂層と、前記第一の樹脂層と前記支持基板との間に形成された情報層と、前記第二の樹脂層と前記支持基板との間に形成された防湿層を備え、
   前記防湿層が、前記第二の樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度が、前記第一の樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂を硬化させるときの温度と５℃以下の温度差となるように形成されていることを特徴とする光記録媒体。
2. 前記情報層が、記録膜を含み、
   前記防湿層が、前記記録膜に含まれる元素のうちの少なくとも１つの元素を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
3. 前記記録膜が、ＳｂおよびＴｅを含み、
   前記防湿層が、ＳｂおよびＴｅのうちの少なくとも１つの元素を含んでいることを特徴とする請求項２に記載の光記録媒体。
4. 前記防湿層が、前記記録膜に主成分として含まれる元素と、同一の元素を主成分として含んでいることを特徴とする請求項２または３に記載の光記録媒体。
5. 前記記録膜が、相変化材料を主成分として含むように形成され、
   前記防湿層が、前記記録膜に主成分として含まれる前記相変化材料と同一の相変化材料を主成分として含んでいることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか１項に記載の光記録媒体。
6. 前記防湿層が、２０ｎｍないし３００ｎｍの厚さを有していることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の光記録媒体。

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