JP2006024240A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】 環境の温度や湿度が急激に変化した場合でも、所望のように、反りを抑制することができる光記録媒体を提供する。
【解決手段】 支持基板２と、支持基板の一方の側に形成された情報層３と、情報層上に形成され、記録または再生用のレーザビームが透過する光透過層４と、支持基板に対して、光透過層の反対側に形成された樹脂層６とを備え、光透過層と樹脂層が、放射線硬化性樹脂を、実質的に同じ条件で硬化させて、形成されたことを特徴とする光記録媒体。
【選択図】 図２

Description

本発明は、光記録媒体に関するものであり、より詳細には、環境の温度や湿度が急激に変化した場合でも、所望のように、反りを抑制することができる光記録媒体に関するものである。

従来より、デジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤやＤＶＤに代表される光記録媒体が広く利用されている。これらの光記録媒体は、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭのように、データの追記や書き換えができないタイプの光記録媒体（ＲＯＭ型光記録媒体）と、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒのように、データの追記はできるが、データの書き換えができないタイプの光記録媒体（追記型光記録媒体）と、ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷのように、データの書き換えが可能なタイプの光記録媒体（書き換え型光記録媒体）とに大別することができる。

これらの光記録媒体からデータを再生するにあたっては、まず、光記録媒体に、再生用のパワーに設定されたレーザビームが照射される。光記録媒体に形成された記録マークあるいはピットは、それ以外の領域と、レーザビームに対する反射率が異なるため、反射されたレーザビームの光量は、記録マークあるいはピットの有無によって、変化する。したがって、反射されたレーザビームの光量を、光検出器によって検出して、電気信号に変換することにより、再生信号を生成し、データを再生することができる。

したがって、光記録媒体に記録されたデータを、所望のように、読み取るためには、光記録媒体によって反射されたレーザビームが、光検出器の受光面に、確実に入射させることが必要である。

しかしながら、使用中の温度や湿度の変化などによって、光記録媒体に大きな反りが生じた場合には、光記録媒体に対するレーザビームの入射角が変動するため、反射されたレーザビームが、光検出器に確実に入射しなくなるおそれがある。

かかる問題は、情報層を挟んで、厚さ０．６ｍｍのディスク状の基板２枚が貼り合わされ、対称な構造を有するＤＶＤ型の光記録媒体においては、それほど深刻な問題にはならないが、次世代型の光記録媒体は、通常、約１．１ｍｍの厚さの支持基板上に、情報層および樹脂層が、順次、積層されて、形成されおり、非対称な構造を有しているため、とくに深刻な問題になる。

したがって、次世代型の光記録媒体においては、支持基板の表面側に形成された光透過層を形成するために用いた放射線硬化性樹脂と同じ放射線硬化性樹脂を用いて、支持基板の裏面側に、樹脂層を形成し、支持基板の表面側と裏面側に加わる応力を相殺させることによって、光記録媒体に生じる反りを最小限に抑えようとする試みがなされている。

しかしながら、光透過層を形成するために用いた放射線硬化性樹脂と同じ放射線硬化性樹脂を用いて、支持基板の裏面側に、樹脂層を形成した場合においても、環境の温度や湿度が急激に変化したときは、光記録媒体に、大きな反りが発生し、光記録媒体に生じる反りを最小限に抑制することはできないという問題があった。

したがって、本発明は、環境の温度や湿度が急激に変化した場合でも、所望のように、反りを抑制することができる光記録媒体を提供することを目的とするものである。

本発明者は、本発明のかかる問題を解決するため、鋭意研究を重ねた結果、同じ放射線硬化性樹脂を用いて、光透過層と樹脂層を形成した場合でも、放射線硬化性樹脂が硬化する際の条件がわずかに異なると、光透過層と樹脂層の組織構造に違いが生じ、光透過層と樹脂層の物性を合致させることができないということを見出した。

本発明は、かかる知見に基づくものであり、本発明によれば、本発明の前記目的は、支持基板と、支持基板の一方の側に形成された少なくとも１層の情報層と、前記少なくとも１層の情報層上に形成され、記録または再生用のレーザビームが透過する光透過層と、前記支持基板に対して、前記光透過層の反対側に形成された樹脂層とを備え、前記光透過層と前記樹脂層が、放射線硬化性樹脂を、実質的に同じ条件で硬化させて、形成されたことを特徴とする光記録媒体によって達成される。

本発明において、「放射線硬化性樹脂」とは、放射線によって、硬化が開始される樹脂をいい、「放射線」は、紫外線、電子線、熱線および可視光を含んでいる。

また、本発明において、「情報層」とは、書き換え型の記録膜、１層または２層以上の追記型の記録膜あるいは再生専用型のピットを含む層をいう。

本発明において、情報層の構成は、とくに限定されるものではなく、１または２以上の誘電体層、１または２以上の反射層、１または２以上の保護層を含んでいてもよい。

本発明において、光記録媒体は、スペーサ層を介して、複数の情報層を備えていてもよい。

本発明において、光透過層および樹脂層は、情報層などの層を形成する際に、スピンコーティング法などによって、放射線硬化性樹脂の塗膜を形成し、放射線を照射して、実質的に同じ条件で、塗膜を硬化させて、形成してもよいし、別途、それぞれ、所定の下地層上に、スピンコーティング法などによって、放射線硬化性樹脂の塗膜を形成し、放射線を照射して、実質的に同じ条件で、塗膜を硬化させて、放射線硬化性樹脂の硬化膜を作製し、それぞれ、下地層から、放射線硬化性樹脂の硬化膜を剥離して、接着層を介して、所定の層上に貼り付けることによって、形成してもよい。

さらに、本発明において、所定の下地層上に、スピンコーティング法などによって、放射線硬化性樹脂の塗膜を形成し、光記録媒体の所定の層または支持基板が放射線硬化性樹脂の塗膜に接するように、光記録媒体を放射線硬化性樹脂の塗膜上に重ね合わせ、放射線を照射して、放射線硬化性樹脂の塗膜を硬化させて、光透過層または樹脂層を形成し、下地層から剥離し、次いで、所定の下地層上に、スピンコーティング法などによって、放射線硬化性樹脂の塗膜を形成し、支持基板または光記録媒体の所定の層が放射線硬化性樹脂の塗膜に接するように、光記録媒体を放射線硬化性樹脂の塗膜上に重ね合わせ、放射線を照射して、光透過層または樹脂層を硬化させたのと実質的に同じ条件で、放射線硬化性樹脂の塗膜を硬化させて、樹脂層または光透過層を形成し、下地層から剥離することによって、光透過層および樹脂層を形成するようにしてもよい。

また、本発明において、光透過層または樹脂層がすべて、放射線硬化性樹脂によって形成されていることは必ずしも必要でなく、ポリカーボネート樹脂などの放射線硬化性樹脂以外の樹脂シートを別途作製し、放射線硬化性樹脂によって形成された放射線硬化性樹脂膜上に、貼り付けて、放射線硬化性樹脂膜と放射線硬化性樹脂以外の樹脂シートとによって、光透過層または樹脂層が形成されていてもよい。

本発明において、光透過層形成用の放射線硬化性樹脂と、樹脂層形成用の放射線硬化性樹脂は、放射線を照射したときに、実質的に同じ条件で硬化すればよく、必ずしも同じ放射線硬化性樹脂である必要はないが、実質的に同じ放射線硬化性樹脂を用いて、光透過層および樹脂層を形成することが好ましい。本発明において、実質的に同じ放射線硬化性樹脂とは、主鎖が同一構造の放射線硬化性樹脂をいい、側鎖の一部が別の置換基によって、置換されていてもよい。

本発明において、光透過層および樹脂層は、好ましくは、７０重量％以上の放射線硬化性樹脂を含み、さらに好ましくは、８０重量％以上の放射線硬化性樹脂を含んでおり、放射線硬化性樹脂の他に、シリカ、アルミナ、酸化チタンなどの無機粒子、アクリルビーズなどの有機粒子、他の樹脂などを含んでいてもよい。

本発明の好ましい実施態様においては、光記録媒体が、さらに、前記支持基板に対して、前記光透過層の反対側に形成され、表面に前記樹脂層が形成された硬化条件調整層を備え、前記少なくとも１層の情報層が、５ｎｍ以上の厚さを有し、金属、半金属膜またはそれらの合金を主成分として含む放射線反射性の膜を含み、前記硬化条件調整層が、５ｎｍ以上の厚さと、前記少なくとも１層の情報層に含まれた前記放射線反射性の膜と同じ組成を有する放射線反射性の膜を含み、前記少なくとも１層の情報層に含まれた前記放射線反射性の膜が、前記光透過層を介して、前記少なくとも１層の情報層に入射した放射線を最初に反射する位置に形成され、前記硬化条件調整層に含まれた前記放射線反射性の膜が、前記樹脂層を介して、前記硬化条件調整層に入射した放射線を最初に反射する位置に形成されている。

本発明において、「半金属」はＳｉを含んでいる。

本発明者の研究によれば、情報層が、５ｎｍ以上の厚さを有し、金属、半金属膜またはそれらの合金を主成分として含む放射線反射性の膜を含み、硬化条件調整層が、５ｎｍ以上の厚さと、少なくとも１層の情報層に含まれた放射線反射性の膜と同じ組成を有する放射線反射性の膜を含み、情報層に含まれた放射線反射性の膜が、光透過層を介して、情報層に入射した放射線を最初に反射する位置に形成され、硬化条件調整層に含まれた放射線反射性の膜が、樹脂層を介して、硬化条件調整層に入射した放射線を最初に反射する位置に形成されている場合には、情報層上に、放射線硬化性樹脂を塗布して、光透過層用の塗膜を形成し、光透過層用の塗膜に、放射線を照射して、光透過層用の塗膜を硬化させ、光透過層を形成する際に、光透過層用の塗膜を透過し、情報層によって反射されて、光透過層用の塗膜に入射する放射線の光透過層形成用の放射線硬化性樹脂の硬化条件に対する影響と、硬化条件調整層上に、放射線硬化性樹脂を塗布して、樹脂層用の塗膜を形成し、樹脂層用の塗膜に、放射線を照射して、樹脂層用の塗膜を硬化させ、樹脂層を形成する際に、樹脂層用の塗膜を透過し、硬化条件調整層によって反射されて、樹脂層用の塗膜に入射する放射線の樹脂層形成用の放射線硬化性樹脂の硬化条件に対する影響とが実質的に同じになるように制御することができ、したがって、光透過層形成用の放射線硬化性樹脂と、樹脂層形成用の放射線硬化性樹脂とを実質的に同じ条件で硬化させて、実質的に同じ組織構造を有する光透過層および樹脂層を形成することが可能になるから、光透過層と樹脂層の物性を合致させることができ、したがって、環境の温度や湿度変化に起因して、支持基板の表面側と裏面側に加わる応力を効果的に相殺させて、所望のように、光記録媒体の反りを抑制することが可能になることが見出されている。ここに、放射線硬化性樹脂の硬化反応は、放射線を照射した際に発生する反応熱の影響も受けるが、本発明者の研究によれば、主として、放射線硬化性樹脂の塗膜に入射する放射線の光量および他の層によって反射されて、放射線硬化性樹脂の塗膜に入射する放射線の光量によって支配されることが見出されている。

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記少なくとも１層の情報層に含まれた前記放射線反射性の膜が、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ合金を主成分として含み、前記硬化条件調整層に含まれた前記放射線反射性の膜が、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅを主成分として含んでいる。

本発明の別の好ましい実施態様においては、前記少なくとも１層の情報層に含まれた前記放射線反射性の膜が、ＣｕＡｌを主成分として含み、前記硬化条件調整層に含まれた前記放射線反射性の膜が、ＣｕＡｌを主成分として含んでいる。

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記少なくとも１層の情報層が、反射膜を備えている。

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記硬化条件調整層が、５ｎｍないし２００ｎｍの厚さを有している。

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記硬化条件調整層が、さらに、前記放射線反射性の膜の少なくとも一方の側に、誘電体膜を含んでいる。

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記硬化条件調整層が、さらに、前記放射線反射性の膜と前記支持基板との間に、金属膜を含んでいる。

本発明において、光透過層および樹脂層を形成するための放射線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂が好ましく用いられ、とくに、アクリル系紫外線硬化性樹脂、メタクリル系紫外線硬化性樹脂、ウレタン系紫外線硬化性樹脂およびエポキシ系紫外線硬化性樹脂よりなる群から選ばれる紫外線硬化性樹脂が好ましく用いられる。

本発明によれば、環境の温度や湿度が急激に変化した場合でも、所望のように、反りを抑制することができる光記録媒体を提供することが可能になる。

以下、添付図面に基づいて、本発明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。

図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略斜視図であり、図２は、図１のＡで示された部分の略拡大断面図である。

図１に示されるように、光記録媒体１は、ディスク形状をなし、その中央部には、光記録媒体１を、データ記録再生装置にセットするためのセンターホール８が形成されている。

図１および図２に示された光記録媒体１は、書き換え型光記録媒体として構成され、図２において、矢印で示される方向から、３８０ｎｍないし４５０ｎｍの波長を有するレーザビームが、λ／ＮＡ≦６４０ｎｍを満たす開口数ＮＡを有する対物レンズ（図示せず）を介して、照射されて、データが記録され、再生されるように構成されている。

図２に示されるように、光記録媒体１は、支持基板２と、支持基板２の一方の表面上に形成された情報層３と、情報層３上に形成された光透過層４と、支持基板２の他方の表面上に形成された硬化条件調整層５と、硬化条件調整層５上に形成された樹脂層６を備えている。

支持基板２は、光記録媒体１の支持体として機能するものである。

支持基板２を形成するための材料は、光記録媒体１の支持体として機能することができれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、ポリカーボネート樹脂、オレフィン樹脂などを用いることができる。支持基板２の厚さは、とくに限定されるものではないが、約１．０ｍｍであることが好ましい。

支持基板２の一方の面には、その中心部近傍から外縁部に向けて、あるいは、外縁部から中心部近傍に向けて、レーザビームをガイドするためのグルーブ２ａおよびランド２ｂが螺旋状に形成されている。とくに限定されるものではないが、グルーブ２ａの深さは、１０ｎｍないし４０ｎｍであることが好ましく、グルーブ２ａのピッチは、０．２μｍないし０．４μｍであることが好ましい。

図２に示されるように、情報層３は、支持基板２の表面上に形成された反射膜３１と、反射膜３１上に形成された第二の誘電体膜３２と、第二の誘電体膜３２上に形成された記録膜３３と、記録膜３３上に形成された第一の誘電体膜３４とを備えている。

反射膜３１は、光透過層４側から入射するレーザビームを反射し、再び、光透過層４から出射させる役割を果たすとともに、多重干渉効果により再生信号のＣ／Ｎ比を高める役割を果たす。

反射膜３１を形成するための材料は、レーザビームを反射できれば、とくに限定されるものではなく、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｎｄ、Ｉｎ、Ｓｎなどによって、反射膜３１を形成することができる。これらのうち、高い反射率を有しているＡｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、または、ＡｇとＣｕとの合金などのこれらの金属の少なくとも１つを含む合金などの金属が、反射膜３１を形成するために、好ましく用いられる。

反射膜３１の厚さは、とくに限定されるものではないが、１０ｎｍないし３００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍないし２００ｎｍであることが、とくに好ましい。

第一の誘電体膜３４および第二の誘電体膜３２は、記録膜３３を物理的、化学的に保護するとともに、記録膜３３に記録されたデータを再生するときに、多重干渉効果によって、記録マークの領域と、それ以外の領域との反射率の差を拡大して、Ｃ／Ｎ比の高い再生信号を得られるように光学特性を調整する機能を有している。

第一の誘電体膜３４および第二の誘電体膜３２を形成するための材料は、とくに限定されるものではないが、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｖ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｇよりなる群から選ばれる少なくとも一種の金属を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物を用いることが好ましい。

第一の誘電体膜３４の厚さは、１０ｎｍないし５０ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍないし３０ｎｍであることが、さらに好ましい。第一の誘電体膜３４の厚さが、１０ｎｍ未満の場合には、記録膜３３を保護したり、光学特性を向上させるのが困難となるおそれがあり、一方、５０ｎｍを超える場合には、成膜時間が長くなり、生産性が低下するおそれがある。

また、第二の誘電体膜３２の厚さは、５ｎｍないし２０ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍないし１５ｎｍであることが、さらに好ましい。第二の誘電体膜３２の厚さが、５ｎｍ未満の場合には、記録膜３３を保護したり、光学特性を向上させるのが困難となるおそれがあり、一方、２０ｎｍを超える場合には、成膜時間が長くなり、生産性が低下するおそれがある。

記録膜３３は、データが記録される層である。本実施態様において、記録膜３３は、相変化材料によって形成されており、相変化材料が結晶状態にある場合の反射率と、アモルファス状態にある場合の反射率の差を利用して、記録膜３３にデータが記録され、記録膜３３からデータが再生される。

記録膜３３を形成するための相変化材料は、とくに限定されるものではないが、記録膜３３に記録されたデータを、速やかに書き換えるためには、結晶化時間の短い材料が好ましく、こうした材料としては、ＳｂＴｅ系の相変化材料を挙げることができる。ＳｂＴｅ系材料としては、ＳｂＴｅのみでもよいし、結晶化時間を、より短縮化するとともに、長期の保存に対する信頼性を高める目的で、他の元素が添加されてもよい。

本実施態様においては、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ合金によって、記録膜３３が形成されている。

記録膜３３は、５ｎｍないし４０ｎｍの厚さに形成されることが好ましい。

光透過層４は、レーザビームが透過する層であり、情報層３の表面を保護する保護層としての役割を果たす。

光透過層４は、光学的に透明で、使用されるレーザビームの波長領域である３８０ないし４５０ｎｍでの光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さいことが要求され、放射線硬化性樹脂によって形成される。

放射線硬化性樹脂としては、紫外線を照射することによって硬化が開始する紫外線硬化性樹脂、電子線を照射することによって硬化が開始する電子線硬化性樹脂、熱線を照射することによって硬化が開始する熱線硬化性樹脂、可視光を照射することによって硬化が開始する可視光硬化性樹脂を挙げることができ、これらの中では、紫外線硬化性樹脂が、光透過層４を形成するために、好ましく用いられ、とくに、アクリル系紫外線硬化性樹脂、メタクリル系紫外線硬化性樹脂、ウレタン系紫外線硬化性樹脂、エポキシ系紫外線硬化性樹脂が好ましい。本実施態様においては、光透過層４は紫外線硬化性樹脂によって形成されている。

光透過層４の厚さは、３０μｍないし２００μｍであることが好ましい。

図２に示されるように、支持基板２の他方の表面上には、硬化条件調整層５および樹脂層６が形成されている。

硬化条件調整層５は、その表面上に、樹脂層６を形成する際、樹脂層６の硬化条件を調整するとともに、支持基板２に水分が侵入することを防止する役割を有している。

本実施態様においては、硬化条件調整層５は、記録膜３３に主成分として含まれている相変化材料と、同一の相変化材料を主成分として含み、本実施態様においては、硬化条件調整層５は、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ合金を主成分として含んでいる。

硬化条件調整層５の厚さは、２０ｎｍないし３００ｎｍであることが好ましく、３０ｎｍないし２００ｎｍであることが、さらに好ましい。硬化条件調整層６の厚さが、２０ｎｍの未満の場合には、防湿特性が不足するおそれがあり、一方、３００ｎｍを超えると、成膜時間が長くなり、生産性が低下するおそれがある。

樹脂層６は、樹脂層６に生じる応力や曲げモーメントにより、光透過層４に生じる応力や曲げモーメントを打ち消すことによって、光記録媒体１に反りが生じるのを抑制する役割を果たしている。

樹脂層６は、剛性、線膨張係数、ヤング率、内部応力などの物性が、光透過層４の物性と実質的に同じであることが要求される。

樹脂層６は、光透過層４を形成するのに用いられる放射線硬化性樹脂と同じ放射線硬化性樹脂によって形成され、本実施態様においては、紫外線硬化性樹脂によって形成されている。

樹脂層６の厚さは、光透過層４と同様に、３０μｍないし２００μｍであることが好ましい。しかしながら、樹脂層６の厚さは、必ずしも光透過層４の厚さと同一である必要はなく、樹脂層６の物性が、光透過層４の物性と大きく相違しない範囲であれば、光透過層４と異なる厚さを有していてもよい。

以上のような構成を有する光記録媒体１は、以下のようにして、製造される。

まず、スタンパを用いて、一方の表面に、グルーブ２ａおよびランド２ｂを有する支持基板２が、射出成形によって形成される。

次いで、グルーブ２ａおよびランド２ｂが形成されている支持基板２の表面のほぼ全面に、スパッタリング法などの気相成長法によって、反射膜３１、第二の誘電体膜３２、記録膜３３および第一の誘電体膜３４が順次、形成されて、情報層３が形成される。

次いで、情報層３上に、紫外線硬化性樹脂が、スピンコーティング法によって塗布されて、塗膜が形成され、塗膜に紫外線が照射されて、紫外線硬化性樹脂が硬化され、光透過層４が形成される。

紫外線硬化性樹脂を硬化させて、光透過層４を形成するために、塗膜に照射された紫外線の一部は、塗膜を透過するが、情報層３の記録膜３３は、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ合金を主成分として含んでおり、紫外線を反射する性質を有しているので、塗膜を透過した紫外線の一部は、記録膜３３によって反射され、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射する。したがって、紫外線硬化性樹脂は、塗膜に照射された紫外線と、記録膜３３によって反射された紫外線によって硬化されて、光透過層４が形成される。

次いで、支持基板２が、支持基板２のグルーブ２ａおよびランド２ｂが形成されていない表面が上方に位置するように、スパッタリング装置にセットされ、支持基板２の表面上に、記録膜３３に主成分として含まれる元素を含むターゲットを用いて、スパッタリング法などの気相成長法により、硬化条件調整層５が形成される。

さらに、硬化条件調整層５上に、光透過層４を形成するために用いたのと同じ紫外線硬化性樹脂が、スピンコーティング法によって塗布されて、塗膜が形成され、塗膜に紫外線が照射されて、紫外線硬化性樹脂が硬化され、樹脂層６が形成される。

紫外線硬化性樹脂を硬化させて、樹脂層６を形成するために、塗膜に照射された紫外線の一部は、塗膜を透過するが、硬化条件調整層５は、情報層３の記録膜３３と同様に、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ合金を主成分として含んでおり、紫外線を反射する性質を有しているので、塗膜を透過した紫外線の一部は、硬化条件調整層５によって反射され、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射する。したがって、紫外線硬化性樹脂は、塗膜に照射された紫外線と、硬化条件調整層５によって反射された紫外線によって硬化されて、樹脂層６が形成される。

同じ紫外線硬化性樹脂を用いて、塗膜を形成し、紫外線硬化性樹脂の塗膜に、紫外線を照射して、硬化させ、それぞれ、光透過層４と樹脂層６を形成した場合においても、実質的に同じ物性を有する光透過層４と樹脂層６を形成することはできないが、本発明者の研究によれば、実質的に同じ物性を有する光透過層４と樹脂層６を形成することはできないのは、紫外線硬化性樹脂の塗膜が硬化するときの条件が異なるためであり、光透過層４を形成するときと、樹脂層６を形成するときとで、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過し、光記録媒体１の内部で反射されて、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射する紫外線の光量が実質的に同じになるように、光記録媒体１の層構成を決定することによって、紫外線硬化性樹脂の硬化条件が実質的に同じになるように、制御することができ、したがって、実質的に同じ物性を有する光透過層４と樹脂層６を形成することが可能になることが見出された。

本発明者のさらなる研究によれば、光透過層４を形成する際に、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過した紫外線が最初に反射される膜と、樹脂層６を形成する際に、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過した紫外線が最初に反射される膜とが、同じ組成を有していれば、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過し、光記録媒体１の内部で反射されて、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射する紫外線の光量が実質的に同じになるように、制御することができ、光透過層４を形成するときの紫外線硬化性樹脂の硬化条件と、樹脂層６を形成するときの紫外線硬化性樹脂の硬化条件とが実質的に同じになるように、制御し得ることが見出された。

したがって、本実施態様によれば、樹脂層６を形成する際に、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過した紫外線は、５ｎｍ以上の厚さを有し、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ合金を主成分として含む硬化条件調整層５によって、最初に反射され、硬化条件調整層５は、光透過層１３を形成する際に、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過した紫外線が最初に反射される情報層３の記録膜３３と同じ組成を有しているから、樹脂層６を形成する場合と、光透過層４を形成する場合とで、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過し、光記録媒体１の内部で反射されて、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射する紫外線の光量が実質的に同じになるようにして、光透過層４を形成するときの紫外線硬化性樹脂の硬化条件と、樹脂層６を形成するときの紫外線硬化性樹脂の硬化条件とが実質的に同じになるように、制御することが可能になり、したがって、剛性、線膨張係数、ヤング率、内部応力などの物性が実質的同一の光透過層４と樹脂層６を形成することが可能になるから、環境の温度や湿度が急激に変化した場合でも、光記録媒体１の反りを、所望のように、抑制することが可能になる。

図３は、本発明の別の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略断面図である。

本実施態様にかかる光記録媒体１０は、追記型の光記録媒体として構成されており、図３に示されているように、支持基板１１と、支持基板１１の一方の表面上に形成された情報層１２と、情報層１２上に形成された光透過層１３と、支持基板１１の他方の表面上に形成された硬化条件調整層１４と、硬化条件調整層１４上に形成された樹脂層１５を備えている。

支持基板２は、光記録媒体１の支持体として機能するものであり、図１および図２に示された光記録媒体１の支持基板２と同様に形成される。

図３に示されるように、情報層１２は、支持基板１１の表面上に形成された反射膜４１と、反射膜４１上に形成された第二の誘電体膜４２と、第二の誘電体膜４２上に形成された第一の記録膜４３ａと、第一の記録膜４３ａ上に形成された第二の記録膜４３ｂと、第二の記録膜４３ｂ上に形成された第一の誘電体膜４４とを備えている。

反射膜４１は、光透過層１３側から入射するレーザビームを反射し、再び、光透過層１３から出射させる役割を果たすとともに、多重干渉効果により再生信号のＣ／Ｎ比を高める役割を果たし、図１および図２に示された光記録媒体１の反射膜３１と同様に形成される。

第一の誘電体膜４４および第二の誘電体膜４２は、第一の記録膜４３ａおよび第二の記録膜４３ｂを物理的、化学的に保護するとともに、第一の記録膜４３ａおよび第二の記録膜４３ｂに記録されたデータを再生するときに、多重干渉効果によって、記録マークの領域と、それ以外の領域との反射率の差を拡大して、Ｃ／Ｎ比の高い再生信号を得られるように光学特性を調整する機能を有し、図１および図２に示された光記録媒体１の第一の誘電体膜３４および第二の誘電体膜３２と同様に形成される。

第一の記録膜４３ａは、ＣｕＡｌを主成分として含み、第二の記録膜４３ｂは、Ｓｉを主成分として、含んでいる。

光記録媒体１０の情報層１２に、レーザビームが照射されると、第一の記録膜４３ａに主成分として含まれているＣｕＡｌと、第二の記録膜４３ｂに主成分として含まれているＳｉが、速やかに混合して、混合領域が形成され、記録マークが形成される。こうして、ＳｉとＣｕＡｌが混合して、記録マークが形成された記録層の領域の反射率は、記録マークが形成されていないブランク領域の反射率と大きく異なるので、情報層１３に、データを速やかに記録することが可能になる。

本実施態様においては、ＣｕＡｌを主成分として含む第一の記録膜４３ａおよびＳｉを主成分として含む第二の記録膜４３ｂは、いずれも、５ｎｍ以上、３０ｎｍ以下の厚さを有するように、形成されている。

光透過層１３は、レーザビームが透過する層であり、情報層３の表面を保護する保護層としての役割を果たし、図１および図２に示された光記録媒体１の光透過層４と同様に、紫外線硬化性樹脂によって、３０μｍないし２００μｍの厚さを有するように、形成される。

図３に示されるように、支持基板１１の他方の表面上には、硬化条件調整層１４および樹脂層１５が形成されている。

硬化条件調整層１４は、その表面上に、樹脂層１５を形成する際、樹脂層１５の硬化条件を調整するとともに、支持基板１１に水分が侵入することを防止する役割を有し、支持基板１１側から、合金膜１４ａ、硬化条件調整膜１４ｂおよび誘電体膜１４ｃが積層されて、形成されている。

本実施態様においては、合金膜１４ａは、第一の記録膜４３ａと同様に、ＣｕＡｌを主成分として含み、硬化条件調整膜１４ｂは、第二の記録膜４３ｂと同様に、Ｓｉを主成分として含んでいる。

硬化条件調整層１４は、支持基板１１に水分が侵入することを防止する防湿層をして機能するためには、２０ｎｍないし３００ｎｍの厚さを有していることが好ましく、３０ｎｍないし２００ｎｍの厚さを有していることが、さらに好ましい。

本実施態様においては、合金膜１４ａおよび硬化条件調整膜１４ｂは、いずれも、５ｎｍ以上の厚さを有している。

樹脂層１５は、樹脂層１５に生じる応力や曲げモーメントにより、光透過層１３に生じる応力や曲げモーメントを打ち消すことによって、光記録媒体１０に反りが生じるのを抑制する役割を果たしている。

樹脂層１５は、剛性、線膨張係数、ヤング率、内部応力などの物性が、光透過層１３の物性と実質的に同じであることが要求され、図１および図２に示された光記録媒体１の樹脂層６と同様に、紫外線硬化性樹脂によって、３０μｍないし２００μｍの厚さを有するように、形成される。

以上のような構成を有する光記録媒体１０は、以下のようにして、製造される。

まず、スタンパを用いて、一方の表面に、グルーブ１１ａおよびランド１１ｂを有する支持基板１１が、射出成形によって形成される。

次いで、グルーブ１１ａおよびランド１１ｂが形成されている支持基板１１の表面のほぼ全面に、スパッタリング法などの気相成長法によって、反射膜４１、第二の誘電体膜４２、第一の記録膜４３ａ、第二の記録膜４３ｂおよび第一の誘電体膜４４が順次、形成されて、情報層１２が形成される。

次いで、情報層１２上に、紫外線硬化性樹脂が、スピンコーティング法によって塗布されて、塗膜が形成され、塗膜に紫外線が照射されて、紫外線硬化性樹脂が硬化され、光透過層１３が形成される。

紫外線硬化性樹脂を硬化させて、光透過層１３を形成するために、塗膜に照射された紫外線の一部は、塗膜を透過するが、情報層１２の第二の記録膜４３ｂは、Ｓｉを主成分として含み、５ｎｍ以上、３０ｎｍ以下の厚さを有しており、紫外線を反射する性質を有しているので、塗膜を透過した紫外線の一部は、第二の記録膜４３ｂによって反射され、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射する。したがって、紫外線硬化性樹脂は、塗膜に照射された紫外線と、第二の記録膜４３ｂによって反射された紫外線によって硬化されて、光透過層１３が形成される。

次いで、支持基板１１が、支持基板１１のグルーブ１１ａおよびランド１１ｂが形成されていない表面が上方に位置するように、スパッタリング装置にセットされ、支持基板１１の表面上に、ＣｕＡｌを主成分として含み、５ｎｍ以上の厚さを有する合金膜１４ａと、Ｓｉを主成分として含み、５ｎｍ以上の厚さを有する硬化条件調整膜１４ｂと、誘電体膜１４ｃが、スパッタリング法などの気相成長法により、順次、形成されて、硬化条件調整層１４が形成される。

さらに、硬化条件調整層１４上に、光透過層１３を形成するために用いたのと同じ紫外線硬化性樹脂が、スピンコーティング法によって塗布されて、塗膜が形成され、塗膜に紫外線が照射されて、紫外線硬化性樹脂が硬化され、樹脂層１５が形成される。

紫外線硬化性樹脂を硬化させて、樹脂層１５を形成するために、塗膜に照射された紫外線の一部は、塗膜を透過するが、硬化条件調整層１４の硬化条件調整膜１４ｂは、Ｓｉを主成分として含み、５ｎｍ以上の厚さを有しており、紫外線を反射する性質を有しているので、塗膜を透過した紫外線の一部は、硬化条件調整膜１４ｂによって反射され、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射する。したがって、紫外線硬化性樹脂は、塗膜に照射された紫外線と、硬化条件調整膜１４ｂによって反射された紫外線によって硬化されて、樹脂層１５が形成される。

したがって、本実施態様によれば、樹脂層１５を形成する際に、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過した紫外線は、５ｎｍ以上の厚さを有し、Ｓｉを主成分として含む硬化条件調整膜１４ｂによって、最初に反射され、硬化条件調整膜１４ｂは、光透過層１３を形成する際に、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過した紫外線が最初に反射される情報層１２の第二の記録膜４３ｂと同じ組成を有しているから、樹脂層１５を形成する場合と、光透過層１３を形成する場合とで、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過し、光記録媒体１０の内部で反射されて、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射する紫外線の光量が実質的に同じになるようにして、光透過層１３を形成するときの紫外線硬化性樹脂の硬化条件と、樹脂層１５を形成するときの紫外線硬化性樹脂の硬化条件とが実質的に同じになるように、制御することが可能になり、したがって、剛性、線膨張係数、ヤング率、内部応力などの物性が実質的同一の光透過層１３と樹脂層１５を形成することが可能になるから、環境の温度や湿度が急激に変化した場合でも、光記録媒体１０の反りを、所望のように、抑制することが可能になる。

以下、本発明の効果をより明瞭なものとするため、実施例を掲げる。

実施例１
以下のようにして、光記録媒体サンプル＃１を作製した。

まず、射出成型法により、１．１ｍｍの厚さと、１２０ｍｍの外径を有するディスク状のポリカーボネート基板を作製した。

次いで、スパッタリング法により、ポリカーボネート基板の一方の表面上に、Ａｇを主成分として含む１００ｎｍの厚さの反射膜と、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物を含む２０ｎｍの厚さの第二の誘電体膜と、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ合金を主成分として含む１５ｎｍの厚さの記録膜と、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物を含む３０ｎｍの厚さの第一の誘電体膜を、順次、形成して、情報層を形成した。

さらに、情報層が形成されたポリカーボネート基板をスピンコーティング装置にセットし、以下の組成を有する紫外線硬化性樹脂を、情報層上に、スピンコーティング法によって、塗布して、塗膜を形成した。その後、塗膜に、積算光量が３０００ｍＪ／ｃｍ^２となるように、紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化させ、１００μｍの厚さの光透過層を形成した。

ウレタンアクリレート（根上工業株式会社製：商品名「アートレジンＵＮ−５２００」） ５０質量％
トリメチロルプロパントリアクリレート（日本化薬株式会社製：商品名「カヤラッドＴＭＰＴＡ」） ３３質量％
フェノキシヒドロキシプロピルアクリレート（日本化薬株式会社製：商品名「カヤラッドＲ−１２８」） １４質量％
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバガイギー株式会社製：商品名「ＩＲＧ１８４」） ３質量％

次いで、光透過層が形成されたポリカーボネート基板を裏返し、ポリカーボネート基板の他方の表面上に、スパッタリング法によって、Ａｇを主成分として含む１００ｎｍの厚さの反射膜と、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物を含む２０ｎｍの厚さの誘電体膜と、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ合金を主成分として含む１５ｎｍの厚さの金属膜と、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物を含む３０ｎｍの厚さの誘電体膜を、順次、形成して、硬化条件調整層を形成した。

最後に、光透過層を形成するのに用いたのと同じ紫外線硬化性樹脂を、硬化条件調整層上に、スピンコーティング法によって、塗布して、塗膜を形成した。その後、塗膜に、３０００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で、紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化させて、１００μｍの厚さの樹脂層を形成した。こうして、光記録媒体サンプル＃１を作製した。

さらに、光透過層が形成されたポリカーボネート基板を裏返し、ポリカーボネート基板の他方の表面上に、スパッタリング法によって、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ合金を主成分として含む１００ｎｍの厚さの金属膜を形成し、硬化条件調整層を形成した点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体サンプル＃２を作製した。

次いで、光透過層が形成されたポリカーボネート基板を裏返し、ポリカーボネート基板の他方の表面上に、スパッタリング法によって、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ合金を主成分として含む１００ｎｍの厚さの金属膜と、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物を含む１００ｎｍの厚さの誘電体膜を形成し、硬化条件調整層を形成した点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体サンプル＃３を作製した。

さらに、光透過層が形成されたポリカーボネート基板を裏返し、ポリカーボネート基板の他方の表面上に、スパッタリング法によって、Ａｇを主成分として含む１００ｎｍの厚さの反射膜と、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物を含む２０ｎｍの厚さの誘電体膜と、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ合金を主成分として含む１５ｎｍの厚さの金属膜と、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物を含む３０ｎｍの厚さの誘電体膜と、Ａｇを主成分として含む１００ｎｍの厚さの反射膜を、順次、形成して、硬化条件調整層を形成した点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体比較サンプル＃１を作製した。

次いで、光透過層が形成されたポリカーボネート基板を裏返し、ポリカーボネート基板の他方の表面上に、スパッタリング法によって、Ａｇを主成分として含む１００ｎｍの厚さの反射膜を形成して、硬化条件調整層を形成した点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体比較サンプル＃２を作製した。

さらに、光透過層が形成されたポリカーボネート基板を裏返し、ポリカーボネート基板の他方の表面上に、スパッタリング法によって、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物を含む１００ｎｍの厚さの誘電体膜を形成して、硬化条件調整層を形成した点を除き、光記録媒体サンプル＃１と同様にして、光記録媒体比較サンプル＃３を作製した。

次いで、こうして得られた光記録媒体サンプル＃１ないし＃３ならびに光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃３を、それぞれ、温度２５℃、相対湿度９５％の雰囲気下に、保持した後、各サンプルを、株式会社キーエンス製の高精度レーザ反り角測定器「ＬＡ−２０００」（商品名）にセットして、各サンプルの中心から５８ｍｍの位置における反り角β_１を測定した。反り角β_１を測定するにあたっては、各サンプルを、温度２５℃、相対湿度９５％の雰囲気下で、各サンプルの反り角が変化しなくなるまで、継続的に、反り角を測定し、そのうちの最大値を反り角β_１として決定した。

さらに、光記録媒体サンプル＃１ないし＃３ならびに光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃３を、それぞれ、温度２５℃、相対湿度１０％の雰囲気下で、上述の高精度レーザ反り角測定器にセットして、各サンプルの中心から５８ｍｍの位置における反り角β_２を測定した。反り角β_２を測定するにあたっては、各サンプルを、温度２５℃、相対湿度１０％の雰囲気下で、各サンプルの反り角が変化しなくなるまで、継続的に、反り角を測定し、そのうちの最大値を反り角β_２として決定した。

ここに、反り角β_１、β_２は、いずれも、サンプルが光透過層側に反っている場合に正で、樹脂層側に反っている場合を負と、定義した。

次いで、各サンプルの反り角β_２と反り角β_１の差（β_２−β_１）を求め、各サンプルの反りの程度を評価した。各サンプルの反りの程度の評価にあたっては、反り角差（β_２−β_１）が、０．３５ｄｅｇ以下であった場合に、「ＧＯＯＤ」として、０．３５ｄｅｇを超えた場合に、「ＢＡＤ」とした。測定結果は、表１に示されている。

表１に示されるように、光記録媒体サンプル＃１ないし＃３においては、反り角差はいずれも、０．３５ｄｅｇ以下で、反りの発生が許容限度以下に抑制されているが、光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃３においては、反り角差がいずれも、０．３５ｄｅｇを越え、許容限度を越える反りが発生したことがわかった。

これは、光記録媒体比較サンプル＃１ないし＃３においては、いずれも、紫外線硬化性樹脂の塗膜に、紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化し、光透過層を形成する場合と、樹脂層を形成する場合とで、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過した紫外線が反射される膜が異なる組成を有しており、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過し、サンプル内で反射されて、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射する紫外線の光量が異なって、紫外線硬化性樹脂の硬化条件が異なるのに対し、光記録媒体サンプル＃１ないし＃３においては、紫外線硬化性樹脂の塗膜に、紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化し、光透過層および樹脂層を形成する際に、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過した紫外線は、いずれも、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ合金を主成分として含む記録膜または金属膜によって反射されて、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射するため、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過し、サンプル内で反射されて、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射する紫外線の光量がほぼ等しくなり、光透過層を形成する際の紫外線硬化性樹脂の硬化条件と、樹脂層を形成する際の紫外線硬化性樹脂の硬化条件が実質的に同一に制御され、したがって、実質的に同じ物性を有する光透過層および樹脂層が形成されているためと考えられる。

実施例２
以下のようにして、光記録媒体サンプル＃４を作製した。

まず、射出成型法により、１．１ｍｍの厚さと、１２０ｍｍの外径を有するディスク状のポリカーボネート基板を作製した。

次いで、スパッタリング法により、ポリカーボネート基板の一方の表面上に、Ａｇを主成分として含む１００ｎｍの厚さの反射膜と、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物を含む２５ｎｍの厚さの第二の誘電体膜と、ＣｕＡｌを主成分として含む５ｎｍの厚さの第一の記録膜と、Ｓｉを主成分として含む４ｎｍの厚さの第二の記録膜と、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物を含む２５ｎｍの厚さの第一の誘電体膜を、順次、形成して、情報層を形成した。

さらに、情報層が形成されたポリカーボネート基板をスピンコーティング装置にセットし、実施例１で用いたのと同じ紫外線硬化性樹脂を、情報層上に、スピンコーティング法によって、塗布して、塗膜を形成した。その後、塗膜に、３０００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で、紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化させ、１００μｍの厚さの光透過層を形成した。

次いで、光透過層が形成されたポリカーボネート基板を裏返し、ポリカーボネート基板の他方の表面上に、スパッタリング法によって、ＣｕＡｌを主成分として含む５ｎｍの厚さの金属膜と、Ｓｉを主成分として含む４ｎｍの厚さの半金属膜と、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合物を含む２５ｎｍの厚さの誘電体膜を、順次、形成して、防湿層を形成した。

最後に、光透過層を形成するのに用いたのと同じ紫外線硬化性樹脂を、防湿層上に、スピンコーティング法によって、塗布して、塗膜を形成した。その後、塗膜に、３０００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で、紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化させて、１００μｍの厚さの樹脂層を形成した。こうして、光記録媒体サンプル＃４を作製した。

さらに、光透過層が形成されたポリカーボネート基板を裏返し、ポリカーボネート基板の他方の表面上に、スパッタリング法によって、ＣｕＡｌを主成分として含む５ｎｍの厚さの金属膜を形成して、防湿層を形成した点を除き、光記録媒体サンプル＃４と同様にして、光記録媒体サンプル＃５を作製した。

次いで、光透過層が形成されたポリカーボネート基板を裏返し、ポリカーボネート基板の他方の表面上に、スパッタリング法によって、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ合金を主成分として含む１００ｎｍの厚さの金属膜を形成し、防湿層を形成した点を除き、光記録媒体サンプル＃４と同様にして、光記録媒体比較サンプル＃４を作製した。

さらに、光透過層が形成されたポリカーボネート基板を裏返し、ポリカーボネート基板の他方の表面上に、スパッタリング法によって、ＣｕＡｌＡｕを主成分として含む１００ｎｍの厚さの金属膜を形成し、防湿層を形成した点を除き、光記録媒体サンプル＃４と同様にして、光記録媒体比較サンプル＃５を作製した。

次いで、実施例１と同様にして、こうして得られた光記録媒体サンプル＃４および＃５ならびに光記録媒体比較サンプル＃４および＃５の反り角β_１および反り角β_２を測定し、各サンプルの反り角β_２と反り角β_１の差（β_２−β_１）を求め、各サンプルの反りの程度を評価した。測定結果は、表２に示されている。

表１に示されるように、光記録媒体サンプル＃４および＃５においては、反り角差はいずれも、０．３５ｄｅｇ以下で、反りの発生が許容限度以下に抑制されているが、光記録媒体比較サンプル＃４および＃５においては、反り角差がいずれも、０．３５ｄｅｇを越え、許容限度を越える反りが発生したことがわかった。

これは、光記録媒体比較サンプル＃４および＃５においては、いずれも、紫外線硬化性樹脂の塗膜に、紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化し、光透過層を形成する場合と、樹脂層を形成する場合とで、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過した紫外線が反射される膜が異なる組成を有しており、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過し、サンプル内で反射されて、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射する紫外線の光量が異なって、紫外線硬化性樹脂の硬化条件が異なるのに対し、光記録媒体サンプル＃４および＃５においては、紫外線硬化性樹脂の塗膜に、紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化し、光透過層および樹脂層を形成する際に、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過した紫外線は、いずれも、ＣｕＡｌを主成分として含む記録膜または金属膜によって反射されて、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射するため、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過し、サンプル内で反射されて、再び、紫外線硬化性樹脂の塗膜に入射する紫外線の光量がほぼ等しくなり、光透過層を形成する際の紫外線硬化性樹脂の硬化条件と、樹脂層を形成する際の紫外線硬化性樹脂の硬化条件が実質的に同一に制御され、したがって、実質的に同じ物性を有する光透過層および樹脂層が形成されているためと考えられる。

なお、光記録媒体サンプル＃５は、Ｓｉを主成分として含む第二の記録膜および第二の金属膜を備えているから、紫外線硬化性樹脂の塗膜に、紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化し、光透過層および樹脂層を形成する際に、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過した紫外線は、いずれも、ＣｕＡｌを主成分として含む第一の記録膜および第一の金属膜に入射するのに先立って、Ｓｉを主成分として含む第二の記録膜および第二の金属膜に入射するが、ＣｕＡｌを主成分として含む第一の記録膜および第一の金属膜の厚さは５ｎｍであるのに対し、Ｓｉを主成分として含む第二の記録膜および第二の金属膜の厚さは４ｎｍで、５ｎｍ未満であるため、紫外線硬化性樹脂の塗膜を透過した紫外線は、Ｓｉを主成分として含む第二の記録膜および第二の金属膜によっては実質的に反射されず、ＣｕＡｌを主成分として含む第一の記録膜および第一の金属膜によって反射され、その結果、反り角β_２と反り角β_１の差（β_２−β_１）が０．３５以下になったものと思われる。

本発明は、以上の実施態様に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。

たとえば、図１および図２に示された光記録媒体１は、書き換え型の情報層３を備え、図３に示された光記録媒体１０は、追記型の情報層１２を備えているが、情報層は、支持基板２、１１の表面に形成されたピットによって、再生専用の情報層として、構成されていてもよい。この場合には、金属膜として、反射膜が設けられていてもよい。

さらに、図１および図２に示された実施態様においては、光記録媒体１の光透過層４および樹脂層６が外部に露出し、図３に示された実施態様においては、光記録媒体１０の光透過層１３および樹脂層１５が外部に露出しているが、光透過層４、１３および／または樹脂層６、１５の表面に、ハードコート層が形成されていてもよい。

また、前記実施態様においては、光記録媒体１、１０は、支持基板２、１１の他方の面上に、支持基板１１に水分が浸入することを防止する性質を有する硬化条件調整層５、１４を備えているが、支持基板１１が、ポリオレフィン樹脂などの吸水性の低い樹脂によって形成されている場合には、硬化条件調整層５、１４が、支持基板１１に水分が浸入することを防止する性質を有していることは必ずしも必要でない。

さらに、前記実施態様においては、光透過層４、１３および樹脂層６、１５は、スピンコーティング法によって形成されているが、スピンコーティング法以外の塗布方法によって、光透過層４、１３および樹脂層６、１５を形成することもでき、さらには、光透過層４、１３および樹脂層６、１５は、別途、それぞれ、所定の下地層上に、スピンコーティング法などによって、同じ紫外線硬化性樹脂の塗膜を形成し、紫外線を照射して、実質的に同じ条件で、塗膜を硬化させて、紫外線硬化性樹脂の硬化膜を作製し、それぞれ、下地層から、紫外線硬化性樹脂の硬化膜を剥離して、接着層を介して、情報層３、１２あるいは支持基板２、１１の他方の面上に貼り付けることによって、形成してもよい。この場合には、硬化条件調整層５および硬化条件調整層１４を設ける必要はない。

また、前記実施態様においては、硬化条件調整層５および硬化条件調整層１４はいずれも、支持基板１１に水分が浸入することを防止する防湿層としての機能を有しており、そのため、図１および図２に示された実施態様においては、２０ｎｍ以上の厚さを有する単層の硬化条件調整層５が形成され、図３に示された実施態様においては、２０ｎｍ以上の厚さを有し、合金膜１４ａ、硬化条件調整膜１４ｂおよび誘電体膜１４ｃを含む硬化条件調整層１４が形成されているが、樹脂層６、１５の硬化条件を調整する目的からは、５ｎｍ以上の厚さを有する硬化条件調整層５、１４を設ければよく、硬化条件調整層５、１４が、２０ｎｍ以上の厚さを有していることは必要がない。硬化条件調整層を、防湿層としても機能させる場合には、２０ｎｍ以上の厚さを有する硬化条件調整層を形成することが要求されるが、その場合には、金属、半金属またはこれらの合金を主成分として含む５ｎｍ以上の厚さを有する硬化条件調整膜と誘電体膜を含む多層構造を有する硬化条件調整層を設けることが、コストを低減させる上で、好ましい。この場合、透明な誘電体膜を形成する場合には、硬化条件調整層の光透過率を向上させることができ、樹脂層上に、インキ層、インキ受理層などを設けて、画像を印刷したときに、画像の色彩やコントラストが、硬化条件調整層によって低下することを効果的に防止することができる。

図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略斜視図である。 図２は、図１のＡで示された部分の略拡大図である。 図３は、本発明の別の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略断面図である。

符号の説明

１ 光記録媒体
２ 支持基板
３ 情報層
４ 光透過層
５ 硬化条件調整層
６ 樹脂層
８ センターホール
１０ 光記録媒体
１１ 支持基板
１２ 情報層
１３ 光透過層
１４ 硬化条件調整層
１４ａ 合金膜
１４ｂ 硬化条件調整膜
１４ｃ 誘電体膜
１５ 樹脂層
３１ 反射膜
３２ 第二の誘電体膜
３３ 記録膜
３４ 第一の誘電体膜
４１ 反射膜
４２ 第二の誘電体膜
４３ａ 第一の記録膜
４３ｂ 第二の記録膜
４４ 第一の誘電体膜

Claims (5)

1. 支持基板と、支持基板の一方の側に形成された少なくとも１層の情報層と、前記少なくとも１層の情報層上に形成され、記録または再生用のレーザビームが透過する光透過層と、前記支持基板に対して、前記光透過層の反対側に形成された樹脂層とを備え、前記光透過層と前記樹脂層が、放射線硬化性樹脂を、実質的に同じ条件で硬化させて、形成されたことを特徴とする光記録媒体。
2. さらに、前記支持基板に対して、前記光透過層の反対側に形成され、表面に前記樹脂層が形成された硬化条件調整層を備え、前記少なくとも１層の情報層が、５ｎｍ以上の厚さを有し、金属、半金属膜またはそれらの合金を主成分として含む放射線反射性の膜を含み、前記硬化条件調整層が、５ｎｍ以上の厚さと、前記少なくとも１層の情報層に含まれた前記放射線反射性の膜と同じ組成を有する放射線反射性の膜を含み、前記少なくとも１層の情報層に含まれた前記放射線反射性の膜が、前記光透過層を介して、前記少なくとも１層の情報層に入射した放射線を最初に反射する位置に形成され、前記硬化条件調整層に含まれた前記放射線反射性の膜が、前記樹脂層を介して、前記硬化条件調整層に入射した放射線を最初に反射する位置に形成されたことを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
3. 前記硬化条件調整層が、３０ｎｍないし３００ｎｍの厚さを有していることを特徴とする請求項２に記載の光記録媒体。
4. 前記硬化条件調整層が、さらに、前記放射線反射性の膜の少なくとも一方の側に、誘電体膜を含んでいることを特徴とする請求項２または３に記載の光記録媒体。
5. 前記硬化条件調整層が、さらに、前記放射線反射性の膜と前記支持基板との間に、金属膜を含んでいることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか１項に記載の光記録媒体。

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