CN110767084A - 显示面板及其制作方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示面板及其制作方法和显示装置，其中，显示面板包括：具有对位标记的阵列基板，阵列基板包括层叠设置的衬底，像素电路、像素定义层以及支撑结构；支撑结构包括层叠的多层子支撑层，其中，对位标记对应的区域的子支撑层的层数小于其他区域的子支撑层的层数，支撑结构随着子支撑层的层数的增加透光性下降。单层子支撑层具有一定的透光性，多层子支撑层叠加后，其透光性大大降低，在每形成一层支撑层后，均利用该对位标记将当前支撑层的对位标记对应的区域刻蚀暴露对位标记，由于子支撑层具有一定的透光性，可以利用单层子支撑层的透光性，在对支撑结构进行图形化时可以较为准确的抓取对位标记，可以得到位置精准的支撑结构。

Description

显示面板及其制作方法和显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其的制作方法和显示装置。

背景技术

版图常规光刻过程包括涂布，曝光，显影。其中，版图开始曝光前，需做对位这一动作，用于确定膜层间的位置关系。在显示面板制备支撑柱(SPC)时，当需要制作具有遮光效果的SPC层时，黑色材料在中间区域进行涂布，然后经过旋转使光刻胶涂覆在整面基板上，导致无法抓取到对位标记。

发明内容

为此，本发明要解决的技术问题为如何在制作具有遮光效果版图时准确的抓取对位标记。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：具有对位标记的阵列基板，所述阵列基板包括：层叠设置的衬底，像素电路、像素定义层以及支撑结构；所述支撑结构包括层叠的多层子支撑层，其中，所述多层子支撑层中的至少一层子支撑层可使所述对位标记可识别。

可选地，所述支撑结构随着子支撑层的层数的增加透光性下降，优选的，所述对位标记对应的区域的子支撑层的层数小于其他区域的子支撑层的层数，优选的，所述子支撑层的颜色各不相同；优选的，所述支撑结构在所述衬底上的投影与所述像素电路在所述衬底上的投影至少部分重叠。

可选地，所述多层子支撑层包括：红色子支撑层、蓝色子支撑层、绿色子支撑层和黄色子支撑层中的至少两个；优选的，各单层子支撑层的遮光率小于50％；优选的，所述多层子支撑层包括：依次层叠于所述像素定义层上的透明子支撑层和黑色子支撑层；优选的，所述黑色子支撑层的材料包括TiALN或氧化银，所述黑色子支撑层的遮光率大于90％。

可选地，所述子支撑层厚度为0.5μm￣1μm；优选的，所述子支撑层厚度为0.6μm￣0.9μm。

可选地，所述子支撑层包括：至少层叠设置的第一偏光片和第二偏光片；所述第一偏光片和所述第二偏光片的偏光方向不同；优选的，所述第一偏光片和所述第二偏光片的偏光方向垂直。

第二方面，本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法，包括：提供具有对位标记的阵列基板，所述阵列基板包括衬底、像素电路、像素定义层；在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧形成一层子支撑；对所述子支撑层进行第一次图形化，使所述对位标记可识别；重复在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧形成一层子支撑；对所述子支撑层进行第一次图形化，使所述对位标记可识别，直至形成至支撑结构所需的层数；利用所述对位标记对重叠设置的子支撑进行第二次图形化，得到支撑结构。

可选地，所述重复在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧形成一层子支撑；对所述子支撑层进行第一次处理，使所述对位标记可识别，直至形成至支撑结构所需的层数包括：所述像素定义层远离所述像素电路的一侧形成第一子支撑层；对所述第一子支撑层进行第一图形化，暴露所述对位标记；整面形成第二子支撑层，所述第二子支撑层覆盖所述对位标记；所述第一子支撑层和第二子支撑层颜色各不相同，第一子支撑层或第二子支撑层包括：红色子支撑层、蓝色子支撑层、绿色子支撑层和黄色子支撑层中的至少一个；优选的，在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧形成第一偏光片；对所述第一偏光片图形化，暴露所述对位标记；在所述第一偏光片远离所述像素定义层的一侧形成与所述第一偏光片的偏光方向不同的第二偏光片；优选的，所述第一偏光片和所述第二偏光片的偏光方向垂直。

可选地，所述对位标记包括第一对位标记和第二对位标记，其中，第一对位标记包括位于阵列基板上的对位标记；所述重复在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧形成一层子支撑；对所述子支撑层进行第一次处理，使所述对位标记可识别，直至形成至支撑结构所需的层数包括：在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧形成透明材料层；利用所述第一对位标记对所述透明材料进行图形化，得到透明支撑结构；在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧以及所述透明支撑结构上形成一层遮光层，并且，在透明支撑结构所在区域与其他区域形成阶梯；所述利用所述对位标记对重叠设置的子支撑进行图形化，得到支撑结构包括：利用所述阶梯作为第二对位标记对所述遮光层进行图形化，形成支撑结构；优选的，所述第一子支撑层和/或第二子支撑层厚度为0.5μm￣1μm。

第三方面，本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法，包括：提供具有对位标记的阵列基板，所述阵列基板包括衬底、像素电路、像素定义层；在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧，所述对位标记对应的区域的表面进行疏液性处理，形成疏液性区域；在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧涂布至少一层遮光材料层，并利用所述疏液性区域暴露所述对位标记，所述疏液性区域相对于固化前的所述遮光材料具有疏液性；利用所述对位标记对所述遮光材料层图形化，形成支撑结构。

第四方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括上述第一方面任意一项所述的显示面板。

本发明实施例提供的一种显示面板，包括：具有对位标记的阵列基板，所述阵列基板包括：层叠设置的衬底，像素电路、像素定义层以及支撑结构，其中，所述支撑结构包括层叠的多层子支撑层，其中，所述对位标记对应的区域的子支撑层的层数小于其他区域的子支撑层的层数，所述支撑结构随着子支撑层的层数的增加透光性下降。支撑结构可以由多层子支撑层构成，其中，在多层子支撑层中，沿背离所述衬底的方向，至少部分子支撑层暴露所述对位标记，支撑结构的透光性小于所述单层子支撑层的透光性，由于支撑结构是分层形成的，单层子支撑层具有一定的透光性，多层子支撑层叠加后，其透光性大大降低，甚至可以形成不透光的支撑结构，在每形成一层支撑层后，均利用该对位标记将当前支撑层的对位标记对应的区域刻蚀暴露对位标记，直至形成最后一层子支撑层后，对位机构与对位标记之间只存在一层子支撑层或者不存在子支撑层，由于子支撑层具有一定的透光性，在最后一层支撑层形成后，可以利用单层子支撑层的透光性，可以较为准确的抓取对位标记，可以得到位置精准的膜层结构。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出了本发明实施例显示面板剖面结构示意图；

图2示出了本发明实施阵显示面板俯视结构示意图；

图3示出了本发明实施例显示面板制作方法的流程的示意图；

图4－6示出了本发明实施例中形成多层子支撑层的过程示意图；

图7－10示出了本发明实施例另一方法形成多层子支撑层的过程示意图；

图11示出了本发明实施例采用另一种方法形成的显示面板俯视结构图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

目前显示面板中，尤其是柔性显示面板中，为防止封装层对发光功能层的影响，通常在像素定义层和封装层之间设置支撑柱(Spacer，SPC)，以支撑封装层，通常的SPC层，采用常规的光刻方法实现，SPC层为透明有机胶，外界光照射到沟道区域，产生光生载流子，影响阈值和关态电流，且存在金属层反光，在强光环境下，影响显示效果。因此，发明人将SPC层设计为黑色有机胶。而常规光刻过程，包括涂布，曝光，显影。在制作具有遮光效果的SPC层时，发明人发现虽然可以至少部分的解决外界光照射到沟道区域，产生光生载流子，影响阈值和关态电流的问题，但是图形化SPC层时，需做对位这一动作，用于确定膜层间的位置关系。而由于SPC层的材料具有遮光效果，对位机构发出的光都被吸收，故无法抓取到对位标记。如果将SPC层减薄使其在对位时能够抓取对位标记，SPC层将起不到遮光效果，为此，发明人提出了一种显示面板及其制作方法和显示装置。

如图1所示的显示面板剖面图和图2所示的俯视图，该显示面板可以包括：具有对位标记50的阵列基板1，阵列基板1包括：层叠设置的衬底10，像素电路20、像素定义层30以及支撑结构40，其中，支撑结构40在衬底10上的投影与像素电路20在衬底10上的投影至少部分重叠；支撑结构40包括层叠的多层子支撑层41，多层子支撑层中的至少一层子支撑层形成后，可使所述对位标记可识别，具体的，多层子支撑层中可以包括透明子支撑层，该透明子支撑层可以使对位标记可识别，例如，该透明子支撑层位于像素定义层上，透明子支撑层上方覆盖黑色子支撑层，最终形成支撑结构，在本实施例中，多层子支撑层也可以包括多层具有一定透光性的子支撑层，例如各个子支撑层的透光率大于50％，在形成一层或几层子支撑层后，对位标记可以识别，而最终形成的多层子支撑层的透光率较小，起到遮光作用，在下面实施例中，将对上述实施例进行详细介绍。在本实施例中，该显示面板包括：衬底10，以及设置于衬底10上的像素电路20。在图2中的区域A也为叠层结构，只是为了方便展示层叠的支撑结构，将区域A的一层或多层子支撑层去除。

在本实施例中，以AMOLED为例进行说明，所称像素电路20可以包括驱动器件，例如薄膜晶体管，薄膜晶体管具有有源层，其上存下沟道区21，在本实施例中，支撑结构40具有遮光作用，支撑结构40在衬底10上的投影与沟道区21在衬底10上的投影至少部分重合，以减小外界光摄入沟道区21，产生光生载流子，影响阈值和关态电流，该像素电路20还可以包括第一电极22层，第一电极22层包括多个第一电极22，第一电极22与像素电路20一一对应，此处的第一电极22为阳极，第一电极22层为阳极层。像素限定层，像素限定层具有多个第一开口；设置在第一开口内的发光结构层，以形成多个子像素60。以及金属线路例如，扫描线、数据线以及存储电容等，扫描线为薄膜晶体管提供电压，以控制薄膜晶体管的开启和关闭，在薄膜晶体管开启时，来自数据线上的驱动电流直接提供给第一电极22，以控制子像素60发光，在本实施例中，支撑结构40在衬底10上的投影还可以与扫描线、数据线以及存储电容在基板上的投影至少部分重叠，以减小扫描线、数据线以及存储电容反射的外界光。在本实施例中，对位标记50可以设置在第一电极22上，还可以设置在其他层上，具体位置在本实施例中不做限定，对位标记50的个数还可以根据实际需要设置为多个。

支撑结构40可以由多层子支撑层41构成，其中，在多层子支撑层41中，沿背离衬底10的方向，至少部分子支撑层41暴露对位标记50，支撑结构40的透光性小于单层子支撑层41的透光性，由于支撑结构40是分层形成的，单层子支撑层41具有一定的透光性，多层子支撑层41叠加后，其透光性大大降低，甚至可以形成不透光的支撑结构40，在每形成一层支撑层后，均利用该对位标记50将当前支撑层的对位标记50对应的区域刻蚀暴露对位标记50，直至形成最后一层子支撑层41后，对位机构与对位标记50之间只存在一层子支撑层41或者不存在子支撑层41，由于子支撑层41具有一定的透光性，在最后一层或几层子支撑层形成后，具体的透光性与子支撑层的层数呈正相关，可以利用单层或少量的几层子支撑层41的透光性，可以较为准确的抓取对位标记50，可以得到位置精准的支撑结构40，在本实施例中，子支撑层厚度为0.5μm￣1μm；优选的，所述子支撑层厚度为0.6μm￣0.9μm，其形成的支撑结构的厚度可以为1μm￣6μm，厚度较薄的子支撑层可以具有一定的透光性，例如，上述实施例中的厚度，可以使单层子支撑层的透光性大于50％，因此，在制作支撑结构时，可以利用单层子支撑或者少数几层子支撑的透光性，在对支撑结构进行图形化时，使对位标记可以被识别，进而对支撑结构进行精准的定位。

在可选的实施例中，不同的子支撑层41可以采用不同颜色，当不同颜色重叠时，层叠的子支撑层41的透光效率下降，例如，可以采用两层子支撑层41，第一层子支撑层41可以采用红色子支撑层，第二层子支撑层41可以采用蓝色子支撑层，蓝色与红色叠加，可以形成透光性较差的深色系紫色，进而形成具有遮光作用的支撑结构40，在本实施例中，两层子支撑层41的顺序不做限定。例如，红色子支撑层靠近像素定义层30设置，红色子支撑层暴露对位标记50，蓝色子支撑层可以整面涂布，在进行图案化时，由于蓝色子支撑层具有一定的透光性，可以较为准确的抓取对位标记50，进而形成位置精准的具有遮光作用的支撑结构40。

为进一步增加支撑结构40的遮光效果，作为较佳的实施例，除红色子支撑层和蓝色子支撑层外，还可以包括黄色子支撑层，红黄蓝三原色叠加可以为黑色或者深灰色，进而可以形成遮光效果更好的支撑结构40。在本实施例中，三层子支撑层41的顺序不做限定。例如，红色子支撑层靠近像素定义层30设置，红色子支撑层暴露对位标记50，蓝色子支撑层位于中间，整面涂布后，利用红色子支撑层暴露的对位标记50，再次刻蚀继续暴露对位标记50，黄色子支撑层位于远离像素定义层30的最后一层，整面涂布，在进行图案化时，由于黄色子支撑层具有一定的透光性，可以较为准确的抓取对位标记50，进而形成位置精准的具有更好遮光作用的支撑结构40。在本实施例中，可以加入其它深色系颜色，例如绿色子支撑层，具体的，子支撑层41包括：红色子支撑层、蓝色子支撑层、绿色子支撑层和黄色子支撑层中的至少两个。具体的层叠顺序，在本实施例中不做限定。上述红色子支撑层、蓝色子支撑层、绿色子支撑层和黄色子支撑层只是为方便说明而采用的具体的示例，在本实施例中，并不限定与上述四种颜色，其他颜色叠加后透光效率变差，均在本实施例的保护范围内。

当然，在本实施例中，还可以采用透明子支撑层与黑色子支撑层层叠构成支撑结构，其中，透明子支撑层可以位于靠近像素定义层的一侧，形成透明子支撑层后，可以采用对位标记将透明子支撑层图形化为支撑结构形状，之后覆盖黑色子支撑层，保留透明子支撑层图形化后形成的支撑结构形状，利用该支撑结构形状作为对位标记对黑色子支撑层进行图形化，最终得到支撑结构。在本实施例中，所称透明子支撑层可以采用透明有机光刻胶，其厚度可以与最终的支撑结构的厚度相同或近似，形成透明子支撑层后，透明子支撑层与其他区域存在较大的阶梯，再形成较薄的黑色子支撑层后，阶梯依然较为明显，可以利用该阶梯处的灰度与其他区域的灰度不同作为对位标记，对黑色子支撑层进行图形化，最终得到具有遮光性的支撑结构，在本实施例中，黑色子支撑层可以采用TiALN，较薄的厚度即可具有较好的遮光性，例如，可以采用物理气相沉积的方式沉积一层厚度为200nm－250nmTiALN，其遮光效率可以达到90以上，在本实施例中，黑色子支撑层的遮光率可以达到95％以上，利用透明子支撑层形成的阶梯作为对位标记对黑色子支撑层进行图形化，不仅可以使得遮光性的支撑结构具有较好的对位精度，而且作业更为简单。

在本实施例中，多层子支撑层中的各个子支撑层的颜色也可以相同，例如，各个子支撑层均为黑色，材料可以采用黑色有机胶，黑色有机胶在较薄的厚度也具有一定的透光性，单层黑色子支撑层可以使对位标记被识别，因此，涂布单层子支撑层后利用对位标记对单层子支撑层进行图形化，暴露对位为标记，或者直接形成支撑结构形状，并重复涂布步骤和图形化步骤，直至形成所需的支撑结构，需要说明的是，本实施例中黑色子支撑层至少需要两层。

作为可选的实施例，子支撑层41还可以采用偏光片制成，按光矢量的振动方向可以正交分解为p矢量和s矢量，而偏光片可以使自然光通过变成偏振光，偏光片只能使某个方向上的光矢量透过。当两个偏光片按照不同的偏光方向重叠时，能够透过的光将会大大减小，尤其是，当两个偏光片的偏光方向垂直时，光无法透光两层偏光片，根据马吕斯定律I＝λ×(cosα)＾2，其中，λ为常数，α为两个偏光片的偏光方向的夹角，I为透光量，那么当α＝90°，I＝λ*0＝0，即可以阻止自然光透射。因此，在本实施例中，至少层叠设置的第一偏光片和第二偏光片；第一偏光片和第二偏光片的偏光方向不同，两个偏光片叠加后，由于偏光方向不同，可以大大减小光的透射量，因此，可以形成遮光效果较好的支撑结构40，作为较佳的实施例，第一偏光片和第二偏光片的偏光方向垂直，方向垂直即可以完全遮住外界光，防止外界光入射至沟道区21，并可以有效的防止导电线路对环境光的反射。

本发明实施例提供了一种显示面板制作方法，具体的可以参见图3所示，

S10.提供具有对位标记的阵列基板1，阵列基板包括衬底10、像素电路20、像素定义层30。具体的，对于阵列基板1的描述可以参见上述实施例中对于显示面板中的阵列基板1的描述，这里不再赘述。

S20.在像素定义层远离像素电路的一侧形成一层子支撑；

S30.对子支撑层进行第一次图形化，使对位标记可识别，并重复步骤S20和步骤S30。具体的，每形成一层子支撑层41，对当前子支撑层41进行图形化，暴露对位标记50。在像素定义层30远离像素电路20的一侧形成一层子支撑层41，在每形成一层子支撑层后，均利用该对位标记50将当前子支撑层的对位标记对应的区域刻蚀暴露对位标记50，直至形成最后一层子支撑层后，对位机构与对位标记50之间只存在一层或者少数几层子支撑层或者不存在子支撑层。在本实施例中，结合附图对形成多层子支撑层进行举例说明，具体的，为方便说明，在本实施例中以两层为例，在像素定义层远离像素电路的一侧形成第一子支撑层42，具体的可以参见图4所示的俯视图。对第一子支撑层42图形化，暴露对位标记50，具体的可以参见图5所示的俯视图。在第一子支撑层上形成第二子支撑层43，具体的可以参见图6所示的俯视图，在图6中的区域A也为叠层结构，只是为了方便展示层叠的支撑结构，将区域A的一层或多层子支撑结构去除。由于各个子支撑层具有一定的透光性，在最后一层支撑层形成后，可以利用单层子支撑层的透光性，可以较为准确的抓取对位标记，可以得到位置精准的支撑结构。

S40.利用对位标记对层叠设置的子支撑进行第二次图形化，得到支撑结构。在本实施例中，每形成一层子支撑层，利用单层子支撑层的透光性，对该子支撑层对位标记区域刻蚀，暴露该对位标记50，直至最后一层子支撑层，具体的，最后一层支撑层形成后，可以将位标记区域刻蚀，暴露该对位标记，为节省工艺步骤，节省成本，在本实施例中，最后一层子支撑层可以整面形成，无需刻蚀，利用子支撑层的透光性，在对多层子支撑层图形化时，可以较为准确的抓取对位标记。

在本实施例中，可以通过电镀、蒸镀、涂布、丝网印刷、或喷墨打印中的至少之一的方式在像素定义层上形成子支撑层。具体的，可以采用狭缝涂布的方式在像素定义层上涂布子支撑层，其中，涂布区域可以避开对位标记对应的区域；还可以采用丝网印刷的方式在像素定义层上印刷子支撑层，其中，可以在丝网中遮挡与对位标记对应的区域；采用蒸镀的方式在像素定义层上蒸镀子支撑层，其中，蒸镀所用的掩膜的开口避开对位标记对应的区域；采用喷墨打印的方式在像素定义层上喷印子支撑层，其中，喷印区域避开对位标记对应的区域。

在本实施例中，可以在像素定义层远离像素电路的一侧形成依次形成多层不同颜色的子支撑层，每形成一层子支撑层，对当前子支撑层进行图形化，暴露对位标记，子支撑层包括：红色子支撑层、蓝色子支撑层、绿色子支撑层和黄色子支撑层中的至少两个。具体的颜色的顺序可以不做限定，在本实施例中，可以先形成红色子支撑层，刻蚀后暴露对位标记，再形成蓝色子支撑层。再利用蓝色子支撑层的透光性，抓取对位标记。作为优选的实施例，可以采用三原色叠加形成黑色，即红色子支撑层、蓝色子支撑层和黄色子支撑层的叠加，至于形成的顺序在本实施例中不做限定，具体的过程可以参考红色子支撑层和蓝色子支撑层的制作过程。

作为可选的实施例，多层子支撑层中的各个子支撑层的颜色也可以相同，例如，各个子支撑层均为黑色，材料可以采用黑色有机胶，黑色有机胶在较薄的厚度也具有一定的透光性，单层黑色子支撑层可以使对位标记被识别，因此，涂布单层子支撑层后利用对位标记对单层子支撑层进行图形化，暴露对位为标记，或者直接形成支持结构形状，并重复涂布步骤和图形化步骤，直至形成所需的支撑结构，需要说明的是，本实施例中黑色子支撑层至少需要两层。

作为可选的实施例方式，子支撑层可以采用偏光片制得，两层不同偏光方向的偏光片叠加可以使得透光性大大降低，尤其在两偏光片的偏光角度垂直时，叠加的两个偏光不具有透光性。具体的可以参见上述实施例中对于原理的描述，在本实施例中，详细介绍制作方法，具体的可以包括：在像素定义层远离像素电路的一侧形成第一偏光片；对第一偏光片图形化，暴露对位标记；在第一偏光片远离像素定义层的一侧形成与第一偏光片的偏光方向不同的第二偏光片。在本实施例中，偏光片可以采用涂布的方式，利用偏光片材料溶液，通过旋涂，丝网印刷或喷墨打印等方式形成。在本实施例中，还可以采用直接贴附偏光片膜层。

作为可选的实施例，对位标记包括第一对位标记和第二对位标记，其中，第一对位标记包括位于阵列基板上的对位标记；在本实施例中，显示面板制作方法还包括：在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧形成透明材料层；利用所述第一对位标记对所述透明材料进行图形化，得到透明支撑结构；在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧以及所述透明支撑结构上形成一层遮光层，所述透明支撑结构所在的区域形成凸起；利用所述凸起作为第二对位标记对所述遮光层进行图形化，形成支撑结构。具体的，如图7－9所示，可以在像素定义层远离像素电路的一侧形成透明子支撑层41，例如，可以采用透明光刻胶形成该透明子支撑层41，形成透明子支撑层41后，可以采用对位标记将透明子支撑层图形化为支撑结构形状43，之后覆盖黑色子支撑层41，保留透明子支撑层图形化后形成的支撑结构形状43，在本实施例中，可以采用物理气相沉积的方式沉积覆盖一层厚度较薄的黑色材料，例如可以沉积一层厚度为200nm－250nm的TiALN，有黑色材料的厚度较薄，不会影响透明子支撑层的形状，透明子支撑层与其他区域之间存在阶梯，可以利用该阶梯处的灰度与其他区域的灰度不同作为对位标记，对黑色子支撑层进行图形化，最终得到具有遮光性的支撑结构42。

作为可选的实施例，可以采用另外一种制作显示面板的方法制作上述实施例中显示面板，具体的，提供具有对位标记的阵列基板，所述阵列基板包括衬底、像素电路、像素定义层；具体的，对于阵列基板1的描述可以参见上述实施例中对于显示面板中的阵列基板1的描述，这里不再赘述。

在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧，所述对位标记对应的区域的表面进行疏液性处理，形成疏液性区域；在本实施例中，可以利用卤族元素和/或惰性气体对对位标记对应的区域的表面进行改性处理。该卤族元素例如为氟元素、氯元素和溴元素等。例如，在等离子处理中可以利用这些卤族元素的有机物来得到相应等离子体，由此在对位标记对应的区域的表面产生具有疏液性的等离子体。

在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧涂布至少一层遮光材料层，并利用所述疏液性区域暴露所述对位标记，所述疏液性区域相对于固化前的所述遮光材料具有疏液性；在本实施例中，遮光材料可以采用黑色有机胶52，由于黑色有机胶52的溶剂为有机液体，该有机溶剂为憎水性质，如表面为憎水性，则黑色有机胶52可以较好的附着，如表面为亲水性，则黑色有机胶52粘附在表面。可以利用黑色有机胶52的溶剂的增水性，可以将对位标记50对应的区域51的表面处理为亲水性，在黑色有机胶51涂布时，无法粘附在对位标记50对应的区域51的表面，则可以暴露对位标记50，如图11所示。利用所述对位标记对所述遮光材料层图形化，形成支撑结构。

可以理解的是，本申请文件中所指的暴露，可以包括两种情况，一种情况是对位标记上方没有子支撑层，另一种情况是对位标记上方有若干子支撑层，若干子支撑层透光，可被机器识别，从而可被准确抓取对位标记。

在可选地实施例中，在形成支撑结构之后，还包括，在支撑结构上形成封装层。封装层用于使发光层隔绝空气中的氧气和水蒸汽等气体，延长显示面板的使用寿命。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述任意实施例的显示面板。在本实施中，上述显示装置可以为手机、平板、电视机、显示器、掌上电脑、ipod、数码相机、导航仪等具有显示功能的产品或者部件。

虽然结合附图描述了本发明的实施例，但是本领域技术人员可以在不脱离本发明的精神和范围的情况下作出各种修改和变型，这样的修改和变型均落入由所附权利要求所限定的范围之内。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

具有对位标记的阵列基板，所述阵列基板包括：层叠设置的衬底、像素电路、像素定义层以及支撑结构，其中，

所述支撑结构包括层叠的多层子支撑层，其中，所述多层子支撑层中的至少一层子支撑层可使所述对位标记可识别。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述支撑结构随着子支撑层的层数的增加透光性下降；

优选的，所述对位标记对应的区域的子支撑层的层数小于其他区域的子支撑层的层数；

优选的，所述子支撑层的颜色各不相同；

优选的，所述支撑结构在所述衬底上的投影与所述像素电路在所述衬底上的投影至少部分重叠。

3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述多层子支撑层包括：

红色子支撑层、蓝色子支撑层、绿色子支撑层和黄色子支撑层中的至少两个；

优选的，各单层子支撑层的遮光率小于50％；

优选的，所述多层子支撑层包括：

依次层叠于所述像素定义层上的透明子支撑层和黑色子支撑层；

优选的，所述黑色子支撑层的材料包括TiALN或氧化银，所述黑色子支撑层的遮光率大于90％。

4.如权利要求1－3任一所述的显示面板，其特征在于，所述子支撑层厚度为0.5μm～1μm；

优选的，所述子支撑层厚度为0.6μm～0.9μm。

5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述子支撑层包括：

至少层叠设置的第一偏光片和第二偏光片，所述第一偏光片和所述第二偏光片的偏光方向不同；

优选的，所述第一偏光片和所述第二偏光片的偏光方向垂直。

6.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

a.提供具有对位标记的阵列基板，所述阵列基板包括衬底、像素电路、像素定义层；

b.在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧形成一层子支撑层；

c.对所述子支撑层进行第一次图形化，使所述对位标记可识别；

d.重复步骤b，和/或，重复步骤b和步骤c，直至形成至支撑结构所需的层数；

e.利用所述对位标记对层叠设置的子支撑层进行第二次图形化，得到支撑结构。

7.如权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤d包括：

在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧形成第一子支撑层；

对所述第一子支撑层进行第一次图形化，暴露所述对位标记；

整面形成第二子支撑层，所述第二子支撑层覆盖所述对位标记；

所述第一子支撑层和第二子支撑层颜色各不相同，第一子支撑层或第二子支撑层包括：红色子支撑层、蓝色子支撑层、绿色子支撑层和黄色子支撑层中的至少一个；

优选的，在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧形成第一偏光片；

对所述第一偏光片第一次图形化，暴露所述对位标记；

在所述第一偏光片远离所述像素定义层的一侧形成与所述第一偏光片的偏光方向不同的第二偏光片；

优选的，所述第一偏光片和所述第二偏光片的偏光方向垂直。

8.如权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述对位标记包括第一对位标记和第二对位标记，其中，第一对位标记包括位于阵列基板上的对位标记；

所述步骤d包括：

在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧形成透明材料层；

利用所述第一对位标记对所述透明材料进行第一次图形化，得到透明支撑结构；

在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧的所述透明支撑结构上形成一层遮光层，并且，在透明支撑结构所在区域与其他区域形成阶梯；

上述步骤e包括：

利用所述阶梯作为第二对位标记对所述遮光层进行图形化，形成支撑结构；

优选的，所述第一子支撑层和/或第二子支撑层厚度为0.5μm～1μm。

9.如权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在所述步骤b之前还可以包括：

f.在所述像素定义层远离所述像素电路的一侧，所述对位标记对应的区域的表面进行疏液性处理，形成疏液性区域。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1－5任意一项所述的显示面板。

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