CN109118958A - 对位装置、对位系统和对位方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种对位装置、对位系统和对位方法,用于供若干个待对位结构进行对位,待对位结构上设置有具有预设形状的对位标记,对位标记的材料包括介电材料,该对位装置包括:第一电极、第二电极和电容检测电路;第一电极和第二电极相对设置,第一电极朝向第二电极的一侧为第一表面,第二电极朝向第一电极的一侧为第二表面,第一表面和第二表面均具有预设形状,第一表面与第二表面正对;电容检测电路用于在对位过程中检测第一电极与第二电极之间的电容变化,并根据第一电极与第二电极之间的电容变化确定待对位结构上的对位标记是否与第一表面正对。本发明的技术方案有利于待对位结构的精准对位。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种对位装置、对位系统和对位方法。
背景技术
在显示面板的生产过程中,需要将两块显示基板进行对位、密封,两块显示基板的对位精准度将直接影响最终成型后的显示面板的性能。
在现有技术中,往往是基于光学检测技术来控制两块显示基板的对位精准度。具体地,两块显示基板上均预先设置有适配的对位标记,在对位过程中通过自动光学检测(Automatic Optic Inspection,简称AOI)设备来观察两块显示基板上对位标记的图像,当两个对位标记的图像完完全重合时,则表示两块显示基板精准对位。
在实际应用过程中发现,由于两块显示基板层叠放置,因此距离AOI设备较远的显示基板上对位标记所反射的光会先经过距离AOI设备较近的显示基板,然后再射入至AOI设备;其中,光线在经过距离AOI设备较近的显示基板过程中会发生折射,使得AOI设备中所观察到的距离AOI设备较远的显示基板上的对位标记的位置,与该对位标记的真实位置存在一定偏差,因此当AOI设备中两个对位标记的图像完完全重合时,两个对位标记并未真正正对。由此可见,现有的基于光学检测技术的对位过程,其对位精准度较差。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种对位装置、对位系统和对位方法。
为实现上述目的,本发明提供了一种对位装置,用于供若干个待对位结构进行对位,所述待对位结构上设置有具有预设形状的对位标记,所述对位标记的材料包括介电材料,其特征在于,所述对位装置包括:第一电极、第二电极和电容检测电路;
所述第一电极和所述第二电极相对设置,所述第一电极朝向所述第二电极的一侧为第一表面,所述第二电极朝向所述第一电极的一侧为第二表面,所述第一表面和所述第二表面均具有所述预设形状,所述第一表面与所述第二表面正对;
所述电容检测电路用于在对位过程中检测所述第一电极与所述第二电极之间的电容变化,并根据所述第一电极与所述第二电极之间的电容变化确定所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对。
可选地,所述电容检测电路包括:发射单元、检测单元和判断单元;
所述发射单元与所述第一电极连接,用于向所述第一电极提供初始振荡信号;
所述检测单元与所述第二电极连接,用于检测所述第二电极输出的感应振荡信号的变化,所述感应振荡信号的变化表征所述第一电极与所述第二电极之间的电容的变化;
所述判断单元与所述检测单元连接,用于根据所述检测单元所检测到的所述感应振荡信号来确定所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对。
可选地,所述判断单元用于根据所述感应振荡信号的频率或周期来判断所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对。
可选地,所述电容检测电路还包括:负载,所述发射单元通过所述负载与所述第一电极连接。
为实现上述目的,本发明还提供了一种对位系统,包括:如上述的对位装置。
为实现上述目的,本发明还提供了一种对位方法,所述对位方法基于上述的对位装置,所述对位方法包括:
调节所述待对位结构的位置,以改变所述待对位结构上的所述对位标记与所述第一表面之间的相对位置;
所述电容检测电路检测所述第一电极与所述第二电极之间的电容,并根据所述第一电极与所述第二电极之间的电容确定所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对;
其中,当所述电容检测电路检测出所述第一电极与所述第二电极之间的电容为预设阈值时,则判断出所述对位标记与所述第一表面正对;否则,判断出所述对位标记不与所述第一表面正对,再次执行所述调节所述待对位结构的位置的步骤。
当所述对位装置中的所述电容检测电路包括:发射单元、检测单元和判断单元时,所述通过所述电容检测电路检测所述第一电极与所述第二电极之间的电容,并根据所述第一电极与所述第二电极之间的电容确定所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对的步骤包括:
所述发射单元向所述第一电极提供初始振荡信号;
所述检测单元检测所述第二电极输出的感应振荡信号的变化,所述感应振荡信号的变化表征所述第一电极与所述第二电极之间的电容的变化;
所述判断单元根据所述检测单元所检测到的所述感应振荡信号的信号特征来确定所述第一电极与所述第二电极之间的电容是否为预设阈值;
其中,当检测到所述感应振荡信号的信号特征满足预设条件时,则确定出所述第一电极与所述第二电极之间的电容为所述预设阈值;否则,确定出所述第一电极与所述第二电极之间的电容不为所述预设阈值。
可选地,所述判断单元根据所述检测单元所检测到的所述感应振荡信号来确定所述第一电极与所述第二电极之间的电容是否为预设阈值的步骤包括:
所述判断单元判断所述振荡信号的频率是否为预设频率;
当判断出所述感应振荡信号的频率为预设频率时,则判断出所述第一电极与所述第二电极之间的电容为所述预设阈值;否则,判断出所述第一电极与所述第二电极之间的电容不为所述预设阈值;或,
所述判断单元判断所述振荡信号的周期是否为预设周期;
当判断出所述感应振荡信号的周期为预设周期时,则判断出所述第一电极与所述第二电极之间的电容为所述预设阈值;否则,判断出所述第一电极与所述第二电极之间的电容不为所述预设阈值。
可选地,调节所述待对位结构的位置的步骤之前还包括:
将所述待对位结构上的所述对位标记与所述第一表面进行粗对位。
为实现上述目的,本发明还提供了一种显示面板对位方法,所述显示面板包括:第一基板和第二基板,所述显示面板对位方法包括:
以所述第一基板作为一个待对位结构,采用上述对位方法将所述第一基板上的对位标记与所述第一表面进行正对;
以所述第二基板作为一个待对位结构,采用上述对位方法将所述第二基板上的对位标记与所述第一表面进行正对。
附图说明
图1a为本发明实施例一提供的一种对位装置的结构示意图;
图1b为图1a所示对位装置的等效电路示意图;
图2为本发明中发射单元所输出初始振荡信号的示意图;
图3位第二电极所输出的感应振荡信号的示意图;
图4为本发明实施例二提供的一种对位方法的流程图;
图5为本发明实施例三提供的一种显示面板对位方法的流程图;
图6a为本发明中阵列基板的俯视图;
图6b为本发明中对盒基板的俯视图;
图7a为将阵列基板上的对位标记与第一表面正对时的示意图;
图7b为将对盒基板上的对位标记与第一表面正对时的示意图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图对本发明提供的一种对位装置、对位系统和对位方法进行详细描述。
图1a为本发明实施例一提供的一种对位装置的结构示意图,图1b为图1a所示对位装置的等效电路示意图,如图1a和1b所示,该对位装用于供若干个待对位结构7进行对位,待对位结构7上设置有具有预设形状的对位标记8,对位标记8的材料包括介电材料,该对位装置包括:第一电极1、第二电极2和电容检测电路3。
其中,第一电极1和第二电极2相对设置,第一电极1朝向第二电极2的一侧为第一表面1a,第二电极2朝向第一电极1的一侧为第二表面2a,第一表面1a和第二表面2a均具有预设形状,第一表面1a与第二表面2a正对。
在本发明中,待对位结构7上的对位标记8的形状、第一电极1上的第一表面1a的形状、第二电极2上的第二表面2a的形状,三者相同。
需要说明的是,本发明中的第一表面1a与第二表面2a正对具体是指,第一表面1a与第二表面2a平行且两者相对设置,同时第一表面1a在第二表面2a所在平面的正投影与所述第一表面1a正好重叠。
电容检测电路3用于在对位过程中检测第一电极1与第二电极2之间的电容变化,并根据第一电极1与第二电极2之间的电容变化确定待对位结构7上的对位标记8是否与第一表面1a正对。
需要说明的是,本发明中的对位标记8与第一表面1a正对具体是指,对位标记8朝向第一表面1a的一侧的表面与第一表面1a平行且两者相对设置,同时对位标记8朝向第一表面1a的一侧的表面在第一表面1a所在平面的正投影与所述第一表面1a正好重叠。此外,当对位标记8与第一表面1a正对时,则对位标记8同时也与第二表面2a正对。
在本发明中,第一电极1与第二电极2之间可形成电容C:
其中,ε表示第一电极1与第二电极2之间介质的介电常数,s为第一表面1a与第二表面2a的正对面积,k为静电力常量,d为第一表面1a与第二表面2a之间的距离。
由于待对位结构7上的对位标记8由介电材料构成,因此当对位标记8位于第一电极1与第二电极2之间时,会使得第一电极1与第二电极2之间介质的介电常数ε发生变化,第一电极1与第二电极2之间的电容发生变化,因此第一电极1与第二电极2所形成的电容的大小可精准反映出对位标记8是否与第一表面1a正对。
具体地,对位标记8与第一表面1a(第二表面2a)交叠的面积越大,第一电极1与第二电极2之间介质的介电常数ε越大,第一电极1与第二电极2之间形成的电容C越大,当对位标记8与第一表面1a正对时,对位标记8与第一表面1a(第二表面2a)交叠的面积达到最大,第一电极1与第二电极2之间形成的电容C达到一个最大值。因此,可通过预先实验来获取该对位标记8与第一表面1a正对时第一电极1与第二电极2之间形成的电容,并作为预设阈值C0。
在实际对位过程中,当电容检测电路3检测出第一电极1与第二电极2之间的电容C等于预设阈值C0时,则可判断出对位标记8与第一表面1a正对;否则,判断出对位标记8不与第一表面1a正对,继续调节待对位结构7的位置,直至检测出第一电极1与第二电极2之间的电容C等于预设阈值C0。
在将第一个待对位结构7上的对位标记8与第一表面1a正对后,再基于相同的原理将其他各待对位结构7上的对位标记8分别与第一表面1a正对。此时,所有待对位结构7上的对位标记8均与第一表面1a正对,即任意两个待对位结构7上的对位标记8正对,此时全部待对位结构7完成对位。
需要说明的是,在将各待对位结构7上的对位标记8分别与第一表面1a正对的过程中,第一电极1与第二电极2之间介质的介电常数ε会逐步增大,因此在各对位过程中用于判断是否正对时所选取的“预设阈值”也是逐步增大,各对位过程中所选取的预设阈值的具体数值可根据预先实验进行确定。
本实施例中可选地,电容检测电路3包括:发射单元4、检测单元5和判断单元6。
其中,发射单元4与第一电极1连接,用于向第一电极1提供初始振荡信号。
检测单元5与第二电极2连接,用于检测第二电极2输出的感应振荡信号的变化,感应振荡信号的变化表征第一电极1与第二电极2之间的电容的变化。
判断单元6与检测单元5连接,用于根据检测单元5所检测到的感应振荡信号来确定待对位结构7上的对位标记8是否与第一表面1a正对。
图2为本发明中发射单元所输出初始振荡信号的示意图,图3位第二电极2所输出的感应振荡信号的示意图,如图2和图3所示,在本发明中,发射单元4、检测单元5以及由第一电极1和第二电极2所构成的电容可形成振荡电路,发射单元4输出初始振荡信号呈方波形,第二电极2输出感应振荡信号呈正弦波形,此时第二电极2所输出的感应振荡信号的变化,可表征第一电极1与第二电极2之间的电容的变化;感应振荡信号的信号特征可表征出第一电极1与第二电极2之间的电容。
可选地,检测单元5包括:电流计A,电流计A可有效采集感应振荡信号遂时间变化的电流特性。
此时,判断单元6具体可用于根据检测单元5所检测到的感应振荡信号的信号特征来确定第一电极1与第二电极2之间的电容是否为预设阈值;其中,当检测到感应振荡信号的信号特征满足预设条件时,则确定出第一电极1与第二电极2之间的电容为预设阈值;否则,确定出第一电极1与第二电极2之间的电容不为预设阈值。
进一步可选地,信号特征具体为感应振荡信号的频率或周期(又称为脉冲宽度)。其中,第一电极1与第二电极2之间的电容越大,则感应振荡信号的周期越大、频率越小。
当信号特征为感应振荡信号的频率时,则判断单元6具体用于判断感应振荡信号的频率是否为预设频率;当判断出感应振荡信号的频率为预设频率时,则判断出第一电极1与第二电极2之间的电容为预设阈值;否则,判断出第一电极1与第二电极2之间的电容不为预设阈值。
当信号特征为感应振荡信号的周期时,则判断单元6判断感应振荡信号的周期是否为预设周期;当判断出感应振荡信号的周期为预设周期时,则判断出第一电极1与第二电极2之间的电容为预设阈值;否则,判断出第一电极1与第二电极2之间的电容不为预设阈值。
因此,可根据预先实验来获取待对位结构7上的对位标记8与第一表面1a正对时第二电极2所输出的感应振荡信号的频率或周期,以作为预设频率或预设周期。需要说明的是,在逐个将取待对位结构7与第一表面1a对位的过程中,由于第一电极1与第二电极2之间的电容所对应的预设阈值增大,因此针对感应振荡信号所设置的“预设周期”也相应增大,针对感应振荡信号所设置的“预设频率”相应减小。因此在各对位过程中所选取的“预设周期”“预设频率”的具体数值可根据预先实验进行确定。
本实施例中,优选地,电容检测电路还包括:负载R,发射单元4通过负载R与第一电极1连接。在本发明中,通过在发射单元4与第一电极1之间设置负载R可有效降低电路中的电流,以防止第一电极1和第二电极2所形成的电容C被击穿。
图4为本发明实施例二提供的一种对位方法的流程图,如图4所示,该对位方法基于上述实施例一提供的对位装置,对于对位装置的描述,可参见上述实施例一中的内容。该对位方法包括:
步骤S0、将待对位结构上的对位标记与第一表面进行粗对位。
在步骤S0中,基于光学检测技术采用AOI设备以将待对位结构上的对位标与第一表面进行粗对位,该粗对位过程为本领域的公知技术,此处不再赘述。
步骤S 1、调节待对位结构的位置。
在步骤S1中,通过机械手(未示出)调节待对位结构的位置,以改变待对位结构上的对位标记与第一表面之间的相对位置。
步骤S2、电容检测电路检测第一电极与第二电极之间的电容,并根据第一电极与第二电极之间的电容确定待对位结构上的对位标记是否与第一表面正对。
其中,当电容检测电路检测出第一电极与第二电极之间的电容为预设阈值时,则判断出对位标记与第一表面正对;否则,判断出对位标记不与第一表面正对,再次执行上述步骤S1。通过对待对位结构的位置进行一次或多次调整,直至电容检测电路检测出第一电极与第二电极之间的电容为预设阈值时终止,此时待对位结构上的对位标记与第一表面正对。
可选地,当电容检测电路包括:发射单元、检测单元和判断单元时,步骤S2包括:
步骤S201、发射单元向第一电极提供初始振荡信号。
步骤S202、检测单元检测第二电极输出的感应振荡信号的变化。
其中,感应振荡信号的变化表征第一电极与第二电极之间的电容的变化。
步骤S203、判断单元根据检测单元所检测到的感应振荡信号的信号特征来确定第一电极与第二电极之间的电容是否为预设阈值。
其中,当检测到感应振荡信号的信号特征满足预设条件时,则确定出第一电极与第二电极之间的电容为预设阈值;否则,确定出第一电极与第二电极之间的电容不为预设阈值。
进一步可选地,当信号特征为感应振荡信号的频率时,步骤S203具体包括:判断单元判断感应振荡信号的频率是否为预设频率。其中,当判断出感应振荡信号的频率为预设频率时,则判断出第一电极与第二电极之间的电容为预设阈值;否则,判断出第一电极与第二电极之间的电容不为预设阈值。
当信号特征为感应振荡信号的周期时,步骤S203具体包括:判断单元判断感应振荡信号的周期是否为预设周期;当判断出感应振荡信号的周期为预设周期时,则判断出第一电极与第二电极之间的电容为预设阈值;否则,判断出第一电极与第二电极之间的电容不为预设阈值。
对于上述步骤S1和步骤S2的具体描述,可见上述实施例一中的相应内容,此处不再赘述。
需要说明的是,上述先利用步骤S0进行粗对位,再通过步骤S1和步骤S2进行精准对位的方案为本发明的优选方案,通过执行步骤SO可有效减少后续精准对位过程中步骤S1和步骤S2的执行次数。由此可见,上述步骤S0不是必要的步骤,本发明提供的对位方法可仅包括上述步骤S 1和步骤S2。
图5为本发明实施例三提供的一种显示面板对位方法的流程图,图6a为本发明中阵列基板的俯视图,图6b为本发明中对盒基板的俯视图,图7a为将阵列基板上的对位标记与第一表面正对时的示意图,图7b为将对盒基板上的对位标记与第一表面正对时的示意图,如图5至7b所示,该显示面板包括:第一基板和第二基板,第一基板和第二基板中的一者为阵列基板9,另一者为与阵列基板9对盒用的对盒基板,对盒基板具体可以为彩膜基板10。阵列基板9和彩膜基板10上均预先设置有具有预设形状的对位标记8,该预设形状包括但不限于矩形、三角形、圆形等。此外,本发明的技术方案对对位标记在阵列基板9、彩膜基板10上的具体位置不作限定,附图中阵列基板9和彩膜基板10上均设置四个对位标记8且四个对位标记8分别位于相应基板的四个角落的情况仅起到示意性作用。在本发明中,仅需保证阵列基板9和彩膜基板10上各自至少存在一个对位标记8即可。
此外,阵列基板9上的对位标记8可与阵列基板9上的任一膜层(例如:栅线层、栅绝缘层、有源层、数据线层、像素电极层、钝化层等)同层设置。彩膜基板10上的对位标记8可与阵列基板9上的任一膜层(例如:彩膜层、黑矩阵层、公共电极层等)同层设置。本发明中对位标记8与膜层同层设置具体是指:对位标记8和相应膜层的材料相同,且两者可在同一次图案化工艺中形成。
该显示面板对位方法包括:
步骤Sa:以阵列基板作为待对位结构,采用上述实施例二提供的对位方法将阵列基板上的对位标记与第一表面进行正对。
参见图7a所示,基于电容检测原理将阵列基板9上的对位标记8与第一表面1a进行正对。
步骤Sb:以对盒基板作为待对位结构,采用上述实施例二提供的对位方法将对盒基板上的对位标记与第一表面进行正对。
参见图7b所示,基于电容检测原理将对盒基板上的对位标记8与第一表面1a进行正对,此时对盒基板上的对位标记8与阵列基板9上的对位标记8正对。
需要说明的是,本发明的技术方案对步骤Sa和步骤Sb的执行顺序不作限定。
在实际应用中,当待对位结构上的对位标记为2个或多个时,针对每一个对位标记可分别设置一个如实施例一所提供的对位装置,当然也可仅针对其中一个对位标记设置一个如实施例一所提供的一个对位装置(在一个对位标记精准对位后,其他对位标记也自然精准对位)。
本发明实施例四提供了一种对位系统,该对位系统包括对位装置,对位装置采用上述实施例一中提供的对位装置,对于该对位装置的具体描述可上述实施例一中的内容,此处不再赘述。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种对位装置,用于供若干个待对位结构进行对位,所述待对位结构上设置有具有预设形状的对位标记,所述对位标记的材料包括介电材料,其特征在于,所述对位装置包括:第一电极、第二电极和电容检测电路;
所述第一电极和所述第二电极相对设置,所述第一电极朝向所述第二电极的一侧为第一表面,所述第二电极朝向所述第一电极的一侧为第二表面,所述第一表面和所述第二表面均具有所述预设形状,所述第一表面与所述第二表面正对;
所述电容检测电路用于在对位过程中检测所述第一电极与所述第二电极之间的电容变化,并根据所述第一电极与所述第二电极之间的电容变化确定所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对。
2.根据权利要求1所述的对位装置,其特征在于,所述电容检测电路包括:发射单元、检测单元和判断单元;
所述发射单元与所述第一电极连接,用于向所述第一电极提供初始振荡信号;
所述检测单元与所述第二电极连接,用于检测所述第二电极输出的感应振荡信号的变化,所述感应振荡信号的变化表征所述第一电极与所述第二电极之间的电容的变化;
所述判断单元与所述检测单元连接,用于根据所述检测单元所检测到的所述感应振荡信号来确定所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对。
3.根据权利要求2所述的对位装置,其特征在于,所述判断单元用于根据所述感应振荡信号的频率或周期来判断所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对。
4.根据权利要求2所述的对位装置,其特征在于,所述电容检测电路还包括:负载,所述发射单元通过所述负载与所述第一电极连接。
5.一种对位系统,其特征在于,包括:如上述权利要求1~4中任一所述对位装置。
6.一种对位方法,其特征在于,所述对位方法基于上述权利要求1~4中任一所述的对位装置,所述对位方法包括:
调节所述待对位结构的位置,以改变所述待对位结构上的所述对位标记与所述第一表面之间的相对位置;
所述电容检测电路检测所述第一电极与所述第二电极之间的电容,并根据所述第一电极与所述第二电极之间的电容确定所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对;
其中,当所述电容检测电路检测出所述第一电极与所述第二电极之间的电容为预设阈值时,则判断出所述对位标记与所述第一表面正对;否则,判断出所述对位标记不与所述第一表面正对,再次执行所述调节所述待对位结构的位置的步骤。
7.根据权利要求6所述的对位方法,其特征在于,当所述对位装置采用上述权利要求2中所述对位装置时,所述通过所述电容检测电路检测所述第一电极与所述第二电极之间的电容,并根据所述第一电极与所述第二电极之间的电容确定所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对的步骤包括:
所述发射单元向所述第一电极提供初始振荡信号;
所述检测单元检测所述第二电极输出的感应振荡信号的变化,所述感应振荡信号的变化表征所述第一电极与所述第二电极之间的电容的变化;
所述判断单元根据所述检测单元所检测到的所述感应振荡信号的信号特征来确定所述第一电极与所述第二电极之间的电容是否为预设阈值;
其中,当检测到所述感应振荡信号的信号特征满足预设条件时,则确定出所述第一电极与所述第二电极之间的电容为所述预设阈值;否则,确定出所述第一电极与所述第二电极之间的电容不为所述预设阈值。
8.根据权利要求7所述的对位方法,其特征在于,所述判断单元根据所述检测单元所检测到的所述感应振荡信号来确定所述第一电极与所述第二电极之间的电容是否为预设阈值的步骤包括:
所述判断单元判断所述振荡信号的频率是否为预设频率;
当判断出所述感应振荡信号的频率为预设频率时,则判断出所述第一电极与所述第二电极之间的电容为所述预设阈值;否则,判断出所述第一电极与所述第二电极之间的电容不为所述预设阈值;
或,
所述判断单元判断所述振荡信号的周期是否为预设周期;
当判断出所述感应振荡信号的周期为预设周期时,则判断出所述第一电极与所述第二电极之间的电容为所述预设阈值;否则,判断出所述第一电极与所述第二电极之间的电容不为所述预设阈值。
9.根据权利要求6-8中任一所述的对位方法,其特征在于,调节所述待对位结构的位置的步骤之前还包括:
将所述待对位结构上的所述对位标记与所述第一表面进行粗对位。
10.一种显示面板对位方法,其特征在于,所述显示面板包括:第一基板和第二基板,所述显示面板对位方法包括:
以所述第一基板作为一个待对位结构,采用上述权利要求6-9中任一所述对位方法将所述第一基板上的对位标记与所述第一表面进行正对;
以所述第二基板作为一个待对位结构,采用上述权利要求6-9中任一所述对位方法将所述第二基板上的对位标记与所述第一表面进行正对。
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109118958A true CN109118958A (zh) | 2019-01-01 |
CN109118958B CN109118958B (zh) | 2021-01-29 |
Family
ID=64861975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN109118958B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110767084A (zh) * | 2019-02-01 | 2020-02-07 | 云谷(固安)科技有限公司 | 显示面板及其制作方法和显示装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1511246A (zh) * | 2001-05-24 | 2004-07-07 | Oht��ʽ���� | 基板位置偏差检测装置及基板位置偏差检测方法 |
CN1983591A (zh) * | 2005-12-12 | 2007-06-20 | 国际商业机器公司 | 晶片间对准的方法和结构 |
CN102692723A (zh) * | 2012-03-21 | 2012-09-26 | 友达光电股份有限公司 | 立体显示面板以及显示面板 |
CN103430314A (zh) * | 2011-03-07 | 2013-12-04 | 皇家飞利浦有限公司 | 电致发光器件 |
CN104282607A (zh) * | 2013-07-09 | 2015-01-14 | 中国科学院微电子研究所 | 晶片对准方法和装置 |
CN105185283A (zh) * | 2015-10-23 | 2015-12-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 检测装置、基板架、检测基板架上基板位置的方法 |
CN106094292A (zh) * | 2016-08-17 | 2016-11-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种液晶盒的检测装置、检测方法及显示面板的制备方法 |
US20170038614A1 (en) * | 2015-08-07 | 2017-02-09 | Instec, Inc. | Measurement techniques for liquid crystal parameters and ion impurities |
-
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1511246A (zh) * | 2001-05-24 | 2004-07-07 | Oht��ʽ���� | 基板位置偏差检测装置及基板位置偏差检测方法 |
CN1983591A (zh) * | 2005-12-12 | 2007-06-20 | 国际商业机器公司 | 晶片间对准的方法和结构 |
CN103430314A (zh) * | 2011-03-07 | 2013-12-04 | 皇家飞利浦有限公司 | 电致发光器件 |
CN102692723A (zh) * | 2012-03-21 | 2012-09-26 | 友达光电股份有限公司 | 立体显示面板以及显示面板 |
CN104282607A (zh) * | 2013-07-09 | 2015-01-14 | 中国科学院微电子研究所 | 晶片对准方法和装置 |
US20170038614A1 (en) * | 2015-08-07 | 2017-02-09 | Instec, Inc. | Measurement techniques for liquid crystal parameters and ion impurities |
CN105185283A (zh) * | 2015-10-23 | 2015-12-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 检测装置、基板架、检测基板架上基板位置的方法 |
CN106094292A (zh) * | 2016-08-17 | 2016-11-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种液晶盒的检测装置、检测方法及显示面板的制备方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
周清军: "《嵌入式RAM的优化设计及前后端关键技术研究》", 31 July 2016 * |
张昕等: "《控制工程基础与信号处理》", 31 August 2018 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110767084A (zh) * | 2019-02-01 | 2020-02-07 | 云谷(固安)科技有限公司 | 显示面板及其制作方法和显示装置 |
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PB01 | Publication | ||
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