CN110612441A - 使用maldi质谱法定量分析聚合物的方法，和制备用于定量分析聚合物的maldi质谱法的试样的方法 - Google Patents

使用maldi质谱法定量分析聚合物的方法，和制备用于定量分析聚合物的maldi质谱法的试样的方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种能够通过MALDI质谱法定量分析聚合物的方法，以及一种制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法。为此，所述方法可以通过使影响聚合物MALDI谱图中的图案的试样厚度更均匀来提高MALDI谱图的再现性。根据本发明的试样也可以用于商业MALDI‑TOF设备，因此，可以以更有效和更快速的方式定量分析聚合物。

Description

使用MALDI质谱法定量分析聚合物的方法，和制备用于定量分 析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法
技术领域
本申请要求于2017年10月11日提交的韩国专利申请No.10-2017-0130010的优先权，其全部公开内容通过引用并入本说明书中。
本发明涉及一种通过MALDI质谱法定量分析聚合物的方法，以及制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法。更具体地，本发明提供一种定量分析聚合物的方法和制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法，所述方法能够通过使用市售MALDI-TOF MS设备得到再现性的MALDI谱图。
背景技术
为了通过质谱得到定量信息，谱图的再现性必须确保在相同的试样和实验条件下。
已知MALDI(基质辅助激光解吸电离)难以用于定量分析，因为它缺乏谱图的再现性。
近来，已经报道了通过恒定地保持肽和生物分子材料的MALDI羽流的温度可以得到再现性的MALDI谱图。然而，尚未报道该技术是否适用于聚合物的MALDI光谱测定。另外，由于这种技术不适合商业化MALDI-TOF MS设备，因此具有难以利用该技术的缺点。
发明内容
技术问题
本发明的目的是提供一种通过实现再现性的MALDI谱图，使用MALDI质谱法定量分析聚合物的方法。
本发明的另一目的是提供一种制备适合得到再现性的聚合物的MALDI谱图的聚合物样品用试样的方法。
为了实现本发明的目的，本发明提供一种使用通过将聚合物化合物、基质和溶剂的混合溶液的聚合物样品从主喷嘴经掩模电喷射到样品板上而制备的试样，使用MALDI质谱法定量分析聚合物的方法，其中，所述试样的厚度偏差为30％以下，并且所述掩模包括孔，待电喷射的聚合物样品可以通过该孔传递至所述样品板。
根据一个实施方案，在上述条件下制备的试样中，对于同一试样的MALDI谱图的测量结果的误差范围(三次实验的结果的相对标准偏差(RSD))可以在30％以内。
根据一个实施方案，对于在相同条件下制备的至少三个试样的MALDI谱图的测量结果的误差范围可以在30％以内。
根据一个实施方案，所述用于定量分析的方法可以用于测量分子量为1000Da以上的聚合物。
为了实现本发明的另一目的，提供一种制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法，所述方法使用根据本发明的电喷射装置，该电喷射装置包括用于电喷射聚合物化合物、基质和溶剂的混合溶液的聚合物样品的主喷嘴，和通过电喷射所述聚合物样品而在其上放置试样的样品板，所述方法包括以下步骤：
将掩模安装在所述样品板上；
从所述主喷嘴向设置有掩模的样品板上进行所述聚合物样品的电喷射；和
在所述样品板上得到所述聚合物化合物的试样，
其中，所述掩模可以包括孔，待从所述主喷嘴电喷射的聚合物样品可以通过该孔传递至所述样品板，从而在所述样品板上得到厚度偏差小的均匀试样。
另外，在根据本发明的制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法中，所述孔的直径可以为1μm至2μm。
另外，在根据本发明的制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法中，对所述掩模的材料没有具体限制，例如，可以使用不锈钢、铝等。
另外，在根据本发明的制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法中，所述将掩模安装在样品板上的步骤还可以包括在x轴、y轴和z轴方向中的至少一个方向上调整所述掩模的位置。
另外，在根据本发明的制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法中，所述电喷射装置还包括围绕所述主喷嘴并且与所述主喷嘴同轴的辅助喷嘴，并且所述从主喷嘴向样品板上进行聚合物样品的电喷射的步骤还可以包括从辅助喷嘴喷射溶剂以防止基质沉积在所述主喷嘴附近。
另外，在根据本发明的制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法中，所述电喷射装置还包括围绕所述辅助喷嘴并且与所述辅助喷嘴同轴的鞘流气供应管，并且所述从主喷嘴向样品板上进行聚合物样品的电喷射的步骤还可以包括通过鞘流气供应管喷射鞘流气，使得所述鞘流气将待喷射的聚合物样品导流到所述样品板的预定位置上。
另外，在根据本发明的制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法中，使用电喷射装置，该电喷射装置包括用于电喷射聚合物化合物、基质和溶剂的混合溶液的聚合物样品的主喷嘴，和通过电喷射聚合物样品而在其上放置试样的样品板，，所述方法包括以下步骤：
从主喷嘴向样品板上进行所述聚合物样品的电喷射；和
在所述样品板上得到所述聚合物样品的试样，
其中，所述从主喷嘴向样品板上进行聚合物样品的电喷射的步骤还包括以下中的至少一个步骤：(i)从围绕主喷嘴并且与主喷嘴同轴的辅助喷嘴喷射溶剂以防止基质沉积在主喷嘴的附近；和(ii)通过鞘流气供应管喷射鞘流气，使得鞘流气将待喷射的聚合物样品导流到所述样品板的预定位置上，以便在所述样品板上得到厚度偏差小的均匀试样。
另外，在根据本发明的制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法中，通过电喷射的喷射面积为80mm2以下。
有益效果
本发明提供一种通过MALDI质谱法定量分析聚合物的方法和制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法，其中，通过使影响聚合物MALDI谱图中的图案的试样的厚度均匀，可以进一步提高MALDI谱图的再现性。由于根据本发明的试样可以用于商业MALDI-TOF设备，因此可以更有效和快速地进行聚合物的定量分析。
附图说明
图1示出了在通过常规技术制备的试样中，MALDI谱图根据分析点的差异；
图2示出了根据试样的厚度的MALDI谱图的变化和根据MALDI羽流温度的电离效率的差异；
图3示出了在使用常规电喷射的喷射过程中，基质沉积在喷嘴的端部的现象；
图4a至图4e示出了根据本发明的一个实施方案的通过电喷射制备试样的装置；
图5示出了根据本发明的一个实施方案使用掩模制备用于电喷射的试样的过程和根据本发明的一个实施方案制备的试样的显微照片；
图6示出了根据干滴法制备的试样和根据本发明的一个实施方案制备的试样，以及对于上述试样的MALDI谱图的再现性；
图7示出了根据一个实施方案制备的试样的MALDI-TOF谱图的再现性的点与点之间评价的结果；
图8示出了根据一个实施方案的在相同条件下制备的三个以上试样的MALDI-TOF谱图的再现性的样品与样品之间评价的结果。
具体实施方式
由于可以在本发明中进行各种修改和改变，因此具体的实施例在附图中示出，并且将在详细描述中对其进行详细描述。然而，应当理解，本发明不旨在限于具体实施例，而是包含落入本发明的精神和范围内的所有修改、等同形式和替代形式。在本发明的以下描述中，如果确定已知功能的详细描述会使本发明的主旨不清楚，则将省略该已知功能的详细描述。
另外，相同或相应的组件将由相同的附图标记表示，而与符号无关，并且将省略其重复描述。为了便于说明，可能会放大或缩小示出的每个组件的尺寸和形状。
在下文中，将更详细地描述本发明。
本发明提供一种使用通过将聚合物化合物、基质和溶剂的混合溶液的聚合物样品从主喷嘴经掩模电喷射到样品板上而制备的试样，使用MALDI质谱法定量分析聚合物的方法，其中，所述试样的厚度偏差为40％以下、或30％以下、或20％以下，并且所述掩模包括孔，待电喷射的聚合物样品可以通过该孔传递至所述样品板。
从通过常规方法制备的聚合物试样的各个点处得到的MALDI谱图可以发现，试样的中心的谱图和试样的边缘的谱图彼此不同。参考图1，它示出了谱图从试样的中心到边缘以明显的趋势变化，并且在相似点处测量的谱图表现出相对相似的趋势。通常，当羽流的温度相同时，谱图趋于一致，这意味着当羽流的温度不同时，谱图的趋势会不同。因此，图1的结果表明，羽流的温度根据试样的点而变化。另外，羽流的温度与试样的厚度有关，并且羽流的温度随着厚度增加趋于增加。从该常规事实可以预见，试样的厚度是影响聚合物的MALDI谱图中的图案的因素。
图2示出了根据试样的厚度的温度变化对聚合物的电离效率的影响。参考图2中BHB-PPG+PPG样品(1)的试样中根据分析点的谱图强度的变化，可以看出，BHB-PPG与PPG的信号强度比在中心比在试样边缘更大。该现象的原因可以从示出根据温度的Na+和聚合物的结合能的变化的图中预测。图2的右侧的图是根据温度的Na+和聚合物的结合能的变化的图。Na+与聚合物的结合能可以通过以下等式得到：
结合能＝E(Na+，聚合物)-(E(Na+)+E(聚合物))
在以上等式中，E(Na+)和E(聚合物)分别是指Na+和聚合物的能量，而E(Na+，聚合物)是指Na+和聚合物结合的结构的能量。分子的最佳结构和能量可以由密度泛函理论(DFT)确定。Na+与聚合物的结合能越低，Na+的亲和性越高。因此，可以预见，随着温度升高，BHB-PPG相对于PPG将产生更多的离子。在图2的AP-PDMS+H-PDMS样品(2)的情况下，实验结果可以通过使用根据温度的Na+和聚合物的结合能的变化图来预测。从这些结果可以看出，羽流的温度会影响电离效率。通常，羽流的这种温度变化会由试样厚度的差异造成。因此，可以发现，为了得到均匀和再现性的MALDI谱图，应该使用厚度均匀的试样。
因此，在本发明中，通过使用厚度偏差为40％以下、或30％以下、或20％以下的试样来测量聚合物的MALDI谱图，所述试样采用电喷射经由掩模来制备，可以得到再现性的MALDI谱图，从而能够定量分析聚合物。
根据本发明的聚合物的MALDI谱图在相同条件下的三次以上试验的结果的RSD(相对标准偏差)可以为30％以下。例如，在对于同一试样中的三个以上点的点与点之间评价的情况下，误差可以在30％以内，优选在20％以内，更优选在15％以内。即使在相同条件下制备的三个以上试样的样品与样品之间评价的情况下，也可以得到误差在30％以内的再现性的MALDI谱图。
本发明还提供一种制备适合得到如上所述的聚合物的再现性MALDI谱图的聚合物样品的试样的方法。
因此，为了制备如上所述的厚度均匀的试样，提供一种制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法，所述方法使用电喷射装置，该电喷射装置包括电喷射聚合物化合物、基质和溶剂的混合溶液的聚合物样品的主喷嘴，和通过电喷射所述聚合物样品而在其上放置试样的样品板，所述方法包括以下步骤：
将掩模安装在所述样品板上；
从所述主喷嘴向设置有掩模的样品板上进行所述聚合物样品的电喷射；和
在所述样品板上得到所述聚合物化合物的试样，
其中，所述掩模可以包括孔，待从所述主喷嘴电喷射的聚合物样品可以通过该孔传递至所述样品板，从而在所述样品板上得到厚度偏差小的均匀试样。
为了得到再现性的MALDI谱图，最重要的是，通过控制试样的厚度来制备厚度偏差小的试样。为此，在本发明中，通过采用电喷射经由掩模仅选择样品的喷射区域的中心来测量MALDI谱图。以该方式，可以制备厚度偏差小的均匀试样。通过该方法制备的聚合物试样可以用于商用MALDI-TOF MS设备，并且提供误差范围在30％以内的再现性的MALDI谱图。由此，可以定量分析聚合物样品。
根据采用电喷射的方法，可以以大面积更均匀地喷射和沉积聚合物样品。电喷射具有简单的喷嘴的形状和结构，因此易于制备，并且易于产生数十个微米尺寸至数百个纳米尺寸的液滴。另外，由于液滴具有单分散分布并且液滴的表面带电，所以具有液滴难以彼此结合并且容易控制液滴的优点。另外，可以制备大面积，可以通过在大气压下喷射来制备，并且由于静电效应而具有更稳定的特性的试样。
另一方面，在根据现有技术的采用电喷射的喷射过程中，当喷射聚合物化合物、基质和溶剂的混合溶液时，在喷嘴的端部存在基质沉积的现象，因此，由于在喷嘴的端部沉积的基质，存在样品的电喷射的再现性变差的问题(见图3)。也就是说，由于沉积在喷嘴的端部的基质，难以将样品喷射到预定位置上。
在根据本发明的一个实施方案的通过电喷射制备试样的方法中采用电喷射的喷射过程中，电喷射装置10的喷嘴单元100(见图4e)包括：主喷嘴110，通过该主喷嘴聚合物化合物、基质和溶剂的混合溶液(以下称为“聚合物样品”或“样品”)被喷射，和围绕主喷嘴110并且与主喷嘴110同轴的辅助喷嘴120，辅助喷嘴120被构造为喷射溶剂，如图4a中所示，图4a涉及在根据本发明的一个实施方案的通过电喷射制备试样的方法中使用的喷嘴的截面图。在图4a中，主喷嘴110中的实线箭头表示从主喷嘴110喷射的聚合物样品流，辅助喷嘴120中的用点线表示的箭头表示从辅助喷嘴120喷射的聚合物样品流。即，通过从主喷嘴110喷射聚合物样品的同时从围绕主喷嘴110的辅助喷嘴120喷射溶剂，可以防止基质沉积在喷嘴的端部，这在根据现有技术采用电喷射的喷射过程中是一个问题，从而提高聚合物样品的电喷射的再现性。也就是说，可以将待从主喷嘴110电喷射的聚合物样品喷射到预定位置上。主喷嘴110的入口可以相对于辅助喷嘴120的入口进一步向样品板突出。例如，主喷嘴110的入口可以相对于辅助喷嘴120的入口进一步向样品板突出约1mm至2mm。从辅助喷嘴120喷射的溶剂的量可以是，例如，从主喷嘴110喷射的溶剂的量的30％至60％。
附加地或替代地，利用围绕辅助喷嘴120并且与辅助喷嘴120同轴的鞘流气供应管130，当通过主喷嘴110喷射聚合物样品时，鞘流气也被喷射在聚合物样品周围，从而鞘流气将待喷射的聚合物样品导流到预定位置上。在图4a中，鞘流气供应管130中的粗箭头表示从鞘流气供应管130喷射的鞘流气。因此，可以提高聚合物样品的电喷射的再现性。作为鞘流气，例如，可以使用氮气(N2)。例如，氮气可以每分钟100cc至1000cc释放，并且在一个实施例中，每分钟1000cc释放。
总之，根据本发明，在通过主喷嘴110喷射作为聚合物化合物、基质和溶剂的混合溶液的聚合物样品时，通过围绕主喷嘴110的辅助喷嘴120将溶剂喷射到待喷射的聚合物样品周围，或者通过围绕辅助喷嘴120并且与辅助喷嘴120同轴的鞘流气供应管将鞘流气喷射到待喷射的聚合物样品周围。由此，可以将待从主喷嘴110电喷射的聚合物样品喷射到样品板的预定位置上。另外，在根据本发明的一个实施方案的通过电喷射制备试样的方法中，如图4b所示，当制备聚合物化合物的试样时，可以使用根据本发明的一个实施方案的掩模200，和用于调整掩模位置的单元300。也就是说，当将聚合物样品电喷射到放置在样品台210上的样品板上时，使用可以位于样品板上的掩模200。因此，可以选择聚合物样品，使得在由于电喷射广泛分布到放置在样品台210上的样品板上的区域中，仅选择厚度偏差小的区域作为试样。另外，可以将掩模200安装在用于调整掩模位置的单元300上并且置于样品板上，并且可以通过用于调整掩模位置的单元300来调整掩模200的位置。
在掩模200的中心，有一个孔200a，其尺寸与对应于具有期望的厚度偏差的部分的试样的尺寸基本相同。待电喷射的样品中不能通过孔200a的样品保留在掩模200上。如上参考图4a所述的，聚合物样品的电喷射的再现性提高，如果根据图4b将掩模200安装在样品板上，可以经掩模200的孔200a使待电喷射的聚合物样品放置在样品板上，以得到具有期望的厚度偏差的试样。结果，最终具有期望的厚度偏差的试样保留在样品台210上。对掩模200的材料没有具体限制，例如，可以使用不锈钢、铝等。
掩模200的形状可以是，例如，矩形、圆形等，但是本发明不限于此，并且可以进行各种修改和改变。当掩模200具有，例如，矩形形状时，一条边的长度可以是，例如，1mm至2mm，当掩模200具有，例如，圆形形状时，直径可以是1mm至2mm。孔200a的尺寸可以是，例如，1μm至2μm的直径。
接下来，参考图4c，用于调整掩模位置的单元300包括可以安装掩模200的掩模架310。
在一个实施方案中，掩模架310还可以包括开口310a。掩模200可以安装在开口310a上，并且安装的掩模200可以沿着一个方向上的轴线(例如，y轴)移动。开口310a可以具有，例如，矩形形状，并且矩形形状的开口310a的一条边的宽度可以与掩模200的宽度一致。开口310a的另一条边的宽度大于掩模200的宽度，使得安装在开口310a上的掩模200可以被移动和安装。凸部310b设置在开口310a的两条边上。因此，可以将掩模200放置在开口310a的凸部310b上。
用于调整掩模位置的单元300包括垂直于掩模架310的长度方向延伸的线性运动轨道320。掩模架310可以安装在线性运动轨道320的安装部320a上。掩模架310用螺栓等固定在安装部320a上，使得它可以在线性运动轨道320的轨道部320b上沿x轴移动。轨道部320b还可以包括标尺(见图4d)，以指示掩模架310(即，安装在掩模架310上的掩模200)在x轴上移动了多少。
如果掩模架310在线性运动轨道320上沿x轴移动，则掩模200可以如上所述在掩模架310的开口310a内沿y轴方向移动。另外，用于调整掩模位置的单元300可以调整掩模架310在z轴方向(垂直于样品台210的上表面)上的高度。作为放置试样的板，使用诸如不锈钢、ITO玻璃等的板。因此，需要调整掩模架310，即，安装在掩模架310上的掩模200的高度(在z轴方向的高度)，以与板的高度匹配。当将掩模架310安装在线性运动轨道320的安装部320a上时，可以在掩模架310和安装部320a之间设置垫片330，以调整掩模架310的高度。例如，垫片的数量从0(零)开始增加时，可以设置多个垫片直到达到相应的高度，或者可以提供高度与板对应的垫片。本发明不限于上述实施例，并且可以进行各种修改和改变。
根据本发明的用于调整掩模位置的单元300还可以包括用于将掩模架310固定在线性运动轨道320上的固定部340。
图4d示出了在一个实施方案中实施的图4b和图4c的掩模200和用于调整掩模位置的单元300的照片。
总之，在根据本发明的一个实施方案的通过电喷射制备试样的方法中，将根据图4b至图4d的掩模200放置在样品板上，使得当将聚合物样品电喷射在样品台210上的样品板上时的广泛分布的区域中，可以仅选择厚度偏差小的部分作为试样，同时，为了调整掩模200的位置，安装有掩模200的掩模架310在z轴方向上的移动通过掩模架310与线性运动轨道320之间的垫片330来控制，安装有掩模200的掩模架310在x轴方向上的移动通过线性运动轨道320来控制，掩模200可以在掩模架310的开口310a内在y轴方向上移动。上述调整掩模的位置的方法是使用本发明的掩模制备试样的方法的一个实施方案。本发明不限于上述方法，关于调整掩模的位置的方式，可以进行各种修改和改变。
图4e示出了根据本发明制备试样的电喷射装置10的一个实施方案的照片。主体20包括：喷嘴单元100，包括图4a的主喷嘴110、辅助喷嘴120和鞘流气供应管130，和图4b和图4c的掩模200、样品台210和用于调整掩模位置的单元300。用于调整样品的注入量的单元30可以包括用于控制供应到图4a的主喷嘴110的聚合物样品的注入量的泵30a，和用于控制供应到辅助喷嘴120的溶剂的注入量的泵30b。用于调整鞘流气的单元40可以调节供应到图4a的鞘流气供应管130的鞘流气的量。
根据一个实施方案，通过电喷射的喷射面积可以为80mm2以下。
根据一个实施方案，对可以用于根据本发明的MALDI质谱法的聚合物没有具体限制，只要它是分子量为1000Da以上的聚合物即可。
在下文中，将详细描述本发明的实施例，以使本领域技术人员可以容易地实施本发明。然而，本发明可以以许多不同的形式来实施，并且不应该被解释为限于在本说明书中例示的实施例。
制备例1
将溶解在四氢呋喃(THF)中的聚合物化合物BHB-PPG/PPG的溶液与基质(DCTB，反式2-[3-(4-叔丁基苯基)-2-甲基-2-亚丙烯基)丙二腈的溶液(10mg/ml)和NaTFA溶液(在THF中，0.02M)以9:1:1的体积比混合以制备聚合物样品。
比较例1
通过使用在制备例1中制备的聚合物样品，对于通过干滴法(MALDI-TOFMS设备：UltrafleXtreme，Bruker Daltonics，德国)制备的两个试样中的每一个的六个点测量MALDI谱图。
实施例1
通过使用在制备例1中制备的聚合物样品和如图4e中所示的电喷射装置10和如图4d中所示的掩模200，对如图5中制备的两个试样的每一个的六个点测量MALDI谱图。
在比较例1和实施例1中制备的试样的MALDI-TOF谱图如图6中所示。如图6中所示，在使用电喷射和掩模制备的实施例1的试样中，谱图的再现性更高。
实验例1.再现性的点与点之间评价
使用BHB-PPG和PPG浓度分别为0.5(mg/mL)/0.5(mg/mL)、1.0(mg/mL)/0.5(mg/mL)和3.0(mg/mL)/0.5(mg/mL)的聚合物样品，以与实施例1中相同的方式制备试样。
为了得到MALDI谱图，通常通过以0.5μL/min的流速(第一流)在不锈钢板上电喷射聚合物样品10分钟来制备试样。然而，不锈钢板的表面粗糙，因此不适合测量试样的厚度。因此，在测量电喷射的试样的厚度的情况下，将聚合物样品以0.5μL/min的流速(第一流)电喷射到ITO玻璃上10分钟，然后使用光学轮廓仪以2μm的间隔测量试样的厚度。测量的厚度轮廓的平均厚度为约1μm。假定MALDI激光器的光斑尺寸为50μm，测量25个测量值的平均值的标准偏差，结果，厚度偏差为约25％。
对于各个试样，在三个不同的点测量MALDI-TOF谱图三次以上。测量结果如图7中所示。
根据图7的结果，通过本发明的方法制备的试样在同一试样的不同点处测量的谱图的误差范围在15％以内，并且误差范围为至少5％。因此，可以得到高度再现性的MALDI谱图结果。
实验例2.再现性的样品与样品之间评价
使用BHB-PPG和PPG浓度分别为0.5(mg/mL)/0.5(mg/mL)、1.0(mg/mL)/0.5(mg/mL)和3.0(mg/mL)/0.5(mg/mL)的聚合物样品，以与实施例1中相同的方式对于各个浓度制备三个试样。
为了得到MALDI谱图，通常通过以0.5μL/min的流速(第一流)在不锈钢板上电喷射聚合物样品10分钟来制备试样。然而，不锈钢板的表面粗糙，因此不适合测量试样的厚度。因此，在测量电喷射样品的厚度的情况下，将聚合物试样以0.5μL/min的流速(第一流)在ITO玻璃上电喷射10分钟，然后使用光学轮廓仪以2μm的间隔测量试样的厚度。测量的厚度轮廓的平均厚度为约1μm。假定MALDI激光器的光斑尺寸为50μm，测量25个测量值的平均值的标准偏差，结果，厚度偏差为约25％。
通过在具有相同浓度的条件下分别对三个试样进行MALDI-TOF测量来评价再现性，结果如图8中所示。
根据如图8中示出的结果，通过根据本发明的方法制备的试样对于在相同条件下制备的试样的MALDI谱图表现出30％以内的误差范围。因此，如果试样在相同条件下制备，可以得到再现性的MALDI谱图。
尽管已经参考本发明的具体实施例具体地示出和描述了本发明，但是对于本领域技术人员显而易见的是，该具体描述仅仅是优选实施例，而本发明的范围不限于此。因此，本发明的范围旨在由所附权利要求书及其等同形式来限定。
[附图标记]
10：电喷射装置 100：喷嘴单元
110：主喷嘴 120：辅助喷嘴
130：鞘流气供应管 200：掩模
200a：孔 210：样品台
300：用于调整掩模位置的单元
310：掩模架
310a：开口 310b：凸部
320：线性运动轨道 320a：安装部
320b：轨道部 330：垫片
340：固定部 20：主体
30：用于调整样品的注入量的单元
40：用于调整鞘流气的单元

Claims (12)

1.一种使用MALDI质谱法定量分析聚合物的方法，该方法使用通过将聚合物化合物、基质和溶剂的混合溶液的聚合物样品从主喷嘴经掩模电喷射到样品板上而制备的试样，其中，所述试样的厚度偏差为30％以下，并且所述掩模包括孔，待电喷射的聚合物样品可以通过该孔传递至所述样品板。
2.根据权利要求1所述的使用MALDI质谱法定量分析聚合物的方法，其中，对所述试样的MALDI谱图的测量结果的误差范围在30％以内，所述误差范围为三次实验的结果的相对标准偏差(RSD)。
3.根据权利要求1所述的使用MALDI质谱法定量分析聚合物的方法，其中，对于在相同条件下制备的至少三个试样的MALDI谱图的测量结果的误差范围在30％以内。
4.根据权利要求1所述的使用MALDI质谱法定量分析聚合物的方法，其中，所述方法用于测量分子量为1000Da以上的聚合物。
5.一种制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法，所述方法使用电喷射装置，该电喷射装置包括用于电喷射聚合物化合物、基质和溶剂的混合溶液的聚合物样品的主喷嘴，和通过电喷射所述聚合物样品而在其上放置所述试样的样品板，所述方法包括以下步骤：
将掩模安装在所述样品板上；
从所述主喷嘴向设置有所述掩模的所述样品板上进行所述聚合物样品的电喷射；和
在所述样品板上得到所述聚合物化合物的试样，
其中，所述掩模包括孔，待从所述主喷嘴电喷射的聚合物样品可以通过该孔传递至所述样品板，以便在所述样品板上得到厚度偏差小的均匀试样。
6.根据权利要求5所述的制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法，其中，所述孔的直径为1μm至2μm。
7.根据权利要求5所述的制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法，其中，所述掩模由不锈钢或铝制成。
8.根据权利要求5所述的制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法，其中，所述将掩模安装在样品板上的步骤还包括在x轴、y轴和z轴方向中的至少一个方向上调整所述掩模的位置。
9.根据权利要求5所述的制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法，其中，所述电喷射装置还包括围绕所述主喷嘴并且与所述主喷嘴同轴的辅助喷嘴，并且所述从主喷嘴向样品板上进行所述聚合物样品的电喷射的步骤还包括用所述辅助喷嘴喷射溶剂以防止基质沉积在所述主喷嘴附近。
10.根据权利要求5所述的制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法，其中，所述电喷射装置还包括围绕所述辅助喷嘴并且与所述辅助喷嘴同轴的鞘流气供应管，并且所述从主喷嘴向样品板上进行所述聚合物样品的电喷射的步骤还包括通过所述鞘流气供应管喷射鞘流气，使得所述鞘流气将待喷射的聚合物样品导流到所述样品板的预定位置上。
11.一种制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法，所述方法使用电喷射装置，该电喷射装置包括用于电喷射聚合物化合物、基质和溶剂的混合溶液的聚合物样品的主喷嘴，和通过电喷射所述聚合物样品而在其上放置试样的样品板，所述方法包括以下步骤：
从所述主喷嘴向所述样品板上进行所述聚合物样品的电喷射；和
在所述样品板上得到所述聚合物样品的试样，
其中，所述从主喷嘴向样品板上进行所述聚合物样品的电喷射的步骤还包括以下中的至少一个步骤：(i)从围绕所述主喷嘴并且与所述主喷嘴同轴的辅助喷嘴喷射溶剂以防止基质沉积在所述主喷嘴的附近；和(ii)通过鞘流气供应管喷射鞘流气，使得所述鞘流气将待喷射的聚合物样品导流到所述样品板的预定位置上，以便得到厚度偏差在30％以下的试样。
12.根据权利要求5至11中任意一项所述的制备用于定量分析聚合物的MALDI质谱法的试样的方法，其中，通过电喷射的喷射面积为80mm2以下。
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