CN110610961B - 阵列基板和显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种阵列基板和显示面板。种阵列基板定义有弯折区和非弯折区。所述非弯折区包括层叠设置的柔性衬底层、复合缓冲层、源漏极层、平坦层和像素定义层；所述弯折区包括层叠设置的柔性衬底层、源漏极层、平坦层和像素定义层，或者位于所述弯折区的所述复合缓冲层的厚度小于位于所述非弯折区的所述复合缓冲层的厚度。显示面板包括上述阵列基板。本发明通过减少金属走线与基板之间的距离，使所述源漏极层接近甚至达到应力平衡线，从而让金属走线减少受到的应力，甚至基本不受自身应力。金属走线不受应力，则其断裂风险降低，屏幕的耐弯折能力上升。

Description

阵列基板和显示面板
技术领域
本发明涉及显示领域，尤其涉及一种阵列基板和显示面板。
背景技术
随着有机发光二极管(OLED)事业的蓬勃兴起，可折叠产品正走向兴盛，而在这其中弯折技术成为制约产品进一步发展的瓶颈。
如图1所示，图1为现有的一种阵列基板经弯折后的结构示意图。其中阵列基板90包括弯折区91和非弯折区92，所述阵列基板90包括层叠设置的柔性衬底层901、复合缓冲层902、源漏极层903、平坦层904和像素定义层905。通常弯折区91在弯折后由于阵列基板90厚度一般在12-20um，而位于弯折区91的金属走线(即源漏极层903)厚度为0.6-1um，金属走线上面膜层厚度一般在3-4um左右，如图1中虚线所示为弯折后的应力平衡线(也称中性面)93，所述应力平衡线93是指弯折时既不存在压应力亦不存在张应力的位置，该处应力为零。但是经弯折后应力平衡线93在所述源漏极层下侧，这样位于弯折区的金属走线就会产生应力，从而易产生裂纹或断裂。
在现有技术中，为解决上述问题，当弯折区进行弯折时，通常弯折角呈对称平滑弯曲。但实际上，因为弯折制程能力不足、外力干扰等影响，导致弯折角并非理想状态，会出现弯折角向内形变，或弯折角向一边偏移，从而使得弯折区的所述源漏极层应力集中加大，进而造成产生裂纹或断裂，且裂纹延伸后贯穿线路的整个横截面，从而信号传递失败，导致画面出现异常。
如果不解决线路裂纹，那么良率无法保障，量产也就没有可行性。因此，有必要提供一种新的阵列基板和显示面板，以克服现有技术中存在的问题。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种阵列基板和显示面板，通过减少金属走线与基板之间的距离，使所述源漏极层接近甚至达到应力平衡线，从而让金属走线减少自身应力，甚至基本不产生应力。金属走线不存在应力，则其断裂风险降低，屏幕的耐弯折能力上升。
为了解决上述问题，本发明其中一实施例中提供一种阵列基板，定义有弯折区和非弯折区。所述非弯折区包括层叠设置的柔性衬底层、复合缓冲层、源漏极层、平坦层和像素定义层；具体地讲，所述复合缓冲层位于所述柔性衬底层上；所述源漏极层位于所述复合缓冲层上；所述平坦层位于所述源漏极层上；所述像素定义层位于所述平坦层上。其中所述弯折区包括层叠设置的柔性衬底层、源漏极层、平坦层和像素定义层；具体地讲，所述源漏极层位于所述柔性衬底层上；所述平坦层位于所述源漏极层上；所述像素定义层，位于所述平坦层上。
进一步的，其中所述复合缓冲层与所述弯折区相对应的一侧还设有有机层；所述非弯折区还包括有一有机层，所述有机层邻近所述弯折区，所述有机层的一部分覆盖所述多缓冲层而另一部分形成于所述柔性衬底层上。
进一步的，其中所述源漏极层覆盖所述有机层。
进一步的，其中所述有机层的材料包括氧化脱氢有机物、聚酰亚胺树脂或硅氧烷。
进一步的，其中所述复合缓冲层包括层叠设置的缓冲层和屏障层。具体地讲，所述缓冲层位于所述柔性衬底层上；所述屏障层位于所述缓冲层上；其中所述源漏极层位于所述屏障层上。
进一步的，其中所述柔性衬底层的材料为聚酰亚胺。
进一步的，其中所述像素定义层上还包括支撑层。
进一步的，其中位于所述非弯折区的所述像素定义层上还包括发光层。
本发明另一实施例中提供一种阵列基板，定义有弯折区和非弯折区，所述阵列基板包括层叠设置的柔性衬底层、复合缓冲层、源漏极层、平坦层和像素定义层；具体地讲，所述复合缓冲层位于所述柔性衬底层上；所述源漏极层位于所述复合缓冲层上；所述平坦层位于所述源漏极层上；所述像素定义层位于所述平坦层上。其中，位于所述弯折区的所述复合缓冲层的厚度小于位于所述非弯折区的所述复合缓冲层的厚度。
本发明再一实施例中提供一种显示面板，包括以上所述的阵列基板。
本发明的有益效果在于，提供一种阵列基板和显示面板，通过减少金属走线与基板之间的距离，使所述源漏极层接近甚至达到应力平衡线，从而让金属走线减少受到的应力，甚至基本不受自身应力。金属走线不受应力，则其断裂风险降低，屏幕的耐弯折能力上。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为现有技术一种阵列基板经弯折后的结构示意图；
图2本发明第一实施例中的一种阵列基板的结构示意图；
图3为图2中的阵列基板经弯折后的结构示意图；
图4为本发明第二实施例中的一种阵列基板结构示意图；
图5为图4中的阵列基板经弯折后的结构示意图；
图6为本发明第三实施例中的一种阵列基板结构示意图。
图中部件标识如下：
1、柔性衬底层，2、复合缓冲层，3、源漏极层，4、平坦层，
5、像素定义层，6、支撑层，7、发光层，8、有机层，
10、弯折区，20、非弯折区，21、缓冲层，22、屏障层，
30、应力平衡线，100、阵列基板。
具体实施方式
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
本发明其中一实施例中提供一种阵列基板，定义有弯折区和非弯折区。所述非弯折区包括层叠设置的柔性衬底层、复合缓冲层、源漏极层、平坦层和像素定义层；具体地讲，所述复合缓冲层位于所述柔性衬底层上；所述源漏极层位于所述复合缓冲层上；所述平坦层位于所述源漏极层上；所述像素定义层位于所述平坦层上。其中所述弯折区包括层叠设置的柔性衬底层、源漏极层、平坦层和像素定义层；具体地讲，所述源漏极层位于所述柔性衬底层上；所述平坦层位于所述源漏极层上；所述像素定义层，位于所述平坦层上。
优选地，所述复合缓冲层与所述弯折区相对应的一侧还设有有机层；所述非弯折区还包括有一有机层，所述有机层邻近所述弯折区，所述有机层的一部分覆盖所述多缓冲层而另一部分形成于所述柔性衬底层上。
优选地，所述源漏极层覆盖所述有机层。
优选地，所述有机层的材料包括氧化脱氢有机物、聚酰亚胺树脂或硅氧烷。
优选地，所述复合缓冲层包括层叠设置的缓冲层和屏障层。具体地讲，所述缓冲层位于所述柔性衬底层上；所述屏障层位于所述缓冲层上；其中所述源漏极层位于所述屏障层上。
优选地，所述柔性衬底层的材料为聚酰亚胺。
优选地，所述像素定义层上还包括支撑层。
优选地，位于所述非弯折区的所述像素定义层上还包括发光层。
本发明另一实施例中提供一种阵列基板，定义有弯折区和非弯折区，所述阵列基板包括层叠设置的柔性衬底层、复合缓冲层、源漏极层、平坦层和像素定义层；具体地讲，所述复合缓冲层位于所述柔性衬底层上；所述源漏极层位于所述复合缓冲层上；所述平坦层位于所述源漏极层上；所述像素定义层位于所述平坦层上。其中，位于所述弯折区的所述复合缓冲层的厚度小于位于所述非弯折区的所述复合缓冲层的厚度。
本发明再一实施例中提供一种显示面板，包括以上所述的阵列基板。
更详细的实施例描述如下：
实施例1
请参阅图2、图3所示，本发明第一实施例中提供一种阵列基板100，定义有弯折区10和非弯折区20。所述非弯折区20包括层叠设置的柔性衬底层1、复合缓冲层2、源漏极层3、平坦层4和像素定义层5；具体地讲，如图2所示，所述复合缓冲层2位于所述柔性衬底层1上；所述源漏极层3位于所述复合缓冲层2上；所述平坦层4位于所述源漏极层3上；所述像素定义层5位于所述平坦层4上。其中所述弯折区10包括层叠设置的柔性衬底层1、源漏极层3、平坦层4和像素定义层5；具体地讲，所述源漏极层3位于所述柔性衬底层1上；所述平坦层4位于所述源漏极层3上；所述像素定义层5，位于所述平坦层4上。
如图3所示，本发明阵列基板100定义有应力平衡线30(图中虚线所示，也称中性面)是指弯折时既不受压应力亦不受张应力的位置，该处弯折应力为零。若金属走线(即源漏极层3，用于传输信号)越接近应力平衡线30其弯折时越不容易断。
因此，本实施例提出的阵列基板100在所述弯折区10不设置所述复合缓冲层2，相对于现有技术本发明所述源漏极层3将整体下移，这样就更接近所述应力平衡线30，能够减小所述源漏极层3的拉伸应力，甚至若所述源漏极层3到达应力平衡线30的位置，则所述源漏极层3将减少应力，甚至基本不存在应力。当然，所述源漏极层3受到的应力变小或不受应力，则所述源漏极层3断裂风险降低，屏幕的耐弯折能力上升，从而能够提升弯折特性、降低断线风险，增加使用寿命。
其中，在所述源漏极层3上方的所述平坦层4和所述像素定义层5由于是整面涂布方式制作，所以所述平坦层4和所述像素定义层5可以完全覆盖所述源漏极层3的凹形区域，使应力平衡线30基本保持不变，而所述源漏极层3与平衡线接近，使得所述源漏极层3应力减小。
本实施例中，所述复合缓冲层22包括层叠设置的缓冲层21和屏障层22。具体地讲，所述缓冲层21位于所述柔性衬底层1上；所述屏障层22位于所述缓冲层21上；其中所述源漏极层3位于所述屏障层22上。
本实施例中，所述柔性衬底层1的材料为聚酰亚胺。
本实施例中，所述像素定义层5上还包括支撑层6。设置所述支撑层6能够增加所述阵列基板100上表面的厚度，从而使得应力平衡线30上移，相对于现有技术使得所述源漏极层3进一步整体下移，离应力平衡线30更近，能够减小所述源漏极层3的拉伸应力，甚至达到应力平衡线30位置，从而让所述源漏极层3减少受到的应力，甚至基本不受自身应力。
本实施例中，位于所述非弯折区20的所述像素定义层5上还包括发光层7。
实施例2
请参阅图4、图5所示，本发明第二实施例中提供一种阵列基板100，包括本发明第一实施例中的全部技术特征，其区别在于，第二实施例的阵列基板100在所述弯折区10设置有所述复合缓冲层2，而第一实施例的阵列基板100则在所述弯折区10不设置所述复合缓冲层2。其中，在第二实施例的阵列基板100的所述弯折区10的所述复合缓冲层2的厚度小于位于所述非弯折区20的所述复合缓冲层2的厚度。
由第二实施例提出的阵列基板100在所述弯折区10的所述复合缓冲层2厚度减小，但相对于现有技术，所述源漏极层3仍然能够整体下移，离应力平衡线30更近，能够减小所述源漏极层3的拉伸应力，甚至达到应力平衡线30位置，从而让所述源漏极层3减少受到的应力，甚至基本不受自身应力。所述源漏极层3受到的应力变小或不受应力，则所述源漏极层3断裂风险降低，屏幕的耐弯折能力上升，从而能够提升弯折特性、降低断线风险，增加使用寿命。
实施例3
请参阅图6所示，本发明第三实施例中提供一种阵列基板100，包括本发明第一实施例中的全部技术特征，其区别在于，在第三实施例提供有一有机层8，所述有机层8形成于所述非弯折区20并邻近所述弯折区10，所述有机层8一部分覆盖所述复合缓冲层2而另一部分形成于所述柔性衬底层1上，所述源漏极层3覆盖所述有机层8。再换句话讲，所述有机层8形成于所述复合缓冲层2与所述弯折区10的衔接处。所述有机层8可作为过渡，对所述弯折区10和所述非弯折区20进行缓冲,防止在所述复合缓冲层2的蚀刻边缘应力过大导致线路断裂。
本实施例中，所述有机层8的材料包括氧化脱氢有机物、聚酰亚胺树脂或硅氧烷。其中所述有机层8通过涂布的方式制作，所述有机层8的材料优选氧化脱氢有机物。
基于同样的发明构思，本发明其中一实施例中提供一种显示面板，包括以上任一种所述的阵列基板100。
本实施例中的显示装置可以为：可穿戴设备、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、电子书、电子报纸、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。其中可穿戴设备包括智能手环、智能手表、VR(Virtual Reality，即虚拟现实)等设备。
本实施例提供的显示面板的工作原理，与前述阵列基板100的实施例工作原理一致，具体结构关系及工作原理参见前述阵列基板100实施例，此处不再赘述。
本发明的有益效果在于，提供一种阵列基板和显示面板，通过减少所述源漏极层(即金属走线)与基板之间的距离，使所述源漏极层接近甚至达到应力平衡线，从而让所述源漏极层减少受到的应力，甚至基本不受自身应力。所述源漏极层不受应力，则其断裂风险降低，屏幕的耐弯折能力上。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (9)

1.一种阵列基板，定义有弯折区和非弯折区，所述非弯折区包括
柔性衬底层；
复合缓冲层，位于所述柔性衬底层上；
源漏极层，位于所述复合缓冲层上；
平坦层，位于所述源漏极层上；以及
像素定义层，位于所述平坦层上；
其特征在于，所述弯折区包括
所述柔性衬底层；
所述源漏极层，位于所述柔性衬底层上；
所述平坦层，位于所述源漏极层上；以及
所述像素定义层，位于所述平坦层上；
其中，所述非弯折区还包括有一有机层，所述有机层邻近所述弯折区，所述有机层的一部分覆盖所述复合缓冲层而另一部分形成于所述柔性衬底层上。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述源漏极层覆盖所述有机层。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述有机层的材料包括氧化脱氢有机物、聚酰亚胺树脂或硅氧烷。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，
所述复合缓冲层，包括
缓冲层，位于所述柔性衬底层上；以及
屏障层，位于所述缓冲层上；
其中所述源漏极层位于所述屏障层上。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述柔性衬底层的材料为聚酰亚胺。
6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素定义层上还包括支撑层。
7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，位于所述非弯折区的所述像素定义层上还包括发光层。
8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，位于所述弯折区的所述复合缓冲层的厚度小于位于所述非弯折区的所述复合缓冲层的厚度。
9.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的阵列基板。
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