CN110586557B - 清洗分离装置 - Google Patents

Abstract

一种清洗分离装置包括：机架、清洗底座、清洗转盘、与清洗转盘相应设置的清洗塔、受控驱动清洗塔运动的清洗塔驱动机构、控制进行清洗的控制装置，清洗转盘上设置有容纳反应杯或试管的杯架，清洗底座上依次设置有第一组合清洗工位、第二组合清洗工位、第三组合清洗工位，第一组合清洗工位包括：依次设置的预磁位、磁性清洗位，第二组合清洗工位或第三组合清洗工位包括：依次设置的摇匀位、预磁位、磁性清洗位，清洗底座中设置有与预磁位或磁性清洗位相应设置的磁性件；上述清洗分离装置，通过预磁位将磁颗粒先吸附到反应杯侧壁，为后面的清洗做好聚磁准备，磁性清洗位进一步将磁珠紧紧吸附在反应杯侧壁，降低清洗过程中的磁流失。

Description

清洗分离装置

技术领域

本发明属于医疗器械领域，特别涉及一种适用于化学发光检测中的清洗分离装置。

背景技术

化学发光免疫检测是：利用生物免疫技术实现待测物、发光标记物与靶物质的特异结合，令其在碱性环境下发光，释放的光能与待测物浓度单调对应，进而通过测定光能间接得到待测物的浓度。目前流行的靶物质为免疫磁颗粒，即包被抗体或抗原的铁氧体颗粒，它可以被磁场束缚，便于物质分离；发光标记物通过将化学发光剂(吖啶酯或异鲁米诺)标记在抗体上得到。

化学发光免疫检测的基本过程如图1所示：1.将样本、磁颗粒、和试剂加入反应杯；2.孵育，使反应物充分结合；3.在磁场中清洗去除未结合物质；4.加入激发液；5.进行信号检测。即在恒温条件下实现待测物、标记物与靶物质的特异性结合，获得免疫复合物颗粒(三者的结合体)；然后利用磁场将免疫复合物束缚，将未结合的抗原和标记物洗涤清除；最后向免疫复合物中加入双氧水(底物A)和氢氧化钠(底物B)溶液(统称为激发液)，通过氧化反应使异鲁米诺标记物跃迁至不稳定的高能激发态，在原子回迁到基态的过程中发出闪光，进而通过测量光能获得样本中待检物的浓度信息。

在反应过程中，清洗分离机构或装置需要将未与磁珠结合的物质清洗干净，否则会造成测试结果异常。

发明内容

基于此，有必要提供一种可降低磁流失的清洗分离装置。

一种清洗分离装置，包括：机架、设置在机架上的清洗底座、设置在所述清洗底座上清洗转盘、与所述清洗转盘相应设置的清洗塔、与所述清洗塔连接并受控驱动清洗塔运动的清洗塔驱动机构、控制驱动所述清洗转盘或清洗塔运动/或控制进行清洗的控制装置，所述清洗转盘上设置有容纳反应杯或试管的杯架，所述清洗底座上与所述杯架或杯架所在的旋转环相应设置并依次设置有第一组合清洗工位、第二组合清洗工位、第三组合清洗工位，所述第一组合清洗工位包括：与所述杯架或杯架所在的旋转环相应设置并依次设置的预磁位、磁性清洗位，所述第二组合清洗工位或第三组合清洗工位包括：与所述杯架或杯架所在的旋转环相应设置并依次设置的摇匀位、预磁位、磁性清洗位，所述清洗底座中设置有与所述预磁位或磁性清洗位相应设置的磁性件。

在优选的实施例中，所述磁性件包括：与所述预磁位相应设置并置于预磁位一侧的磁性的预磁件、与所述磁性清洗位相应设置并相对置于磁性清洗位的两侧的磁性的第一清洗磁性件与第二清洗磁性件。

在优选的实施例中，还包括：装载所述预磁件、第一清洗磁性件的半环状或部分环状的磁性件装载盘，所述预磁件、第一清洗磁性件相对所述杯架或杯架所在旋转环设置在内圈，所述第二清洗磁性件相对所述杯架或杯架所在旋转环设置在外圈。

在优选的实施例中，相对设置的第一清洗磁性件、第二清洗磁性件重心等高设置。

在优选的实施例中，与所述第三组合清洗工位相应设置的磁性件的重心低于与所述第一组合清洗工位或第二组合清洗工位相应设置的磁性件的重心，与所述第三组合清洗工位相应设置的磁性件的高度或重心设置与待处理反应杯加入的激发液或溶液的液位相应设置并低于其液面高度。

在优选的实施例中，与所述第三组合清洗工位的预磁位相应设置的预磁件的重心相对与所述第二组合清洗工位或第一组合清洗工位的磁性件低1-3mm设置。

在优选的实施例中，所述预磁位的磁场强度为610-630mT，所述磁性清洗位的磁场强度为690-710mT。

在优选的实施例中，所述摇匀位包括：与所述杯架或杯架所在的旋转环相应设置并设置于所述杯架或杯架所在的旋转环下面或底部的摇匀台、驱动所述摇匀台旋转运动的摇匀旋转驱动装置、及驱动所述摇匀台升降运动的摇匀升降驱动装置，所述摇匀台上方于所述杯架或杯架所在旋转环上部的相应位置设置有摇匀挡片。

在优选的实施例中，所述摇匀台为偏心轮转台，所述摇匀挡片与置于所述杯架的待处理反应杯的高度相应设置并高出1-5cm设置。

在优选的实施例中，还包括：与所述清洗塔驱动机构连接并驱动其带动所述清洗塔进入工作位或复位的复位机构，所述清洗塔驱动机构包括：与所述清洗塔连接以带动清洗塔进行升降运动的清洗塔升降机构、与所述清洗塔升降机构活动连接并供清洗塔升降机构沿其运动的升降滑轨、与所述清洗塔升降机构连接并驱动其沿升降滑轨进行升降运动的升降驱动动力元件，所述复位机构包括：设置在机架上的基板、与设置在所述基板上的复位驱动机构、设置在所述基板上的拱形或幂字盖状复位槽、与所述清洗塔升降机构或升降滑轨连接并沿复位槽运动的滑块或滑柱、与所述升降滑轨连接并转动驱动带动升降滑轨或升降机构通过滑块或滑柱沿复位槽运动以对清洗塔进行复位或驱动其进入工位的复位驱动件；所述清洗塔上设置有取液针或抽液针，于所述第三组合清洗工位进行清洗时的抽液管路的管径或抽液速度小于所述第一组合清洗工位或第二组合清洗工位进行清洗时的抽液管路或抽液速度。

上述清洗分离装置，通过预磁位将磁颗粒先吸附到反应杯侧壁，为后面的清洗做好聚磁准备，磁性清洗位进一步将磁珠紧紧吸附在反应杯侧壁，降低清洗过程中的磁流失。

另外，磁性清洗位磁性件成对配置，重心齐平，提高磁场强度，降低磁流失。

进一步，清洗前磁珠经充分摇匀打散，避免磁珠包裹吖啶酯等清洗不干净造成发光值异常。

进一步，第三组合清洗工位的磁铁重心下移，避免少量磁珠高度超过后续注底物高度，产生磁流失。

进一步，第三组合清洗工位的磁性清洗位的管路变细，降低抽废液速度，避免由于磁珠下拉后产生磁流失。

附图说明

图1为背景技术中的化学发光免疫检测的基本过程的示意图；

图2为本发明一实施例的清洗分离装置的部分结构示意图；

图3为本发明一实施例的清洗工位及磁性件的部分结构示意图。

具体实施方式

如图2至图3所示，本发明一实施例的清洗分离装置100，包括：机架102、设置在机架102上的清洗底座20、设置在清洗底座20上清洗转盘40、与清洗转盘40相应设置的清洗塔60、与清洗塔60连接并受控驱动清洗塔60运动的清洗塔驱动机构80、控制驱动清洗转盘40或清洗塔60运动/或控制进行清洗的控制装置。

本实施例的清洗转盘40上设置有容纳反应杯或试管的杯架。本实施例的清洗底座20上、与杯架或杯架所在的旋转环相应设置，并依次设置有第一组合清洗工位202、第二组合清洗工位204、第三组合清洗工位206。

第一组合清洗工位202包括：与杯架或杯架所在的旋转环相应设置并依次设置的预磁位2022、磁性清洗位2024。

第二组合清洗工位204或第三组合清洗工位206包括：与杯架或杯架所在的旋转环相应设置并依次设置的摇匀位2020、预磁位2022、磁性清洗位2024。

本实施例的清洗底座20中设置有与预磁位2022或磁性清洗位2024相应设置的磁性件22。为了方便安装、并在一定程度上保证提供的磁场强度的稳定性，优选的，本实施例的磁性件22采用磁铁。

本实施例的磁性件22包括：与预磁位2022相应设置并置于预磁位2022一侧的磁性的预磁件222、与磁性清洗位2024相应设置并相对置于磁性清洗位2024的两侧的磁性的第一清洗磁性件224与第二清洗磁性件226。

进一步，本实施例的清洗分离装置100还包括：设置在清洗底座20中并装载预磁件222、第一清洗磁性件224的半环状或部分环状的磁性件装载盘200。

优选的，为了方便安装、及进行装载，本实施例的预磁件222、第一清洗磁性件224相对杯架或杯架所在旋转环设置在内圈。第二清洗磁性件226相对杯架或杯架所在旋转环设置在外圈。

进一步，本实施例的清洗底座20的外壁还设置有保温层27。本实施例的保温层27采用保温棉包覆清洗底座20的外壁。

本实施例的机架102包括：底座104、及设置在底座104上的支撑架106。本实施例的清洗底座20设置在支撑架106上，由支撑架106支撑固定。

为了保证反应杯进行清洗时，提供磁场的对称性及磁场强度，本实施例的相对设置的第一清洗磁性件224、第二清洗磁性件226重心等高设置。

进一步，为了在第三组合清洗工位上，下拉反应杯中的磁珠，降低磁流失，本实施例的与第三组合清洗工位206相应设置的磁性件的重心低于与第一组合清洗工位202或第二组合清洗工位204相应设置的磁性件的重心。

进一步，为了避免反应杯33注入的激发液如注入的底物A(双氧水)未将所有磁珠浸没造成磁流失，本实施例中，与第三组合清洗工位206相应设置的磁性件的高度或重心设置与待处理反应杯33加入的激发液或溶液的液位相应设置并低于其液面高度。

第一组合清洗工位202或第二组合清洗工位204进行清洗时，为了完全将反应杯中的磁珠完全吸附住，避免前期反应时由于反应液的高度导致部分置于上部的磁珠未被吸附住，本实施例的第二组合清洗工位或第一组合清洗工位的磁性件如磁铁的位置相对设置较高，避免未被吸附住或吸附力不够的磁珠在抽液时被抽出。在吸附住后，清洗分离的后期，逐步调整磁性件的高度位置，降低磁性件的高度或重心高度，本实施例的与第三组合清洗工位206的预磁位相应设置的预磁件的重心相对与第二组合清洗工位204或第一组合清洗工位202的磁性件低1-3mm设置。

本实施例，首先通过预磁位2022，对磁珠进行初步吸附，再在磁性清洗位上进行进一步吸附，以尽可能完全吸附住所有磁珠，防止磁珠逸出，导致磁流失。本实施例的预磁位的磁场强度为610-630mT，磁性清洗位的磁场强度为690-710mT。优选的，本实施例的预磁位的磁场强度为620mT，磁性清洗位的磁场强度为700mT。既避免磁流失，同时防止磁场强度过强对其他部件或操作造成影响。

本实施例的摇匀位2020设置有：与杯架或杯架所在的旋转环相应设置并设置于杯架或杯架所在的旋转环下面或底部的摇匀台228、驱动摇匀台228进行偏心旋转运动的摇匀旋转驱动装置、及驱动摇匀台228升降运动的摇匀升降驱动装置。

为了避免摇匀时，液体溅出，本实施例的摇匀台228上方于杯架或杯架所在旋转环上部的相应位置设置有摇匀挡片229。

进一步，本实施例的摇匀台228为偏心轮转台。摇匀挡片229与置于杯架的待处理反应杯的高度相应设置并高出1-5cm设置。优选的，摇匀挡片229的设置高度相对置于杯架的待处理反应杯的高度高出2cm设置。这样避免反应杯与摇匀挡片229碰触，在摇匀时相互发生摩擦而磨损；同时摇匀升降驱动装置驱动摇匀台228上升运动以挤压稍微抬起反应杯，以与反应杯充分接触，避免与反应杯未充分接触导致摇匀不完全或未充分摇匀，同时避免抬高反应杯后，反应杯与摇匀挡片229发生碰触或碰撞，发生摩擦。

进一步，本实施例的清洗分离装置100还包括：与清洗塔驱动机构80连接、并驱动其带动清洗塔60进入工作位或复位的复位机构90。

本实施例的清洗转盘40可采用分度盘结构，通过控制调整分度盘的角度位置调整清洗转盘40的转动角度。本实施例的清洗塔60形状与清洗转盘40相应设置，设置为半环状或部分环状。

进一步，本实施例的清洗塔驱动机构80包括：与清洗塔60连接以带动清洗塔60进行升降运动的清洗塔升降机构82、与清洗塔升降机构82活动连接并供清洗塔升降机构82沿其运动的升降滑轨84、与清洗塔升降机构82连接并驱动其沿升降滑轨84进行升降运动的升降驱动动力元件。

本实施例的升降驱动动力元件可采用液压系统、气压系统驱动进行升降直线运动，或采用电机(可以根据需要增加减速器)转化为直线运动驱动清洗塔升降机构82做升降运动。

本实施例的复位机构90包括：设置在机架102上的基板92、与设置在基板92上的复位驱动机构94、设置在基板92上的拱形或幂字盖状复位槽94、与清洗塔升降机构82或升降滑轨84连接并设置在复位槽中沿复位槽运动的滑块或滑柱96、与升降滑轨84连接并通过转动驱动带动升降滑轨84或清洗塔升降机构82通过滑块或滑柱96沿复位槽94运动以对清洗塔60复位或驱动其进入工位的复位驱动件98、及驱动复位驱动件98运动的复位动力元件。复位动力元件可为电机，可以根据需要增加减速器。可以根据采用普通电机、或步进电机、或伺服电机等可以提供动力的动力元件。

进一步，本实施例的清洗塔60上设置有取液针或抽液针30。本实施例中，于第三组合清洗工位206进行清洗时的抽液管路的管径或抽液速度小于第一组合清洗工位202或第二组合清洗工位204进行清洗时的抽液管路或抽液速度。

本实施例中，每个反应杯进行5阶清洗，第一、二阶清洗在第一组合清洗工位202进行，第三、四阶清洗在第二组合清洗工位204进行，第五阶清洗在第三组合清洗工位206进行。

本实施例的控制装置控制驱动清洗转盘40转动，带动设置在其上的杯架中的反应杯33进入第一组合清洗工位202，先经过第一组合清洗工位202的预磁位2022，预磁位2022的预磁件222如磁铁相对杯架或杯架所在的旋转环布置在内圈，磁场强度优选为620mT，或620mT以上，将反应杯中的磁珠聚集在清洗转盘40的内圈，第一组合清洗工位202的磁性清洗位2024的内外圈都有设置磁性件，即第一清洗磁性件224与第二清洗磁性件226，第一清洗磁性件224可以为一个或多个，第二清洗磁性件226也可以设置一个或多个。本实施例中，为了保证重心的一致性，且保证磁场的稳定，本实施例中，第一清洗磁性件224采用一个整体结构的磁体进行实现，第二清洗磁性件226也采用一个整体结构的磁体进行实现，第一清洗磁性件224与第二清洗磁性件226相对第一组合清洗工位202的磁性清洗位2024设置在内外圈，并且重心等高，磁场强度得到进一步加强，达到700mT左右，该位置进行两次清洗，清洗时与抽废液针相连的蠕动泵管路使用2.9-3.6mm内径的管路，抽废液速度约为0.9-1.1mL/s。优选的，本实施例中在第一组合清洗工位202的磁性清洗位2024进行清洗时，与抽废液针相连的蠕动泵管路使用3.2mm内径的管路，抽废液速度约为1mL/s。在第一组合清洗工位202的磁性清洗位2024进行两阶清洗后，反应杯33旋转到摇匀位2020，将磁珠充分打散，进而将包裹在磁珠中间的吖啶酯等未参与反应的物质充分释放出来。经过摇匀后，反应杯33继续旋转到第二组合清洗工位204的预磁位2022、磁性清洗位2024，此两个位置的磁性件如磁铁配置与第一组合清洗工位202的预磁位2022或磁性清洗位2024的磁性件如磁铁配置相同，在第二组合清洗工位204的磁性清洗位2024进行清洗时，其抽废液管路内径与抽液速度也设置相同。

经过第二组合清洗工位204的磁性清洗位2024进行清洗后，反应杯33再次进入摇匀。进入第三组合清洗工位206的预磁位2022预磁，此时的预磁件222的重心比第一组合清洗工位202或第二组合清洗工位204的预磁位2022或磁性清洗位2024的磁性件低1-3mm左右，优选的为2mm左右，实现对反应杯中的磁珠的预下拉。

然后进入第三组合清洗工位206的磁性清洗位2024，该位置的内外圈的磁性件即第一清洗磁性件224与第二清洗磁性件226相对杯架或杯架所在的旋转环分别布置在内外圈，其重心进一步降低。

第三组合清洗工位206的第一清洗磁性件224与第二清洗磁性件226根据加入的激发液容量进行设置，其重心低于反应杯33中的溶液的液面，如反应杯中275μl的液体，为避免少量磁珠聚集高度超过275μl的液面高度，造成注入底物A时磁珠未被漫过或覆盖，产生磁流失，本实施例的第三组合清洗工位206的第一清洗磁性件224与第二清洗磁性件226的重心可以设置在距反应杯底约2-3.5mm左右，优选的为2.5-3mm左右。此处清洗后抽废液管路内径为1.5-2.5mm，抽废液流速约0.7-0.9mL/s。优选的，抽废液管路内径为2.0mm，抽废液流速约0.8mL/s。一方面将磁珠下拉后避免部分磁珠分布在反应杯上部在后续注入底物时未被漫过而产生磁流失，同时此处的抽废液速度也有所降低，减少磁流失。

在进行化学发光测试过程中，样本、试剂与磁颗粒结合经过孵育充分反应后需要在磁场中将未结合的物质清除干净，而后加入激发液(底物A、B)使其发光，进而获取测试结果。在整个反应过程中，清洗分离装置需要将未与磁珠结合的物质清洗干净，否则会造成测试结果异常。而现有采用的磁铁配置方式磁场强度偏低，磁铁重心位置配置不合理，容易产生磁流失。本发明每个反应杯进行5阶清洗，前4阶清洗，清洗前反应杯经过摇匀位2020、预磁位2022、磁性清洗位2024(每个磁性清洗位清洗两次)，预磁位2022相对在清洗转盘40的内圈配置620mT以上的磁铁将磁珠聚集在内圈，磁性清洗位2024内外均配置磁性件如磁铁，通过工装控制，端面尽量贴近反应杯，且重心对齐，磁场强度可提高到700mT。第5阶清洗磁铁配置与前4阶相同，但是磁铁重心降低到距反应杯底部2.5-3mm左右，将磁珠下拉，避免少量磁珠聚集高度超过275uL液面高度，造成注底物A时未被漫过，产生磁流失。

另外，第一组合清洗工位202、第二组合清洗工位204、第三组合清洗工位206的磁性清洗位2024的抽废液管路直径分别采用3.2mm、3.2mm、2.0mm，第三组合清洗工位206的磁性清洗位2024的管路变细，降低抽废液速度，避免由于磁珠下拉后产生磁流失。

本发明的清洗分离装置应用于化学发光磁分离清洗单元，磁性清洗位2024磁铁成对配置，重心齐平，提高磁场强度，降低磁流失。清洗前磁珠经充分摇匀打散，避免磁珠包裹吖啶酯清洗不干净造成发光值异常。第三组合清洗工位206的磁铁重心下移，避免少量磁珠高度超过后续注底物高度，产生磁流失。

本发明采用五阶清洗，第一、二阶清洗在第一组合清洗工位202的磁性清洗位2024，第三、四阶清洗在第二组合清洗工位204的磁性清洗位2024，第五阶清洗在第三组合清洗工位206的磁性清洗位2024，在反应杯进入每阶清洗前，依次经过摇匀、预磁、清洗。摇匀可以将反应杯内的磁珠充分打散，并将包裹在磁珠中的吖啶酯等未结合物质充分释放出来；预磁位将磁颗粒先吸附到反应杯侧壁，为后面的清洗做好聚磁准备；磁性清洗位2024的磁场强度进一步加强，将磁珠紧紧吸附在反应杯侧壁，降低清洗过程中的磁流失。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (7)

1.一种清洗分离装置，其特征在于，包括：机架、设置在机架上的清洗底座、设置在所述清洗底座上清洗转盘、与所述清洗转盘相应设置的清洗塔、与所述清洗塔连接并受控驱动清洗塔运动的清洗塔驱动机构、控制驱动所述清洗转盘或清洗塔运动/或控制进行清洗的控制装置，所述清洗转盘上设置有容纳反应杯或试管的杯架，所述清洗底座上与所述杯架或杯架所在的旋转环相应设置并依次设置有第一组合清洗工位、第二组合清洗工位、第三组合清洗工位，所述第一组合清洗工位包括：与所述杯架或杯架所在的旋转环相应设置并依次设置的预磁位、磁性清洗位，所述第二组合清洗工位或第三组合清洗工位包括：与所述杯架或杯架所在的旋转环相应设置并依次设置的摇匀位、预磁位、磁性清洗位，所述清洗底座中设置有与所述预磁位或磁性清洗位相应设置的磁性件；所述磁性件包括：与所述预磁位相应设置并置于预磁位一侧的磁性的预磁件、与所述磁性清洗位相应设置并相对置于磁性清洗位的两侧的磁性的第一清洗磁性件与第二清洗磁性件；还包括：装载所述预磁件、第一清洗磁性件的半环状或部分环状的磁性件装载盘，所述预磁件、第一清洗磁性件相对所述杯架或杯架所在旋转环设置在内圈，所述第二清洗磁性件相对所述杯架或杯架所在旋转环设置在外圈；所述清洗转盘采用分度盘结构，通过控制调整分度盘的角度位置调整所述清洗转盘的转动角度；清洗塔上设置有取液针或抽液针，于第三组合清洗工位进行清洗时的抽液管路的管径或抽液速度小于第一组合清洗工位或第二组合清洗工位进行清洗时的抽液管路或抽液速度；所述摇匀位包括：与所述杯架或杯架所在的旋转环相应设置并设置于所述杯架或杯架所在的旋转环下面或底部的摇匀台、驱动所述摇匀台旋转运动的摇匀旋转驱动装置、及驱动所述摇匀台升降运动的摇匀升降驱动装置，所述摇匀台上方于所述杯架或杯架所在旋转环上部的相应位置设置有摇匀挡片；所述清洗分离装置采用五阶清洗，第一、二阶清洗在第一组合清洗工位的磁性清洗位，第三、四阶清洗在第二组合清洗工位的磁性清洗位，第五阶清洗在第三组合清洗工位的磁性清洗位，在反应杯进入每阶清洗前，依次经过摇匀、预磁、清洗。

2.根据权利要求1所述的清洗分离装置，其特征在于，相对设置的第一清洗磁性件、第二清洗磁性件重心等高设置。

3.根据权利要求1-2任一项所述的清洗分离装置，其特征在于，与所述第三组合清洗工位相应设置的磁性件的重心低于与所述第一组合清洗工位或第二组合清洗工位相应设置的磁性件的重心，与所述第三组合清洗工位相应设置的磁性件的高度或重心设置与待处理反应杯加入的激发液或溶液的液位相应设置并低于其液面高度。

4.根据权利要求3所述的清洗分离装置，其特征在于，与所述第三组合清洗工位的预磁位相应设置的预磁件的重心相对与所述第二组合清洗工位或第一组合清洗工位的磁性件低1-3mm设置。

5.根据权利要求1-2任一项所述的清洗分离装置，其特征在于，所述预磁位的磁场强度为610-630mT，所述磁性清洗位的磁场强度为690-710mT。

6.根据权利要求1所述的清洗分离装置，其特征在于，所述摇匀台为偏心轮转台，所述摇匀挡片与置于所述杯架的待处理反应杯的高度相应设置并高出1-5cm设置。

7.根据权利要求1-2任一项所述的清洗分离装置，其特征在于，还包括：与所述清洗塔驱动机构连接并驱动其带动所述清洗塔进入工作位或复位的复位机构，所述清洗塔驱动机构包括：与所述清洗塔连接以带动清洗塔进行升降运动的清洗塔升降机构、与所述清洗塔升降机构活动连接并供清洗塔升降机构沿其运动的升降滑轨、与所述清洗塔升降机构连接并驱动其沿升降滑轨进行升降运动的升降驱动动力元件，所述复位机构包括：设置在机架上的基板、与设置在所述基板上的复位驱动机构、设置在所述基板上的拱形或幂字盖状复位槽、与所述清洗塔升降机构或升降滑轨连接并沿复位槽运动的滑块或滑柱、与所述升降滑轨连接并转动驱动带动升降滑轨或升降机构通过滑块或滑柱沿复位槽运动以对清洗塔进行复位或驱动其进入工位的复位驱动件。

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