CN110529736A - 一种化学气相沉积系统及供气装置和供气方法 - Google Patents
一种化学气相沉积系统及供气装置和供气方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110529736A CN110529736A CN201910841397.XA CN201910841397A CN110529736A CN 110529736 A CN110529736 A CN 110529736A CN 201910841397 A CN201910841397 A CN 201910841397A CN 110529736 A CN110529736 A CN 110529736A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- gas
- electromagnetism
- driving valve
- pipeline
- pipeline connection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17D—PIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
- F17D1/00—Pipe-line systems
- F17D1/02—Pipe-line systems for gases or vapours
- F17D1/04—Pipe-line systems for gases or vapours for distribution of gas
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17D—PIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
- F17D3/00—Arrangements for supervising or controlling working operations
- F17D3/01—Arrangements for supervising or controlling working operations for controlling, signalling, or supervising the conveyance of a product
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/34—Hydrogen distribution
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
Claims (10)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910841397.XA CN110529736B (zh) | 2019-09-05 | 2019-09-05 | 一种化学气相沉积系统及供气装置和供气方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910841397.XA CN110529736B (zh) | 2019-09-05 | 2019-09-05 | 一种化学气相沉积系统及供气装置和供气方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110529736A true CN110529736A (zh) | 2019-12-03 |
CN110529736B CN110529736B (zh) | 2021-09-14 |
Family
ID=68667372
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910841397.XA Active CN110529736B (zh) | 2019-09-05 | 2019-09-05 | 一种化学气相沉积系统及供气装置和供气方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110529736B (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111649235A (zh) * | 2020-07-13 | 2020-09-11 | 阁壹系统集成设备(滁州)有限公司 | 一种特气柜系统及其抽真空的方法 |
CN111995402A (zh) * | 2020-08-27 | 2020-11-27 | 上海大学绍兴研究院 | 一种化学气相沉积/渗透装置和制备陶瓷基复合材料的方法 |
CN112126912A (zh) * | 2020-09-07 | 2020-12-25 | 广东先导先进材料股份有限公司 | 制备热解氮化硼的供气系统及其供气方法 |
CN116443881A (zh) * | 2023-03-31 | 2023-07-18 | 云南通威高纯晶硅有限公司 | 多晶硅还原炉快速停炉的方法、系统、计算机设备及可读存储介质 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01307229A (ja) * | 1988-06-06 | 1989-12-12 | Canon Inc | 堆積膜形成法 |
JPH0539576A (ja) * | 1991-08-05 | 1993-02-19 | Fujikura Ltd | Cvd装置用原料ガス供給機構 |
EP0595175A1 (de) * | 1992-10-28 | 1994-05-04 | Schott Glaswerke | Vorrichtung zur Versorgung von CVD-Beschichtungseinrichtungen |
CN1670244A (zh) * | 2004-03-20 | 2005-09-21 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 气体配制系统及其气体配制方法 |
CN101723373A (zh) * | 2008-10-23 | 2010-06-09 | 北京有色金属研究总院 | 一种带有氮气保护的三氯氢硅或四氯化硅工艺系统的控制管路 |
CN202099382U (zh) * | 2010-08-09 | 2012-01-04 | 上海蓝宝光电材料有限公司 | 一种金属有机物化学气相沉积设备的气体控制装置 |
CN104233221A (zh) * | 2014-09-17 | 2014-12-24 | 湖南顶立科技有限公司 | 一种碳化硅化学气相沉积设备及方法 |
CN204220106U (zh) * | 2014-11-24 | 2015-03-25 | 太仓中化环保化工有限公司 | 一种气体混合装置 |
CN105039931A (zh) * | 2015-08-31 | 2015-11-11 | 清远先导材料有限公司 | 一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统 |
CN108165951A (zh) * | 2017-12-21 | 2018-06-15 | 清远先导材料有限公司 | 硫化锌或硒化锌球罩的制备设备 |
CN108896689A (zh) * | 2018-08-13 | 2018-11-27 | 朗析仪器(上海)有限公司 | 一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统 |
CN210856329U (zh) * | 2019-09-05 | 2020-06-26 | 安徽光智科技有限公司 | 一种化学气相沉积系统及供气装置 |
-
2019
- 2019-09-05 CN CN201910841397.XA patent/CN110529736B/zh active Active
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01307229A (ja) * | 1988-06-06 | 1989-12-12 | Canon Inc | 堆積膜形成法 |
JPH0539576A (ja) * | 1991-08-05 | 1993-02-19 | Fujikura Ltd | Cvd装置用原料ガス供給機構 |
EP0595175A1 (de) * | 1992-10-28 | 1994-05-04 | Schott Glaswerke | Vorrichtung zur Versorgung von CVD-Beschichtungseinrichtungen |
CN1670244A (zh) * | 2004-03-20 | 2005-09-21 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 气体配制系统及其气体配制方法 |
CN101723373A (zh) * | 2008-10-23 | 2010-06-09 | 北京有色金属研究总院 | 一种带有氮气保护的三氯氢硅或四氯化硅工艺系统的控制管路 |
CN202099382U (zh) * | 2010-08-09 | 2012-01-04 | 上海蓝宝光电材料有限公司 | 一种金属有机物化学气相沉积设备的气体控制装置 |
CN104233221A (zh) * | 2014-09-17 | 2014-12-24 | 湖南顶立科技有限公司 | 一种碳化硅化学气相沉积设备及方法 |
CN204220106U (zh) * | 2014-11-24 | 2015-03-25 | 太仓中化环保化工有限公司 | 一种气体混合装置 |
CN105039931A (zh) * | 2015-08-31 | 2015-11-11 | 清远先导材料有限公司 | 一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统 |
CN108165951A (zh) * | 2017-12-21 | 2018-06-15 | 清远先导材料有限公司 | 硫化锌或硒化锌球罩的制备设备 |
CN108896689A (zh) * | 2018-08-13 | 2018-11-27 | 朗析仪器(上海)有限公司 | 一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统 |
CN210856329U (zh) * | 2019-09-05 | 2020-06-26 | 安徽光智科技有限公司 | 一种化学气相沉积系统及供气装置 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111649235A (zh) * | 2020-07-13 | 2020-09-11 | 阁壹系统集成设备(滁州)有限公司 | 一种特气柜系统及其抽真空的方法 |
CN111649235B (zh) * | 2020-07-13 | 2022-04-12 | 阁壹系统集成设备(滁州)有限公司 | 一种特气柜系统及其抽真空的方法 |
CN111995402A (zh) * | 2020-08-27 | 2020-11-27 | 上海大学绍兴研究院 | 一种化学气相沉积/渗透装置和制备陶瓷基复合材料的方法 |
CN112126912A (zh) * | 2020-09-07 | 2020-12-25 | 广东先导先进材料股份有限公司 | 制备热解氮化硼的供气系统及其供气方法 |
CN112126912B (zh) * | 2020-09-07 | 2023-02-17 | 广东先导微电子科技有限公司 | 制备热解氮化硼的供气系统及其供气方法 |
CN116443881A (zh) * | 2023-03-31 | 2023-07-18 | 云南通威高纯晶硅有限公司 | 多晶硅还原炉快速停炉的方法、系统、计算机设备及可读存储介质 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110529736B (zh) | 2021-09-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110529736A (zh) | 一种化学气相沉积系统及供气装置和供气方法 | |
US5496408A (en) | Apparatus for producing compound semiconductor devices | |
CN104120407B (zh) | 一种用于化学气相沉积液体原料汽化供给装置与使用方法 | |
CN102650046B (zh) | 一种规模化连续制备二维纳米薄膜的装置 | |
WO2018161382A1 (zh) | 大面积钙钛矿薄膜的制备设备 | |
JPS62273714A (ja) | 有機金属ガス供給方法および装置 | |
US4844006A (en) | Apparatus to provide a vaporized reactant for chemical-vapor deposition | |
CN103305797B (zh) | 蒸镀装置 | |
CN102634769A (zh) | 一种连续制备二维纳米薄膜的设备 | |
CN207294886U (zh) | 管式炉及化学气相沉积装置 | |
CN202558935U (zh) | 一种连续制备二维纳米薄膜的化学气相沉积设备 | |
JPH11168092A (ja) | 気相成長方法および気相成長装置 | |
CN205473973U (zh) | 一种基于脉冲气流生长二硫化钼薄膜的化学气相沉积设备 | |
CN109423695A (zh) | 掺杂源供应管路及化学气相沉积系统 | |
CN210856329U (zh) | 一种化学气相沉积系统及供气装置 | |
CN206751918U (zh) | 一种热丝化学气相沉积金刚石薄膜的装置 | |
CN217459568U (zh) | 一种改善液态源气体传输稳定性的装置 | |
JPH0927455A (ja) | 半導体基板の製造方法と原料ガスの供給装置 | |
CN212667712U (zh) | 用于灌装固体mo源的钢瓶 | |
CN221244669U (zh) | 一种液源鼓泡机构及供气柜 | |
CN220926927U (zh) | Mad设备的进气系统 | |
CN108048819B (zh) | 一种化学气相沉积工艺 | |
CN114901865A (zh) | 用于沉积二维的层的cvd反应器的应用 | |
JPH03141192A (ja) | 気相成長装置および気相成長方法 | |
CN210261990U (zh) | 一种向管式pecvd的tma介质输送系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
TA01 | Transfer of patent application right | ||
TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20200508 Address after: 239000 east of yongyang Road, west of Nanjing Road, north of Anqing road and south of Lu'an road in Langya Economic Development Zone, Langya District, Chuzhou City, Anhui Province Applicant after: Anhui Guangzhi Technology Co.,Ltd. Address before: 511517 Guangdong city of Qingyuan province high tech Zone Industrial Park 27-9 District No. B shpucka Applicant before: FIRST SEMICONDUCTOR MATERIALS Co.,Ltd. |
|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of invention: Chemical vapor deposition system, gas supply device and gas supply method Effective date of registration: 20221130 Granted publication date: 20210914 Pledgee: Chuzhou Branch of Industrial Bank Co.,Ltd. Pledgor: Anhui Guangzhi Technology Co.,Ltd. Registration number: Y2022980023974 |
|
PC01 | Cancellation of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
PC01 | Cancellation of the registration of the contract for pledge of patent right |
Date of cancellation: 20221214 Granted publication date: 20210914 Pledgee: Chuzhou Branch of Industrial Bank Co.,Ltd. Pledgor: Anhui Guangzhi Technology Co.,Ltd. Registration number: Y2022980023974 |