CN105039931A - 一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统 - Google Patents
一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105039931A CN105039931A CN201510552153.1A CN201510552153A CN105039931A CN 105039931 A CN105039931 A CN 105039931A CN 201510552153 A CN201510552153 A CN 201510552153A CN 105039931 A CN105039931 A CN 105039931A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- chemical vapor
- vapor deposition
- gas
- deposition apparatus
- deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明提供了一种化学气相沉积炉,包括:用于盛放固体原料并向所述沉积室供送气态原料的原料供给装置;设置于所述原料供给装置上方的两个及以上的沉积装置;设置于所述沉积装置上方的收料装置,所述收料装置包括一个收料盒、设置于所述收料盒顶部的收料盒盖以及开设于所述收料盒盖处的出气筒,所述收料盒为一个内部贯通的腔室,所述出气筒的下端与所述收料盒的腔室连通。本发明中未反应完的气体以及未来的及沉积的化合物颗粒直接进入到收料盒内,尽可能的进入到与化学气相沉积炉相连的粉尘收集系统,降低了整个化学气相沉积炉的承重,同时减少反应生成的粉尘停留到沉积装置的量,降低系统堵塞的几率,相应的增加产品的厚度,提高了产品的转化率。
Description
技术领域
本发明属于化学气相沉积技术领域,具体涉及一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统。
背景技术
化学气相沉积(Chemicalvapordeposition,简称CVD)是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相沉积是反应物质在真空条件下,两种或者两种以上的气体物质在基体上发生化学反应,生成固态物质沉积在基体表面,进而制得固体材料的工艺技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料、红外材料等。
化学气相沉积系统包括化学气相沉积炉、向所述化学气相沉积炉提供气体的气体输送系统,与化学气相沉积炉相连通的真空系统,与化学气相沉积炉相连接的粉尘收集系统以及与真空系统相连的尾气处理系统。
一般化学相沉积系统采用的化学气相沉积炉基本上为单一沉积室,单一腔室的化学气相沉积炉对于小的炉体来说应用起来比较方便,但是对于大量的工业化生产上,采用单一腔室的化学气相沉积炉生产成本比较高,且操作起来不方便。另外化学气相沉积过程中会产生粉尘,若粉尘不能很好的有效的处理,将会对产品的性能有着极大的影响,严重时可能会导致整个化学气相沉积过程的终止。
清远先导材料有限公司针对上述问题申请的《一种多腔室石墨沉积装置及化学气相沉积炉》专利,提出了解决此问题的方案,该专利中提到了利用多个沉积室,同时在化学气相沉积炉中的沉积装置上方增加了收尘机构,所述收尘机构设有用于收集所述沉积室逸出的粉尘的收尘容器以及用于供所述沉积室逸出的粉尘通过并流向所述收尘容器的收尘通道,上述化学气相沉积炉在实际的应用过程,增加的收尘机构使化学气相沉积过程中产生的粉尘能够在经过收尘通道时或经过后在收尘容器中沉淀下来被收集,但是上述改进增加了沉积系统化学气相沉积炉的复杂性,同时未沉积到沉积室装置里面的产品进入到了沉积系统装置的顶部,增加了系统堵塞的几率,同时降低了沉积后产品的厚度,影响产品的性能,降低了产品的转化率。
发明内容
有鉴于此,本发明要解决的技术问题在于提供一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统,采用本发明提供的化学气相沉积炉降低了系统堵塞的几率,并且制备的产品厚度增加,大大提高了产品的转化率,扩大了产品的应用范围。
本发明提供了一种化学气相沉积炉,包括:
用于盛放固体原料并向所述沉积室供送气态原料的原料供给装置(1);
设置于所述原料供给装置上方的两个及以上的沉积装置(2);
设置于所述沉积装置上方的收料装置,所述收料装置包括一个收料盒(3)、设置于所述收料盒(3)顶部的收料盒盖(12)以及开设于所述收料盒盖(12)处的出气筒(5),所述收料盒(3)为一个内部贯通的腔室,所述出气筒(5)的下端与所述收料盒(3)的腔室连通。
优选的,所述原料供给装置与所述沉积装置之间设置有第一盖板(6),所述第一盖板(6)将所述原料供给装置(1)的腔体与所述沉积装置(2)的腔体隔开,所述第一盖板(6)上设置有第一原料气体出口(7)、以及将所述原料供给装置(1)的腔体与所述沉积装置(2)的腔体相连通的第二原料气体出口(8)。
优选的,所述第一原料气体出口(7)设置有第一气体分布器(901),所述第二原料气体出口(8)设置有第二气体分布器(902),分布器不仅可以起到分流气体的作用,还起到过滤气体的作用。
优选的,所述沉积装置与所述收料装置之间设置有第二盖板(10),所述第二盖板将所述沉积装置的腔体与所述收料装置的腔体隔开,所述第二盖板上设置有将所述沉积装置的腔体与所述收料装置的腔体相连通的出气口(11)。
优选的,还包括工艺气体进气管路(4),所述工艺气体进气管路(4)通过所述收料盒(3)顶部贯穿于所述收料盒并直接进入所述沉积装置(2)。
优选的,还包括与所述出气筒(5)的上端相连的粉尘收集系统(b2)。
优选的,各沉积装置(2)围绕一中心轴线间隔均匀的呈圆周分布或者各沉积装置呈阵列分布。
优选的,所述原料供给装置(1)与所述沉积装置(2)数量相同,且位置一一对应。
本发明还提供了一种化学气相沉积系统,包括:
权利要求1~8任意一项权利要求所述的化学气相沉积炉(b);
工艺气体出气口与所述化学气相沉积炉的工艺气体进气管路(4)相连、第一原料气体出口与所述化学气相沉积炉的第一原料气体入口相连的供气系统(a);
进气口与所述化学气相沉积炉(b)的出气筒(5)相连通的真空系统(c);
进气口与所述真空系统(d)的出气口相连的尾气处理系统(d)。
优选的,还包括设置于所述出气筒(5)以及真空系统(c)的进气口之间的粉尘收集系统(b2),所述粉尘收集系统(b2)的进气口与所述出气筒(5)的上端相连,所述粉尘收集系统(b2)的进气口与所述真空系统(c)的进气口相连。
与现有技术相比,本发明提供了一种化学气相沉积炉,包括:用于盛放固体原料并向所述沉积室供送气态原料的原料供给装置(1);设置于所述原料供给装置上方的两个及以上的沉积装置(2);设置于所述沉积装置上方的收料装置,所述收料装置包括一个收料盒(3)、设置于所述收料盒(3)顶部的收料盒盖(12)以及开设于所述收料盒盖(12)处的出气筒(5),所述收料盒(3)为一个内部贯通的腔室,所述出气筒(5)的下端与所述收料盒(3)的腔室连通。在化学气相沉积反应过程中,未反应完的气体以及未来的及沉积的化合物颗粒直接进入到收料盒里面,尽可能的进入到与化学气相沉积炉相连的粉尘收集系统,降低了整个化学气相沉积炉的承重,同时减少了反应生成的粉尘停留到沉积装置的量,降低了系统堵塞的几率,相应的增加了产品的厚度,提高了产品的转化率。
结果表明,本发明提供的化学气相沉积系统制备得到的产品的厚度≥35mm,产品的转化率达到65%以上。
附图说明
图1为本发明提供的化学气相沉积炉的结构示意图;
图2为本发明提供的化学气相沉积系统的结构示意图。
具体实施方式
本发明提供了一种化学气相沉积炉,包括:
用于盛放固体原料并向所述沉积室供送气态原料的原料供给装置(1);
设置于所述原料供给装置上方的两个及以上的沉积装置(2);
设置于所述沉积装置上方的收料装置,所述收料装置包括一个收料盒(3)、设置于所述收料盒(3)顶部的收料盒盖(12)以及开设于所述收料盒盖(12)处的出气筒(5),所述收料盒(3)为一个内部贯通的腔室,所述出气筒(5)的下端与所述收料盒(3)的腔室连通。
在本发明的一些具体实施方式中,所述化学气相沉积炉的具体结构见图1,图1为本发明提供的化学气相沉积炉的结构示意图。图1中,1为原料供给装置,2为沉积装置,3为收料盒,4为工艺气体进气管路,5为出气筒,6为第一盖板,7为第一原料气体出口,8为第二原料气体出口,901为第一气体分布器,902为第二气体分布器,气体分布器起到分流气体和过滤气体的作用,10为第二盖板,11为出气口,12为收料盒盖。
具体的,本发明提供的化学气相沉积炉包括用于盛放固体原料并向所述沉积室供送气态原料的原料供给装置(1),其中,所述原料供给装置(1)包括盛放反应原料的坩埚(101)和设置在坩埚(101)下方的坩埚底座(102)。在本发明中,所述坩埚(101)的数量≥2个,优选为2个。所述坩埚的材质优选为石墨。所述设置在坩埚下方的坩埚底座(102)的作用是承当整个化学气相沉积炉,同时与所述化学气相沉积炉的炉体(未在图1中画出)进行组装,所述坩埚底座(102)起到至关重要的作用,不仅要考虑该部件的承重还需要考虑所述坩埚底座(102)与炉体材质之间不同热膨胀系数的影响,在本发明中,所述化学气相沉积炉的炉体为化学气相沉积炉的外壳体,所述炉体材料优选为不锈钢,相应的,所述坩埚底座的材料优选为等静压石墨。
在本发明中,所述化学气相沉积炉还包括第一原料气体进气管道(13),所述第一原料气体进气管道(13)贯穿炉体底部以及坩埚底座(102),并直接进入所述沉积装置(2),向所述沉积装置提供第一原料气体。
所述第一原料气体进气管道(13)与所述坩埚(101)的数量相同,且一一对应。在本发明的一些具体实施方式中,所述第一原料气体进气管道(13)的数量为2个,在本发明的另一些具体实施方式中,所述第一原料气体进气管道(13)的数量为3个,在本发明的另一些具体实施方式中,所述第一原料气体进气管道(13)的数量为4个。
本发明提供的化学气相沉积炉还包括设置于所述原料供给装置上方的两个及以上的沉积装置(2)。其中,所述沉积装置由≥3块沉积板组成,在本发明的一些具体实施方式中,所述沉积板为4块,所述4块沉积板垂直于水平方向并且相邻的两块沉积板垂直设置围成一个立方体结构,更优选的,所述4块沉积板的尺寸大小相同。所述沉积装置为化学气相沉积进行反应的场所,所述沉积板为化学气相沉积反应进行的基体,在本发明中,所述沉积板优选为石墨板。所述沉积装置的个数≥2,各沉积装置(2)围绕一中心轴线间隔均匀地呈圆周分布或者各沉积装置呈阵列分布。优选的,所述原料供给装置(1)与所述沉积装置(2)数量相同,且位置一一对应。在本发明的一些具体实施方式中,所述沉积装置为两个,所述两个沉积装置相向设置,在本发明的一些具体实施方式中,所述沉积装置为3个,所述3个沉积装置围绕一中心轴线间隔均匀地呈圆周分布;在本发明的一些具体实施方式中,所述沉积装置为4个,所述4个沉积装置围绕圆心360°均布。
在本发明的一些具体实施方式中,所述原料供给装置与所述沉积装置之间设置有第一盖板(6),所述第一盖板将所述原料供给装置的腔体与所述沉积装置的腔体隔开。所述第一盖板(6)上设置有第一原料气体出口(7)、以及将所述原料供给装置(1)的腔体与所述沉积装置(2)的腔体相连通的第二原料气体出口(8)。其中,所述第一原料气体出口(7)为第一原料气体进气管道(13)的出气口。
在本发明中,优选在所述气体出口处设置气体分布器,即在该出气孔上放置一多孔板,可起到分流和过滤气体的作用,使气体更加均匀的进入到沉积装置(2)中。在本发明的一些具体实施方式中,所述第一原料气体出口(7)处设置有第一气体分布器(901),所述第二原料气体出口(8)处设置有第二气体分布器(902)。本发明提供的化学气相沉积炉通过第一盖板直接将所述原料供给装置与所述沉积装置隔开,缩短了气体进入到沉积装置的路径,使原料气尽可能多的在沉积系统里面沉积,从而得到较厚产品。
本发明提供的化学气相沉积炉还包括设置于所述沉积装置上方的收料装置,所述收料装置包括一个收料盒(3)、设置于所述收料盒(3)顶部的收料盒盖(12)以及开设于所述收料盒盖(12)处的出气筒(5),所述收料盒(3)为一个内部贯通的腔室,所述出气筒(5)的下端与所述收料盒(3)的腔室连通。
本发明所述收料装置包括一个收料盒(3),所述收料盒(3)为一个内部贯通的腔室。在所述收料盒(3)的顶部的收料盒盖(12)处还设置有出气筒(5),所述出气筒为未反应完的气体以及反应后得到的未沉积的固体颗粒物的出口,优选的,所述出气筒(5)开设于收料盒盖(12)的中间位置。
在本发明的一些具体实施方式中,所述沉积装置与所述收料装置之间设置有第二盖板(10),所述第二盖板将所述各沉积装置的腔体与所述收料装置的腔体隔开。所述第二盖板上设置有将所述沉积装置的腔体与所述收料装置的腔体相连通的出气口(11)。所述出气口(11)的个数≥1个,在本发明的一些具体实施方式中,所述出气口(11)的个数与所述沉积装置(2)的个数一致,并且位置一一对应。
本发明提供的化学气相沉积炉还包括工艺气体进气管路(4),所述工艺气体进气管路(4)通过所述收料盒(3)顶部贯穿于所述收料盒并直接进入所述原料供给装置(1)。在本发明中,所述工艺气体进气管路的数量与所述原料供给装置(1)的数量相同,并且位置一一对应。
本发明提供的化学气相沉积炉还包括与所述出气筒(5)的上端相连的粉尘收集系统(b2)。在本发明的一些具体实施方式中,未反应完的气体以及未来的及沉积的固体颗粒物由沉积装置(2)直接进入到收料盒(3)中,并尽可能的进入到与出气筒(5)相连的粉尘收集系统中,从而降低了整个化学气相沉积炉的承重,降低了沉积装置因粉尘颗粒沉积堵塞整个化学气相沉积炉的几率,并且降低了损坏沉积装置的几率,同时提高的了产品沉积的厚度以及尺寸,提高了产品的转化率。
在本发明中,所述化学气相沉积炉的工作过程如下:
首先,在化学气相沉积炉的炉体内将坩埚(101)放置到坩埚底座(102)上,将固体原料放置到坩埚(101)内,将第一盖板(6)安装好,将沉积板安装固定,固定好第二盖板(10),安装好收料盒(3)和出气筒(5)。完成前述组装过程后,开启化学气相沉积炉的加热系统,根据实际的工艺条件,设定相应的工艺参数,将坩埚(101)内的固体原料熔化并且气化后,根据相应的工艺参数,设定进入到坩埚(101)内的工艺气体的流量,其中工艺气体通过顶部工艺气体进气管路(4)进入到坩埚(101)内,将坩埚中的固体原料的蒸汽携带出来通过开设于第一盖板(6)第二原料进气口,被设置于第二原料出气口的第二气体分布器(902)进入到与该坩埚对应得沉积装置(2)的腔体内,与从贯穿于所述化学气相沉积炉底部第一原料气体进气管道(13)进入的第一原料气体在沉积装置(2)内相遇并发生反应,所得到的产物在沉积装置(2)的沉积板上沉积,生成的粉尘通过第二盖板(10)的出气口(11)流出进入到收料盒(3)中,并通过收料盒(3)顶部的收料盒盖(12)开设的出气筒(5),进入到粉尘收集系统。
本发明还提供了一种化学气相沉积系统,包括:
上述化学气相沉积炉(b);
工艺气体出气口与所述化学气相沉积炉的工艺气体进气管路(4)相连、第一原料气体出口与所述化学气相沉积炉的第一原料气体入口相连的供气系统(a);
进气口与所述化学气相沉积炉(b)的出气筒(5)相连通的真空系统(c);
进气口与所述真空系统(d)的出气口相连的尾气处理系统(d)。
具体结构见图2,图2为本发明提供的化学气相沉积系统的结构示意图,其中,a为供气系统,b为化学气相沉积炉,c为粉尘收集系统,d为真空系统,e为尾气处理系统,b1为化学气相沉积炉的主体,b2为粉尘收集系统。
本发明提供的化学气相沉积系统包括上述结构的化学气相沉积炉(b)。还包括与所述化学气相沉积炉提供反应气体的供气系统(a),其中,所述供气系统向所述化学气相沉积炉中提供工艺气体以及第一原料气体,所述供气系统的工艺气体出气口与所述化学气相沉积炉的工艺气体进气管路(4)相连,所述供气系统的第一原料气体出气口与所述化学气相沉积炉的第一原料气体进气口相连。
本发明提供的化学气相沉积系统还包括进气口与所述化学气相沉积炉(b)的出气筒(5)相连通的真空系统(d),所述真空系统将化学气相沉积炉中抽真空,使所述化学气相沉积炉处于真空状态。
本发明提供的化学气相沉积系统还包括进气口与所述真空系统(d)的出气口相连的尾气处理系统(e)。所述尾气处理系统(e)用于对未反应完的气体进行回收处理。
在本发明的一些具体实施方式中,所述化学气相沉积系统还包括设置于所述出气筒(5)以及真空系统(c)的进气口之间的粉尘收集系统(b2),所述粉尘收集系统(b2)的进气口与所述化学气相沉积炉的主体(b1)的出气筒(5)的上端相连,所述粉尘收集系统(b2)的进气口与所述真空系统(c)的进气口相连。
本发明在化学气相沉积反应过程中,未反应完的气体以及未来的及沉积的化合物颗粒直接进入到收料盒里面,尽可能的进入到与化学气相沉积炉相连的粉尘收集系统,降低了整个化学气相沉积炉的承重,同时减少了反应生成的粉尘进入到沉积装置的量,降低了系统堵塞的几率,相应的增加了产品的厚度,提高了产品的转化率,降低了生产成本。
结果表明,本发明提供的化学气相沉积系统制备得到的产品的厚度≥35mm,产品的转化率达到65%以上。
为了进一步理解本发明,下面结合实施例对本发明提供的化学气相沉积炉以及化学气相沉积系统进行说明,本发明的保护范围不受以下实施例的限制。
实施例1、
本实施例提供了一种化学气相沉积系统,包括化学气相沉积炉,所述化学气相沉积炉包括两个沉积装置(2)和与所述两个沉积装置对应的两个原料供给装置(1),两个沉积装置(2)相向设置。
所述原料供给装置包括石墨坩埚(101)和设置在石墨坩埚(101)下方的材质为等静压石墨的坩埚底座(102)。
所述沉积装置(2)设置于原料供给装置(1)的上方,所述沉积装置(2)包括4块大小尺寸相同的石墨沉积板围成。
在所述原料供给装置(1)与所述沉积装置(2)之间设置有第一盖板(6),所述第一盖板将所述原料供给装置的腔体与所述沉积装置的腔体隔开。所述第一盖板(6)上设置有第一原料气体出口(7)、以及将所述原料供给装置(1)的腔体与所述沉积装置(2)的腔体相连通的第二原料气体出口(8),其中,所述第一原料气体出口(7)为第一原料气体进气管道(13)的出气口,所述第一原料气体进气管道(13)贯穿炉体底部以及坩埚底座(102),并直接进入所述沉积装置(2),向所述沉积装置提供第一原料气体。在所述第一原料气体出口处设置有第一气体分布器(901),在所述第二原料气体出口(8)出设置有第二气体分布器(902)。
在所述沉积装置(2)上方设置有收料装置,所述收料装置包括收料盒(3)、设置于所述收料盒(3)顶部的收料盒盖(12)以及设置于所述收料盒盖(12)处的出气筒(5)。其中,所述收料盒(3)用于收集未沉积的固体产物颗粒。所述出气筒(5)为未反应完的气体以及反应后得到的未沉积的固体颗粒物的出口,所述出气筒(5)开设于收料盒盖(12)的中间位置。
在所述沉积装置与所述收料装置之间设置有第二盖板(10),所述第二盖板将所述各沉积装置的腔体与所述收料装置的腔体隔开。所述第二盖板上设置有将所述沉积装置的腔体与所述收料装置的腔体相连通的出气口(11)。所述出气口(11)的个数为两个,并与沉积装置的位置一一对应。
本发明提供的化学气相沉积炉还包括工艺气体进气管路(4),所述工艺气体进气管路(4)通过所述收料盒(3)顶部贯穿于所述收料盒并直接进入所述沉积装置(2)。在本发明中,所述工艺气体进气管路的数量为2个,并与所述原料供给装置(1)的位置一一对应。
本发明提供的化学气相沉积系统还包括与所述向所述化学气相沉积炉提供反应气体的供气系统,所述供气系统用于向所述化学气相沉积炉提供工艺气体氩气和第一原料气体硒化氢气体。所述供气系统的工艺气体出气口与所述化学气相沉积炉的工艺气体进气管路(4)相连,所述供气系统的第一原料气体出气口与所述化学气相沉积炉的第一原料气体进气口相连。
所述粉尘收集系统的进气口与所述出气筒(5)连接,所述真空系统的进气口与粉尘收集系统的出气口相连,所述尾气处理系统的进气口与所述真空系统的出气口相连。
所述化学气相沉积系统的运行过程为:
将原料锌锭盛装到石墨坩埚(101)里面,安装好坩埚(101)以及坩埚底座(102)之后,将第一盖板(6)安装好,将沉积板安装固定,固定好第二盖板(10),安装好收料盒(3)和出气筒(5)。
开启真空系统,将化学气相沉积系统抽真空,之后开启供气系统以及化学气相沉积炉的加热系统。将根据实际的工艺条件,设定相应的工艺参数,将坩埚(101)内的固体原料熔化并且气化后,根据相应的工艺参数,设定进入到坩埚(101)内的工艺气体氩气的流量以及进入到沉积系统中的第一原料气体硒化氢的流量,其中工艺气体氩气通过顶部工艺气体进气管路(4)进入到坩埚(101)内,将坩埚中的固体原料锌锭的蒸汽携带出来通过开设于第一盖板(6)第二原料气体出气口,被设置于第二原料气体出气口的第二原料气体分布器进入到与该坩埚对应的沉积装置(2)的腔体内,与从贯穿于所述化学气相沉积炉底部设置的第一原料气体进气管道(13)进入的第一原料气体硒化氢在沉积装置(2)内相遇并发生反应,所得到的锌化硒在沉积装置(2)的沉积板上沉积,未反应的原料气、副产物、以及未沉积的锌化硒粉尘通过第二盖板(10)的出气口(11)流出进入到收料盒(3)中,并通过收料盒(3)顶部中间位置开设的出气筒(5),进入到粉尘收集系统。
反应结束后,测定硒化锌的厚度为40mm,产品转化率68%。
实施例2
本实施例提供了一种化学气相沉积系统,与实施例1不同的是,本实施例提供的化学气相沉积系统中的化学气相沉积炉设有4个沉积装置,所述4个沉积装置对应设置有4个坩埚。其中,所述4个沉积装置围绕圆心360°均匀分布。
利用此方法生产硒化锌的厚度可达到45mm,产品转化率75%。
实施例3
本实施例提供了一种化学气相沉积系统,与实施例1不同的是,本实施例提供的化学气相沉积系统中的化学气相沉积炉设有2个沉积装置,所述2个沉积装置对应设置有2个坩埚。其中,所述2个沉积装置围绕一中心轴线间隔均匀地呈圆周分布,所述工艺气体为氩气和第一原料气体为硫化氢。
利用此方法生产硫化锌的厚度可达到44mm,产品转化率69%。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种化学气相沉积炉,其特征在于,包括:
用于盛放固体原料并向所述沉积室供送气态原料的原料供给装置(1);
设置于所述原料供给装置上方的两个及以上的沉积装置(2);
设置于所述沉积装置上方的收料装置,所述收料装置包括一个收料盒(3)、设置于所述收料盒(3)顶部的收料盒盖(12)以及开设于所述收料盒盖(12)处的出气筒(5),所述收料盒(3)为一个内部贯通的腔室,所述出气筒(5)的下端与所述收料盒(3)的腔室连通。
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉,其特征在于,所述原料供给装置与所述沉积装置之间设置有第一盖板(6),所述第一盖板(6)将所述原料供给装置(1)的腔体与所述沉积装置(2)的腔体隔开,所述第一盖板(6)上设置有第一原料气体出口(7)、以及将所述原料供给装置(1)的腔体与所述沉积装置(2)的腔体相连通第二原料气体出口(8)。
3.根据权利了要求2所述的化学气相沉积炉,其特征在于,所述第一原料气体出口(7)设置有第一气体分布器(901),所述第二原料气体出口(8)设置有第二气体分布器(902)。
4.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉,其特征在于,所述沉积装置与所述收料装置之间设置有第二盖板(10),所述第二盖板将所述沉积装置的腔体与所述收料装置的腔体隔开,所述第二盖板上设置有将所述沉积装置的腔体与所述收料装置的腔体相连通的出气口(11)。
5.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉,其特征在于,还包括工艺气体进气管路(4),所述工艺气体进气管路(4)通过所述收料盒(3)顶部贯穿于所述收料盒并直接进入所述沉积装置(2)。
6.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉,其特征在于,还包括与所述出气筒(5)的上端相连的粉尘收集系统(b2)。
7.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉,其特征在于,各沉积装置(2)围绕一中心轴线间隔均匀的呈圆周分布或者各沉积装置呈阵列分布。
8.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉,其特征在于,所述原料供给装置(1)与所述沉积装置(2)数量相同,且位置一一对应。
9.一种化学气相沉积系统,其特征在于,包括:
权利要求1~8任意一项权利要求所述的化学气相沉积炉(b);
工艺气体出气口与所述化学气相沉积炉的工艺气体进气管路(4)相连、第一原料气体出口与所述化学气相沉积炉的第一原料气体入口相连的供气系统(a);
进气口与所述化学气相沉积炉(b)的出气筒(5)相连通的真空系统(c);
进气口与所述真空系统(d)的出气口相连的尾气处理系统(d)。
10.根据权利要求9所述的化学气相沉积系统,其特征在于,还包括设置于所述出气筒(5)以及真空系统(c)的进气口之间的粉尘收集系统(b2),所述粉尘收集系统(b2)的进气口与所述出气筒(5)的上端相连,所述粉尘收集系统(b2)的进气口与所述真空系统(c)的进气口相连。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510552153.1A CN105039931A (zh) | 2015-08-31 | 2015-08-31 | 一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510552153.1A CN105039931A (zh) | 2015-08-31 | 2015-08-31 | 一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105039931A true CN105039931A (zh) | 2015-11-11 |
Family
ID=54446894
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510552153.1A Pending CN105039931A (zh) | 2015-08-31 | 2015-08-31 | 一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105039931A (zh) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105420686A (zh) * | 2015-12-31 | 2016-03-23 | 清远先导材料有限公司 | 一种化学气相沉积炉用石墨沉积装置 |
CN107119322A (zh) * | 2017-04-27 | 2017-09-01 | 云南北方驰宏光电有限公司 | 一种双面均匀沉积CVDZnS块体材料的设备 |
CN107604340A (zh) * | 2017-08-31 | 2018-01-19 | 清远先导材料有限公司 | 化学气相沉积炉 |
CN108165951A (zh) * | 2017-12-21 | 2018-06-15 | 清远先导材料有限公司 | 硫化锌或硒化锌球罩的制备设备 |
CN108330465A (zh) * | 2018-04-04 | 2018-07-27 | 博宇(朝阳)半导体科技有限公司 | 一种氮化硼坩埚生产系统 |
CN109207956A (zh) * | 2018-08-30 | 2019-01-15 | 有研国晶辉新材料有限公司 | 制备cvd红外光学材料的设备及工艺 |
CN110529736A (zh) * | 2019-09-05 | 2019-12-03 | 广东先导先进材料股份有限公司 | 一种化学气相沉积系统及供气装置和供气方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08158054A (ja) * | 1994-11-29 | 1996-06-18 | Asahi Denka Kogyo Kk | 化学的気相成長成膜方法 |
CN203360573U (zh) * | 2013-07-22 | 2013-12-25 | 湖南顶立科技有限公司 | 一种化学气相沉积系统 |
CN103703544A (zh) * | 2011-07-18 | 2014-04-02 | 维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司 | 多腔室cvd处理系统 |
CN203525504U (zh) * | 2013-09-09 | 2014-04-09 | 清远先导材料有限公司 | 收尘装置 |
CN103898475A (zh) * | 2014-04-21 | 2014-07-02 | 清远先导材料有限公司 | 一种多腔室石墨沉积装置及化学气相沉积炉 |
CN203834014U (zh) * | 2014-04-21 | 2014-09-17 | 清远先导材料有限公司 | 一种多腔室石墨沉积装置及化学气相沉积炉 |
-
2015
- 2015-08-31 CN CN201510552153.1A patent/CN105039931A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08158054A (ja) * | 1994-11-29 | 1996-06-18 | Asahi Denka Kogyo Kk | 化学的気相成長成膜方法 |
CN103703544A (zh) * | 2011-07-18 | 2014-04-02 | 维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司 | 多腔室cvd处理系统 |
CN203360573U (zh) * | 2013-07-22 | 2013-12-25 | 湖南顶立科技有限公司 | 一种化学气相沉积系统 |
CN203525504U (zh) * | 2013-09-09 | 2014-04-09 | 清远先导材料有限公司 | 收尘装置 |
CN103898475A (zh) * | 2014-04-21 | 2014-07-02 | 清远先导材料有限公司 | 一种多腔室石墨沉积装置及化学气相沉积炉 |
CN203834014U (zh) * | 2014-04-21 | 2014-09-17 | 清远先导材料有限公司 | 一种多腔室石墨沉积装置及化学气相沉积炉 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
刘漫红,孙瑞雪,肖海连等编著: "《纳米材料及其制备技术》", 31 August 2014, 冶金工业出版社 * |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105420686A (zh) * | 2015-12-31 | 2016-03-23 | 清远先导材料有限公司 | 一种化学气相沉积炉用石墨沉积装置 |
CN105420686B (zh) * | 2015-12-31 | 2019-06-25 | 清远先导材料有限公司 | 一种化学气相沉积炉用石墨沉积装置 |
CN107119322A (zh) * | 2017-04-27 | 2017-09-01 | 云南北方驰宏光电有限公司 | 一种双面均匀沉积CVDZnS块体材料的设备 |
CN107119322B (zh) * | 2017-04-27 | 2019-09-03 | 云南北方驰宏光电有限公司 | 一种双面均匀沉积CVDZnS块体材料的设备 |
CN107604340A (zh) * | 2017-08-31 | 2018-01-19 | 清远先导材料有限公司 | 化学气相沉积炉 |
CN107604340B (zh) * | 2017-08-31 | 2023-09-01 | 安徽光智科技有限公司 | 化学气相沉积炉 |
CN108165951A (zh) * | 2017-12-21 | 2018-06-15 | 清远先导材料有限公司 | 硫化锌或硒化锌球罩的制备设备 |
CN108330465A (zh) * | 2018-04-04 | 2018-07-27 | 博宇(朝阳)半导体科技有限公司 | 一种氮化硼坩埚生产系统 |
CN109207956A (zh) * | 2018-08-30 | 2019-01-15 | 有研国晶辉新材料有限公司 | 制备cvd红外光学材料的设备及工艺 |
CN110529736A (zh) * | 2019-09-05 | 2019-12-03 | 广东先导先进材料股份有限公司 | 一种化学气相沉积系统及供气装置和供气方法 |
CN110529736B (zh) * | 2019-09-05 | 2021-09-14 | 安徽光智科技有限公司 | 一种化学气相沉积系统及供气装置和供气方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105039931A (zh) | 一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统 | |
CN103898475B (zh) | 一种多腔室石墨沉积装置及化学气相沉积炉 | |
CN208545492U (zh) | 一种化学气相沉积炉 | |
CN109569473A (zh) | 一种液态金属催化烃生产氢气和炭黑的装置及方法 | |
CN205856602U (zh) | 一种高效节能式硒化锌气相沉积炉 | |
CN110240151A (zh) | 一种用于制备石墨烯的装置及其制备方法 | |
CN205061573U (zh) | 制备高纯多晶硅的流化床反应器 | |
CN107119322B (zh) | 一种双面均匀沉积CVDZnS块体材料的设备 | |
CN205556772U (zh) | 一种化学气相沉积炉用石墨沉积装置 | |
CN106544639A (zh) | 防止堵塞的气体抽取装置及设置该装置的mocvd设备 | |
CN100387525C (zh) | 制备大尺寸高均匀CVD ZnS材料的设备及其工艺 | |
CN101759225A (zh) | 一种化学气相沉积低温生长ZnS设备和工艺 | |
CN200988773Y (zh) | 制备高光学均匀性CVDZnS球罩的设备 | |
CN109207956A (zh) | 制备cvd红外光学材料的设备及工艺 | |
CN107604340B (zh) | 化学气相沉积炉 | |
CN102530951B (zh) | 生产粒状多晶硅的方法及装置 | |
CN102061458B (zh) | 基板镀膜设备的气体分布系统及方法 | |
CN203834014U (zh) | 一种多腔室石墨沉积装置及化学气相沉积炉 | |
CN206538501U (zh) | 一种快速沉积单晶炉用炭炭导流筒的装置 | |
CN105420686B (zh) | 一种化学气相沉积炉用石墨沉积装置 | |
CN102515139A (zh) | 气相法连续生产纳米材料两室立式真空可控气氛炉 | |
KR20100042372A (ko) | 열 플라스마 유동층 반응장치 및 이를 이용한 실리콘의 제조방법 | |
CN205152329U (zh) | 一种分段式石墨碳化硅涂层用气相沉积炉 | |
CN110252215A (zh) | 一种碳纳米管的连续生产装置及利用该装置的生产方法 | |
JP2009107896A (ja) | シリコンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20151111 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |