CN107604340A - 化学气相沉积炉 - Google Patents

化学气相沉积炉 Download PDF

Info

Publication number
CN107604340A
CN107604340A CN201710767019.2A CN201710767019A CN107604340A CN 107604340 A CN107604340 A CN 107604340A CN 201710767019 A CN201710767019 A CN 201710767019A CN 107604340 A CN107604340 A CN 107604340A
Authority
CN
China
Prior art keywords
vapor deposition
chemical vapor
crucible
deposition stove
hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201710767019.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107604340B (zh
Inventor
于金凤
朱刘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anhui Guangzhi Technology Co Ltd
Original Assignee
Qingyuan Xiandao Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Qingyuan Xiandao Materials Co Ltd filed Critical Qingyuan Xiandao Materials Co Ltd
Priority to CN201710767019.2A priority Critical patent/CN107604340B/zh
Publication of CN107604340A publication Critical patent/CN107604340A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107604340B publication Critical patent/CN107604340B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Abstract

本发明涉及一种化学气相沉积炉,其包括自下而上组装的用于盛放原料的一坩埚、配合坩埚使用的一坩埚盖、一沉积室、一收料盒、一导气管;所述坩埚盖上开设了连通坩埚和沉积室的若干第一通孔,所述收料盒上开设有连通沉积室和收料盒的一第二通孔,所述化学气相沉积炉还包括给坩埚加热的一第一加热器,所述收料盒内置一集尘室和盖设在集尘室上方的一集尘室盖板,所述集尘室盖板上开设连通集尘室和收料盒的一第三通孔。本发明化学气相沉积炉,结构合理,多级收集硫化锌产品,所制得的硫化锌不产生雾斑、雾层、花纹等缺陷,且硫化锌产品的整体厚度偏差小,产品转化率高。

Description

化学气相沉积炉
技术领域
本发明涉及粉末或晶体的制备装置领域,尤其涉及一种化学气相沉积炉。
背景技术
硫化锌属于红外材料,其生产方法一般采用化学气相沉积法。硫化锌的生产装置一般包括以下几个部分:电气控制系统、供气系统、冷却循环水系统、化学气相沉积炉、收尘系统、真空系统以及尾气处理系统,其中,电气控制系统主要用于对生产过程中各个工艺参数以及设备进行控制,供气系统主要用于供应生产过程中所需要的工艺气体;冷却循环水系统主要用于给生产设备降温;化学气相沉积炉是整个生产装置的主体设备,用来沉积硫化锌产品,收尘系统主要用于对生产过程中产生的粉尘进行收集,保证气流通道的畅通,同时保护真空系统;真空系统主要用于保证整个生产过程中真空度,尾气处理系统用于处理未反应完的工艺气体,将其处理达标后再进行排放。
上述几个部分相辅相成、缺一不可。其中,作为主体设备的化学气相沉积炉的设计是否合理对最终产品的性能影响极大。采用化学气相沉积法生产硫化锌一般采用的原料为锌和硫化氢,锌与硫化氢反应生成的硫化锌大部分会沉积在沉积室内,但是仍然会有部分进入到沉积室外,如果化学气相沉积炉设计不合理,会影响系统的压力,影响生产的进行。
在硫化锌的生产过程中,工艺气体的进入是另一个比较关键的问题,硫化锌生产用到的工艺气体有硫化氢和保护气体(惰性气体或者氮气),其中保护气体需要进入到两个系统内,一部分进入到坩埚内,然后携带锌蒸汽进入到沉积室内,一部分需要与硫化氢混合进入到沉积室内,在硫化锌生产过程中如果气流分布不均匀,那么会严重的影响硫化锌沉积厚度的均匀性,降低了产品的利用率;因此选用合适的进气方式也是比较关键的。
因此,亟需提出一种化学气相沉积炉以解决上述技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种结构更为合理的化学气相沉积炉。
为实现前述目的,本发明采用如下技术方案:一种化学气相沉积炉,其包括自下而上组装的用于盛放原料的一坩埚、配合坩埚使用的一坩埚盖、一沉积室、一收料盒、一导气管;所述坩埚盖上开设了连通坩埚和沉积室的若干第一通孔,所述收料盒上开设有连通沉积室和收料盒的一第二通孔,所述化学气相沉积炉还包括给坩埚加热的一第一加热器,所述收料盒内置一集尘室和盖设在集尘室上方的一集尘室盖板,所述集尘室盖板上开设连通集尘室和收料盒的一第三通孔。
作为本发明的进一步改进,所述化学气相沉积炉还包括包覆于沉积室和收料盒以及部分导气管外的一第二加热器。
作为本发明的进一步改进,所述化学气相沉积炉还包括包覆于第一加热器和第二加热器外的一保温层。
作为本发明的进一步改进,所述化学气相沉积炉还包括包覆于保温层外的一水冷夹套。
作为本发明的进一步改进,所述化学气相沉积炉还包括嵌设于坩埚盖内且自坩埚盖向坩埚通气的一第一进气管以及嵌设于坩埚盖内且自坩埚盖向沉积室通气的一第二进气管,所述第一进气管上开设有若干第一进气孔,所述第二进气管上开设有若干第二进气孔。
作为本发明的进一步改进,所述若干第一通孔之间等距离分布,所述第二进气孔之间等距离分布,所述若干第一通孔以及若干第二进气孔呈交错分布。
作为本发明的进一步改进,所述化学气相沉积炉还包括嵌设于坩埚盖内且自坩埚盖向坩埚通气的一第一进气管以及自水冷夹套外向沉积室通气的一第二进气管,所述第一进气管上开设有若干第一进气孔,所述第二进气管在沉积室内的部分上开设有若干第二进气孔。
作为本发明的进一步改进,所述第二通孔、第三通孔以及导气管的中轴线位于同一直线上。
本发明化学气相沉积炉,结构合理,多级收集硫化锌产品,所制得的硫化锌不产生雾斑、雾层、花纹等缺陷,且硫化锌产品的整体厚度偏差小,产品转化率高。
附图说明
图1为本发明化学气相沉积炉实施例1的剖面结构示意图。
图2为本发明化学气相沉积炉实施例2的剖面结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例对技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例1。
请参阅图1,本发明化学气相沉积炉100,其包括自下而上组装的用于盛放原料的一坩埚110、配合坩埚110使用的一坩埚盖111、一沉积室120、一收料盒130、一导气管140;坩埚盖111上开设了连通坩埚110和沉积室120的若干第一通孔111a,收料盒130上开设有连通沉积室120和收料盒130的一第二通孔130a,化学气相沉积炉100还包括给坩埚110加热的一第一加热器160,收料盒130内置一集尘室150和盖设在集尘室150上方的一集尘室盖板151,集尘室盖板151上开设连通集尘室150和收料盒130的一第三通孔151a。
在本实施例中,本发明化学气相沉积炉100用于制备硫化锌晶体,化学气相沉积炉100还包括包覆于沉积室120、收料盒130、部分导气管140外的一第二加热器170,化学气相沉积炉100还包括包覆于第一加热器160和第二加热器外170的一保温层180,第二加热器170和保温层180分别起到加热和保温的作用。
化学气相沉积炉100还包括包覆于保温层180外的一水冷夹套190,水冷夹套190用于给化学气相沉积炉100降温。
化学气相沉积炉100还包括嵌设于坩埚盖111内且自坩埚盖111向坩埚110通气的一第一进气管(图上未示出)以及嵌设于坩埚盖111内且自坩埚盖111向沉积室120通气的一第二进气管(图上未示出),第一进气管上开设有若干第一进气孔112,第二进气管上开设有若干第二进气孔115。
在本实施例中,若干第一通孔111a之间等距离分布,第二进气孔115之间等距离分布,若干第一通孔111a以及若干第二进气孔115呈交错分布,交错分布的目的在于促进硫化氢和锌蒸气的充分混合,使得化学反应更为充分。
请参阅图1,第二通孔130a、第三通孔151a以及导气管140的中轴线位于同一直线A-A上,直线A-A也是化学气相沉积炉100的中轴线。
化学气相沉积炉100的主要部分的功能如下。
坩埚110:用来盛放原料锌,坩埚110的加热依靠第一加热器160,在生产过程中在坩埚110内装料固体原料锌,第一加热器160对坩埚进行加热,固体原料锌变成锌蒸汽通过第一通孔111a进入到沉积室120内进行反应。
坩埚盖111:坩埚盖111用来密封坩埚110、承担沉积室120和硫化锌产品的重量。
第一进气管:从炉体的侧面进气,采用圆管结构,在圆管的一侧均匀分布有第一进气孔112,第一进气孔112的数量和孔径与沉积室120尺寸进行匹配设计,该种结构避免了因气流分布不均,导致硫化锌产品厚度不均匀的问题。
沉积室120:采用四块石墨板成矩形或者方形安装形成。
收料盒130:用来收集未沉积的硫化锌粉尘,收料盒130内置一集尘室150和盖设在集尘室150上方的一集尘室盖板151,生产过程中未沉积下来的硫化锌粉尘被气流夹带着进入到收料盒130,部分硫化锌粉尘会沉降到收料盒130里面,当气流进入到导气管140后端即沉积系统之外时,因温度降低,会急剧生成大量的粉尘降落到集尘室150里面,从而实现对硫化锌粉尘的多级收集,不仅降低后端收尘系统的压力,还能提高产品收率。
该化学气相沉积炉100的具体运行过程如下:将固体原料锌装到坩埚110里面,安装好坩埚盖111,将第一进气管、第二进气管管道嵌设好,安装好沉积室120、收料盒130以及导气管140等部件,启动与化学气相沉积炉配套的电气控制系统,供气系统、冷却系统、收尘系统、真空系统以及尾气处理系统,设置好生产程序,开启系统生产。在生产过程中硫化氢和氩气通过第二进气管均匀的直接进入到沉积室120内,保护气体氩气通过第一进气管进入到坩埚110内,氩气携带锌蒸气通过第一通孔111a进入到沉积室120内,与硫化氢在沉积室120里面相互反应生成硫化锌,大部分硫化锌沉积到沉积室120内,部分未沉积的硫化锌和未反应的硫化氢随着气流进入到收料盒130内,收料盒130和集尘室150对部分硫化锌粉尘进行收集,其余未收集下来的硫化锌粉尘进入到后端收尘系统进一步收集,尾气通过真空系统进入到尾气处理系统进行处理,达标外排。
对所制得的硫化锌产品进行检测发现,所制得的硫化锌不产生雾斑、雾层、花纹等缺陷,且硫化锌产品的整体厚度偏差小,产品转化率可以达到76%以上。
实施例2。
请参阅图2,实施例2与实施例1的大部分结构相同,不同之处在于:第二进气管113自水冷夹套190外向沉积室120通气,第二进气管113呈竖直插入沉积室120内,第二进气孔115均匀等距离分布在第二进气管113的两侧,该种设计更加有利于通过第二进气管113进入沉积室120的硫化氢以及通过第一通孔111a进入沉积室120的锌蒸气充分混合,使得化学反应更为充分。
值得注意的是,本化学气相沉积炉100除了用于制备硫化锌晶体,还可以用于制备其他类似的晶体或粉体,如硒化锌等。
本发明化学气相沉积炉100,结构合理,多级收集硫化锌产品,所制得的硫化锌不产生雾斑、雾层、花纹等缺陷,且硫化锌产品的整体厚度偏差小,产品转化率高。
尽管为示例目的,已经公开了本发明的优选实施方式,但是本领域的普通技术人员将意识到,在不脱离由所附的权利要求书公开的本发明的范围和精神的情况下,各种改进、增加以及取代是可能的。

Claims (8)

1.一种化学气相沉积炉,其包括自下而上组装的用于盛放原料的一坩埚、配合坩埚使用的一坩埚盖、一沉积室、一收料盒、一导气管;其特征在于:所述坩埚盖上开设了连通坩埚和沉积室的若干第一通孔,所述收料盒上开设有连通沉积室和收料盒的一第二通孔,所述化学气相沉积炉还包括给坩埚加热的一第一加热器,所述收料盒内置一集尘室和盖设在集尘室上方的一集尘室盖板,所述集尘室盖板上开设连通集尘室和收料盒的一第三通孔。
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉,其特征在于:所述化学气相沉积炉还包括包覆于沉积室和收料盒以及部分导气管外的一第二加热器。
3.根据权利要求2所述的化学气相沉积炉,其特征在于:所述化学气相沉积炉还包括包覆于第一加热器和第二加热器外的一保温层。
4.根据权利要求3所述的化学气相沉积炉,其特征在于:所述化学气相沉积炉还包括包覆于保温层外的一水冷夹套。
5.根据权利要求1 所述的化学气相沉积炉,其特征在于:所述化学气相沉积炉还包括嵌设于坩埚盖内且自坩埚盖向坩埚通气的一第一进气管以及嵌设于坩埚盖内且自坩埚盖向沉积室通气的一第二进气管,所述第一进气管上开设有若干第一进气孔,所述第二进气管上开设有若干第二进气孔。
6.根据权利要求5所述的化学气相沉积炉,其特征在于:所述若干第一通孔之间等距离分布,所述第二进气孔之间等距离分布,所述若干第一通孔以及若干第二进气孔呈交错分布。
7.根据权利要求4所述的化学气相沉积炉,其特征在于:所述化学气相沉积炉还包括嵌设于坩埚盖内且自坩埚盖向坩埚通气的一第一进气管以及自水冷夹套外向沉积室通气的一第二进气管,所述第一进气管上开设有若干第一进气孔,所述第二进气管在沉积室内的部分上开设有若干第二进气孔。
8.根据权利要求1 所述的化学气相沉积炉,其特征在于:所述第二通孔、第三通孔以及导气管的中轴线位于同一直线上。
CN201710767019.2A 2017-08-31 2017-08-31 化学气相沉积炉 Active CN107604340B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710767019.2A CN107604340B (zh) 2017-08-31 2017-08-31 化学气相沉积炉

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710767019.2A CN107604340B (zh) 2017-08-31 2017-08-31 化学气相沉积炉

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107604340A true CN107604340A (zh) 2018-01-19
CN107604340B CN107604340B (zh) 2023-09-01

Family

ID=61055892

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710767019.2A Active CN107604340B (zh) 2017-08-31 2017-08-31 化学气相沉积炉

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107604340B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111334755A (zh) * 2020-03-18 2020-06-26 福建华佳彩有限公司 一种新型蒸镀装置
CN112853312A (zh) * 2020-12-31 2021-05-28 广东先导先进材料股份有限公司 一种制备红外复合材料的方法和真空化学气相沉积炉
CN113667965A (zh) * 2021-08-02 2021-11-19 江苏鎏溪光学科技有限公司 一种制备红外光学材料的化学气相沉积系统及方法

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8508699D0 (en) * 1985-04-03 1985-05-09 Barr & Stroud Ltd Chemical vapour deposition of products
US5077092A (en) * 1989-06-30 1991-12-31 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for deposition of zinc sulfide films
US5147683A (en) * 1990-01-09 1992-09-15 Sharp Kabushiki Kaisha Process for preparing a thin film electroluminescent device
US6083561A (en) * 1998-02-05 2000-07-04 Cvd, Inc. Low scatter, high quality water clear zinc sulfide
KR20010056887A (ko) * 1999-12-17 2001-07-04 박종섭 반도체 화학기상증착장비의 이물질제거장치
US20050208216A1 (en) * 2004-03-22 2005-09-22 Michael Long High thickness uniformity vaporization source
US7194197B1 (en) * 2000-03-16 2007-03-20 Global Solar Energy, Inc. Nozzle-based, vapor-phase, plume delivery structure for use in production of thin-film deposition layer
US20070277735A1 (en) * 2006-06-02 2007-12-06 Nima Mokhlesi Systems for Atomic Layer Deposition of Oxides Using Krypton as an Ion Generating Feeding Gas
US20090081842A1 (en) * 2007-09-26 2009-03-26 Nelson Shelby F Process for atomic layer deposition
US20090162535A1 (en) * 2007-12-21 2009-06-25 Jean-Pierre Tahon Method of forming a phosphor or scintillator material and vapor deposition apparatus used therefor
WO2011028957A2 (en) * 2009-09-02 2011-03-10 Brent Bollman Methods and devices for processing a precursor layer in a group via environment
CN103898475A (zh) * 2014-04-21 2014-07-02 清远先导材料有限公司 一种多腔室石墨沉积装置及化学气相沉积炉
CN105039931A (zh) * 2015-08-31 2015-11-11 清远先导材料有限公司 一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统
CN105420686A (zh) * 2015-12-31 2016-03-23 清远先导材料有限公司 一种化学气相沉积炉用石墨沉积装置
CN205556772U (zh) * 2015-12-31 2016-09-07 清远先导材料有限公司 一种化学气相沉积炉用石墨沉积装置
CN205856602U (zh) * 2016-08-16 2017-01-04 峨眉山市元素新材料科技有限公司 一种高效节能式硒化锌气相沉积炉
CN207294881U (zh) * 2017-08-31 2018-05-01 清远先导材料有限公司 化学气相沉积炉

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8508699D0 (en) * 1985-04-03 1985-05-09 Barr & Stroud Ltd Chemical vapour deposition of products
US5077092A (en) * 1989-06-30 1991-12-31 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for deposition of zinc sulfide films
US5147683A (en) * 1990-01-09 1992-09-15 Sharp Kabushiki Kaisha Process for preparing a thin film electroluminescent device
US6083561A (en) * 1998-02-05 2000-07-04 Cvd, Inc. Low scatter, high quality water clear zinc sulfide
KR20010056887A (ko) * 1999-12-17 2001-07-04 박종섭 반도체 화학기상증착장비의 이물질제거장치
US7194197B1 (en) * 2000-03-16 2007-03-20 Global Solar Energy, Inc. Nozzle-based, vapor-phase, plume delivery structure for use in production of thin-film deposition layer
US20050208216A1 (en) * 2004-03-22 2005-09-22 Michael Long High thickness uniformity vaporization source
US20070277735A1 (en) * 2006-06-02 2007-12-06 Nima Mokhlesi Systems for Atomic Layer Deposition of Oxides Using Krypton as an Ion Generating Feeding Gas
US20090081842A1 (en) * 2007-09-26 2009-03-26 Nelson Shelby F Process for atomic layer deposition
US20090162535A1 (en) * 2007-12-21 2009-06-25 Jean-Pierre Tahon Method of forming a phosphor or scintillator material and vapor deposition apparatus used therefor
WO2011028957A2 (en) * 2009-09-02 2011-03-10 Brent Bollman Methods and devices for processing a precursor layer in a group via environment
CN103898475A (zh) * 2014-04-21 2014-07-02 清远先导材料有限公司 一种多腔室石墨沉积装置及化学气相沉积炉
CN105039931A (zh) * 2015-08-31 2015-11-11 清远先导材料有限公司 一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统
CN105420686A (zh) * 2015-12-31 2016-03-23 清远先导材料有限公司 一种化学气相沉积炉用石墨沉积装置
CN205556772U (zh) * 2015-12-31 2016-09-07 清远先导材料有限公司 一种化学气相沉积炉用石墨沉积装置
CN205856602U (zh) * 2016-08-16 2017-01-04 峨眉山市元素新材料科技有限公司 一种高效节能式硒化锌气相沉积炉
CN207294881U (zh) * 2017-08-31 2018-05-01 清远先导材料有限公司 化学气相沉积炉

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111334755A (zh) * 2020-03-18 2020-06-26 福建华佳彩有限公司 一种新型蒸镀装置
CN112853312A (zh) * 2020-12-31 2021-05-28 广东先导先进材料股份有限公司 一种制备红外复合材料的方法和真空化学气相沉积炉
CN113667965A (zh) * 2021-08-02 2021-11-19 江苏鎏溪光学科技有限公司 一种制备红外光学材料的化学气相沉积系统及方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN107604340B (zh) 2023-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107604340A (zh) 化学气相沉积炉
CN106282967A (zh) 一种制备SiO/C复合材料的设备
CN205856602U (zh) 一种高效节能式硒化锌气相沉积炉
CN110137446B (zh) 纳米硅碳负极材料生产装置及生产工艺
CN105039931A (zh) 一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统
CN106811736A (zh) 一种化学气相沉积装置
CN207294881U (zh) 化学气相沉积炉
CN205556772U (zh) 一种化学气相沉积炉用石墨沉积装置
CN106544639A (zh) 防止堵塞的气体抽取装置及设置该装置的mocvd设备
CN103723719B (zh) 石墨提纯设备
CN207716837U (zh) 一种硬质合金真空烧结炉
CN105200388B (zh) 一种铜铟镓硒硫薄膜的硒化硫化装置及方法
CN108570658B (zh) 一种化学气相沉积炉
CN104014284A (zh) Iib-via族化合物粉末的自由降落高温合成方法及合成装置
CN216006009U (zh) 一种化学气相沉积设备
CN105420686A (zh) 一种化学气相沉积炉用石墨沉积装置
CN209052765U (zh) 化学气相沉积炉
CN209039580U (zh) 化学气相沉积炉
CN202786419U (zh) 制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉
CN102433548B (zh) 一种用于气相沉积的均匀气流进气口装置及均匀进气的方法
CN106757326A (zh) 用于制造硅外延片的单片式外延炉的外延生长单元及应用
CN106637137A (zh) 高效节能硒化锌气相沉积炉
CN206591033U (zh) 一种高纯石英生产装置
CN219363794U (zh) 一种制备ZnSe的化学气相沉积炉
CN202865334U (zh) 制备热解氮化硼制品用的环空保温气相沉积炉

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20200508

Address after: 239004 east of yongyang Road, west of Nanjing Road, north of Anqing road and south of Lu'an road in Langya Economic Development Zone, Langya District, Chuzhou City, Anhui Province

Applicant after: Anhui Guangzhi Technology Co.,Ltd.

Address before: 511517 Guangdong province Qingyuan Baijia Industrial Park 27-9B

Applicant before: FIRST RARE MATERIALS Co.,Ltd.

TA01 Transfer of patent application right
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant