CN110431008B - 透明导电性阻气层叠体以及具有该透明导电性阻气层叠体的装置 - Google Patents

透明导电性阻气层叠体以及具有该透明导电性阻气层叠体的装置 Download PDF

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Abstract

根据本公开的透明导电性阻气层叠体从外侧向内侧依次具有透明阻气膜和透明导电层，透明阻气膜在L*a*b*颜色体系中的b*大于0，透明导电层含有导电性聚合物且在L*a*b*颜色体系中的b*小于0。

Description

透明导电性阻气层叠体以及具有该透明导电性阻气层叠体的 装置
技术领域
本公开涉及从外侧向内侧依次具有透明阻气膜和透明导电层的透明导电性阻气层叠体以及具有该透明导电性阻气层叠体的装置。
背景技术
具有被含有防湿层或阻气层的层叠膜所保护的结构的电子装置的开发正在进行中。例如，专利文献1公开了依次具有树脂片、防湿层、粘接层和树脂片的导电层用支持体以及使用该导电层用支持体的电子纸。专利文献2公开了具有基材层、由特定材料构成的阻气层、以及透明导电层的透明导电性膜以及具有该透明导电性膜的电子装置。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2003-175566号公报
专利文献2:日本特开2012-86378号公报
发明内容
发明要解决的问题
但是，用于电子装置的透明阻气层叠体根据其所包含的层或膜的材料、或者它们的形成条件等而会有不是无色透明—虽然透明但是具有色调—的情况。特别地，如下所述，以往的透明阻气层叠体存在有容易具有黄色色调的状况。
以往，作为构成透明导电层的材料，广泛地采用了氧化铟锡(ITO)。由ITO构成的透明导电层(例如)通过溅射而形成在透明树脂膜上。当在透明树脂膜不会发生热劣化的温度条件(例如150℃左右)下使ITO在透明树脂膜上成膜时，透明导电层含有非晶质ITO。由于非晶质ITO对蓝色等短波长的光的透过性低，因而透明导电层有时候看起来具有黄色色调。
另一方面，在透明阻气层叠体中作为承担阻气功能的层，以往采用由氧化硅构成的气相沉积层。根据本发明人的研究，根据温度条件等，由气相沉积所形成的氧化硅构成的气相沉积层有时候也会看起来具有黄色色调。
近年来，装置制造商或消费者对于具有黄色色调的透明材料倾向于敬而远之。因此，本公开的目的在于提供黄色色调被充分减少了的透明导电性阻气层叠体以及具有该透明导电性阻气层叠体的装置。
解决问题的手段
本公开的一个方面涉及一种从外侧向内侧依次具有透明阻气膜和透明导电层的透明导电性阻气层叠体。在该透明导电性阻气层叠体中，透明阻气膜在L*a*b*颜色体系中的b*大于0，透明导电层含有导电性聚合物且在L*a*b*颜色体系中的b*小于0。“在L*a*b*颜色体系中的b*大于0”表示具有黄色色调，另一方面，“在L*a*b*颜色体系中的b*小于0”表示具有蓝色色调。透明导电性阻气层叠体的“内侧”表示配置有要被该层叠体保护的被驱动单元的那一侧，“外侧”表示其相对的那一侧。“透明”表示至少对于可见光而言是透明的。
在上述透明导电性阻气层叠体中，组合使用了具有黄色色调的透明阻气膜和具有蓝色色调的透明导电层。由于黄色和蓝色具有互补色的关系，因而即使透明阻气膜具有黄色色调，但是通过具有蓝色色调的透明导电层，也能够使整个透明导电性阻气层叠体的黄色色调得以减少。
作为具有黄色色调的透明阻气膜的一个例子，可列举出具有透明基材膜、以及在透明基材膜的至少一个面上形成的阻隔层的透明阻气膜。作为阻隔层的具体例子，可列举出至少具有氧化硅气相沉积层的阻隔层。如上所述，氧化硅气相沉积层倾向于具有黄色色调。即使氧化硅气相沉积层具有黄色色调，但是通过与具有蓝色色调的透明导电层组合使用，也能够使整个透明导电性阻气层叠体的黄色色调得以减少。从实现高的阻气性的观点来看，透明阻气膜可以是这样的结构：其中，在具有至少两组由透明基材膜和阻隔层组成的组合的同时，还进一步具有介于这两组之间的粘接层，并且阻隔层至少具有氧化硅气相沉积层。
作为构成具有蓝色色调的透明导电层的材料，可列举出含有聚亚乙基二氧噻吩(PEDOT)和聚苯乙烯磺酸(PSS)的混合物(下文中有时称为“PEDOT/PSS”)的导电性聚合物。也就是说，根据本公开的透明导电性阻气层叠体可以是这样的：其中，从外侧向内侧依次具有透明阻气膜和透明导电层，透明阻气膜在L*a*b*颜色体系中的b*大于0，透明导电层含有PEDOT/PSS且在L*a*b*颜色体系中的b*小于0。由于透明导电层含有具有蓝色色调的PEDOT/PSS，因而即使透明阻气膜具有黄色色调，整个透明导电性阻气层叠体的黄色色调也得以减少，并具有蓝色色调。
以往，用作透明导电膜的ITO膜如上所述容易具有黄色色调。ITO膜也会由于重复输入操作而存在有容易产生微小裂纹、并且弯曲性也较弱等问题。除此之外，形成ITO膜所需的气相沉积或溅射等真空工艺需要大的设备投资，另外大的设备面积也伴随有困难。此外，作为稀有金属的铟是由于资源枯竭或国际形势而担心稳定供应的材料。与此相对，通过采用PEDOT/PSS作为构成透明导电层的材料，从而能够解决这些问题。PEDOT/PSS是导电性、柔软性及透明性优异的材料。另外，由于含有PEDOT/PSS的透明导电层可通过湿式涂布法涂布，因而在成本方面相比于ITO而言也具有优势。
与无机材料相比，作为有机材料的PEDOT/PSS对紫外线(波长为300至400nm)具有较低的耐受性。因此，当装置在暴露于紫外线(UV)的环境下使用、或者在需要高可靠性的领域中使用时，透明导电性阻气层叠体优选具有紫外线屏蔽功能。通过对透明导电性阻气层叠体赋予紫外线屏蔽功能，从而也能够抑制要被透明导电性阻气层叠体保护的被驱动单元由于紫外线而引起的劣化。
作为对透明导电性阻气层叠体赋予紫外线屏蔽功能的例子，可列举出采用具有紫外线屏蔽性的透明阻气膜，更具体而言，例如可以采用具有紫外线屏蔽性的透明基材膜，也可以采用具有紫外线屏蔽性的层(例如含有UV吸收剂的层)作为介于两组由透明基材膜和阻隔层组成的组合之间的上述粘接层。或者，透明导电性阻气层叠体可以在比透明导电层更外侧处进一步具备具有紫外线屏蔽性的透明树脂膜，也可以使粘接层介于具有该紫外线屏蔽性的透明树脂膜和与其相邻的膜之间，并采用具有紫外线屏蔽性的层(例如含有UV吸收剂的层)作为该粘接层。
透明导电性阻气层叠体也可以在最外侧进一步具有涂层。例如，通过形成铅笔硬度2H以上的涂层，从而能够对最外表面赋予抗擦伤性。涂层也可以对最外表面赋予耐污染性和/或耐化学品性。
本公开的一个方面涉及具备上述透明导电性阻气层叠体和被驱动单元的装置，该被驱动单元被配置为与上述透明导电性阻气层叠体的透明导电层相对。该装置中的被驱动单元被透明阻气膜保护，并且同时经由透明导电层而被驱动。
发明效果
根据本公开，提供了黄色色调被充分减少了的透明导电性阻气层叠体以及具有该透明导电性阻气层叠体的装置。
附图简要说明
[图1]图1(a)是示意性表示根据本公开的透明导电性阻气层叠体的第一实施方式的剖面图，图1(b)是示意性表示其变形例的剖面图。
[图2]图2(a)是示意性表示透明阻气膜的结构的一个例子的剖面图，图2(b)是示意性表示透明阻气膜的结构的其他例子的剖面图。
[图3]图3是示意性表示具备透明导电性阻气层叠体的装置的一个实施方式的剖面图。
[图4]图4(a)是示意性表示根据本公开的透明导电性阻气层叠体的第二实施方式的剖面图，图4(b)是示意性表示其变形例的剖面图。
[图5]图5(a)是示意性表示根据本公开的透明导电性阻气层叠体的第三实施方式的剖面图，图5(b)是示意性表示其变形例的剖面图。
[图6]图6(a)是示意性表示根据本公开的透明导电性阻气层叠体的第四实施方式的剖面图，图6(b)是示意性表示其变形例的剖面图。
具体实施方式
以下，参照附图对本公开的多个实施方式进行详细说明。需要说明的是，在附图中，对相同或相应的部分标注相同的符号，并省略重复的说明。另外，除非另有说明，否则上下左右等位置关系基于附图所示的位置关系。此外，附图的尺寸比例并不限于图示的比例。
<第一实施方式>
图1(a)所示的透明导电性阻气层叠体(以下，对于根据本公开的“透明导电性阻气层叠体”，根据情况简称为“层叠体”)10A从外侧(图中的下侧)向内侧(图中的上侧)依次具有透明阻气膜1和透明导电层5。如图1(a)所示，层叠体10A中的透明阻气膜1由透明基材膜1a和阻隔层1b构成，它们从外侧向内侧依次进行层叠。需要说明的是，该顺序不限于此，也可以是如图1(b)所示的层叠体10B那样的结构。层叠体10B具有这样的层结构，其中阻隔层1b形成在透明基材膜1a的一个面上，并且透明导电层5形成在另一个面上。
透明阻气膜1在L*a*b*颜色体系中的b*大于0。另一方面，透明导电层5含有导电性聚合物且在L*a*b*颜色体系中的b*小于0。通过组合使用具有黄色色调的透明阻气膜1以及具有蓝色色调的透明导电层5，从而能够通过透明导电层5的蓝色色调来减少透明阻气膜1的黄色色调。也就是说，能够得到黄色色调被充分减少了的层叠体10A、10B。
透明阻气膜1可以在L*a*b*颜色体系中的b*大于0(即具有黄色色调)，作为其结构，可列举出具有透明基材膜1a、以及在透明基材膜1a的一个面上形成的阻隔层1b。透明阻气膜1的黄色色调可以归因于透明基材膜1a及阻隔层1b中的一者或两者。然而，由于能够相对容易地获得充分的无色透明的膜作为透明基材膜1a，所以假定透明阻气膜1由于阻隔层1b而具有黄色色调。
透明阻气膜1的b*大于0，可以为大于0且2.5以下，也可以在0.5至2.0或者0.5至1.5的范围内。若透明阻气膜1的b*为2.5以下，则通过透明导电层5的蓝色色调能够充分地减少透明导电性阻气层叠体10A的黄色色调。
作为透明基材膜1a，优选采用充分的无色透明的膜。透明基材膜1a的总透光率优选为85％以上。作为透明基材膜1a，例如，可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(PET膜)、聚萘二甲酸乙二醇酯膜等作为透明性高、耐热性优异的膜。透明基材膜1a的厚度为9至50μm，优选为12至30μm。若透明基材膜1a的厚度为9μm以上，则能够充分地确保透明基材膜1a的强度，另一方面，若为50μm以下，则能够有效且经济地制造长的辊(透明阻气膜1的辊)。
如图2(a)所示，阻隔层1b由(例如)气相沉积层1v和阻气性被覆层1c构成。也就是说，阻隔层1b为这样的结构，其中气相沉积层1v设置在透明基材膜1a的一个面上，并且阻气性被覆层1c设置在该气相沉积层1v上。如图2(b)所示，阻隔层1b可以是气相沉积层1v和阻气性被覆层1c交替层叠而成的结构。虽然未图示，但是也可以在透明基材膜1a的两面上形成阻隔层1b。为了提高透明基材膜1a与气相沉积层1v的密合性，也可以对透明基材膜1a的表面进行等离子体处理等处理，或者可以在透明基材膜1a的表面上设置由丙烯酸类树脂层、聚酯树脂、氨基甲酸酯树脂等构成的锚固涂层。
气相沉积层1v可以通过(例如)在透明基材膜1a上气相沉积氧化铝、氧化硅、氧氮化硅、氧化镁或它们的混合物来形成。在这些无机材料中，从阻隔性、生产性的观点来看，优选使用氧化铝或氧化硅。气相沉积层通过真空气相沉积法、溅射法、CVD法等方法来形成。如上所述，根据本发明人的研究，当通过(例如)真空气相沉积法来形成由氧化硅构成的气相沉积层时，容易形成具有黄色色调的气相沉积层1v。
气相沉积层1v的厚度(膜厚)优选设为5至500nm的范围内，更优选设为10至100nm的范围内。若膜厚为5nm以上，则容易形成均匀的膜，并倾向于更加充分地实现作为阻气材料的功能。另一方面，若膜厚为500nm以下，则能够保持充分的柔性，并倾向于能够更可靠地防止在成膜后因弯曲、拉伸等外部因素而在薄膜中产生裂纹。
阻气性被覆层1c被设置为用于防止后续步骤中的各种二次损伤同时还赋予高的阻隔性。从获得优异的阻隔性的观点来看，阻气性被覆层1c优选含有选自由含羟基的高分子化合物、金属醇盐、金属醇盐水解产物及金属醇盐聚合物所组成的组中的至少一种作为组分。
作为含有羟基的高分子化合物，具体而言，可列举出(例如)聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、淀粉等水溶性高分子，特别是当使用聚乙烯醇时，阻隔性是最优异的。
金属醇盐是由通式：M(OR)n(M表示Si、Ti、Al、Zr等金属原子，R表示-CH3、-C2H5等烷基，n表示对应于M的化合价的整数)表示的化合物。具体而言，可列举出四乙氧基硅烷[Si(OC2H5)4]、三异丙氧基铝[Al(O-异-C3H7)3]等。四乙氧基硅烷和三异丙氧基铝是优选的，这是因为它们在水解后在水系溶剂中是相对稳定的。此外，作为金属醇盐的水解产物及聚合物，例如可列举出硅酸(Si(OH)4)等作为四乙氧基硅烷的水解产物或聚合物，可列举出氢氧化铝(Al(OH)3)等作为三异丙氧基铝的水解产物或聚合物。
阻气性被覆层1c的厚度(膜厚)优选设为50至1000nm的范围内，更优选设为100至500nm的范围内。若膜厚为50nm以上，则倾向于能够获得更加充分的阻气性，若为1000nm以下，则倾向于能够保持充分的柔性。
透明导电层5含有导电性聚合物，是具有导电性且具有蓝色色调的层。透明导电层5的b*小于0(即为负值)，优选为小于0且-5.0以上，更优选为-1.0至-3.0，进一步优选为-1.0至-2.0的范围内。当透明导电层5的b*小于-5.0时，由于其蓝色色调，层叠体10A、10B倾向于变得过蓝。从获得黄色色调被充分地减少、或者具有蓝色色调的层叠体10A、10B的观点来看，透明导电层5的b*的绝对值优选大于透明阻气膜1的b*。也就是说，透明导电层5的b*的绝对值(B5)相对于透明阻气膜1的b*的值(B1)的比率(B5/B1)优选为大于1，更优选为2.0至4.0。
透明导电层5的厚度(膜厚)优选设为0.1至2.0μm的范围内，更优选设为0.1至0.4μm的范围内。当膜厚为0.1μm以上时，容易形成均匀的膜，并倾向于能够更加充分地实现作为导电层的功能。另一方面，当膜厚为2.0μm以下时，能够保持充分的柔性，并倾向于能够更可靠地防止在成膜后因弯曲、拉伸等外部因素而在薄膜中产生裂纹。透明导电层5的薄层电阻值在(例如)100至1000Ω/□的范围内，优选为100至500Ω/□，更优选为100至150Ω/□。透明导电层5的薄层电阻值可使用(例如)Lorester GP MCP-T610(商品名，“株式会社三菱化学アナリテック”制)来进行测定。
透明导电层5可通过(例如)涂布包含具有蓝色色调的导电性聚合物的涂液来形成。作为具有蓝色色调的导电性聚合物的具体例子，可列举出聚亚乙基二氧噻吩(PEDOT)和聚苯乙烯磺酸(PSS)的混合物(PEDOT/PSS)。透明导电层5的蓝色程度可通过(例如)调整透明导电层5的厚度、或者调整导电性聚合物的聚合度来进行调整。需要说明的是，当构成透明导电层5的材料是无色透明的、或者蓝色程度不充分时，在不损害导电性的范围内也可以向涂液中混合蓝色颜料等。透明导电层5可以形成为覆盖整个透明阻气膜1(所谓的整面涂布)，也可以形成图案。
图3所示的装置100具备：透明阻气膜1、透明导电层5和被驱动单元50。作为装置100的具体例子，可列举出电子纸、电致变色元件、有机或无机电致发光元件、其他有机半导体装置等。如图3所示，被驱动单元50被配置为隔着透明导电层5而与透明阻气膜1相对。被驱动单元5由透明阻气膜1保护，并且同时经由透明导电层5而被驱动。
<第二实施方式>
图4(a)是示意性表示根据本公开的透明导电性阻气层叠体的第二实施方式的剖面图，图4(b)是示意性表示其变形例的剖面图。这些图中所示的层叠体20A、20B中的透明阻气膜1具有两组由透明基材膜1a和阻隔层1b组成的组合，同时还进一步具有介于这两组之间的粘接层A1。通过采用这种结构的透明阻气膜1，从而能够实现更加优异的阻气性。
在图4(a)所示的层叠体20A中，以上述两组的阻隔层1b彼此相对的方式进行层叠。在一个组(图中的上侧)的透明基材膜1a的表面上形成有透明导电层5。在图4(b)所示的层叠体20B中，以一个组(图中的下侧)的阻隔层1b与另一个组(图中的上侧)的透明基材膜1a相对的方式进行层叠。在另一个组的阻隔层1b的表面上形成有透明导电层5。
粘接层A1由粘接剂(adhesive)或粘合剂(tackifier)构成。作为粘接剂，可列举出丙烯酸系粘接剂、环氧系粘接剂、氨基甲酸酯系粘接剂等。作为粘合剂，可列举出丙烯酸系粘合剂、聚乙烯基醚系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、有机硅系粘合剂等。特别地，丙烯酸系粘合剂是优选的，这是因为其透明性高，耐热性也优异。粘接层A1的厚度优选为0.5至50μm，更优选为1至20μm，进一步优选为2至6μm。
作为构成粘接层A1的粘接剂，可采用具有氧阻隔性的粘接剂。在这种情况下，当厚度为5μm时，粘接层A1的氧透过率在厚度方向上为(例如)1000cm3/(m2·天·atm)以下。上述氧透过率优选为500cm3/(m2·天·atm)以下，更优选为100cm3/(m2·天·atm)以下，进一步优选为50cm3/(m2·天·atm)以下，特别优选为10cm3/(m2·天·atm)以下。通过粘接层A1的氧透过率为1000cm3/(m2·天·atm)以下，从而即使阻隔层1b具有缺陷，也能够将其弥补。上述氧透过率的下限值没有特别的限制，例如为0.1cm3/(m2·天·atm)。
从抑制透明导电层5中所含的导电性聚合物及/或被驱动单元50因紫外线所造成的劣化的观点来看，粘接层A1优选具有紫外线屏蔽性。具体而言，粘接层A1优选含有紫外线吸收剂。作为紫外线吸收剂，可列举出含有苯并三唑、二苯甲酮、三嗪系等化合物的物质。作为市售品，可使用Tinuvin(注册商标)400(商品名，BASF株式会社制)等。
<第三实施方式>
图5(a)是示意性表示根据本公开的透明导电性阻气层叠体的第三实施方式的剖面图，图5(b)是示意性表示其变形例的剖面图。这些图中所示的层叠体30A和30B与上述层叠体20A和20B的不同之处在于：经由粘接层A2来进一步贴合透明树脂膜7的结构。根据需要，粘接层A2可以适当地采用与上述粘接层A1相同的结构(种类、厚度、氧阻隔性、紫外线屏蔽性)。
作为透明树脂膜7，虽然没有特别的限定，但优选为总透光率为85％以上的膜。例如，作为透明性高、耐热性优异的膜，可使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚萘二甲酸乙二醇酯膜等。作为透明树脂膜7，也可以采用具有紫外线屏蔽性的膜。
透明树脂膜7的厚度为(例如)10至250μm，优选为25至240μm，进一步优选为40至210μm，另外也可以为55至200μm。通过透明树脂膜7的厚度为10μm以上，从而当透明导电层5没有整面涂布而是具有图案时，能够使该图案难以从外侧被观察到，通过为250μm以下，从而容易抑制层叠体30A和30B的总厚度变得过厚。
<第四实施方式>
图6(a)是示意性表示根据本公开的透明导电性阻气层叠体的第四实施方式的剖面图，图6(b)是示意性表示其变形例的剖面图。这些图中所示的层叠体40A和40B与上述层叠体30A和30B的不同之处在于：在透明树脂膜7的外侧进一步形成有涂层9的结构。
作为涂层9，例如可以采用含有作为粘着剂(binder)基体组分的固化型材料和流平材料的层。通过采用主要由固化型材料构成的涂层9，涂层9起到了硬质涂层的作用。由此，能够使层叠体40A和40B的表面硬度成为铅笔硬度H以上(更优选为2H以上)。涂层9可以对最外表面赋予耐污染性及/或耐化学品性。另外，通过向涂层9中混合导电性材料，从而可以对涂层9赋予抗静电功能。
涂层9的厚度为(例如)40至120μm，优选为50至100μm，另外也可以为60至80μm。通过涂层9的厚度为40μm以上，容易充分发挥涂层9的功能，并且当透明导电层5具有图案时，能够使该图案难以从外侧被观察到。另一方面，通过涂层9的厚度为120μm以下，从而容易抑制层叠体40A和40B的总厚度变得过厚。
需要说明的是，虽然在本文中例示了在透明树脂膜7的外侧形成有涂层9的结构，但是也可以是在根据第二实施方式的层叠体20A和20B中的外侧的透明基材膜1a的表面上形成有涂层9的结构。另外，在本文中，虽然描述了粘接层A1和A2可以具有紫外线屏蔽性，但是通过(例如)使用具有紫外线屏蔽性的透明基材膜1a，也可以对透明阻气膜1赋予紫外线屏蔽性。通过对透明阻气膜1赋予紫外线屏蔽性，从而能够保护透明导电层5免受紫外线，能够抑制薄层电阻随时间的增加。
<透明导电性阻气层叠体的制造方法>
根据上述实施方式的透明导电性阻气层叠体例如可通过辊对辊的方式来制造。首先，制造透明阻气膜1。具体而言，通过气相沉积法在透明基材膜1a的一个面上层叠气相沉积层1v。接下来，在气相沉积层1v的表面上涂布以含有选自由含有含羟基的高分子化合物、金属醇盐、金属醇盐水解产物及金属醇盐聚合物所组成的组中的至少一种成分等的水溶液或水/醇混合溶液为主剂的涂布剂，并在(例如)80至250℃下进行干燥，从而形成阻气性被覆层1c。可以单独地使用所得的层叠膜作为透明阻气膜1(第一实施方式)，或者也可以经由粘接层A1来进行贴合以获得透明阻气膜1。
在透明阻气膜1的内侧表面形成透明导电层5，同时根据需要，经由粘接层A2使透明树脂膜7贴合至外侧，或者进一步在其外侧形成涂层9，从而得到了根据上述实施方式的透明导电性阻气层叠体。
以上，对于本公开的多个实施方式进行了详细说明，但是本发明的技术范围并不限于上述实施方式，在不脱离本发明精神的范围内可添加各种修改。
实施例
以下，基于实施例及比较例更具体地说明本发明，但是本发明并不限于以下的实施例。在实施例及比较例中，L*a*b*颜色体系中的b*、总透光率、水蒸气透过率及薄层电阻值如下进行测定。
(1)L*a*b*颜色体系中的b*
使用UV-2450(商品名，株式会社島津製作所制)以测定目标膜的光谱透过率。根据测定结果，通过下式求出物体颜色的三刺激值XYZ颜色体系中的、由透过所引起的物体颜色的三刺激值X、Y和Z，并计算出b*。
[数学式1]
X＝K∫P(λ)x(λ)T(λ)dλ
Y＝K∫P(λ)y(λ)T(λ)dλ
Z＝K∫P(λ)z(λ)T(λ)dλ
Figure GDA0002195502520000121
x(λ)，y(λ)，z(λ)：XYZ颜色体系中的色匹配函数
T(λ)：光谱透过率
P(λ)：标准光的光谱分布
Figure GDA0002195502520000122
Yn，Zn：各光源视野的完全扩散反射体的三刺激值
(2)总透光率
通过依据JIS K7361-1(ISO 13468-1)的测定方法，并使用雾度计(商品名：HM-150，“村上色彩技術研究所”制)来测定总透光率。
(3)水蒸气透过率
通过依据JIS K7129的红外线传感器法，使用水蒸气透过率测定装置(商品名：Permatran、“MOCON社”制)，并将透过槽的温度设为40℃，将高湿度腔室的相对湿度设为90％RH，将低湿度腔室的相对湿度设为0％RH，从而进行测定。
(4)薄层电阻值
使用ロレスターGP MCP-T610(商品名，“株式会社三菱化学アナリテック”制)来测定透明导电层的薄层电阻值(初期及UV曝光后)。从透明阻气膜一侧向透明导电层一侧照射紫外线，照射时间设为2000小时。
[实施例1]
如下制作透明阻气膜。首先，在作为透明基材膜的厚度23μm的PET膜的一个面上涂布丙烯酸类树脂涂液并干燥以形成锚固涂层，通过真空气相沉积法在锚固涂层上设置厚度为30nm的氧化硅作为气相沉积层。进一步地，在气相沉积层上形成厚度300nm的阻气性被覆层。该阻气性被覆层通过采用湿式涂布法涂布含有四乙氧基硅烷和聚乙烯醇的涂液来形成。由此，得到了在透明基材膜的一个面上设置有由一对氧化硅气相沉积层及阻气性被覆层构成的阻隔层而成的透明阻气膜(参照图2(a))。
通过在上述所得的透明阻气膜的阻气性被覆层上进一步形成厚度400nm的透明导电层，从而制作了透明导电性阻气层叠体(参照图1(a))。透明导电层通过采用湿式涂布法涂布含有PEDOT/PSS的涂液(“ナガセケムテックス株式会社”制)来形成。透明导电层的薄层电阻值为150Ω/□。需要说明的是，与本实施例同样地，在透明膜(b*＝0)的一个面上仅形成厚度400nm的透明导电层，制作了由透明膜和透明导电层构成的层叠体。
[实施例2]
与实施例1同样地制作了透明导电性阻气层叠体(参照图1(b))，不同之处在于：在透明基材膜的另一个面上形成透明导电层，而不是在阻气性被覆层上形成透明导电层。
[实施例3]
与实施例1同样地制作了两片透明阻气膜。以两片透明阻气膜的阻气性被覆层彼此相对的方式，将两片透明阻气膜贴合，从而得到了多层结构的透明阻气膜。与实施例1同样地，在如此得到的透明阻气膜的一个面上(PET膜的表面上)形成透明导电层，从而制作了透明导电性阻气层叠体(参照图4(a))。
需要说明的是，在两片透明阻气膜的贴合中，使用由环氧树脂主剂和胺系固化剂构成的二液型环氧系粘接剂，形成了固化后的膜厚为5μm的粘接层(30℃、70％RH环境下的氧透过率：5cm3/m2·天·atm)。如下测定粘接层的氧透过率。以固化后的膜厚为5μm的方式，在厚度20μm的OPP膜(30℃、70％RH环境下的氧透过率为3000cm3/m2·天·atm(测定极限)以上)上形成上述的二液型环氧系粘接剂膜以制作评价用样品，使用差压式气体测定装置(“GTRテック社”制的GTR-10G)，并依据JIS K7126A方法中所记载的方法，测定了在30℃、70％RH环境下的样品的氧透过率。
[实施例4]
与实施例3同样地得到了多层结构的透明阻气膜，不同之处在于：以一片透明阻气膜的阻气性被覆层与另一片透明阻气膜的PET膜相对向的方式使二片透明阻气膜贴合，而不是以两片透明阻气膜的阻气性被覆层彼此相对向的方式使两片透明阻气膜贴合。与实施例1同样地，在如此得到的透明阻气膜的一个面上(阻气性被覆层的表面上)形成透明导电层，从而制作了透明导电性阻气层叠体(参照图4(b))。
[实施例5]
与实施例3同样地制作了透明导电性阻气层叠体(参照图4(a))，不同之处在于：向使两片透明阻气膜贴合的粘接剂中混合UV吸收剂(“BASF株式会社”制)。相对于100质量份的粘接剂，UV吸收剂的混合量设为1.5质量份。
[实施例6]
与实施例4同样地制作了透明导电性阻气层叠体(参照图4(b))，不同之处在于：向使两片透明阻气膜贴合的粘接剂中混合UV吸收剂(“BASF株式会社”制)。相对于100质量份的粘接剂，UV吸收剂的混合量设为1.5质量份。
[实施例7至10]
分别与实施例3至6同样地制作了透明导电性阻气层叠体(参照图5(a)或图5(b))，不同之处在于设为这样的结构：其中，经由粘接层使透明树脂膜进一步贴合在具有与实施例3至6中分别所制作的透明导电性阻气层叠体相同的结构的层叠体的外表面侧(PET膜)。作为透明树脂膜，使用了具有紫外线屏蔽性的PET膜(厚度50μm，“帝人デュポンフィルム株式会社”制)。作为构成粘接层的粘接剂，使用了与实施例3中所使用的粘接剂相同的粘接剂。
[实施例11、12]
分别与实施例9、10同样地制作了透明导电性阻气层叠体(参照图5(a)或图5(b))，不同之处在于：经由含有UV吸收剂的粘接层贴附上述透明树脂膜。需要说明的是，作为构成粘接层的粘接剂，使用了与实施例5、6相同的粘接剂。
[实施例13至18]
分别与实施例7至12同样地制作了透明导电性阻气层叠体(参照图6(a)或图6(b))，不同之处在于：在具有与实施例7至12中分别所制作的透明导电性阻气层叠体相同的结构的层叠体的外表面侧(透明树脂膜的表面)形成了厚度8μm的涂层。涂层是这样形成的：通过湿式涂布法涂布含有感光性树脂的单体及光聚合引发剂的涂液，然后通过紫外线照射以使其固化。涂层的铅笔硬度为2H。
[比较例1]
除了未形成透明导电层以外，制作了具有与根据实施例3的透明导电性阻气层叠体(参照图4(a))相同的结构的层叠体。
[比较例2]
除了未形成透明导电层以外，制作了具有与根据实施例17的透明导电性阻气层叠体(参照图6(a))相同的结构的层叠体。
[实施例19至36]
分别与实施例1至18同样地制作了透明导电性阻气层叠体，不同之处在于：在透明基材膜上形成了由两对氧化硅气相沉积层及阻气性被覆层构成的阻隔层(参照图2(b))，而不是在透明基材膜上形成由一对氧化硅气相沉积层及阻气性被覆层构成的阻隔层。
[比较例3、4]
分别与比较例1、2同样地制作了层叠体，不同之处在于：在透明基材膜上形成了由两对氧化硅气相沉积层及阻气性被覆层构成的阻隔层(参照图2(b))，而不是在透明基材膜上形成由一对氧化硅气相沉积层及阻气性被覆层构成的阻隔层。
[实施例37至54]
分别与实施例1至18同样地制作了透明导电性阻气层叠体，不同之处在于：使用了具有紫外线屏蔽性的透明基材膜(“帝人フィルムソリューション株式会社”制)，而不是使用不具有紫外线屏蔽性的透明基材膜(PET膜)。需要说明的是，透明阻气膜的结构与图2(a)相同。
[比较例5、6]
分别与比较例1、2同样地制作了透明导电性阻气层叠体，不同之处在于：使用了具有紫外线屏蔽性的透明基材膜(“帝人フィルムソリューション株式会社”制)，而不是使用不具有紫外线屏蔽性的透明基材膜(PET膜)。需要说明的是，透明阻气膜的结构与图2(a)相同。
将根据上述实施例及比较例的层叠体的结构及评价结果等总结并示出于表1至3中。需要说明的是，表1中的实施例3至18、表2中的实施例21至36以及表3中的实施例39至54的“透明阻气膜的b*值”为将二片透明阻气膜贴合而得的多层结构的透明阻气膜的b*值。
[表1]
Figure GDA0002195502520000171
[表2]
Figure GDA0002195502520000181
[表3]
Figure GDA0002195502520000191
工业实用性
根据本公开，提供了黄色色调被充分减少了的透明导电性阻气层叠体以及具有该透明导电性阻气层叠体的装置。
符号的说明
1…透明阻气膜；1a…透明基材膜；1b…阻隔层；1v…气相沉积层；1c…阻气性被覆层；5…透明导电层；7…透明树脂膜；9…涂层；10A、10B、20A、20B、30A、30B、40A、40B…透明导电性阻气层叠体；50…被驱动单元；100…装置；A1、A2…粘接层。

Claims (12)

1.一种透明导电性阻气层叠体，其中从外侧向内侧依次具有透明阻气膜和透明导电层，
所述透明阻气膜在L*a*b*颜色体系中的b*大于0，
所述透明导电层含有聚亚乙基二氧噻吩和聚苯乙烯磺酸的混合物，
该层叠体在L*a*b*颜色体系中的b*小于0。
2.根据权利要求1所述的透明导电性阻气层叠体，其中，所述透明阻气膜具有紫外线屏蔽性。
3.根据权利要求1所述的透明导电性阻气层叠体，其中，所述透明阻气膜具有透明基材膜、以及在所述透明基材膜的至少一个面上形成的阻隔层，
所述阻隔层至少具有氧化硅气相沉积层。
4.根据权利要求1所述的透明导电性阻气层叠体，其中，所述透明阻气膜具有至少两组由透明基材膜、以及在所述透明基材膜的至少一个面上形成的阻隔层组成的组合，同时还进一步具有介于所述两组之间的粘接层，
所述阻隔层至少具有氧化硅气相沉积层。
5.根据权利要求3或4所述的透明导电性阻气层叠体，其中，所述透明基材膜具有紫外线屏蔽性。
6.根据权利要求4所述的透明导电性阻气层叠体，其中，所述粘接层具有紫外线屏蔽性。
7.根据权利要求1所述的透明导电性阻气层叠体，其中，在比所述透明导电层更外侧处进一步具备具有紫外线屏蔽性的透明树脂膜。
8.根据权利要求7所述的透明导电性阻气层叠体，其中，粘接层介于所述具有紫外线屏蔽性的透明树脂膜和与其相邻的膜之间，该粘接层具有紫外线屏蔽性。
9.根据权利要求1所述的透明导电性阻气层叠体，其中，在最外侧进一步具有涂层。
10.根据权利要求9所述的透明导电性阻气层叠体，其中，所述涂层的铅笔硬度为2H以上。
11.根据权利要求1所述的透明导电性阻气层叠体，其中，所述透明导电层的薄层电阻值为100至1000Ω/□。
12.一种装置，其具备：权利要求1至11中任一项所述的透明导电性阻气层叠体、以及
以与所述透明导电性阻气层叠体的所述透明导电层相对的方式配置的被驱动单元。
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