CN110418988A - 光学膜、光学膜的制造方法、偏振片及液晶显示装置 - Google Patents

光学膜、光学膜的制造方法、偏振片及液晶显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种光学膜的制造方法，以及包含特定的嵌段共聚物的光学膜，其中，上述光学膜的制造方法包含通过将树脂A和树脂B进行共挤出，得到具有包含树脂A的核层和设置在核层面上的包含树脂B的表层的层叠膜的工序，以及将上述表层从上述层叠膜剥离的工序。上述光学膜的面内方向的延迟的绝对值为5nm以下，厚度方向的延迟的绝对值为10nm以下，且水蒸气透过率为20g/(m2·日)以下。

Description

光学膜、光学膜的制造方法、偏振片及液晶显示装置
技术领域
本发明涉及光学膜、光学膜的制造方法、偏振片及液晶显示装置。
背景技术
设置在液晶显示装置的偏振片通常具有起偏器和用于保护起偏器的保护膜。在偏振片保护膜中，多数情况下要求延迟小，水蒸气透过率低。从这样的观点出发，提出了延迟小的起偏器保护膜(参考专利文献1)。此外，在制造和使用显示装置时的环境中，要求偏振片表现耐久性。例如，在制造显示装置时返工的时候、和使用显示装置时偏振片收缩的时候等，对于偏振片的保护膜，要求高剥离强度。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2011-013378号公报。
发明内容
发明要解决的问题
在专利文献1中提出的起偏器保护膜是使用包含嵌段共聚物的树脂而得到的，该嵌段共聚物包含芳香族乙烯基化合物氢化物的嵌段和二烯化合物氢化物的嵌段。根据这样的起偏器保护膜，能够减小面内方向的延迟。然而，当使用该起偏器保护膜时，会有下述问题：起偏器保护膜所包含的聚合物分子进行取向、分子间的络合降低从而在表层附近产生了凝聚破坏，由此能够引发偏振片中的保护膜的剥离强度不足。
因此，本发明的目的在于提供一种与起偏器的密合性高、延迟小、且水蒸气透过率低的光学膜，能够容易地得到这样的光学膜的光学膜的制造方法，以及具备该光学膜、具有上述性能的偏振片和液晶显示装置。
用于解决问题的方案
对上述现有的起偏器保护膜中的问题进行研究，结果认为这是起因于在将该保护膜通过熔融挤出法进行成型的工序中，在该保护膜的表面形成了强取向层。
因此，本发明人为了解决上述课题而进行了深入研究。结果本发明人发现：通过树脂A和树脂B的共挤出制作具有核层和设置在其面上的表层的层叠膜，将表层从该层叠膜剥离除去，由此得到了与对象物的密合性高、延迟小、且水蒸气透过率低的光学膜，完成了本发明。
即，本发明为如下所述。
[1]一种光学膜，其包含嵌段共聚物，
上述嵌段共聚物包含：
具有含环式烃基化合物单元的嵌段[Da]、以及
具有链状烃化合物单元、或具有链状烃化合物单元和含环式烃基化合物单元的嵌段[Ea]，
在表面与中央部的上述嵌段[Da]的体积与上述嵌段[Ea]的体积的组成比率的差为0～10％，
面内方向的延迟的绝对值为5nm以下，
厚度方向的延迟的绝对值为10nm以下，且
水蒸气透过率为20g/(m2·日)以下。
[2]根据[1]所述的光学膜，其是将包含上述嵌段共聚物的树脂进行挤出制膜而成的。
[3]根据[1]或[2]所述的光学膜，其中，上述嵌段共聚物为如下的共聚物，
上述共聚物包含每1分子2个以上的聚合物嵌段[Db]作为所述嵌段[Da]和每1分子1个以上的聚合物嵌段[Eb]作为所述嵌段[Ea]，
上述聚合物嵌段[Db]具有含环式烃基化合物氢化物单元，
上述聚合嵌段[Eb]具有链状烃化合物氢化物单元、或者具有链状烃化合物或其氢化物单元和含环式烃基化合物或其氢化物单元。
[4]一种偏振片，其具有[1]～[3]中任1项所述的光学膜和起偏器。
[5]一种液晶显示装置，其具有[4]所述的偏振片。
[6]一种光学膜的制造方法，其包含以下工序：
通过将树脂A和树脂B进行共挤出，得到层叠膜的工序，上述层叠膜具有包含树脂A的核层和设置在上述核层面上的包含树脂B的表层的，以及
将上述表层从上述层叠膜剥离的工序，
上述光学膜的面内方向的延迟的绝对值为5nm以下，厚度方向的延迟的绝对值为10nm以下，且
水蒸气透过率为20g/(m2·日)以下。
[7]根据[6]所述的光学膜的制造方法，其中，上述光学膜的上述面内方向的延迟的绝对值为2nm以下，上述光学膜的上述厚度方向的延迟的绝对值为2nm以下。
[8]根据[6]或[7]所述的光学膜的制造方法，其中，上述树脂B包含含脂环式结构聚合物。
[9]根据[6]～[8]中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，
上述树脂A包含氢化嵌段共聚物，
上述氢化嵌段共聚物包含每1分子2个以上的聚合物嵌段[D]和每1分子1个以上的聚合物嵌段[E]，
上述聚合物嵌段[D]具有含环式烃基化合物氢化物单元，
上述聚合物嵌段[E]具有链状烃化合物氢化物单元、或具有链状烃化合物氢化物单元和含环式烃基化合物氢化物单元。
[10]根据[6]～[8]中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，
上述树脂A包含嵌段共聚物，
上述嵌段共聚物包含具有含环式烃基化合物单元的嵌段和具有链状烃化合物单元、或具有链状烃化合物单元和含环式烃基化合物单元的嵌段，
在上述光学膜中，其在表面和中央部的组成比率的差为0～10％。
发明效果
本发明的光学膜能够制成与对象物的密合性高、延迟小、并且水蒸气透过率低的光学膜。根据本发明的光学膜的制造方法，能够容易地得到与对象物的密合性高、延迟小、并且水蒸气透过率低的光学膜。根据本发明的偏振片，能够提供具有上述那样的性能的偏振片。根据本发明的液晶显示装置，能够提供具有上述那样的性能的液晶显示装置。
附图说明
图1为示意性地示出本发明的制造方法中层叠膜制作工序的一个例子的剖面图。
图2为示意性地示出本发明的制造方法中剥离工序的一个例子的剖面图。
图3为示意性地示出在实施例的评价试验中使用的样品的剖面图。
具体实施方式
以下，对本发明示出实施方式及示例物，进行详细的说明。但是，本发明并不限定于以下示出的实施方式及示例物，在不脱离本发明的请求的范围及其同等的范围的范围内可以任意地变更实施。
在以下的说明中，环式烃基是指芳香族环、环烷烃、环烯烃等包含环状的结构的烃基。此外，链状烃化合物是指不包含这样的环式烃基的烃化合物。
在以下的说明中，只要没有另外说明，光学膜的面内方向的延迟Re为以Re＝(nx-ny)×d表示的值。此外，只要没有特别说明，光学膜的厚度方向的延迟Rth为以Rth＝{(nx+ny)/2-nz}×d表示的值。在此，nx表示在垂直于光学膜的厚度方向的方向(面内方向)中，给予最大折射率的方向的折射率。ny表示在光学膜的上述面内方向中与nx方向正交的方向的折射率。nz表示光学膜厚度方向的折射率。d表示光学膜的厚度。只要没有另外说明，延迟的测定波长为590nm。
在以下说明中，只要没有另外说明，“偏振片”不只包含刚性的构件，也包含例如树脂制的膜这样的具有可挠性的构件。
在以下的说明中，“长条”的膜是指相对于宽具有5倍以上的长度的膜，优选具有10倍或其以上的长度，具体而言，是指具有可卷成辊状而保管或搬运的程度的长度的膜。长条的膜的长度的上限没有特别限定，例如能够设为相对于宽度10万倍以下。
[1.本发明的光学膜的制造方法]
在本发明的某个方式中，光学膜的制造方法包含以下工序：
通过将形成核层的树脂A和形成表层的树脂B进行共挤出，得到具有包含树脂A的核层和设置在核层面上的包含树脂B的表层的层叠膜的工序(层叠膜制作工序)、以及将表层从层叠膜剥离的工序(剥离工序)。
[1.1.层叠膜制作工序的概要]
在层叠膜制作工序中，通过将用于形成核层的树脂A和用于形成表层的树脂B进行共挤出，从而得到层叠膜。共挤出能够使用多层挤出机进行。
在图1示出的实施方式中，层叠膜20在核层10的2个面上分别具有表层11、12。详细而言，层叠膜20具有表层11/核层10/表层12的层结构。图1示出的M为挤出成型机。层叠膜可以仅在核层一侧的面上具有表层，该情况下的层结构为表层/核层。从抑制膜的卷曲的观点出发，优选在核层的两面有表层。
[1.1.1.树脂A]
作为形成核层的树脂A，能够使用热塑性树脂。
作为形成核层的热塑性树脂(以下，也称为“热塑性树脂A”)，没有特别限定，能够适当选择采用能赋予作为光学膜的期望的物性的包含各种聚合物的树脂。作为热塑性树脂A所包含的聚合物的优选例，可举出氢化嵌段共聚物[G]，其包含2个以上的聚合物嵌段[D]和1个以上的聚合物嵌段[E]，聚合物嵌段[D]具有含环式烃基化合物氢化物单元，聚合物嵌段[E]具有链状烃化合物氢化物单元、或具有链状烃化合物氢化物单元和含环式烃基化合物氢化物单元。通过树脂A包含氢化嵌段共聚物[G]，从而能够得到相位差低的光学膜，因此能够将通过本发明的制造方法而得到的光学膜用作要求低相位差的构件。除此以外，能够得到耐光性高、难以黄变的光学膜。
嵌段[D]和嵌段[E]所包含的含环式烃基化合物氢化物单元优选为芳香族乙烯基化合物氢化物单元。芳香族乙烯基化合物氢化物单元为具有下述结构的结构单元：将芳香族乙烯基化合物进行聚合而得到的单元进一步进行氢化所形成的结构。但是，芳香族乙烯基化合物氢化物单元并不受该制造方法所限定。
作为芳香族乙烯基化合物的例子，可举出：苯乙烯；α-甲基苯乙烯、2-甲基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、2,4-二甲基苯乙烯、2,4-二异丙基苯乙烯、4-叔丁基苯乙烯、5-叔丁基-2-甲基苯乙烯等作为取代基具有碳原子数为1～6的烷基的苯乙烯类；4-氯苯乙烯、二氯苯乙烯、4-单氟苯乙烯等作为取代基具有卤原子的苯乙烯类；4-甲氧基苯乙烯等作为取代基具有碳原子数为1～6的烷氧基的苯乙烯类；4-苯基苯乙烯等作为取代基具有芳基的苯乙烯类；1-乙烯基萘、2-乙烯基萘等乙烯基萘类等。它们可以单独使用1种，也可以将2种以上以任意比率组合使用。在它们之中，从能够降低吸湿性的观点出发，优选苯乙烯、作为取代基具有碳原子数为1～6的烷基的苯乙烯类等不含极性基团的芳香族乙烯基化合物，从工业上容易获得的观点出发，特别优选苯乙烯。
嵌段[E]所包含的链状烃化合物氢化物单元优选为链状共轭二烯化合物氢化物单元。链状共轭二烯化合物氢化物单元是具有下述结构的结构单元：将链状共轭二烯化合物进行聚合而得到的单元或在其具有双键的情况下将双键的一部分或全部进行氢化而得到的单元的结构。但是，链状共轭二烯化合物氢化物单元并不被该制造方法所限定。
作为链状共轭二烯系化合物的例子，可举出1,3-丁二烯、异戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、1,3-戊二烯等。它们可以单独使用1种，也可以将2种以上以任意比率组合使用。其中，从能够降低吸湿性的观点出发，优选不含有极性基的链状共轭二烯化合物，特别优选1,3-丁二烯和异戊二烯。
氢化嵌段共聚物[G]优选具有下述三嵌段分子结构：具有每1分子1个的嵌段[E]、和连接于其两端的每1分子2个的嵌段[D]。即、氢化嵌段共聚物[G]优选为下述三嵌段共聚物：包含每1分子1个的嵌段[E]；连接于嵌段[E]一端的、具有含环式烃基化合物氢化物单元[I]的、每1分子1个的嵌段[D1]；连接于嵌段[E]另一端的、具有含环式烃基化合物氢化物单元[I]的、每1分子1个的嵌段[D2]。
在作为上述三嵌段共聚物的氢化嵌段共聚物[G]中，从易于得到具有优选特性的层叠膜的观点出发，优选嵌段[D1]和嵌段[D2]的合计与嵌段[E]的重量比(D1+D2)/E处于特定的范围。具体而言，重量比(D1+D2)/E优选为70/30以上，更优选为75/25以上，优选为90/10以下，更优选为87/13以下。
此外，在作为上述三嵌段共聚物的氢化嵌段共聚物[G]中，从易于得到具有上述特性的层叠膜的观点出发，优选嵌段[D1]与嵌段[D2]的重量比D1/D2处于特定的范围。具体而言，重量比D1/D2优选为5以上，更优选为5.2以上，特别优选为5.5以上，优选为8以下，更优选为7.8以下，特别优选为7.5以下。
氢化嵌段共聚物[G]的重均分子量Mw优选为50000以上，更优选为55000以上，特别优选为60000以上，优选为80000以下，更优选为75000以下，特别优选为70000以下。通过重均分子量Mw为上述范围，能够容易地得到具有上述特性的层叠膜。特别是通过减小重均分子量，能够有效地减小延迟的显现性。
氢化嵌段共聚物[G]的分子量分布(重均分子量(Mw)/数均分子量(Mn))优选为2.0以下，更优选为1.7以下，特别优选为1.5以下，优选为1.0以上。通过重均分子量Mw为上述范围，能够降低聚合物粘度而提高成型性。此外，能够有效地减小延迟的显现性。
氢化嵌段共聚物[G]的重均分子量Mw和数均分子量Mn能够利用将环己烷作为溶剂的凝胶渗透气相色谱法，作为聚苯乙烯换算的值而测定。就上述嵌段共聚物氢化物[G]而言，例如主链和侧链的碳-碳不饱和键优选90％以上被氢化，更优选97％以上被氢化，进一步优选99％以上被氢化。此外，就上述嵌段共聚物氢化物[G]而言，例如芳香环的碳-碳不饱和键优选90％以上被氢化，更优选97％以上被氢化，进一步优选99％以上被氢化。表示氢化程度的氢化率越高，可以期待耐热性、耐光性越高。
嵌段[D1]和嵌段[D2]优选各自独立地仅包含含环式烃基化合物氢化物单元[I]，但也能够包含除含环式烃基化合物氢化物单元[I]以外的任意的单元。作为任意结构单元的例子，可举出除含环式烃基化合物氢化物单元[I]以外的基于乙烯基化合物的结构单元。嵌段[D]中任意的结构单元的含有率优选为10重量％以下，更优选为5重量％以下，特别优选为1重量％以下。
嵌段[E]为仅包含链状烃化合物氢化物单元[II]的嵌段或具有链状烃化合物氢化物单元[II]和含环式烃基化合物氢化物单元[I]的嵌段。嵌段[E]能够包含除单元[I]和单元[II]以外的任意的单位。作为任意结构单元的例子，可举出除单元[I]和单元[II]以外的基于乙烯基化合物的结构单元。嵌段[E]中任意的结构单元的含有率优选为10重量％以下，更优选为5重量％以下，特别优选为1重量％以下。
作为上述三嵌段共聚物的氢化嵌段共聚物[G]的延迟的显现性小。因此，将表层从层叠体剥离而得到的光学膜能够容易地得到期望的特性。
作为氢化嵌段共聚物[G]的具体例和制造方法，可举出例如国际公开第WO2016/152871号公开的具体例和制造方法。
热塑性树脂A可以仅包含上述氢化嵌段共聚物[G]，但也可以包含除氢化嵌段共聚物[G]以外的任意的成分。
作为任意的成分，可举出无机微粒；抗氧化剂；热稳定剂；紫外线吸收剂；近红外线吸收剂等稳定剂；润滑剂、增塑剂等树脂改性剂；染料、颜料等着色剂；和抗静电剂等。作为这些任意的成分，可以单独使用1种，也可以将2种以上以任意比率组合使用。但是，从使本发明的效果显著地发挥的观点出发，优选任意的成分的含有比例少。例如，相对于100重量份的氢化嵌段共聚物[G]，任意成分的合计的比例优选为10重量份以下，更优选为7重量份以下，进一步优选为5重量份以下。
就热塑性树脂A而言，其玻璃化转变温度优选为110℃以上，更优选为120℃以上，优选为180℃以下，更优选为170℃以下。玻璃化转变温度在该范围内的热塑性树脂A的尺寸稳定性和成型加工性优异。
[1.1.2.树脂B]
作为形成表层的树脂B，使用可形成能够从包含树脂A的核层剥离的表层的树脂。作为树脂B，能够使用热塑性树脂。在以下的说明中，为了区别用于形成2个表层的树脂B，有时会体现为树脂B1、树脂B2。树脂B1和树脂B2可以相同，也可以不同。
作为形成表层的热塑性树脂(以下，也称为“热塑性树脂B”)，只要是可形成能够从核层剥离的表层的树脂，则没有特别限定，能够适当选择采用包含各种聚合物的树脂。
作为热塑性树脂B所包含的聚合物的优选例，可举出含脂环式结构聚合物。含脂环式结构聚合物为在重复单元中具有脂环式结构的聚合物，能够使用在主链中含脂环式结构聚合物和在侧链中含脂环式结构聚合物中的任一种。含脂环式结构聚合物包含结晶性的树脂和非结晶性的树脂，但从表面平滑性的观点出发，优选非结晶性的树脂。
作为脂环式结构，可举出例如环烷烃结构，环烯烃结构等，但从热稳定性等的观点出发，优选环烷烃结构。
构成1个脂环式结构的重复单元的碳原子数没有特别限制，通常为4个～30个，优选为5个～20个，更优选为6个～15个。
含脂环式结构聚合物中的具有脂环结构的重复单元的比例可根据使用目的适宜地选择，通常为50重量％以上，优选为70重量％以上，更优选为90重量％。通过使具有脂环式结构的重复单元如此地多，能够提高表层的耐热性。
含脂环式结构聚合物具体而言可举出：(1)降冰片烯系聚合物、(2)单环的环状烯烃聚合物、(3)环状共轭二烯聚合物、(4)乙烯基脂环式烃聚合物以及它们的氢化物等。在它们之中，从成型性的观点出发，更优选降冰片烯系聚合物和它们的氢化物。
作为降冰片烯系聚合物，可举出例如降冰片烯系单体的开环聚合物、降冰片烯单体与能够进行开环共聚的其它单体的开环共聚物、及它们的氢化物；降冰片烯系单体的加成聚合物、降冰片烯系单体与能够共聚的其它单体的加成共聚物等。在它们之中，从成型性的观点出发，特别优选降冰片烯系单体的开环聚合物氢化物。
上述的含脂环式结构聚合物可以从例如日本特开2002-321302号公报中公开的聚合物里选取。
此外，作为结晶性的含脂环式结构聚合物的例子，可举出例如日本特开2016-26909号公报公开的聚合物。
含脂环式结构聚合物的重均分子量以通过使用环己烷(在树脂不溶解的情况下使用甲苯)作为溶剂的凝胶渗透色谱法(以下简称为“GPC”。)而测定的异戊二烯换算(溶剂为甲苯时，为聚苯乙烯换算)的重均分子量(Mw)计，通常为10000～100000，优选为25000～80000，更优选为25000～50000。当重均分子量为这样的范围时，表层的机械强度和成型加工性高度平衡。
含脂环式结构聚合物的分子量分布(重均分子量(Mw)/数均分子量(Mn))通常为1～10，优选为1～4，更优选为1.2～3.5。
就热塑性树脂B而言，其玻璃化转变温度优选为110℃以上，更优选为120℃以上，优选为180℃以下，更优选为170℃以下。玻璃化转变温度在该范围内的热塑性树脂B的成型加工性优异。
热塑性树脂B可以仅包含含脂环式结构聚合物，但只要不显著地损害本发明的效果，也可以包含任意的成分。作为任意成分，能够使用与热塑性树脂A的任意成分相同的成分。热塑性树脂B中的含脂环式结构聚合物的比例优选为70重量％以上、更优选为80重量％以上。
作为包含含脂环式结构聚合物的树脂，由于有各种市售的商品，因此能够从它们之中适当选择具有期望的特性的商品作为热塑性树脂B而使用。作为这样的市售品的例子，可举出商品名“ZEONOR”(ZEON Corporation制)的产品系列。
[1.2.层叠膜制作工序]
在层叠膜制作工序中，能够分别制备树脂A、树脂B1和树脂B2，对这些树脂进行基于共挤出的熔融挤出成型，从而制作层叠膜。通过进行这样的熔融挤出成型，能够有效地制造具有期望的各层膜厚的层叠膜。此外，根据熔融挤出成型法，能够得到长条的层叠膜。
作为共挤出法中的树脂的挤出方法，可举出例如共挤出T模头法、共挤出吹胀成型法、共挤出层压法等。其中，优选共挤出T模头法。在共挤出T模头法中，存在有给料块方式和多歧管方式，从能够减少厚度不均的点出发，特别优选多歧管方式。
进行基于共挤出的熔融挤出成型时的树脂温度(以下，适当地称为“挤出温度”。)没有特别限定，可在能够使每种树脂熔融的温度中适当地设定适合于成型的温度。具体而言，能够将形成核层的树脂A的热软化温度和形成表层的树脂B的热软化温度中较高一方的温度(Ts[H])设定为基准。更具体而言，优选为(Ts[H]+70)℃以上，更优选为(Ts[H]+80)℃以上，另一方面优选为(Ts[H]+180)℃以下，更优选为(Ts[H]+150)℃以下。
树脂A的热软化温度优选为110℃以上，更优选为120℃以上，优选为180℃以下，更优选为170℃以下。树脂B的热软化温度优选为110℃以上，更优选为120℃以上，优选为180℃以下，更优选为170℃以下。
各树脂的热软化温度Ts能够通过TMA(热机械分析)测定而测定。例如，将测定对象的层切成5mm×20mm的形状，制成试样，使用TMA/SS7100(SII Nano Technology Co.,Ltd.制)，以沿试样的长度方向施加50mN张力的状态，改变温度，将线性膨胀变化3％时的温度(℃)作为软化温度而计测。
进而，模头的模唇的算术平均粗糙度Ra优选为0μm～1.0μm，更优选为0μm～0.7μm，特别优选为0μm～0.5μm。在此，算术平均粗糙度Ra能够使用表面粗糙计基于JIS B0601：1994来测定。
在共挤出法中，通常使从模唇中挤出的膜状的熔融树脂密合于冷却辊而冷却，使其固化。这时，作为使熔融树脂密合于冷却辊的方法，可举出例如气刀方式、真空箱方式、静电密合方式等。
[1.2.1.层叠膜中各层的尺寸]
在通过层叠膜制作工序而得到的层叠膜中，核层的厚度优选为20μm以上，更优选为25μm以上，优选为80μm以下，更优选为70μm以下。2个表层的厚度各自优选为5μm以上，更优选为10μm以上，优选为30μm以下，更优选为25μm以下。
各层的厚度能够通过显微镜观察而测定。具体而言，能够使用超薄切片机将层叠膜进行切片，观察切断面，由此测定各层的厚度。切断面的观察能够通过例如偏光显微镜(例如奥林巴斯公司制“BX51”)而进行。
[1.3.剥离工序]
本发明的光学膜的制造方法中的剥离工序是将表层从层叠膜剥离的工序。通过这样的剥离工序，能够得到光学膜。2个表层在以下说明的实施方式中同时剥离的，但也可以一层一层地剥离。
图2为示意性地示出本发明的光学膜的制造方法中的剥离工序的一个例子的剖面图。将从挤出成型机M运送来的层叠膜(在图1中说明了的层叠膜20)运送至图示下方，之后供给剥离工序。
剥离工序中剥离的处理能够通过沿与运送的层叠膜20的面内方向不同的方向将表层11、12进行牵引来进行。在图2的例子中，将2个表层11、12分别沿相对于光学膜100的2个面100A、100B的角度成为θ1、θ2的方向(箭头线Y和箭头线Z所示的方向)进行牵引，由此将表层11、12从层叠膜20剥离。θ1和θ2可以相同，也可以不同。上述θ1和θ2的范围优选为45°以上，更优选为55°以上，另一方面，优选为135°以下，更优选为125°以下。
剥离工序的温度没有特别限定，从运送性的观点出发，优选为5℃以上，更优选为15℃以上，从剥离性的观点出发，优选为60℃以下，更优选为50℃以下。剥离温度能够通过利用适当的加热装置将层叠膜的剥离领域P进行加热等来调整。
[1.4.其它工序(拉伸处理工序)]
本发明的光学膜的制造方法还可以包含拉伸处理工序。拉伸处理工序可以在层叠膜制作工序中进行，也可以在经过层叠膜制作工序后、在剥离工序前进行，也可以在剥离工序中进行，还可以在剥离工序后进行。
在进行拉伸处理工序的情况下，可以是厚度方向的拉伸，也可以是面内方向的拉伸，还可以是厚度方向和面内方向的拉伸。在本发明的光学膜的制造方法中，在进行厚度方向和面内方向的拉伸的情况下的拉伸倍率能够根据赋予光学膜所要求的期望的光学性能而适当地调整。具体的拉伸倍率优选为1.0倍以上，更优选为1.05倍以上，另一方面，优选为1.5倍以下，更优选为1.4倍以下。在面内方向的拉伸倍率为该范围的情况下，能够容易地得到期望的光学性能。
在拉伸处理工序中进行的拉伸能够设为单轴拉伸、双轴拉伸或其它拉伸。拉伸方向能够设定为任意的方向。例如，在拉伸前膜为长条膜的情况下，拉伸方向可以是膜的长度方向、宽度方向和除此以外的倾斜方向中的任一种。进行双轴拉伸的情况下的2个拉伸方向所成的角度通常能够设为相互正交的角度，但不限于此，也能够设为任意的角度。双轴拉伸可以是逐次双轴拉伸，也可以是同时双轴拉伸。
[1.5.通过本发明的制造方法得到的光学膜的尺寸和特性]
通过本发明的光学膜的制造方法得到的光学膜，其面内方向的延迟Re的绝对值为5nm以下，厚度方向的延迟Rth的绝对值为10nm以下，并且水蒸气透过率为20g/(m2·日)以下。
通过本发明的制造方法得到的光学膜的面内方向的延迟Re的绝对值优选为3nm以下，更优选为2nm以下，理想化为0nm。
通过本发明的制造方法得到的光学膜的厚度方向的延迟Rth的绝对值优选为3nm以下，更优选为2nm以下，理想化为0nm。
通过本发明的制造方法得到的光学膜的水蒸气透过率优选为18g/(m2·日)以下，更优选为15g/(m2·日)以下。另一方面，理想化为0g/(m2·日)，但也能够设为例如1g/(m2·日)以上。
通过本发明的制造方法得到的光学膜的厚度优选为20μm以上，更优选为25μm以上，优选为70μm以下，更优选为80μm以下。
能够使用Axometrics公司制“AxoScan”作为测定装置，在测定波长590nm测定通过本发明的制造方法得到的光学膜的面内方向的延迟和厚度方向的延迟。在使用上述测定装置的情况下，光学膜的面内方向和厚度方向的延迟使用该光学膜的平均折射率算出。在此，平均折射率是指在光学膜的面内方向中相互垂直的2个方向的折射率和该光学膜的厚度方向的折射率的平均值。
通过本发明的制造方法得到的光学膜的水蒸气透过率能够使用水蒸气透过率测定装置(MOCON公司制“PERMATRAN-W”)，按照JISK7129 B法，例如在温度40℃、湿度90％RH的条件下进行测定。
通过本发明的制造方法得到的光学膜的厚度能够与各层的厚度同样地使用显微镜观察来测定。具体而言，能够使用超薄切片机将光学膜进行切片、使用例如偏光显微镜(例如奥林巴斯公司制“BX51”)观察切断面来进行。
通过本发明的光学膜的制造方法得到的光学膜在将表层从具有包含树脂A的核层和包含树脂B的表层的层叠膜剥离而得到的光学膜中，将面内方向的延迟Re的绝对值和厚度方向的延迟Rth的绝对值分别设为2nm以下，并且将水蒸气透过率设为20g/(m2·日)以下，由此能够得到与对象物的密合性高、延迟小、且水蒸气透过率低的光学膜。其结果是，根据本发明，能够得到能够有效地用作起偏器保护膜的光学膜。
通过本发明的光学膜的制造方法得到的光学膜通常为透明的层，可透射可见光。具体的光线透过率能够根据光学膜的用途适当选择。例如，波长420nm～780nm的光线透过率优选为85％以上，更优选为88％以上。通过制成具有如此高的光线透过率的结构，从而在将光学膜实际安装于液晶显示装置等显示装置的情况下，特别能够抑制长时间使用时的亮度下降。
[2.本发明的光学膜]
在本发明的另一个方式中，光学膜包含嵌段共聚物，该嵌段共聚物包含嵌段[Da]和嵌段[Ea]，嵌段[Da]具有含环式烃基化合物单元，嵌段[Ea]具有链状烃化合物单元或具有链状烃化合物单元和含环式烃基化合物单元。含环式烃基化合物单元和链状烃化合物单元可以具有不饱和键，也可以不具有不饱和键，进而根据其制造方法而没有限定。因此，例如可以是将具有不饱和键的单元进行氢化而成的单元，也可以是不进行氢化具有不饱和键的单元。通过光学膜包含这样的嵌段共聚物，从而能够得到相位差低的光学膜，因此能够将本发明的光学膜用作要求低相位差的构件。除此以外，能够得到耐光性高、难以黄变的光学膜。
作为该嵌段共聚物的优选例，可举出如下的共聚物，包含每1分子2个以上的聚合物嵌段[Db]作为嵌段[Da]和每1分子1个以上的聚合物嵌段[Eb]作为嵌段[Ea]的共聚物，其中，聚合物嵌段[Db]具有含环式烃基化合物氢化物单元，聚合物嵌段[Eb]具有链状烃化合物氢化物单元或者具有链状烃化合物或其氢化物单元和含环式烃基化合物或其氢化物单元。
作为构成本发明的光学膜的材料的具体例，可举出上述的树脂A。此外，作为其所包含的嵌段共聚物的例子，可举出与上述氢化嵌段共聚物[G]的例子相同的例子。进而，作为构成嵌段共聚物的嵌段[Da]和[Ea]的例子、以及作为其具体例的嵌段[Db]和[Eb]的例子，可举出与上述嵌段[D]和[E]的例子相同的例子。作为构成嵌段[Da]和嵌段[Ea]的单元的例子，可举出与构成嵌段[D]和[E]的单元的例子相同的例子；以及芳香族乙烯基化合物单元和链状共轭二烯化合物单元。芳香族乙烯基化合物单元是具有将芳香族乙烯基化合物聚合而得到的结构的结构单元，链状共轭二烯化合物单元是具有将链状共轭二烯化合物聚合而得到的结构的结构单元。但是，它们根据其制造方法并不被限定。作为这里所说的芳香族乙烯基化合物的例子和链状共轭二烯化合物的例子，可举出与上文举出的例子相同的例子。
作为在嵌段共聚物的例子中除氢化嵌段共聚物[G]以外的嵌段共聚物的例子，可举出国际公开第WO2016/152871号记载的作为氢化物前体的芳香族乙烯基化合物/共轭二烯化合物嵌段共聚物。
在构成本发明的光学膜的嵌段共聚物中，在表面和中央部的嵌段[Da]的体积与嵌段[Ea]的体积的组成比率的差为0～10％。组成比率的差优选为8％以下，更优选为5％以下。
这里所说的“中央部”是膜厚度方向的中央部。但是，在上文说明了的通过本发明的光学膜的制造方法制造的膜的情况下，在厚度方向上5μm左右的深度的位置通常具有与厚度方向的中央部同等的组成比率。因此，在光学膜的厚度超过10μm的情况下，能够用观察在厚度方向上5μm左右的深度的组成所得到的值代替在中央部的组成比率的值。
嵌段[Da]的体积与嵌段[Ea]的体积的组成比率能够通过观察光学膜的剖面来求出。即，剖面的面积通常与体积比成比例，因此能够通过测定表面和剖面的面积比来求出体积比。具体而言，在光学膜的表面和剖面中，求出来自各嵌段的相的面积，求出这些面积的比，由此能够求出嵌段[Da]与嵌段[Ea]的组成比率。
各相的面积的测定能够利用原子间力显微镜(例如Bruker公司制的原子间力显微镜Dimension Fast Scan Icon)来进行。能够使用原子间力显微镜来得到光学膜的凝结力图像，测定该图像中的来自各嵌段的相的面积比。此外，能够从有关所观察的相的凝结力的情报中，将观察到的相归属到嵌段[Da]的相和嵌段[Ea]的相。
能够将2种相的面积的合计设为100％，求出其中归属于嵌段[Da]的相的面积的百分率，由此计算表面和中央物的各自的嵌段[Da]比率。在表面与中央部的嵌段[D]的体积与嵌段[E]的体积的组成比率的差能够通过下述式而算出。
组成比率的差＝|(中央部的嵌段[D]比率)-(表面的嵌段[D]比率)|
(中央部的嵌段[D]比率)-(表面的嵌段[D]比率)的值可以为正也可以为负。
本发明的光学膜能够通过包含嵌段共聚物的树脂的挤出制膜来制造。通过进行挤出制膜，能够有效的制造。但是，根据本发明人的发现，在进行挤出制膜的情况下，在表面和中央部的嵌段[D]的体积与嵌段[E]的体积的组成比率的差会变大。在此，通过采用在上述[1.本发明的光学膜的制造方法]中说明的制造方法，能够容易地得到这样的组成比率的差小的膜。
本发明的光学膜的尺寸和特性与[1.5.通过本发明的制造方法得到的光学膜的尺寸和特性]中说明的尺寸和特性相同。
[3.偏振片及其制造方法]
通过上述[1.本发明的光学膜的制造方法]中说明的制造方法得到的光学膜、和在上述[2.本发明的光学膜]中说明的本发明的光学膜(以下将它们简称为“本发明的光学膜”)能够在液晶显示装置等显示装置中，优选用作保护其它层的保护膜。其中，本发明的光学膜优选作为起偏器保护膜，特别优选作为显示装置的内侧起偏器保护膜。
本发明的偏振片具有上述本发明的光学膜和起偏器。在本发明中，光学膜能够作为起偏器保护膜发挥功能。本发明的偏振片可以在光学膜和起偏器之间进一步具有用于粘接它们的粘接剂层。
本发明的偏振片除光学膜和起偏器之外，还能够具有任意的层。作为任意的层，可举出提高表面硬度的硬涂层、改善膜光滑性的哑光层、防反射层等。
起偏器没有特别限定，能够使用任意的起偏器。作为起偏器的例子，可举出使碘、二色性染料等材料吸附于聚乙烯醇膜后，进行拉伸加工而得到的起偏器。作为构成粘接剂层的粘接剂，可举出将各种聚合物制成基础聚合物的粘接剂。作为这样的基础聚合物的例子，可举出例如丙烯酸聚合物、有机硅聚合物、聚酯、聚氨酯、聚醚和合成橡胶。
偏振片具有的起偏器和保护膜的数量是任意的，在本发明中，通常能够具有1层起偏器和设置在其两面的2层保护膜。在这2层保护膜中，可以两者都是本发明的光学膜，也可以仅其中一者是本发明的光学膜。特别在具有光源和液晶单元、在该液晶单元的光源测和显示面侧两侧具有偏振片的液晶显示装置中，特别优选具有本发明的光学膜作为与显示面侧的起偏器相比在光源测的位置中使用的保护膜。通过具有这样的结构，能够容易的构成具有耐久性优异、颜色不均匀小这些良好的显示品质的液晶显示装置。
本发明的偏振片能够通过任意的制造方法制造。例如，能够将通过上述制造方法得到的光学膜和起偏器进行贴合，由此制造本发明的偏振片。该贴合能够设为使这些层直接接触的贴合、或经由粘接剂层的贴合。
[4.液晶显示装置及其制造方法]
本发明的液晶显示装置具有上述本发明的偏振片。
作为适合设置本发明的偏振片的液晶显示装置，可举出例如具有共面开关(IPS)模式、垂直取向(VA)模式、多畴垂直取向(MVA)模式、连续焰火状排列(CPA)模式、混合排列向列(HAN)模式、扭曲向列(TN)模式、超扭曲向列(STN)模式、光补偿弯曲(OCB)模式等驱动方式的液晶单元的液晶显示装置。在它们之中，从本发明的光学膜的耐久性优异、抑制颜色不均匀的效果显著的方面出发，特别优选具有IPS模式的液晶单元的液晶显示装置。
本发明的液晶显示装置能够通过任意的制造方法制造。例如，将通过上述制造方法得到的偏振片与液晶单元等构成液晶显示装置的其它部件进行组合，由此能够制造本发明的液晶显示装置。例如，能够将液晶单元与偏振片直接或经由粘接剂层进行贴合，将其设置于显示装置内，由此制造液晶显示装置。或能够将液晶单元与偏振片仅重叠而设置于显示装置内，由此制造液晶显示装置。
实施例
以下，示出实施例对本发明具体地说明。但是，本发明并不限定于以下所示的实施例中，在不脱离本发明的请求的范围及其同等的范围的范围可以任选地变更实施。
在以下说明中，表示量的“％”和“份”，只要没有另外说明为重量基准。此外，以下说明的操作只要没有另外说明，在常温和常压的条件进行。
能够作为上文说明中嵌段[D]的具体例和上文说明中嵌段[Da]的具体例的具体例在以下的说明中仅称为“嵌段[D]”。此外，能够作为上文说明中嵌段[E]的具体例和上文说明中嵌段[Ea]的具体例的具体例在以下的说明中仅称为“嵌段[E]”。
[评价方法]
[重均分子量及数均分子量的测定方法]
聚合物的重均分子量及数均分子量使用凝胶渗透色谱法(GPC)系统(TosohCorporation制“HLC-8320”)，作为聚苯乙烯换算值测定。测定时，使用H型柱(TosohCorporation制)作为柱，使用环己烷作为溶剂。此外，测定时的温度为40℃。
[氢化嵌段共聚物[G]的氢化率的测定方法]
聚合物的氢化率以邻二氯苯-d4作为溶剂，在145℃通过1H-NMR测定而算出。
[树脂A的玻璃化转变温度]
将树脂A(包含氢化嵌段共聚物的树脂[G1]等)进行压制成型，制作长50mm、宽10mm、厚1mm的试验片。使用该试验片，根据JIS-K7244-4法，使用粘弹性测定装置(产品名“ARES”、T·A·Instrument·Japan公司制造)，在-100℃～+150℃的范围，以5℃/分钟的升温速度测定动态粘弹性特性。根据损耗角正切tanδ的峰顶温度(在观测到多个峰的情况下，为高温侧的峰温度)，算出玻璃化转变温度Tg2。
[树脂B的热软化温度]
基于JIS K 7121，使用差示扫描热量分析仪(Nano Technology Inc.制、产品名“DSC6220S11”)将树脂B加热到高于玻璃化转变温度30℃以上的温度，之后，以冷却速度-10℃/分钟冷却至室温，之后以升温速度10℃/分钟升温，由此测定热软化温度。
[各层厚度和光学膜的厚度的测定方法]
以下述的方式测定各层的厚度和光学膜的厚度。
使用超薄切片机(大和光机社制“RV-240”)将测定对象的膜进行切片。用偏光显微镜(奥林巴斯公司制、“BX51”)观察进行切片了的膜的切断面，测定其厚度。
[热软化温度Ts的测定方法]
将测定对象的膜切成5mm×20mm的形状，制成试样。作为测定装置，使用TMA/SS7100(SII Nano Technology Co.,Ltd.制)。在TMA(热机械分析)测定中，以沿试样的长度方向施加50mN的张力的状态，改变温度。将线性膨胀变化3％时的温度(℃)作为软化温度。
[面内方向的延迟和厚度方向的延迟的测定方法]
将各例(实施例和比较例)的膜在波长590nm使用相位差测定装置(Axometric公司制、商品名“Axoscan”)进行测定，求出各例的膜的面内方向的延迟Re的绝对值和厚度方向的延迟Rth的绝对值。
[剥离强度的测定方法]
作为代替偏振片的膜，准备由包含降冰片烯类聚合物的树脂形成的试验用膜(玻璃化转变温度160℃、厚度100μm、日本瑞翁公司制、未施加拉伸处理)。在各例中得到的膜和上述试验用膜的单面施加电晕处理。使粘接剂附着在各例的膜的施加了电晕处理的面、以及试验用膜的进行了电晕处理的面，使附着有粘接剂的面彼此贴合。此时，作为粘接剂使用UV粘接剂(CRB系列(TOYOCHEM公司制))。由此得到具有各例的膜100和试验用膜60的样品膜S(参考图3)。
之后，以图3所示的方式，将上述样品膜S剪裁为15mm的宽度，用粘合剂70使各例的膜100侧贴合在载玻片80的表面，得到评价样品。此时，作为粘合剂70使用双面粘合胶带(日东电工公司制、产品编号“CS9621”)。图3中，50是粘接剂。
将上述试验用膜60夹在测力计的前端，沿载玻片80的表面的法线方向(图3的箭头线所示的方向)拉紧，由此实施90度剥离试验。此时，试验用膜60被剥离时所测定的力是为了使各例(实施例和比较例)的膜100与试验用膜60剥离而需要的力，因此将该力的大小作为剥离强度而测定。在剥离所需要的力非常大、在试验用膜被剥离前材料就损坏了的情况下，记载为“因材料损坏而无法测定”。
[对剥离强度的测定方法的补充]
在上述的剥离强度的测定方法中，代替偏振片使用特定的试验用膜。为了验证像这样代替偏振片使用试验用膜进行剥离强度的测定的恰当性，发明人对在实施例1中得到的膜进行了以下的实验。
代替试验用膜，按照日本特开2005-70140号公报的实施例1，使相位差膜层叠体贴合在偏振膜单侧的表面，使三乙酰纤维素膜贴合在偏振膜另一侧的表面，实施90度剥离试验。即，首先准备日本特开2005-70140号公报的实施例1记载的偏振膜和粘接剂。使相位差膜层叠体的实施了电晕处理的面经由上述的粘接剂贴合在准备的偏振膜的单侧的表面。此外，使三乙酰纤维素膜经由上述的粘接剂贴合在偏振膜另一侧的表面。之后，在80℃干燥7分钟，使粘接剂固化，得到样品膜。对得到的样品膜进行90度剥离试验。
上述实验的结果是得到了与代替偏振片使用试验用膜的情况的相同的结果。因此，代替偏振片使用试验用膜的下述的实施例和比较例的结果是恰当的。
(水蒸气透过率的测定)
光学膜的水蒸气透过率使用水蒸气透过率测定装置(MOCON公司制“PERMATRAN-W”)，按照JIS K7129 B法，在温度40℃、湿度90％RH的条件下进行测定。
(全光线透过率的测定)
光学膜的全光线透过率使用雾度计NDH-2000(Japan Denshoku Industries Co.,Ltd制)，依据JIS K 7136进行测定。
(嵌段组成比的测定)
光学膜中嵌段组成比的测定通过如下方式而进行：使用Bruker公司制的原子间力显微镜Dimension Fast Scan Icon，得到光学膜的凝结力图像，测定该图像中的来自各嵌段的相的面积比。
作为用于拍摄凝结力图像的悬臂，使用AC240TS(奥林巴斯公司制、弹簧常数：1.5N/m、TIP曲率半径15nm)。用于拍摄的测定模式设为ScanAsyst mode，扫描速度设为2Hz的条件，在500nm×500nm的面积测定凝结力图像。
凝结力图像的测定在膜表面和中央部进行。膜中央部的测定在对膜切出剖面之后在剖面中的自膜表面起深度为5μm的位置进行。
解析凝结力图像的测定结果的图像，画出直方图。在直方图中，将在每个测定点中所测定的凝结力作为横轴，将测定了该凝结力的测定点的个数作为纵轴。将被认为是起因于2种嵌段的2种相的面积比率以高斯函数进行拟合，由此算出。
已知通常凝结力依赖于Tg，从低Tg的试样表面拉开悬臂的一方凝结力会变高。因此，能够确定归属：凝结力高的相为嵌段[E]，凝结力低的相为嵌段[D]。
对于面积比率，将2种相的面积的合计设为100％，将其中归属于嵌段[D]的相的面积的百分率作为嵌段[D]比率而进行计算。
在表面与中央部的嵌段[D]与嵌段[E]的组成比率的差通过下述式算出。
组成比率的差＝|(中央部的嵌段[D]比率)-(表面的嵌段[D]比率)|
[制造例1]
(P1-1)嵌段共聚物[F1]的制造
在具有搅拌装置、内部充分地被氮置换了的反应器中，加入270份的脱水环己烷、75份的脱水苯乙烯和7.0份的二丁醚。将整体在60℃进行搅拌，并且加入5.6份的正丁基锂(15％环己烷溶液)，引发聚合。接下来将整体在60℃搅拌60分钟。反应温度维持在60℃至反应终止为止。在该时刻(聚合第1阶段)，利用气相色谱仪(以下，称为“GC”。)和GPC分析反应液，其结果是，聚合转化率为99.4％。
接下来，将15份脱水异戊二烯历时40分钟连续地添加到反应液中，添加结束后直接继续搅拌30分钟。在该时刻(聚合第2阶段)，利用GC和GPC分析反应液，其结果是，聚合转化率为99.8％。
之后，进一步历时30分钟，将10份的脱水苯乙烯连续地添加至反应液，添加结束后直接搅拌30分钟。在该时刻(聚合第3阶段)，利用GC和GPC分析反应液，其结果是，聚合转化率基本为100％。
在此，加入1.0份的异丙醇，使反应终止，得到包含[D1]-[E]-[D2]型的嵌段共聚物[F1]的聚合物溶液。在得到的嵌段共聚物[F1]中，Mw[F1]＝82400，Mw/Mn为1.32。
(P1-2)氢化嵌段共聚物[G1]的制造
接下来，将在(P1-1)中得到的聚合物溶液转移到具有搅拌装置的耐压反应器中，作为氢化催化剂，添加4.0份的硅藻土担载型镍催化剂(商品名“E22U”、镍担载量60％、日晖催化剂化成公司制造)和30份的脱水环己烷并进行混合。将反应器内部用氢气置换，进而搅拌溶液并且供给氢，在温度190℃、压力4.5MPa下进行氢化反应6小时。
在通过氢化反应而得到的反应溶液中，包含氢化嵌段共聚物[G1]。氢化嵌段共聚物的Mw[G1]为71800，分子量分布Mw/Mn为1.30，氢化率基本为100％。
在氢化反应结束后，过滤反应溶液，除去氢化催化剂，之后添加2.0份溶解了0.3份作为酚系抗氧化剂的季戊四醇·四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯](产品名“AO60”、ADEKA Corporation制)的二甲苯溶液，使之溶解，制成溶液。
接下来，将上述溶液使用圆筒型浓缩干燥器(商品名“Contro”、Hitachi,Ltd.制)，在温度260℃、压力0.001MPa以下进行处理，从溶液除去环己烷、二甲苯及其它挥发成分，得到熔融了的树脂。将其从模头挤出为股状，进行冷却，用造粒机制成颗粒。由此，制造95份包含氢化嵌段共聚物[G1]的树脂[G1]的颗粒。
得到的树脂[G1]中的氢化嵌段共聚物[G1]的Mw[G1]＝68500、Mw/Mn＝1.30、Tg2＝140℃、Ts＝139℃、(D1+D2)/E＝85/15、D1/D2＝7.5。
[制造例2]
(P2-1)嵌段共聚物[F2]的制造
在具有搅拌装置、内部充分地被氮置换了的反应器中，加入270份的脱水环己烷、70份的脱水苯乙烯和7.0份的二丁醚。将整体在60℃进行搅拌，并且加入5.6份的正丁基锂(15％环己烷溶液)，引发聚合。接下来将整体在60℃搅拌60分钟。反应温度维持在60℃至反应终止为止。在该时刻(聚合第1阶段)，利用GC和GPC分析反应液，其结果是，聚合转化率为99.4％。
接下来，将20份脱水异戊二烯历时40分钟连续地添加到反应液中，添加结束后直接继续搅拌30分钟。在该时刻(聚合第2阶段)，利用GC和GPC分析反应液，其结果是，聚合转化率为99.8％。
之后，进一步历时30分钟，将10份的脱水苯乙烯连续地添加至反应液，添加结束后直接搅拌30分钟。在该时刻(聚合第3阶段)，利用GC和GPC分析反应液，其结果是，聚合转化率基本为100％。
在此，加入1.0份的异丙醇，使反应终止，得到包含[D1]-[E]-[D2]型的嵌段共聚物[F2]的聚合物溶液。在得到的嵌段共聚物[F2]中，Mw[F2]＝83400，Mw/Mn为1.32。
(P2-2)氢化嵌段共聚物[G2]的制造
接下来，将在(P2-1)中得到的聚合物溶液转移到具有搅拌装置的耐压反应器中，作为氢化催化剂，添加4.0份的硅藻土担载型镍催化剂(商品名“E22U”、镍担载量60％、日晖催化剂化成公司制造)和30份的脱水环己烷并进行混合。将反应器内部用氢气置换，进而边搅拌溶液边供给氢，在温度190℃、压力4.5MPa下进行氢化反应6小时。
在通过氢化反应而得到的反应溶液中，包含氢化嵌段共聚物[G2]。氢化嵌段共聚物[G2]的Mw[G2]为72800，分子量分布Mw/Mn为1.30，氢化率基本为100％。
在氢化反应结束后，过滤反应溶液，除去氢化催化剂，之后添加2.0份溶解了0.3份作为酚系抗氧化剂的季戊四醇·四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯](产品名“AO60”、ADEKA Corporation制)的二甲苯溶液，使之溶解，制成溶液。
接下来，将上述溶液使用圆筒型浓缩干燥器(商品名“Contro”、Hitachi,Ltd.制)，在温度260℃、压力0.001MPa以下进行处理，从溶液除去环己烷、二甲苯及其它挥发成分，得到熔融了的树脂。将其从模头挤出为股状，进行冷却，用造粒机制成颗粒。由此，制造95份包含氢化嵌段共聚物[G2]的树脂[G2]的颗粒。
得到的树脂[G2]中氢化嵌段共聚物[G2]的Mw[G1]＝69500、Mw/Mn＝1.30、Tg2＝140℃、Ts＝138℃、(D1+D2)/E＝80/20、D1/D2＝7.0。
[实施例1]
(1-1.光学膜的制造)
准备具有3μm孔的叶盘形状的聚合物过滤器的双螺杆型单轴挤出机(螺杆的直径D＝50mm、螺杆的直径L与螺杆的直径D的比L/D＝28)。将在制造例1中得到的颗粒状的树脂[G1]作为热塑性树脂A导入该单轴挤出机，使之熔融，经由给料块供给单层模头。树脂A向单轴挤出机的导入经由装填于单轴挤出机的料斗进行。此外，上述单层模头的模唇的表面粗糙度(算术平均粗糙度Ra)为0.1μm。进而，树脂A的挤出机出口温度为260℃。
另外准备1台具有3μm孔的叶盘形状的聚合物过滤器的单轴挤出机(螺杆的直径D＝50mm、螺杆的直径L与螺杆的直径D的比L/D＝30)。将包含非结晶性的含脂环式结构聚合物的树脂B(树脂“B-1”、日本瑞翁公司制、热软化温度160℃)作为热塑性树脂B导入该单轴挤出机，使之熔融，经由给料块供给上述单层模头。树脂B的挤出机出口温度为260℃。
使树脂A和树脂B以260℃的熔融状态从挤出成型机的单层模头吐出。由此，连续地形成依次具有包含树脂B的表层、包含树脂A的核层和包含树脂B的表层的3层的膜状树脂(共挤出成型工序)。将吐出的膜状树脂流延到冷却辊。在流延时，进行将膜状的树脂的宽度方向的端部固定在冷却辊上的边缘固定(edge pining)，，气隙量设定为50mm。由此，将膜状的树脂冷却，得到3层结构的层叠膜。得到的层叠膜是依次具有包含树脂B的表层、包含树脂A的核层和包含树脂B的表层的、包含2种树脂的3层的层叠膜。
(1-2.光学膜的制造及评价)
进行将表层从在(1-1)中得到的3层结构的层叠膜剥离的剥离工序。剥离工序通过牵引层叠膜两侧的表层，将表层从核层连续地剥离来进行。牵引2层表层的方向为相对于核层的面的角度为60°的方向，剥离速度为5m/min。其结果是，得到了表层被剥离的厚度为40μm的单层的膜1。
对于得到的膜1，进行评价，结果示于表1。在剥离强度的评价中，在试验用膜的剥离前，由于材料发生损坏，因此不能测定剥离强度。这表示剥离强度高。
[实施例2]
代替在制造例1中得到的颗粒状的树脂[G1]，使用在制造例2中得到的颗粒状的树脂[G2]，除此以外，与实施例1同样地进行，制作层叠膜后剥离表层，得到厚度为40μm的单层的膜2。对于得到的膜2，与实施例1同样地进行评价，结果示于表1。在剥离强度的评价中，在试验用膜的剥离前，由于材料发生损坏，因此不能测定剥离强度。这表示剥离强度高。
[比较例1]
准备具有孔眼3μm的叶盘形状的聚合物过滤器的、双螺杆型单轴挤出机(螺杆的直径D＝50mm、螺杆的直径L与螺杆的直径D的比L/D＝28)。将在制造例1中得到的颗粒状的树脂[G1]导入该单轴挤出机，使之熔融，供给单层模头。树脂[G1]向单轴挤出机的导入经由装填于单轴挤出机的料斗进行。此外，上述单层模头的模唇的表面粗糙度(算术平均粗糙度Ra)为0.1μm。进而，树脂[G1]的挤出机出口温度为260℃。
使树脂[G1]以260℃的熔融状态从单层模头吐出。由此连续地形成仅含有包含树脂[G1]的层的膜状的树脂。将吐出的膜状树脂流延到冷却辊。在流延时，进行将膜状的树脂的宽度方向的端部固定在冷却辊上的边缘固定，气隙量设定为50mm。由此，将膜状的树脂冷却，得到包含树脂[G1]的单层结构的厚度为40μm的膜C1。对于得到的树脂膜C1，与实施例1的膜同样地进行评价，结果示于表1。
[比较例2]
代替在制造例1中得到的颗粒状的树脂[G1]，使用在制造例2中得到的颗粒状的树脂[G2]，除此以外，通过与比较例1同样的操作，制造包含树脂[G2]的单层结构的厚度为40μm的膜C2。对于该膜C2，与实施例1的膜同样地进行评价，结果示于表1。
[比较例3]
将光学膜E(FUJIFILM Corporation制、“FUJI TAC”、厚度40μm)与实施例1的膜同样地进行评价，结果示于表1。在剥离强度的测定中，使用实施了皂化处理的膜。
将实施例和比较例的结果汇总示于表1。
[表1]
表1
表中的缩写的意思为如下所述。
G1：在制造例1中制造的氢化嵌段共聚物[G1]。
G2：在制造例2中制造的氢化嵌段共聚物[G2]。
B-1：包含含脂环式结构聚合物的树脂，热软化温度为160℃，日本瑞翁公司制“ZEONOR”产品系列中的一种。
E：光学膜、FUJIFILM Corporation制“FUJI TAC”
|Re|：面内方向的延迟的绝对值
|Rth|：厚度方向的延迟的绝对值
由实施例和比较例的结果可以明确，通过本发明的光学膜的制造方法得到的膜能够制成与对象物的密合性高、延迟小、并且水蒸气透过率低的光学膜。
附图标记说明
10：核层
11、12：表层
12：表层
20：层叠膜
50：UV粘接剂
60：试验用膜
70：粘合剂
80：载玻片
100：光学膜
100A、100B：光学膜的面
M：挤出成型机
P：剥离区域
S：样品膜

Claims (10)

1.一种光学膜，其包含嵌段共聚物，
所述嵌段共聚物包含：
具有含环式烃基化合物单元的嵌段Da、以及
具有链状烃化合物单元或具有链状烃化合物单元和含环式烃基化合物单元的嵌段Ea，
在表面与中央部的所述嵌段Da的体积与所述嵌段Ea的体积的组成比率的差为0～10％，
面内方向的延迟的绝对值为5nm以下，
厚度方向的延迟的绝对值为10nm以下，且
水蒸气透过率为20g/(m2·日)以下。
2.根据权利要求1所述的光学膜，其是将包含所述嵌段共聚物的树脂进行挤出制膜而成的。
3.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，所述嵌段共聚物为如下的共聚物，
所述共聚物包含每1分子2个以上的聚合物嵌段Db作为所述嵌段Da和每1分子1个以上的聚合物嵌段Eb作为所述嵌段Ea，
所述聚合物嵌段Db具有含环式烃基化合物氢化物单元，
所述聚合嵌段Eb具有链状烃化合物氢化物单元或者具有链状烃化合物或其氢化物单元和含环式烃基化合物或其氢化物单元。
4.一种偏振片，其具有权利要求1～3中任1项所述的光学膜和起偏器。
5.一种液晶显示装置，其具有权利要求4所述的偏振片。
6.一种光学膜的制造方法，其包含以下工序：
通过将树脂A和树脂B进行共挤出，得到层叠膜的工序，所述层叠膜具有包含树脂A的核层和设置在所述核层面上的包含树脂B的表层，以及
将所述表层从所述层叠膜剥离的工序，
所述光学膜的面内方向的延迟的绝对值为5nm以下，厚度方向的延迟的绝对值为10nm以下，且
水蒸气透过率为20g/(m2·日)以下。
7.根据权利要求6所述的光学膜的制造方法，其中，所述光学膜的所述面内方向的延迟的绝对值为2nm以下，所述光学膜的所述厚度方向的延迟的绝对值为2nm以下。
8.根据权利要求6或7所述的光学膜的制造方法，其中，所述树脂B包含含脂环式结构聚合物。
9.根据权利要求6～8中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，
所述树脂A包含氢化嵌段共聚物，
所述氢化嵌段共聚物包含每1分子2个以上的聚合物嵌段D和每1分子1个以上的聚合物嵌段E，
所述聚合物嵌段D具有含环式烃基化合物氢化物单元，
所述聚合物嵌段E具有链状烃化合物氢化物单元或具有链状烃化合物氢化物单元和含环式烃基化合物氢化物单元。
10.根据权利要求6～8中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，
所述树脂A包含嵌段共聚物，
所述嵌段共聚物包含具有含环式烃基化合物单元的嵌段、以及具有链状烃化合物单元或具有链状烃化合物单元和含环式烃基化合物单元的嵌段，
在所述光学膜中，其在表面和中央部的组成比率的差为0～10％。
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